JP2000507924A - オレフィンからビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドを用いて金属酸誘導体を基礎とする活性剤の存在でエポキシドを製造する方法 - Google Patents

オレフィンからビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドを用いて金属酸誘導体を基礎とする活性剤の存在でエポキシドを製造する方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、エポキシドをオレフィンからビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドを用いて、一般式（１）

Description

【発明の詳細な説明】 オレフィンからビス（トリオルガノシリル） ペルオキシドを用いて金属酸誘導体を基礎とする 活性剤の存在でエポキシドを製造する方法 詳細な説明 本発明は、オレフィンからビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドを用いて 特定の金属酸誘導体を基礎とする活性剤の存在でエポキシドを製造する方法に関 する。 酸化剤、例えば過酸化水素ＨＯＯＨ又はアルキルヒドロペルオキシドＲＯＯＨ は有機合成で確固たる地位を占めているが、ビス（トリオルガノシリル）ペルオ キシド（“ＢＴＳＰ”）の合成力、特に容易に入手可能なビス（トリメチルシリ ル）ペルオキシド（“ＴＭＳ2Ｏ2”）の合成力は、二三の僅かな用途に限られる 。 即ちＢＴＳＰは、カルバニオン、例えばアリールリチウム化合物、ビニルアニ オン、α−スルホニル−カルバニオン、例えばリチウム化カルボン酸及びそのア ミドの化学量論的求電子ヒドロキシル化用の“ＯＨ+”の同調体（Synthone）と して使用される（これに関してTaddei und Ricci著Synthesis１９８６、６３３ 参照）。ＢＴＳＰによるケトンのバイヤービリガー酸 化及び非触媒量のルイス酸、例えばＢＦ3、ＡｌＣｌ3又はＳｎＣｌ4の存在にお ける電子高含有芳香族の求電子ヒドロキシル化も公知である。 金属錯体によるＢＴＳＰの触媒活性化は、もちろんこれまで第一及び第二アル コールのアルデヒド及びケトンへの酸化の場合にのみ可能であり、その際触媒と してジクロム酸ピリジニウム又はパラジウム錯体ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2が使用 された。これに対して、オレフィンをエポキシ化するためにＢＴＳＰを金属触媒 により活性化する試みはまだ成功していない。マツバラ（Matsubara）その他は 、テトラヘドロン レターズ（Tetrahedron Letters）第２４巻、３７４１頁（ １９８３年）及びブルチン オブ ザ ケミカルソサイエティ オブ ザ ジャ パン（Bulletin of the Chemical Society of Japan）第５８巻、８４４頁（１ ９８５年）でアセチルアセトネートＶＯ（ａｃａｃ）2及びＭｏＯ2（ａｃａｃ）2 でＴＭＳ2Ｏ2の活性化の無益な実験に関して報告している。使用されたアリル アルコールのエポキシ化が期待されたが、代わりにオレフィン性二重結合の異性 体化が観察されたにすぎなかった。 従って本発明の課題は、ＢＴＳＰを用いるオレフィンのエポキシ化用の有効な 活性剤を提供することであった。 これに応じて、一般式 ［式中、Ｒ1からＲ4は、同一又は異なるものであり、水素又は場合により置換さ れたアルキル−、アルケニル−、ヘテロアルキル−、シクロアルキル−、アリー ル−又はヘテロアリール基（その際、Ｒ1からＲ4は、相互に結合して環になって いてもよい）又は元素の周期系の第４〜７主族からの元素を基礎とする置換基を 表わす］のエポキシドを、一般式 のオレフィンから製造する方法を見出したが、これは、エポキシ化剤として一般 式 Ｒ5Ｒ6Ｒ7Ｓｉ−ＯＯ−ＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7 ［式中、Ｒ5からＲ7は、場合により官能基により置換された炭化水素基を表わす ］のビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドを、一般式 ［式中、Ｍは元素の周期系の第４〜７副族からの金属を表わし、Ｌはアミンオキ シド、ホスファンオキシド、アルサンオキシド、スチバンオキシド、燐酸トリア ミド、ホルムアミド及びピリジン−Ｎ−オキシドの群から成る中性配位子を表わ し、Ｘはハロゲン化物、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、トリア ルキルシリル基、ヒドロキシル基、式−ＯＭＯxの無水金属酸基、カルボン酸エ ステル基、スルホン酸エステル基、ホスホン酸エステル基、炭酸エステル基、硫 酸エステル基、燐酸エステル基、ヒドロペルオキシ基、ペルオキシアルキル基及 びトリオルガノシリルペルオキシ基の群から成る陰イオン配位子を表わし、その 際２個の変数Ｘが一つのペルオキソ基を表わしてもよく、ｘは１〜５の整数を表 わし、ｙは０、１又は２の数を表わし、Ｚは１又は２の数を表わし及びｎは１又 は２の数を表わすが、その際２個の中性配位子Ｌ、２個の陰イオン配位子Ｘ又は １個の中性配位子Ｌ及び１個の陰イオン配位子Ｘが、直接又はアルキレンブリッ ジを介してキレート配位子に結合していてもよい］の金属酸誘導体を基礎とする 活性剤の存在で使用することを特徴とする。 本発明で触媒作用を有する活性剤の前提条件は、そのオキソ配位子［Ｍ＝Ｏ］ をＲ5Ｒ6Ｒ7Ｓｉ−ＯＯ−ＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7型のシリルペルオキシドと反応させるこ とによって、金属（シリルペルオキシ）−基［Ｍ（Ｏ2−ＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7］又は金 属（ペルオキソ）−基［Ｍ（η2−Ｏ2）］に変える（後者は相応するシロキサン Ｒ5Ｒ6Ｒ7Ｓｉ−Ｏ−ＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7の遊離下で）力である。触媒反応に重要な問 題は、シリル基が陽子と同様に、オキソ（ペルオキソ）錯体にＯ−配位子レジー ム内で変わることができるか否か である。 従って本発明の特徴は、前記エポキシ化系用の活性剤として、迅速なシリル基 変位のこの基準を満たす潜在性配位不飽和金属−オキソ−及び−ペルオキソ−錯 体である。このような錯体として本発明で前記金属誘導体を開示する。 前記金属酸誘導体中の金属Ｍとしては、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウ ム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、マンガン及び特にモリブデン、タ ングステン及びレニウムが挙げられる。有利な態様では活性剤として、Ｍがモリ ブデン又はタングステンを表わし、同時にｎが１の数を表わすか又はＭがレニウ ムを表わし、ｎが１又は２の数を表わすような金属酸誘導体を使用する。このよ うな種類の例は、下記に記載の活性剤−構造物Ｉｂ、ＩＩｂ、ＩＩＩｂ及びＩＶ ｂである。 中性配位子Ｌとしては特に式 ［式中、Ｒ8からＲ10及びＲ11からＲ13は、付加的にエーテル酸素原子、カルボ ニル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、シアノ基、カルボン 酸エステル基、スルホ基、ホスホン酸基、ニトロ基、ハロゲン原子及び／又は場 合によりＣ1〜Ｃ4 −アルキル基により置換されたアミノ基を官能基として含有していてもよい、同 一又は異なるＣ1〜Ｃ30−アルキル−、Ｃ7〜Ｃ30−アラルキル−又はＣ6〜Ｃ30 −アリール又はヘテロアリール基を表わす］のアミンオキシド−又はホスパンオ キシド−配位子が好適である。 このようなアミン−Ｎ−オキシド−配位子の代表的な例は下記である： ジメチル−ｎ−ウンデシルアミンオキシド、 ジメチル−ｎ−ドデシルアミンオキシド、 ジメチル−ｎ−テトラデシルアミンオキシド、 ジメチル−ｎ−ヘキサデシルアミンオキシド、 ジメチル−ｎ−オクタデシルアミンオキシド、 ジメチル−ｎ−エイコシルアミンオキシド、 メチル−ジ（ｎ−ドデシル）アミンオキシド、 メチル−ジ（ｎ−オクタデシル）アミンオキシド、 トリ（ｎ−ブチル）アミンオキシド、 トリ（ｎ−ヘキシル）アミンオキシド、 トリ（ｎ−オクチル）アミンオキシド、 トリ（２−エチルヘキシル）アミンオキシド、 トリ（ｎ−ドデシル）アミンオキシド、 トリ（ｎ−オクタデシル）アミンオキシド、 ベンジル−ジ（ｎ−ドデシル）アミンオキシド、 ジフェニル−ｎ−オクタデシルアミンオキシド、 Ｎ−ウンデシルモルホリンオキシド、 Ｎ−ドデシルピペリジンオキシド、 ジメチル−（６−フェニルヘキシル）アミンオキシド、 ジメチル−ビスフェニルアミンオキシド及び メチル−ｎ−ドデシル−（６−フェニルヘキシル）アミンオキシド。 このようなホスファンオキシド（ホスフィンオキシド）−配位子の代表的な例 は下記である： トリ−ｎ−ブチルホスファンオキシド、 トリ−ｔ−ブチルホスファンオキシド、 トリ−ｎ−ペンチルホスファンオキシド、 トリ−ｎ−ヘキシルホスファンオキシド、 トリ−ｎ−オクチルホスファンオキシド、 トリ−（２−エチルヘキシル）ホスファンオキシド、 トリ−ｎ−ドデシルホスファンオキシド、 トリ−ｎ−オクタデシルホスファンオキシド、 ジ−ｎ−ブチル−ｎ−オクチルホスファンオキシド、 ｎ−ブチル−ジ−ｎ−オクチルホスファンオキシド、 トリベンジルホスファンオキシド、 ベンジル−ジ−ｎ−オクチルホスファンオキシド、 ナフチル−ジ−ｎ−オクチルホスファンオキシド及び ジ−ｎ−ブチル−ナフチルホスファンオキシド。 Ｒ8からＲ10及びＲ11からＲ13で付加的にエーテル酸素原子が存在する場合に は、このような基を特に相応する酸化エチレン−、酸化プロピレン−又は 酸化ブチレン−又はテトラヒドロフラン−反応生成物から誘導する。 Ｒ8からＲ10及びＲ11からＲ13のアルコキシ置換基及びカルボン酸エステル置 換基は、有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル基、特にメチル又はエチルを有する。その 際、ハロゲン原子は特に塩素又は臭素を表わす。前記基に関して記載した官能基 が存在する場合にはその数は、一般に１〜３であり、エーテル酸素原子では鎖長 に応じて１〜１４である。カルボキシメチル基、アルコキシカルボニルメチル基 又は２−ピリジル基を有するアミンオキシド−及びホスファンオキシド−配位子 も有利である。 更に中性配位子Ｌとして有利には下記のものが挙げられる： −一般式 ［式中、基Ｒ14からＲ16は、Ｒ8からＲ10又はＲ11からＲ13と同じものを表わす ］のアルサンオキシド配位子： −一般式 ［式中、基Ｒ14からＲ16は前記したものと同じものを表わす］のスチバンオキシ ド配位子： −一般式 （Ｒ17Ｒ18Ｎ）3ＰＯ ［式中、Ｒ17及びＲ18は、水素又は同一又は異なるＣ1〜Ｃ30−アルキル−、Ｃ7 〜Ｃ30−アラルキル−又はＣ6〜Ｃ30−アリール−、ヘタアリール基（付加的に エーテル酸素原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキ シル基、シアノ基、カルボン酸エステル基、スルホ基、ホスホン酸基、ニトロ基 、ハロゲン原子及び／又は場合によりＣ1〜Ｃ4−アルキル基により置換されたア ミノ基を官能基として含有していてよい）を表わす］の燐酸トリアミド−配位子 ；このような燐酸トリアミドの代表的な例は、ヘキサメチル燐酸トリアミド（“ ＨＭＰＴＡ”）である； −一般式 Ｒ17Ｒ18Ｎ−ＣＨＯ ［式中、Ｒ17及びＲ18は前記したものを表わす］のホルムアミド−配位子；この ようなホルムアミドの代表的な例は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（“ＤＭＦ ”）及びＮ−メチル−Ｎ−ステアリルホルムアミドである； −１個以上の環位置、有利には２−及び／又は４位で、Ｃ1〜Ｃ30−アルキル− 、Ｃ7〜Ｃ30−アラル キル−又はＣ6〜Ｃ30−アリール−又はヘタアリール基（付加的にエーテル酸素 原子、カルボニル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、シアノ 基、カルボン酸エステル基、スルホ基、ホスホン酸基、ニトロ基、ハロゲン原子 及び／又は場合によりＣ1〜Ｃ4−アルキル基により置換されたアミノ基を官能基 として含有していてよい）により又はハロゲン原子、例えば弗素、塩素又は臭素 、ヒドロキシ基、Ｃ1〜Ｃ30−アルコキシ基により又は場合によりアルキル置換 されたアミノ基により置換されている、ピリジン−Ｎ−オキシド−配位子；この ようなピリジン−Ｎ−オキシドの代表的な例はα−及びγ−ピコリン−Ｎ−オキ シドである。 無機配位子Ｘの代表的な例は下記である： −弗化物及び塩化物（基本的：金属酸弗化物又は金属酸塩化物） −メチル（基本的：アルキル−金属酸化物、例えばメチルレニウムオキシド） −メトキシ（基本的：金属酸メチルエステル） −フェノキシ（基本的：金属酸フェニルエステル） −トリメチルシリルオキシ（基本的：金属酸トリメチルシリルエステル） −ヒドロキシ（基本的：金属−プロトン酸） −ＯＭＯX（基本的：無水金属酸、例えばＲｅ2Ｏ7及びＭｏＯ3） −混合した金属酸無水物の基、例えばアセテート、スルホネート、ホスホネート 、オルガノカルボネート、オルガノスルフェート及びオルガノホスフェート（こ れらはその有機部で部分的に又は過弗素化されていてよい） −ＯＯＨ −ＯＯＳｉ（ＣＨ3）3 活性剤として、Ｘが、ｙ＝１又は２の場合に、塩化物、弗化物、Ｃ1〜Ｃ4−ア ルコキシ、トリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）シリル又は式−ＯＭｏＯx、−ＯＷＯX又 はＯＲｅＯXの無水金属酸基を表わす、金属酸誘導体を使用するのが有利である 。 結合してキレート配位子となった配位子Ｌ又はＸの例は、２，２’−ビピリジ ル−Ｎ−オキシド又はＮ，Ｎ，Ｎ’,Ｎ’−テトラブチルエチレンジアミン−Ｎ ，Ｎ’−オキシドであり；後者の場合には二つの配位子の結合はＣ1〜Ｃ3−アル キレンブリッジ（ここでは：１，２−エチレンブリッジ）により行われている。 一般式 の金属酸誘導体を基礎とする活性剤は、原則としてドイツ特許出願第１９５３３ ３３１．４号明細書から公知であり、その中で過酸化水素を用いるエポキシ化用 の活性剤として記載されている。同様の金属酸誘導体 がサンダーマイヤー（Sundermeyer）その他によりヒエミッシェ ベリヒテ（Che mische Berichte）第１２７巻、１２０１〜１２１２頁（１９９４年）に記載さ れている。 ビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドとして、特に式中Ｒ5からＲ7が、Ｒ8 からＲ10又はＲ11からＲ13と同じものを表わす、前記一般式のようなものが好 適である。特にビス（トリ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルシリル）ペルオキシドが有利で あり、ビス（トリメチルシリル）ペルオキシドが特に有利である。 使用可能なオレフィンは、置換基の種類及び数に関して何の制限もない。本発 明の方法によりエポキシ化することのできるオレフィンの代表的な例は、エチレ ン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１，３−ブタジエン、１ −ペンテン、２−ペンテン、イソプレン、シクロペンテン、１−ヘキセン、シク ロヘキセン、Ｃ8〜Ｃ24−α−モノオレフィン、スチレン、インデン、ノルボル ネン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン並びに反応性二重結合を有す るアルケンオリゴマー、例えばポリプロペン及びポリイソブテンである。 オレフィンは、オレフィン性二重結合で第４〜７主族の元素を基礎とする置換 基を有していてもよい。このための例は、ビニルシリコン、ビニルアミン、ビニ ルホスファン、ビニルエーテル、硫化ビニル及びハロ ゲン化アルケン、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデン又はトリクロルエチレンで ある。 本発明によるエポキシ化法は、有利にはエポキシ化すべきオレフィンをビス（ トリオルガノシリル）ペルオキシドと一緒に前装入し、引き続き金属酸誘導体を 基礎とする活性剤又は反応条件下で活性剤に変わる前駆物質を添加するというよ うに実施する。 ビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドは、通常はエポキシ化すべきオレフ ィンとモル比１：１（有利にはわずかに過剰のオレフィンを用いて）で混合する 。長期的にも一般にこれらの成分間で反応は全く観察されない。引き続き、活性 剤、例えばＩｂ〜ＩＶｂ（下記参照）又は可溶性活性剤−前駆物質、例えばＩａ 〜ＩＶａ（例えば、ＭｏＯ2Ｃｌ2（ｄｍｅ）、ＷＯ2Ｃｌ2（ｄｍｅ）、Ｒｅ2Ｏ7 （ｄｍｅ）又は（ＣＨ3）3ＳｉＯ−ＲｅＯ3、ｄｍｅ＝１，２−ジメトキシエタ ン）及び配位子Ｌを添加する。配位子Ｌは、活性剤添加後に急激に進行するエポ キシ化反応の選択性の上昇と同時に、Ｌの存在なしでも原則として既に存在する 活性剤−前駆物質の活性を高めるという課題を有する。 触媒作用を有する化合物、例えばＩｂ〜ＩＶｂは大抵は相応する前駆物質、例 えばＩａ〜ＩＶａから単離し、特性付けることができる。 その際、通常はアミンオキシド、ホスファンオキシド、アルサンオキシド、ス チバンオキシド及び−若干ゆっくりではあるが−ピリジン−Ｎ−オキシドも配位 子Ｌとして、触媒条件下で相応する第三アミン、ホスファン、アルサン、スチバ ン又はピリジン及びＢＴＳＰから生成される。 本発明によるエポキシ化は、有利には不活性有機溶剤中で温度０〜１２０℃、 特に１０〜１００℃、特に有利には２０〜８０℃で実施する。通常は常圧で行う 。その際不活性有機溶剤としては、特にアルカン、芳香族化合物、ハロゲンアル カン、ハロゲン芳香族化合物、エーテル、ケトン、エステル及び第三アルコール （例えばｔ−ブタノール）の種類から成るようなもの が好適である。このような溶剤として反応の際に過酸化シリルから生成されるシ ロキサンＲ3ＳｉＯ−ＳｉＲ3（Ｒ＝定義による有機基）を使用することもできる ので、その他の溶剤を完全に省くことができる。活性剤は基Ｒを適切に選択する 場合に、これらの媒体中に均一に溶解する。 非揮発性酸化生成物をより良好に分離するために、金属酸誘導体を基礎とする 前記活性剤を反応媒体中に不溶性の無機又は有機担体材料上に結合した形で使用 することができる。このために好適な担体材料としては、特に二酸化珪素、シリ カゲル、珪酸、酸化アルミニウム、カオリン、珪酸アルミニウム、ポリ−ｔ−ア ミン−Ｎ−オキシド、ポリビニルピロリドン−Ｎ−オキシド及びポリスチレンマ トリックス上に化学的に固定されたヘキサメチル燐酸トリアミドが挙げられる。 シリカゲル（Silicagele、Kieselsaeregele）は、弾性から固体の粘度の、緊 密でないものから緊密な孔構造及び高い吸着力を有する、コロイド状に成形され ているか又は非成形の珪酸である。シリカゲル表面は酸性特性を有する。シリカ ゲルは通常は水ガラスから鉱酸との反応により製造される。 珪酸として湿式法で製造した珪酸の他に特に有利には熱による方法で製造した 、即ち、通常はＳｉＣｌ4の火炎加水分解により製造した高分散性“熱分解法” ＳｉＯ2−製品を使用することができる（例えばAero sileR又はSipernateR）。有利な態様では平均（凝集物−）粒度１００ｎｍ〜３ ０μｍ)特に１〜２０μｍ及びＳｉＯ2−含量９５〜１００、有利には９８〜１０ ０重量％を有する珪酸を使用する。 酸化アルミニウムは、天然には例えばアルミナ又はコランダムとして存在する 。その際、酸化アルミニウムはα−変性で存在する。工業的にはα−Ａｌ2Ｏ3は ボーキサイトからバイヤー法により得られる。吸着剤として特に好適な高い比表 面積を有する“活性”酸化アルミニウムは、アルミニウム−塩溶液から沈澱法に よってか又は水酸化α−アルミニウムから焼結により製造される。 カオリンは、土壌中に天然に存在する水和珪酸アルミニウム（粘土）であり、 これはそのかっての主要な用途から陶土（チャイナクレイ“China-Clays”）と も称される。主成分は三斜晶高稜石及び単斜ジッカイト及びネークライト並びに モンモリロナイト及びゲル状アルミナ−珪酸塩（Allophanen）である。 珪酸アルミニウムは、種々の含分のＡｌ2Ｏ3及びＳｉＯ2を有する化合物であ り、これは天然には紅柱石、システン（Sisthen）、ムル石、珪線石等として存 在する。Ｓｉの代わりにＡｌが結晶格子中の格子位置にある珪酸アルミニウム− 鉱石は、アルミノ珪酸塩（例えばウルトラマリーン、沸石、長石）である。新た に沈澱した珪酸アルミニウムは微細に分散しており 、大きな表面積及び高い吸着力を有する。 本発明の目的は、前記活性剤錯体自体であり、これは一般に多数の化学反応、 特に酸化反応を触媒により活性化するために、特にオレフィンの接触エポキシ化 用に好適であり、これは、 一般式 ［式中、Ｍは元素の周期系の第４〜７副族からの金属を表わし、Ｌはアミンオキ シド、ホスファンオキシド、アルサンオキシド、燐酸トリアミド、ホルムアミド 及びピリジン−Ｎ−オキシドの群から成る中性配位子を表わし、Ｘはハロゲン化 物、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、トリアルキルシリル基、ヒ ドロキシル基、式−ＯＭＯxの無水金属酸基、カルボン酸エステル基、スルホン 酸エステル基、ホスホン酸エステル基、炭酸エステル基、硫酸エステル基、燐酸 エステル基、ヒドロペルオキシ基、ペルオキシアルキル基及びトリオルガノシリ ルペルオキシ基の群から成る陰イオン配位子を表わし、その際２個の変数Ｘが一 つのペルオキソ基を表わしてもよく、ｘは１〜５の整数を表わし、ｙは０、１又 は２の数を表わし、Ｚは１又は２の数を表わし及びｎは１又は２の数を表わすが 、その際２個の中性配位子Ｌ、２個の陰イオン配位子Ｘ又は１個の中性配位子Ｌ 及び１個の陰イオン配位子 Ｘが、直接又はアルキレンブリッジを介してキレート配位子に結合していてもよ い］の１種以上の触媒活性化金属酸誘導体０．１〜５０重量％、特に０．５〜３ ０重量％及び二酸化珪素、シリカゲル、珪酸、酸化アルミニウム、カオリン、珪 酸アルミニウム、ポリ−ｔ−アミン−Ｎ−オキシド、ポリビニルピリジン−Ｎ− オキシド及びポリスチレンマトリックス上に化学的に固定されたヘキサメチル燐 酸トリアミドの群から成る、反応媒体中に不溶性の１種以上の無機又は有機担体 材料５０〜９９．９重量％、特に７０〜９９．５重量％から構成されている。 本発明によるエポキシ化法は、極めて多数の特別な利点を有する。これらを以 下にビス（トリメチルシリル）ペルオキシドＴＭＳ2Ｏ2を例に、常用のヒドロペ ルオキシド又は過酸化水素と比較して詳説する： −ＴＭＳ2Ｏ2及びその他のＢＴＳＰも、装置−、貯蔵−及び実験室の安全性に対 する最高の要求を満たす、比較的取り扱い易い過酸化物である。即ち、ＴＭＳ2 Ｏ2は２００℃からようやく分解し、この分解は制御可能である。ＴＭＳ2Ｏ2及 びその他のＢＴＳＰは、ヘテロリシスによるＯ−Ｏ−分解を有利に促進させる特 別な触媒、即ち金属酸誘導体を基礎とする前記活性剤を添加する際に初めて活性 化される。例えば微量の重金属により開始される、自触媒（ラジカル）分解を起 こす特別な傾向は、この種類の物質にはない。 −ＴＭＳ2Ｏ2は、比較的多量に十分再生可能な原料（例えば尿素、ＴＭＳＣｌ、 Ｈ2Ｏ2、塩基）から製造することもでき、いわば無制限であり、安全に貯蔵する ことができる。 −ビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドは、無水の１００％Ｈ2Ｏ2の非プロ トン性代用物である。触媒の存在でこれは匹敵可能な酸化力を発揮し、その際、 酸化反応はもちろん通常はＨ2Ｏ2を用いるより選択的に行われる。 −非プロトン性酸化剤としてビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドは加水分 解に鋭敏なオレフィンの酸化用にも使用することができる（例えばエノレート、 不飽和カルボン酸クロリド等）。 −ビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドのレドックス反応で生じるシロキサ ンＲ3ＳｉＯＳｉＲ3は、僅かな配位力を特徴とするに過ぎない、殆ど塩基性の、 立体要求度の高い、即ち悪い配位子ではない。従って、Ｈ2Ｏ又はｔ−ＢｕＯＨ （Ｈ2Ｏ2又はｔ−ＢｕＯＯＨの反応生成物）で公知のルイス酸金属中心の競合的 反応抑制は、ほぼ除外される。 −望ましくない二次反応としての合成上貴重なエポキシドの合成的に多様性が僅 かなジオール（例えばそのＯ−シチルエーテル）への開環反応は、シロキサンの 僅かな反応性により有効に阻止される。後者の問題は、プロトン性系中、例えば 触媒系Ｒｅ（Ｏ）（Ｏ2）2 （ＣＨ3）（Ｈ2Ｏ）／Ｈ2Ｏ2／ｔ−ＢｕＯＨ／オレフィン中では不可避である 。 −揮発性エポキシドは蒸留により特に簡単に反応混合物から分離除去することが できる。揮発性が僅かである生成物の場合には、担体に固定された、即ち不動化 された活性剤錯体（前記したような）を使用することが可能である。 −純粋なビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドの代わりに、シリルペルオキ シド及びシロキサンの混合物を酸化目的用に使用することもできる。相応する高 い含分のシロキンサンの場合には、溶剤の役割を演じることができる。 実施例 Ａ 原液製造用の一般的処方 原液Ｉ：オレフィン＋酸化剤＋内部ＧＣ標準 原液ＩＩ：金属錯体又は触媒前駆物質 原液ＩＩＩ：配位子 原液Ｉ：オレフィン＋酸化剤＋内部ＧＣ標準 Ｂ 触媒反応の実施（一般的処方） 触媒−Ｉ型：［ＭＯ5（ＯＥＲ3）n]（Ｍ＝Ｍｏ、Ｗ；ｎ＝１、２）を用いる反応 ４．０モル％の触媒 原液１５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ１０００μｌ（［ Ｍｏ］又は［Ｗ］３．６・１０-2ミリモル、４ ．０モル％）及びＣＨＣｌ3５００μｌを添加する。反応混合物を油浴中で６０ ℃で攪拌する。 ４．０モル％の触媒＋１当量［ＯＥＲ3］（Ｍ：Ｌ＝１：２）Ｅ＝Ｎ、Ｐ；Ｒ＝n ＢＵ、nＯｃｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ１０００μｌ（［ Ｍｏ］又は［Ｗ］３．６・１０-2ミリモル、４．０モル％）及び原液ＩＩＩ１０ ００μｌ（［ＯＥＲ3］３．６０・１０-2ミリモル）を添加する。反応混合物を 油浴中で６０℃で攪拌する。 ０．１モル％の触媒 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液１１２５μｌ（［Ｍｏ ］又は［Ｗ］０．９・１０-2ミリモル、０．１モル％）及びＣＨＣｌ3１０００ μｌを添加する。反応混合物を油浴中で６０℃で攪拌する。 触媒−ＩＩ型：［Ｍ（Ｏ）2Ｃｌ2ｄｍｅ］（Ｍ＝Ｍｏ、Ｗ）を用いる反応 配位子添加なしの４．０モル％の触媒 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ１０００μｌ （［Ｍｏ］又は［Ｗ］３．６０・１０-2ミリモル）を添加し、６０℃で油浴中で 攪拌する。 ４．０モル％の触媒＋１当量［ＯＥＲ3］ Ｅ＝Ｎ、Ｐ、Ａｓ；Ｒ＝nＢｕ、nＯｃｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ１０００μｌ（［ Ｍｏ］又は［Ｗ］３．６・１０-2ミリモル、４．０モル％）及び原液ＩＩＩ１０ ００μｌ（［ＯＥＲ3］３．６０・１０-2ミリモル）を添加する。反応混合物を 油浴中で６０℃で攪拌する。 ４．０モル％の触媒＋２当量［ＯＥＲ3］ Ｅ＝Ｎ、Ｐ、Ａｓ；Ｒ＝nＢｕ、nＯｃｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ１０００μｌ（［ Ｍｏ］又は［Ｗ］３．６・１０-2ミリモル、４．０モル％）及び原液ＩＩＩ２０ ００μｌ（［ＯＥＲ3］７．２・１０-2ミリモル）を添加する。反応混合物を油 浴中で６０℃で攪拌する。 ２．０モル％の触媒＋１当量［ＯＥＲ3］ Ｅ＝Ｎ、Ｐ、Ａｓ；Ｒ＝nＢｕ、nＯｃｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ５００μｌ（［Ｍ ｏ］又は［Ｗ］１．８・１０-2ミリモル、２．０モル％）、原液ＩＩＩ５００μ ｌ（［ＯＥＲ3］１．８０・１０-2ミリモル）及びＣＨＣｌ3５００μｌを添加す る。反応混合物を油浴中で６０℃で攪拌する。 ２．０モル％の触媒＋２当量［ＯＥＲ3］ Ｅ＝Ｎ、Ｐ、Ａｓ；Ｒ＝ｎＢｕ、nＯＣｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ５００μｌ（［Ｍ ｏ］又は［Ｗ］１．８・１０-2ミリモル、２．０モル％）及び原液ＩＩＩ１００ ０μｌ（［ＯＥＲ3］３．６０・１０-2ミリモル）を添加する。反応混合物を油 浴中で６０℃で攪拌する。 ０．１モル％の触媒＋１当量［ＯＥＲ3］ Ｅ＝Ｎ、Ｐ、Ａｓ；Ｒ＝nＢｕ、nＯｃｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ２５μｌ（［Ｍｏ ］又は［Ｗ］０．９０・１０-3ミリモル、０． １０モル％）、原液ＩＩＩ２５μｌ（［ＯＥＲ3］０．９０・１０-3ミリモル） 及びＣＨＣｌ3５００μｌを添加する。反応混合物を油浴中で６０℃で攪拌する 。 触媒−ＩＩＩ型：［Ｏ3ＲｅＲ］（Ｒ＝Ｍｅ、ＯＳｉＭｅ3）を用いる反応 ０．０１モル％の触媒＋［ＯＰ（nＤｏｄｅｃ）3］ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ＝内部標準０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ２．５μｌ（［Ｒ ｅ］０．９０・１０-4ミリモル、０．０１モル％）、原液ＩＩＩ２．５μｌ（［ ＯＰ（nＤｏｄｅｃ）3］０．９０・１０-4ミリモル、０．０１モル％）及びＣＨ Ｃｌ3５００μｌを添加する。反応溶液を油浴中で６０℃で攪拌する。 ０．１モル％の触媒＋［ＯＥＲ3］ Ｅ＝Ｎ、Ｐ、Ａｓ；Ｒ＝nＢｕ、nＯｃｔ、nＤｏｄｅｃ 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ２５μｌ（［Ｒｅ］０．９０ ・１０-3ミリモル、０．１０モル％）、原液ＩＩＩ２５μｌ（［ＯＥＲ3］０． ９０・１０-3ミリモル、０．１０モル％）及びＣＨＣｌ3５００μｌを添加する 。反応混合物を油浴中で６０℃で攪拌する。 配位子添加なしの０．１モル％の触媒 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ２５μｌ（［Ｒｅ］０．９０ ・１０-3ミリモル、０．１０モル％）及びＣＨＣｌ3５００μｌを添加する。反 応混合物を油浴中で６０℃で攪拌する。 配位子添加なしの１．００モル％の触媒 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ２５０μｌ（［Ｒｅ］０．９ ０・１０-2ミリモル、１．００モル％）及びＣＨＣｌ3２５０μｌを添加する。 反応混合物を油浴中で６０℃で攪拌する。 配位子添加なしの４．０モル％の触媒 原液Ｉ５００μｌ（オレフィン０．９０ミリモル／（ＴＭＳ）2Ｏ2０．９０ミ リモル／nＢｕ2Ｏ０．３８ミリモル）に、原液ＩＩ１０００μｌ（［Ｒｅ］３． ６・１０-2ミリモル、４．０モル％）を添加する。反応混合物を油浴中で６０℃ で攪拌する。 Ｃ 結果（表） Ｉ型の触媒錯体の製造 ［Ｍ（Ｏ）（η2・Ｏ2）2Ｌ］及び［Ｍ（Ｏ）（η 2・Ｏ2）2Ｌ2］（Ｍ＝Ｍｏ、Ｗ ） ［Ｍ（Ｏ）（η 2・Ｏ2）2Ｌ］（Ｍ＝Ｍｏ、Ｗ；Ｌ＝ＯＰ（nＯｃｔ）3、ＯＰ（n Ｄｏｄｅｃ）3；ＯＮ（nＯＣｔ）3、ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3、ＯＮＭｅ2（ステ アリル）の型の錯体を製造するために、各々配位子Ｌを［Ｍ（Ｏ）(η 2・Ｏ2）2 （Ｈ2Ｏ2］（Ｍ＝Ｍｏ、Ｗ）の水性原液に添加する： Ａ：［Ｍ（Ｏ）(η 2・Ｏ2）2（Ｈ2Ｏ2］の水性 原液の製造 ３０％Ｈ2Ｏ2−溶液２４．０ｇ（２１２ミリモル）中に強力な攪拌下で［Ｍｏ Ｏ3］６．００ｇ（４１．７ミリモル）を懸濁させる。無色懸濁液を４時間４０ ℃で攪拌し、その際透明な淡黄色溶液が生成し、これを４℃で貯蔵する。 原液Ａの含量［Ｍ（Ｏ）(η 2・Ｏ2）2（Ｈ2Ｏ2］：１．３９ミリモル／ｇ Ｂ：［Ｗ（Ｏ）(η 2・Ｏ2）2（Ｈ2Ｏ2］の水性原液の製造 ３０％Ｈ2Ｏ2−溶液２４．０ｇ（２１２ミリモル）中に強力な攪拌下で［ＷＯ3 ・Ｈ2Ｏ］８．００ｇ（３２．０ミリモル）を懸濁させる。黄色懸濁液を６時間 ４０℃で攪拌し、その際乳状に混濁した溶液が生成する。不溶性残分（２５ｍｇ ）を遠心分離により分離除去した後、無色透明溶液を４℃で貯蔵する。 原液Ｂの含量［Ｗ（Ｏ）（η 2・Ｏ2）2（Ｈ2Ｏ2］：１．０１ミリモル／ｇ ［Ｍ（Ｏ）（η 2・Ｏ2）2｛ＯＮnＯｃｔ）3｝]の製造 原液Ａ１．５０ｇ（２．１５ミリモル）に１０℃で攪拌下で［Ｎ（nＯｃｔ）3 ］５７０ｍｇ（１．６１ミリモル）を滴加し、その際先ず暗黄色油状相が析出す る。８時間２５℃で強力に攪拌した後、淡黄色の沈澱が生成する。これを濾取し 、水（各５ｍｌで３回） で洗浄し、真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで乾燥させる。 収量：８１７ｍｇ（９３％）、淡黄色、無定形固体物質 ＤＴＡ ６０℃（発熱性分解） ［Ｍ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）2｛ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝］の製造 原液Ａ２．００ｇ（２．８７ミリモル）に２５℃で攪拌下でＣＨ2Ｃｌ2５ｍｌ 中に溶解させた［ＯＮ（ｄｏｄｅｃ）3］１．２０ｇ（２．２３ミリモル）を添 加する。５時間２５℃で強力に攪拌した後、有機相を分離除去し、水（各５ｍｌ で３回）で洗浄し、真空中で完全に蒸発濃縮する。淡黄色の無定形残分を６時間 ２５℃／１０-5ミリバールで乾燥させる。 収量：２．８１ｇ（９５％）、淡黄色、無定形固体物 質 ＤＴＡ ７５℃（発熱性分解） ［Ｗ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）2｛ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝］の製造 原液Ｂ３．００ｇ（３．０３ミリモル）に２５℃で攪拌下でＣＨ2Ｃｌ2５ｍｌ 中に溶解させた［ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3］１．３０ｇ（２．４２ミリモル）を添 加する。５時間２５℃で強力に攪拌した後、有機相を分離除去し、水（各５ｍｌ で３回）で洗浄し、真空中で完全に蒸発濃縮する。無色の粘性残分を６時間２５ ℃／１０-5ミリバールで乾燥させる。 収量：１．８４ｇ（９５％）、無色粘性蝋状物 ＤＴＡ ７５℃（発熱性分解）［Ｍｏ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）2｛ＯＮＭｅ2（ステアリル）｝］の製造 原液Ａ５．００ｇ（６．９５ミリモル）に２５℃で攪拌下で［ＯＮＭｅ2（ス テアリル）］（水中３０％）６．００ｇ（５．７４ミリモル）を添加し、その際 自発的に淡黄色の沈澱が生成する。２時間強力に攪拌した後、沈澱を濾取し、水 （各５０ｍｌで３回）で洗浄し、真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで乾 燥させる。 収量：２．００ｇ（７１％）、淡黄色の無定形固体物質 ＤＴＡ ７８℃（発熱性分解）［Ｍｏ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）2｛ＯＰ（nＯｃｔ）3｝］の製造 ３０％Ｈ2Ｏ2溶液３．０ｍｌ（２７．６ミリモル）中に強力な攪拌下でＭｏＯ3 ３７１ｍｇ（２．５８ミリモル）を懸濁させる。無色懸濁液を４時間４０℃で 攪拌し、その際透明な淡黄色溶液が生成する。ＴＨＦ４ｍｌの添加後、２５℃で 攪拌下で［ＯＰ（nＯｃｔ）3］５００ｍｇ（１．２９ミリモル）を添加する。２ 時間強力に攪拌した後、黄色溶液を真空中で約３ｍｌに濃縮するが、その際黄色 油状物が析出する。反応混合物をＣＨ2Ｃｌ2（各５ｍｌで３回）で抽出する。合 した抽出物を真空中で完全に蒸発濃縮する。淡 黄色の蝋状残分を水（各２ｍｌで２回）で洗浄し、６時間２５℃／１０-5ミリバ ールで乾燥させる。 収量：６７５ｍｇ（９３％）、淡黄色の蝋状物 ＤＴＡ ８１℃（発熱性分解）［Ｍｏ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）2｛ＯＰ（nＤｏｄｅｃｔ）3｝2］の製造 ３０％Ｈ2Ｏ2溶液３．０ｍｌ中に強力な攪拌下でＭｏＯ3３７１ｍｇ（２．５ ８ミリモル）を懸濁する。無色懸濁液を４時間４０℃で攪拌し、その際透明な淡 黄色溶液が生成する。ＴＨＦ４ｍｌの添加後、２５℃で攪拌下で［ＯＰ（nＤｏ ｄｅｃ）3］２．８６ｇ （５．１６ミリモル）を添加する。２時間強力に攪拌した後、黄色溶液を真空中 で約３ｍｌに濃縮するが、その際黄色油状物が析出する。反応混合物をＣＨ2Ｃ ｌ2（各５ｍｌで３回）で抽出する。合した抽出物を真空中で完全に蒸発濃縮す る。淡黄色の蝋状残分を水（各２ｍｌで２回）で洗浄し、６時間２５℃／１０-5 ミリバールで乾燥させる。 収量：３．２０ｇ（９７％）、淡黄色の蝋状物 ＤＴＡ ３９℃（融点） ＤＴＡ １１９℃（発熱性分解）ＩＩ型の触媒−錯体の合成 ［Ｍｏ（Ｏ）2Ｃｌ2Ｌ2］（Ｍ＝Ｍｏ、Ｗ；Ｌ＝ＯＮＲ3） ［Ｍｏ（Ｏ）2Ｃｌ2｛ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝2］の製造 ［Ｍｏ（Ｏ）2Ｃｌ2（ｄｍｅ）］１．００ｇ（３．４６ミリモル）をヘキサン １５ｍｌ中に懸濁させる。２５℃で無色懸濁液に強力に攪拌下で［ＯＮ（nＤｏ ｄｅｃ）3］３．７３ｇ（６．９３ミリモル）を添加し、その際１０分間以内に 黄色溶液が生成する。２時間２５℃で攪拌した後、溶剤を真空中で蒸発濃縮する 。黄色の蝋状残分から真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分 を除去する。 収量：４．３０ｇ（９８％）、黄色、蝋状固体 融点：３２℃［Ｗ（Ｏ）2Ｃｌ2｛ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝2］の製造 ［Ｗ（Ｏ）2Ｃｌ2（ｄｍｅ）］１．００ｇ（２．６５ミリモル）をヘキサン１ ５ｍｌ中に懸濁させる。２５℃で無色懸濁液に強力に攪拌下で［ＯＮ（nＤｏｄ ｅｃ）3］２．８５ｇ（５．３０ミリモル）を添加し、その際１０分間後に弱黄 色透明溶液が生成する。２時間２５℃で攪拌した後、溶剤を真空中で蒸発濃縮す る。淡黄色の油状残分から真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性 成分を除去する。 収量：３．５４ｇ（９８％）、淡黄色油状物 融点：２８℃［Ｍｏ（Ｏ）2Ｃｌ2｛ＯＮ（nＢｕ）3｝2］の製造 ［Ｍｏ（Ｏ）2Ｃｌ2（ｄｍｅ）］２００ｍｇ（０．６９ミリモル）をＣＨＣｌ3 ５ｍｌ中に溶解させる。２５℃で無色溶液に強力に攪拌下でＣＨＣｌ3２ｍｌ中 に溶解させた［ＯＮ（nＢｕ）3］２７９ｍｇ（１．３８ミリモル）を滴加し、そ の際自発的に淡黄色の透明な溶液が生成する。３時間２５℃で攪拌した後、黄色 反応溶液を真空中で蒸発乾固する。黄色油状残分をヘキサンで洗浄し（各１ｍｌ で３回）、真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分を除去する 。 収量：３９７ｍｇ（９６％）、黄色油状物［Ｗ（Ｏ）2Ｃｌ2｛ＯＮ（nＢｕ）3｝2］の製造 ［Ｗ（Ｏ）2Ｃｌ2（ｄｍｅ）］２５０ｍｇ（０． ６６ミリモル）をＣＨＣｌ3５ｍｌ中に溶解させる。２５℃で無色溶液に強力に 攪拌下でＣＨＣｌ3２ｍｌ中に溶解させた［ＯＮ（nＢｕ）3］２６７ｍｇ（１． ３３ミリモル）を滴加する。３時間２５℃で攪拌した後、無色反応溶液を真空中 で蒸発乾固する。無色油状残分をペンタンで洗浄し（各１ｍｌで３回）、真空中 で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分を除去するが、その際３時間 後に蝋状固体は再び結晶化する。 収量：４４１ｍｇ（９７％）、蝋状固体ＩＩ型の触媒（活性種類）： ［Ｍ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）Ｃｌ2Ｌ2］（Ｍ＝Ｍｏ、 Ｗ；Ｌ＝ＯＮＲ3） ［Ｍｏ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）Ｃｌ2｛ＯＮ（nＤＯｄｅｃ）3｝2］の製造 ０℃でＣＨ2Ｃｌ2１０ｍｌ中の［Ｍｏ（Ｏ）2Ｃｌ2ｄｍｅ］２５０ｍｇ（０． ８７ミリモル）及びＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝2９３１ｍｇ（１．７４ミリモル） の淡黄色溶液に、ＴＭＳ2Ｏ2１８０ｍｇ（１．０１ミリモル）を滴加し、その際 反応溶液は急激に黄色に着色する。ＧＣ反応対照及びＣＤＣｌ3中におけるＮＭ Ｒ試験により、（ＴＭＳ）2Ｏ2からの（ＴＭＳ）2Ｏの生成が実証される。２５ ℃で２時間攪拌した後、溶剤を真空中で除去する。残留した橙色の粗生成物から 真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分を除去する。 収量：１１７０ｍｇ（９１％）、橙色油状物［Ｗ（Ｏ）（η 2−Ｏ2）Ｃｌ2｛ＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝2］の製造 ０℃でＣＨ2Ｃｌ2１０ｍｌ中の［Ｗ（Ｏ）2Ｃｌ2ｄｍｅ］３００ｍｇ（０．８ ０ミリモル）及びＯＮ（nＤｏｄｅｃ）3｝2８５７ｍｇ（１．６０ミリモル）の 溶液に、（ＴＭＳ）2Ｏ2１７０ｍｇ（０．９５ミリモル）を滴加する。ＧＣ対照 及びＣＤＣｌ3中におけるＮＭＲ試験により、（ＴＭＳ）2Ｏ2からの（ＴＭＳ）2 Ｏの生成が実証される。 ２５℃で２時間攪拌した後、溶剤を真空中で除去する。無色の蝋状残分から真 空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分を除去する。 収量：１０１０ｍｇ（９２％）、無色蝋状固体 ＤＴＡ：３８℃（融点）、８５℃から（発熱性分解）ＩＶ型の触媒−錯体の合成 ［Ｒｅ2Ｏ7｛ＯＮ（nＢｕ）3｝2］の製造 方法Ａ：出発物質として［Ｏ3Ｒｅ（ＯＴＭＳ）］ ＣＨＣｌ3５ｍｌ中の［Ｏ3Ｒｅ（ＯＴＭＳ）］３００ｍｇ（０．９３ミリモル ）の溶液に、２５℃で強力な攪拌下でＣＨＣｌ3２ｍｌ中に溶解させたＯＮnＢｕ3 １８７ｍｇ（０．９３ミリモル）を滴加する。その際反応溶液は自発的に淡黄 色に着色する。２時間２５℃で攪拌した後、溶剤を真空中で蒸発除去し、その際 溶液は脱色する。 ＣＤＣｌ3中で同様の反応実施の際の反応対照は、溶剤の蒸発除去の際にＴＭ Ｓ−シグナルの吸収を示す。 無色の油状残分から真空中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分 を除去し、その際無色の蝋状固体が残留する。 収量：３５５ｍｇ（８６％）、無色の蝋状固体 方法Ｂ：出発物質として［Ｒｅ2Ｏ7］ ＣＨＣｌ3３ｍｌ中の［Ｒｅ2Ｏ7］２４３ｍｇ（０．５０ミリモル）の懸濁液 に、２５℃でＣＨＣｌ3２ｍｌ中に溶解させたＯＮnＢｕ3２０２ｍｇ（１．００ ミリモル）を滴加し、その際１０分間以内に無色透明な溶液が生成する。２時間 ２５℃で攪拌した後、溶剤を真空中で完全に除去する。無色の油状残分から真空 中で６時間２５℃／１０-5ミリバールで易揮発性成分を除去し、その際無色の蝋 状固体が残留する。 収量：３９０ｍｇ（８８％）、無色の蝋状固体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｆ 11/00 Ｃ０７Ｆ 11/00 Ｃ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 イェルク ズンダーマイアー ドイツ連邦共和国 Ｄ―35041 マールブ ルク−ミヒェルバッハ アン デン シュ タインブリュヒェン ７ (72)発明者 ギュンター ヴァール ドイツ連邦共和国 Ｄ―97078 ヴュルツ ブルク アム シュヴァルツェンベルク 37

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 一般式 ［式中、Ｒ1からＲ4は、同一又は異なるものであり、水素又は場合により置換さ れたアルキル−、アルケニル−、ヘテロアルキル−、シクロアルキル−、アリー ル−又はヘテロアリール基（その際、基Ｒ1からＲ4は、相互に結合して環になっ ていてもよい）又は元素の周期系の第４〜７主族から成る元素を基礎とする置換 基を表わす］のエポキシドを、一般式 のオレフィンから製造するに当たり、エポキシ化剤として一般式 Ｒ5Ｒ6Ｒ7Ｓｉ−ＯＯ−ＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7 ［式中、Ｒ5からＲ7は、場合により官能基により置換された炭化水素基を表わす ］のビス（トリオルガノシリル）ペルオキシドを、一般式 ［式中、Ｍは元素の周期系の第４〜７副族の金属を表わし、Ｌはアミンオキシド 、ホスファンオキシド 、アルサンオキシド、スチバンオキシド、燐酸トリアミド、ホルムアミド及びピ リジン−Ｎ−オキシドの群から成る中性配位子を表わし、Ｘはハロゲン化物、ア ルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、トリアルキルシリル基、ヒドロキ シル基、式−ＯＭＯxの無水金属酸基、カルボン酸エステル基、スルホン酸エス テル基、ホスホン酸エステル基、炭酸エステル基、硫酸エステル基、燐酸エステ ル基、ヒドロペルオキシ基、ペルオキシアルキル基及びトリオルガノシリルペル オキシ基の群から成る陰イオン配位子を表わし、その際２個の変数Ｘが一つのペ ルオキソ基を表わしてもよく、ｘは１〜５の整数を表わし、ｙは０、１又は２の 数を表わし、Ｚは１又は２の数を表わし及びｎは１又は２の数を表わすが、その 際２個の中性配位子Ｌ、２個の陰イオン配位子Ｘ又は１個の中性配位子Ｌ及び１ 個の陰イオン配位子Ｘが直接又はアルキレンブリッジを介してキレート配位子に 結合していてもよい］の金属酸誘導体を基礎とする活性剤の存在で使用すること を特徴とする、エポキシドの製法。 2. 活性剤として、Ｍがモリブデン又はタングステンを表わし、同時にｎが１ の数を表わすか又はＭがレニウムを表わし、ｎが１又は２の数を表わす金属酸誘 導体を使用することを特徴とする、請求項１に記載の方法。 3. 活性剤として、式中、Ｌが式 ［式中、Ｒ8からＲ10及びＲ11からＲ13は、付加的にエーテル酸素原子、カ ルボニル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、シアノ基、カル ボン酸エステル基、スルホ基、ホスホン酸基、ニトロ基、ハロゲン原子及び／又 は場合によりＣ1〜Ｃ4−アルキル基により置換されたアミノ基を官能基として含 有してよい、同一又は異なるＣ1〜Ｃ30−アルキル−、Ｃ7〜Ｃ30−アラルキル− 又はＣ6〜Ｃ30−アリール又はヘテロアリール基を表わす］のアミンオキシド− 又はホスファンオキシド−配位子を表わす、金属酸誘導体を使用することを特徴 とする、請求項１又は２に記載の方法。 4. 活性剤として、ｙ＝１又は２の場合に、Ｘが、塩化物、弗化物、Ｃ1〜Ｃ4 −アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、トリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）シリル又は式 −ＯＭｏＯx、−ＯＷＯx又は−ＯＲｅＯxの無水金属酸基を表わす、金属酸誘導 体を使用することを特徴とする、請求項１から３に記載の方法。 5. エポキシ化剤として、ビス（トリメチルシリル）ペルオキシドを使用する ことを特徴とする、請求項 １から４に記載の方法。 6. エポキシ化すべきオレフィンをビス（トリオルガノシリル）ペルオキシド と一緒に前装入し、引き続き金属酸誘導体を基礎とする活性剤又は反応条件下で 活性剤に変わる前駆物質を添加することを特徴とする、請求項１から５に記載の 方法。 7. エポキシ化を、不活性有機溶剤中で温度０〜１２０℃で実施することを特 徴する、請求項１から６に記載の方法。 8. 金属酸誘導体を基礎とする活性剤を反応媒体中に不溶性の無機又は有機担 体材料上に結合した形で使用することを特徴とする、請求項１から７に記載の方 法。 9. 一般式 ［式中、Ｍは元素の周期系の第４〜７副族からの金属を表わし、Ｌはアミン オキシド、ホスファンオキシド、アルサンオキシド、スチバンオキシド、燐酸ト リアミド、ホルムアミド及びピリジン−Ｎ−オキシドの群から成る中性配位子を 表わし、Ｘはハロゲン化物、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ト リアルキルシリル基、ヒドロキシル基、式−ＯＭＯxの無水金属酸基、カルボン 酸エステル基、スルホン酸エステル基、ホスホン酸エステル基、 炭酸エステル基、硫酸エステル基、燐酸エステル基、ヒドロペルオキシ基、ペル オキシアルキル基及びトリオルガノシリルペルオキシ基の群から成る陰イオン配 位子を表わし、その際２個の変数Ｘが一つのペルオキソ基を表わしてもよく、ｘ は１〜５の整数を表わし、ｙは０、１又は２の数を表わし、Ｚは１又は２の数を 表わし及びｎは１又は２の数を表わすが、その際２個の中性配位子Ｌ、２個の陰 イオン配位子Ｘ又は１個の中性配位子Ｌ及び１個の陰イオン配位子Ｘが、直接又 はアルキレンブリッジを介してキレート配位子に結合していてもよい］の１種以 上の触媒活性化金属酸誘導体０．１〜５０重量％及び二酸化珪素、シリカゲル、 珪酸、酸化アルミニウム、カオリン、珪酸アルミニウム、ポリ−ｔ−アミン−Ｎ −オキシド、ポリビニルピリジン−Ｎ−オキシド及びポリスチレンマトリックス 上に化学的に固定されたヘキサメチル燐酸トリアミドの群から成る、反応媒体中 に不溶性の１種以上の無機又は有機担体材料５０〜９９．９重量％から成る、化 学反応用の活性剤錯体。
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