JP2000512371A - ガス台 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ガス台用の伝統的ガスバーナは支持グリル下方の中心に設けられかつ零れた物のための皿形凹所により囲繞されている。バーナの動力調整は、バーナから出る複数の火炎が小さい場合であっても、通常はガス供給全体の調整によるのみである。本発明は個別パイプにより火炎口の個別火炎（Ｆ１ａ−Ｆ４ａ，Ｆ１ｂ−Ｆ４ｂ）を調整する効率的手段を提供し、かつこのための必要な空間はその火炎を外部から調理容器の中心へ向けて誘導することにより提供される。火炎口は空気供給および燃焼ガスの排気のための溝の両側に設けられている。または溝内にガス台の大きなフラット上部（Ａ１−Ａ９）が形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】 ガス台 本発明は調理容器のための支持手段および火炎口から成るガス台に関する。 調理容器と直に火炎接触するガス台は伝統的に中心火炎発生バーナ、中心に尖 端を有する金属支柱または厚みのある重金属線で形成されたグリッドの形態を採 る調理容器を支持する手段を装備する。バーナおよび支持手段の下方には調理時 に調理容器から零れる食物を集める皿形凹所が設けられている。火炎の熱の発生 を制御するための伝統的方法はバーナへ供給されるガス量を調整することにより 行われ、ガスはガスと混合するために必要な空気を吸引できる速度で供給される 。この混合物は中心バーナから半径方向外側へ突出し、火炎口から個別火炎また はシート状火炎として燃焼する。広範囲の調整が望ましいことは判明しており、 また火炎口へのガス供給を個別的に制御することが考えられている。しかし、中 心バーナの場合、これは困難であると同時に弁からバーナへかなり長いガスライ ンもしくは空気混合ガスラインを必要とする。 本発明によれば、この問題はバーナ／ガス台を文字通りにインサイドアウトに 回転構成することにより解決される。これは本発明によるガス台において行われ 、調理容器用支持手段はガス火炎用の口を含み、その火炎口は調理容器の中心内 方へ向かう尖端を有することを特徴とする。 本発明の有利形態は、調理容器用支持手段がガス台の上面全体の一部を形成す るフラット上面を有し、前記上面が空気を導入する深い溝および火炎の排気流路 を有する場合に得られる。これは、所定 範囲の調理容器が前記上面を横切って慴動すると共に倒れないように終始確実に 支持されることを意味する。 他の有利形態は、各溝が使用時の調理容器の場所の下方で最も深いことを特徴 とする。これは、零れた食物分を確実に溝の底に集めてそこから除去する。 他の有利形態において、内方へ向かう尖端を有する各火炎口にガス台内に設置 された弁装置を介して制御されたガスが個別的に供給されることを特徴とする。 この構成は排気および零れた食物を収集するための溝から離れたガス台の上面下 方の空間を有効利用し、弁、ガスラインおよび調整装置に利用できる。 本発明の他の有利形態は、ガス台の上部全体が絶縁材料、特にセラミックまた はガラス−セラミック材により形成される場合に実用的である。これは、調理容 器近傍の導線による短絡回路の作用を殆ど受けない電磁装置等の電子装置が調理 容器の存在および特性を決定するために使用できることを意味する。 以下に添付図面を参照して更に詳細に本発明を説明する。 図１は４つの主な加熱場所を有する本発明によるガス台を示す。 図２は溝の図を示す。 図３は火炎のための１セットの火炎口を示す。 図１において、ガス台の上面は９つの領域Ａ１−Ａ９に分割され、その全領域 はフラッシュであり、かつ調理容器が上面に沿って慴動するように調理容器を支 持できる。９つの領域は火炎への空気およびガス燃焼により生じる排気の流路を 形成する一連の連続溝により分離されている。これらの溝はガス台の場所により 深さが非常に異なり、最下レベルの４つの場所Ｌ１−Ｌ４、およびＨ１，Ｈ２に より示されたような複数のより高い場所から成る。これらの溝は、また、Ｈｅ１ ，Ｈｅ２，Ｈｅ３で示されたようなガス台の縁部に向 かって上昇している。凹所Ｌ１−Ｌ４は調理容器の４つの主な加熱位置に対応し 、かつ調理容器から零れた物を収容する働きをする。高部と低部間の移行部は漸 次に傾斜している。この形態において、溝の側部は実質的に垂直である。 ４つの加熱位置は２セットの火炎口Ｆ１ａ−Ｆ１ｂ，Ｆ２ａ−Ｆ２ｂ，Ｆ３ａ −Ｆ３ｂ，Ｆ４ａ−Ｆ４ｂを有する。火炎は上面の下方の容積部から相互方向へ 、もしくは換言すれば、加熱位置上に設置された調理容器の中心方向へ向って外 部から誘導される。火炎口は上面の下方レベルに形成されているが、通常使用時 に零れた物により火炎が消えないように凹所Ｌ１−Ｌ４の最大深さよりも充分に 上方のレベルに形成されている。 加熱位置での発生熱量は火炎の長さおよびその数により決定される。伝統的ガ ス台において、各加熱位置より下の中心位置にあるために、各火炎口へ個別ガス ラインを送る空間は極めて狭い。ただし、上面Ａ１，Ａ３，Ａ５，Ａ７およびＡ ９下の容積は効率的かつ簡単な構成に充分である。これは、加熱位置へのガス供 給全体が制御されると共に活性火炎口の選択が可能であることを意味する。これ は、例えば、Ａ５およびＡ９（Ｆ３ａ−Ｆ３ｂ）間の加熱位置と比較してＡ１お よびＡ９（Ｆ１ａ−Ｆ１ｂ）間の加熱位置では低動力供給により調理容器のより 一層均一な加熱が得られることを意味する。Ａ１およびＡ９（Ｆ１ａ−Ｆ１ｂ） 間の加熱位置は主として小さいポット（鍋）用に使用される。 火炎の調整は多くの場合加熱位置へのガス供給を少量にすることにより可能で あるが、Ｆ２ａ−Ｆ２ｂとの比較でＦ３ａ−Ｆ３ｂ等においては外部から火炎口 を遮蔽することにより可能である。ただし、更に均一にするには、低減動力を均 一に分配のために寧ろ他の各火炎口を遮蔽することが好ましい。 図２においてＡ８の方向をＡ６から見た溝が示されており、火炎Ｆ４ａおよび Ｆ４ｂがＡ７およびＡ９の下の容積部から突出する、最も深い場所Ｌ２の溝が示 されている。ガス台の上面は図１に示された領域Ａ７に属するＴ７、および領域 Ａ９に属するＴ９により示されている。この図において、カーブＺはＨ１の高さ レベルに向かう溝を右側へ、そしてＨｅ２の高さレベルへ向かう溝を左側へ分岐 する分岐部を示す。各々の主火炎はそれに対応するパイロット火炎を有する。 図３において、１セットの火炎口が示されており、図１および２の火炎Ｆ４ｂ のセットに対応して左から右へａ，ｂ，ｃ．．ｒ，ｓで示されている。これらの 火炎口は個別に、または組合わせて調整でき、それにより加熱を精確に調整する 。例えば、中央火炎口ｇ，ｈ，ｉ，ｋ，ｌ（そしてグループＦ４ａの対向火炎口 ）にはポット下に非常に均一の熱環境を形成するために少量のガスが供給されて よい。この加熱位置の動力出力を低減するために、ａ−ｓ，ｂ−ｒ，ｃ−ｑ，ｄ −ｐ，ｅ−ｏ等のごとく対単位でガス供給を減少することにより火炎口を遮断で きる。しかし、ガス供給の減少の均一化は、単にａ，ｃ，ｅ，ｇ，ｉ，ｌ，ｎ， ｐおよびｒを点火維持し、対の他方を消火することにより出力を半分にする場合 にも得られる。火炎口のラインの下にパイロット火炎Ｐのラインが示されている 。パイロット火炎はガスが再供給される場合、または火炎が通風により吹き消さ れる場合に火炎口を迅速に再点火する働きをする。ガス台の上面は図１の領域Ａ ８に対応するＴ８により、かつ領域Ａ６に対応するＴ６により示されている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＫ，Ｅ Ｅ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．調理容器のための支持手段および火炎口から成るガス台において、前記調 理容器用支持手段は前記調理容器の中心内方へ向かう尖端を有するガス火炎用の 火炎口を含むことを特徴とするガス台。 ２．前記調理容器用支持手段はガス台の上面全体の一部を形成するフラット上 面を有することを特徴とする、請求項１のガス台。 ３．各溝は使用時における前記調理容器の場所の下方で最も深いことを特徴と する、請求項２のガス台。 ４．内方に尖端を有する各火炎口にはガス台内に配設された弁により調整され たガスが個別的に供給される構成であることを特徴とする、請求項１のガス台。 ５．ガス台の全上部はセラミックまたはガラスセラミック材等の絶縁材料によ り形成されていることを特徴とする、請求項２のガス台。