JP2000512397A - 生産環境のためのホログラフィのパターン化の方法及び工具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 高い解像力、高い処理能力、大きな界寸法、生産環境、リソグラフィの工具装置及び方法は、適応性のあるビーム拡張、フィルタ、穴明け及び運搬装置においてまとめられた三つ又は四つの相互に干渉性のある光ビーム（２７ａ、２７ｂ、２７ｃ）を利用する干渉のパターン発生器（１０）を有し、大きな領域のパターンの一様性が、最適化された照明ビームの位置決め及び形成によって得られる。受動型の安定化装置は、高い機械的及び音の振動の生産環境において、完全に変調された干渉のパターンを実現する。

Description

【発明の詳細な説明】 生産環境のためのホログラフィのパターン化の方法及び工具 発明の背景 本出願は、１９９６年６月１０日出願の米国仮特許出願番号６０／０１９４９ １号の継続出願である。 発明の分野 本発明は、高い処理能力のホログラフィのマイクロリソグラフィのための方法 及び装置に関し、サブミクロンの寸法の構造の定期的な配列を製造するのに適し ている干渉のパターン化の技術は、高い処理能力、大きな界の寸法の製造工具に 適していて組み込まれている。本発明の方法及び工具は、ディスプレイ、半導体 及び光学製造産業を有する。 従来技術の記述 分布された陰極の電界放出表示（ＦＥＤ）技術、液晶技術装置の（ＬＣＤ）製 造者によって現在優位を占められている平坦なパネル市場の強い競争者に基づく 平坦なパネルの製造に適した効果的な工具において満たされない必要性が存在す る。ＦＥＤは、公知の陰極線管（ＣＲＴ）に類似する分布された陰極の平坦なパ ネルである。本質的に、十億の小型の電子「銃」の陰極が、ディスプレイの基板 の表面にわたって空間的に分布される。電子は、高い加速ポテンシャルの作用の 下で、小さい円錐形の陰極から発せられ、一般の陽極にわたって配置された蛍光 面に当たり、それにより、フォトン（すなわち、光）へ変えられる。ＦＥＤの分 布された陰極母材の製造に おいて最も過酷な段階は、エミッタのコーンが大きくされる穴又はウェルの配列 のパターン化である。従来技術において、フォトレジスト等の感光媒体は、シャ ドーマスク（コンタクトプリンティング）、光学的投射、電子又はレーザビーム の直接的なライティング等の従来のフォトリソグラフィ技術によって形成される 穴の配列の像を記録するために使用されてきた。そして、フォトレジストにおい て、穴配列又はパターンは、穴を形成する方法において、エッチマスクとして使 用されることができる。従来技術において、穴のパターンは、画像装置又はライ ティング装置の解像力及び界寸法によって制限されてきて、複雑でしばしば高価 なとりかかっている解決方法は、１〜２μｍの範囲の穴直径を有する５０×５０ ｍｍの適度の界寸法を実現することを必要とされてきた。最近の調査は、１μｍ の範囲以下への穴寸法（及び結果としてエミッタの寸法）における減少は、減少 されるゲートの電圧、低い電力消費、画素当たりの大きな電流密度及び本来的に 備わった冗長量とうの多数の利点を付与するということを示した。こうして、Ｆ ＥＤ技術、安価で高速度で生産環境のリソグラフィ工具のポテンシャルを十分に 実感するために、大きな領域、高密度、少ない欠陥を有するサブミクロンの直径 の穴の配列を製造することのできるパターン技術を組み込むことが必要である。 ホログラフィの又は干渉のリソグラフィは、実験室の環境において、平坦なパ ネルＦＥＤに適した高解像度の周期的な構造を発生させることが可能であり、レ ーザ等の一つの光源から発せられる多数の光ビームの相互の干渉性を利用する。 レーザビームは、空間のいくらかの領域で重なるようにされ、干渉して波長に比 例した尺度で繰り返す明るい領域及び暗い領域のパターンを発生させ、続いて、 フォトレジスタ等の感光媒体に記録される。従来の接触又は投射フ ォトマスクは必要とされず、ホログラフのリソグラフィは、「マスクなし」のリ ソグラフィ技術として知られている。さらに、固有のフォトレジスト及びエッチ ング工程の非線型性を利用することによって、種々の表面のレリーフの構造は、 光学的な配置において変化なく生ぜしめられる。 他の有益な面のレリーフの構造は、「モスアイ」又はサブ波長構造（ＳＷＳ） の面等のホログラフのリソグラフィを使用してパターンを描かれる。モスアイ面 の構造が、空気と窓又は屈折性のある光学要素との間等の光学的なインターフェ ースからの光の反射をほとんど除去するのに有効であるように示される。語「モ スアイ」は昆虫の目、自然の類似物から由来し、夜行性の昆虫の目（例えば、蚊 ）は、光の波長に関係なく少ししか又は全く光を反射しないということが述べら れる。目の表面は、漸次移らされた屈折率の物質と同様に機能し、異なるバルク の密度の媒体間の滑らかな変化を本質的に可能にする。回折作用を避けるために 、人工のモスアイ面は、表面に入射する光の波長より小さな形状寸法及び間隔で 製造されなければならない。ほとんどの赤外線の又は可視光の波長の適用におい て、これは、面全体（例えば、電磁窓又は光学的領域）を通してパターン化され てサブミクロンからサブ半ミクロンの範囲の構造の間隔を必要とする。高い容積 及び大きな領域のモスアイ構造を製造するための手段は、従来技術で利用可能で なく、種々の製品は、大きな領域にわたって表面仕上げするモスアイによって与 えられる増加された凹凸及び非反射性能から利益を得ることができる。 液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造も改良を必要とする。液晶（ＬＣ）は、異 方性の分子であり、この異方性の分子は液晶（ＬＣ）が相互作用する光の特性に 影響を及ぼし、電界の影響の下でこの影響の大きさを変化させることができる。 ＬＣＤは、ガラスを使用し て典型的に構成されたセルの生成によって形成される。ＬＣ分子はこのセルの中 に閉じ込められる。語「crystal」は、ＬＣ分子の構造、又は固体の状態の分子 と共に典型的に見出される明確な又は測定できる状態へのＬＣ分子の配列につい て言う。この人工的に生成された配列は、セルの境界上に薄い層の物質を堆積さ せることによって実現され、これは、物理的に又は静電気的に、ＬＣ分子は選択 的に一方向に配列する。当業界で公知のように「配列層」は、スピニングドラム 又はシリンダを具備して配列物質で被覆されたセル基板を通してこのスピニング ドラム又はシリンダを回転させる物理的な研磨又はバフ研磨技術を使用して、典 型的に処理される。高度の危険な静電荷及び（研磨物質からの）広がる粒子は、 この処理中に生ぜしめられ、さらに、製造する生産量は改善されることができる 。 発明の要約 ＬＣＤを製造する生産量の増加は、非機械的、非接触の配列積層処理によって 提供され、この処理は、静電荷の問題を避け、現存する製造装置及び生産環境に 匹敵する。本発明の処理は、配列物質層へ表面構造をパターン化することを含む 。本発明のホログラフのリソグラフィ技術を使用して、面構造のＬＣ配列層は、 モスアイ面の高められた非反射特性を用いて製造される。面構造において十分な 非対称性を生み出すことによって、パターン化処理は、ＬＣ変調装置の（当業界 において前もっての傾斜又は傾斜偏向として知られている）角度の回転及び角度 の傾斜の両方をセルの壁に関して制御することができる。 それゆえ、本発明の目的は、ＬＣ構造の高容積の処理を可能とするホログラフ ィのリソグラフィのパターン化工具を提供することで ある。 本発明の目的は、ＦＥＤ技術を基礎とする大画面領域の平坦なパネルディスプ レイの高い容積の製造を可能とするホログラフのリソグラフィのパターン化工具 を提供することである。 本発明のさらなる目的は、可視赤外窓の適用において及びダイヤモンド薄膜産 業においてモスアイの非反射面のレリーフのパターンを生み出すことのできる製 造工具を提供することである。以上に記述されたように、ＬＣＤ産業は、高めら れた光学的性能及び大きな生産量で組織的体系にされた配列層の製造を可能とす るこの発明から利益を得ることができる。超大規模集積回路（ＶＬＳＩ）の半導 体及び電気光学装置の製造は、サブ半ミクロンの処理及び光ビーム変調装置で、 本発明の方法及び工具を使用することができる。 本発明のこれら及び他の目的は、四つの主な構成要素を有する製造する工具を 提供することによって得られ、第一は、レーザから得られるような感光媒体を露 光するのに適した波長を有する偏向された干渉性のある光学的放射線であり、第 二は、分割して再び向ける又は、干渉性のある放射線を二、三又は四のビームの 干渉の配置にファンアウトする手段を有する柔軟で再配置可能なビーム運搬装置 であり、第三は、生産環境を代表する音の及び機械の振動を減衰させるための構 造であり、第四は、機械化された二次元移動段、パネル又はウェハーの任意の大 きな基板にわたってパターン化している領域を模写するためのコンピュータコン トローラの取り付け部である。 実験室におけるホログラフのリソグラフィの実証は、高度に自動化されて確実 であるアルゴンイオンガスのレーザから得られる紫外線の波長の光を使用する。 濃い青のスペクタルの範囲もアルゴンイオンガスのレーザを使用して利用可能で あり、この波長の選択は、 フォトレジストの感度とレーザパワーとの間の釣り合いになる。種々のフォトレ ジストは、ほとんどの紫外線のスペクトルの範囲においてエネルギに対して高感 度を有し、しかるに、可視の青の波長を有するエネルギを感知するフォトレジス トの数がより制限され、それらのフォトレジストにおいて、感度は典型的に低い 。しかしながら、青の波長は、製造工具において多数の理由のために最近実際的 な選択である。第一は、所定の首部又は穴の寸法において光ビームの散開は、よ り短い波長において減少し（提案された装置において界の寸法に直接的な衝撃を 与える関係、界の寸法は、不変の穴寸法が再び与えられる３５１ｎｍより３０％ 大きく４５８ｎｍの光である）、第二は、可視の比較的に目に安全な光源を使用 して動作する時に、ホログラフの機構の配列及び維持は大いに簡単化され、第三 は、アルゴンイオンガスレーザにおいて、レーザの寿命は、紫外線波長で動作さ れる時に劇的に減少せしめられる。結果として、生産環境レーザは、４５８ｎｍ で動作される時に二倍まで長く持続すると期待されている。最後に、適応性のあ るビーム運搬装置は、本発明の一体の構成要素であり、紫外線光をガイドする時 に今日まで劣って不安定で実施不可能であった性能を示す特殊化された光ファイ バを必要とする。 実験室の実証は、二ビームのホログラフ技術を利用するが二つの添えられた記 録の間に煩わしい機械的な回転を必要として、二次元のパターンを生み出し、生 産工具装置において実際的ではない。結果として、本発明のさらなる目的は、三 又は四ビーム干渉に基づく単一の露光を必要とし、穴、円錐、柱、頂点、管、地 卓、格子又はマイクロレンズの二次元配列を生み出すパターン化装置を提供する ことである。多数のビームの強度パターンも固有に、明るい領域と暗い領域との 間により大きなコントラストを有し、高いアスペクト 比を有する構造を生み出す。 本発明のさらなる重大な目的は、従来の機械的に不安定な単一モードの光ファ イバを維持する偏向を有する従来技術の空間フィルタに取って代わることであり 、それにより、光学的ノイズを除去し、大いに散開する大きな領域のビームを付 与し、光学的配置を制御及び修正するための適応性のある手段を提供する。さら に、光ファイバによって与えられる柔軟性は、ビーム経路長の平等化及びガスレ ーザ源に組み込まれたエタロンを抑える長手方向モードの除去を可能とする。こ の改良は、（ほぼ二つの中の要因によって）レーザパワーの増加という結果を生 じ、その結果として処理能力の倍加という結果を生じる。 光ビームの経路長の平等化はさらに、多数のビームを等しい部分に分割するた めの従来のものでない手段を使用することによって容易にされる。二位相のダマ ン格子（又はより有効な任意の位相のファンアウト）等の一つの回折要素は、分 割行程による無視してよい経路長の差を有する多数の等しい強度のビームを生じ るために使用される。回折要素はさらに、受動型又は能動型の導波管と一体化さ れることができ、出力ビームの各々の間の関連の位相を制御するために、非常に 柔軟でコンパクトな装置を生じる。 本発明のさらなる目的は、光ファイバから出る光ビームの自然な散開によって 与えられるパターンより大きく非常に大きな領域のパターンを生み出すための手 段を提供する。界の寸法の拡大技術は、開示され、拡散する（又は無作為に散ら ばっている）光学的要素を有する光ファイバの組み合わせに基づく。ディフュー ザは、実世界の物体のホログラムを製造する当業者によって使用される。ディフ ューザは、照明ビームの空間的な干渉を乱し、それにより、種々の物体の形状か ら反射された光によって引き起こされる局地的な干渉 のノイズを減少させる。ディフューザは、この撒き散らす機能のために一定水準 の空間の光学的なノイズを発生させ、干渉パターンを記録する時に受け入れられ ない結果を生じる。従来技術において、調査者は、焦点の乏しい深さに類似した 像のような問題を生み出すパターン化可能な容積における結果としての損失のた めに、ディフューザを機械的に回転させることによって、記録時間を通して空間 的なノイズを平均化し、生産環境において実際的でない解決方法を利用してきた 。本発明の態様は、光ファイバから非常に散開する光がディフューザによって向 けられる時に、ディフューザによってもたらされる空間のノイズ（又はスペック ル）のレベルは大いに減じられ、その一方で、ビームの拡大の機能が維持され、 ビームの散開は、空間のノイズのレベルにおいてわずかな増加でありながら、二 つ以上の要因によって増されるという発見である。半径方向の撒き散らす速度を 変化させることによって及びそれにより強度の微小の変化を有する照明するビー ムを発生させることによって、照明の一様性をさらに高める特別に適合されたデ ィフューザが生み出されることができる。光ファイバの導波管及びディフューザ の有利な組み合わせは、結果としての照明を変え（aberrate）、こうして空間の ノイズを平均化し、結果としてのホログラフのパターンにおいて誤差を減少させ る。 本発明の最後の目的は、製造工具における改良された照明機構の組み込みであ り、より大きな領域を通してパターン化していてより一様な形状寸法を生じる。 高められた形状の寸法の一様性は、二つの技術を使用して得られる。第一は、各 ビームの位相は変えられ、形状の変形と、拡大されたビームの結果として生じる 形状の間隔の変化とを減少させる。第二は、照明の一様性は、記録面からの不変 の距離に配置される面において照明するビームの重心を重ねること によって高められる。所定の界の寸法について、この不変の距離が、一体の照明 の強度においてたった１５％の変化で最適化される。フォトレジストのモデリン グは、変化が記録される形状の寸法において最大５％の変化を生み出すことを示 す。 前述された目的は、個々に及び組み合わせて実現され、ここに取り付けられて いる請求の範囲によって必要とされないならば、組み合わされた目的の二つ以上 を必要とするように、本発明が構成されるべきであるということは意図されてい ない。本発明の以上の及びさらなる目的、特徴及び利点は、特に添付図面と関連 して種々の図面内で同様な参照番号が同様な構成要素を示されている時に、本発 明の特定の実施態様の以下の詳細な記述を考慮することによって明らかである。 図面の説明 図１ａは、本発明の工具装置のパターン化ヘッドの部分断面図における正面断 面図である。 図１ｂは、図１ａのパターン化ヘッドの部分断面図における側面断面図である 。 図２は、制御塔及び水対水熱交換器から離れた工具装置の部分断面図における 斜視図である。 図３は、レーザ源のプラットフォームの頭上の図又は平面図であり、自由な空 間のレーザビームを光ファイバケーブルの分割及び結合を描く。 図４ａは、三ビーム運搬装置の関連レールを有するビーム運搬ブレッドボード を有する頭上の図又は平面図である。 図４ｂは、四ビーム運搬装置の関連レールを有するビーム運搬ブレッドボード を有する頭上の図又は平面図である。 図５は、記録面移動段及び基板取り付け装置又はチャックの頭上の図又は平面 図であり、典型的なパターン領域を有する最大寸法の基板が描かれている。 図６ａは、光ファイバケーブルに基づく適応性のあるビーム運搬装置の光学的 な略図であり、四ビーム配置が示される。 図６ｂは、光ファイバケーブルに基づく適応性のあるビーム運搬装置の光学的 な略図であり、三ビーム配置が示される。 図７ａは、一つの光源を四つの光源に分割する小型の一対四ファンアウトの構 造を示す。 図７ｂは、一つの光源を四つの光源に分割するために、三つの一対二ファンア ウトを有する小型のファンアウト構造を示す。 図７ｃは、一つの光源を多数の光源へ分割するために、格子の接続された漏れ 全内部反射（ＦＴＩＲ）装置を描く。 図７ｄは、一つの光源を多数の光源へ分割するために、モード交差接続を使用 する一体の光学的な導波管の構造を描く。 図８ａは、シフトされた三ビーム照明を使用しないで工具の装置について強度 分布がコンピュータで生ぜしめられた形状の図であり、典型的な３００ｍｍ対角 線のディスプレイの画面領域を示す矩形が、図に添えられている。 図８ｂは、本発明のシフトされた三ビーム照明を有する工具装置についての強 度分布がコンピュータで生ぜしめられた形状の図であり、図８ａのように、画面 表示を示す矩形が図に添えられている。 図９は、図８ｂと同様であるが、短い移動及び低いビーム散開の四ビーム工具 装置のために描かれた強度分布を示す。 好適な実施態様の詳細な記述 図１ａ及び１ｂは、それぞれ部分正面断面図及び部分側面断面図 であり、本発明の工具装置のパターン化ヘッド１０を示している。パターン化ヘ ッド１０は、現代のディスプレイ製造を容易にする一群の工具の一部分である。 パターン化ヘッド１０は、三つの主なレベルを有し、最下レベル１２は、プラッ トフォーム１５上にレーザ照明源１４を有し（レーザ照明源の実施態様は図３に 示される）、中央レベル１６は、パネル取付部又はチャック１８（すなわち、パ ネル又は加工物１９において）及びＸ−Ｙ移動段２０（図５に詳細に描かれる） であり、ビーム運搬ブレッドボード２２（例えば、図４ａに示されるように）は 、第一、第二及び第三担体の取り付けられたファイバ位置決め段２５ａ、２５ｂ 及び２５ｃを支持するガントリー支持装置２４内に取り付けられ、最上レベル２ ６を構成する。電力及び制御信号を離れて位置する制御塔（図２に示される）か ら得て、パターン化ヘッド１０は生産環境の枠組を付与し、ホログラフのパター ンの発生の必要条件がこの生産環境の枠組み内で満たされることができる。特に 、レーザビームの経路２７ａ、２７ｂ、２７ｃ及び記録面（例えば、加工物１９ の上面２８）を、過剰の空気流れによる振動、機械的装置の振動、音のノイズ及 び任意の他の周囲の振動源から隔離する必要がある。振動の隔離は、四つの垂直 な空気式受動型減衰支持部３０を使用してパターン化ヘッド１０内で三つの段全 てに提供される。空気式支持部又は振動防止装置３０は、圧縮された空気上にパ ターン化ヘッド１０を浮かばせる。空気流れによる振動及び空中の音のノイズを 減衰させるために、レーザ源壁３１及びパターン化室壁３２の両方は、現代的な 清潔な部屋の壁のカバーを代表とする表面がアルミニウム又はステンレス鋼であ るフォーム（foam）の芯部のパネルを使用して囲まれる。パターン化ヘッド１０ は、（図２に示される制御塔及び熱交換支持装置へ）レーザの導管と、真空及び 電気的な制御ラインを有する第二ケーブ ル束とによって拘束される。 パターン化ヘッド１０は、四つのパターン化室壁３２及び室蓋３６によって囲 まれるパターン化室３４を有する。パターン化室３４は、シールされることがで き、シールされる時に光学的に囲まれるか光を通さない。相互に干渉性のあるレ ーザビームは、レーザビーム経路２７ａ、２７ｂ、２７ｃに沿って、ファイバ位 置決め段２５ａ、２５ｂ及び２５ｃから下方に照り、プラットフォームとして機 能するパネル取付部１８へ向けられ、本発明のホログラフィのリソグラフィ処理 を受ける加工物を支持する。パネルの上面２８上の照準点３８は、レーザビーム 経路２７ａ、２７ｂ、２７ｃのほぼ中央である。 図２は、パターン化ヘッドを用いて使用するために、工具装置内に含まれる支 持装置を示す。パターン化ヘッド１０（図１ａ、１ｂ）は、パーソナルコンピュ ータ４８を有する制御塔４０を使用して制御され、このパーソナルコンピュータ は、駆動する電気的装置とインターフェースで接続し、パターン化行程を指示し 、工具装置の状態を監視する。レーザ照明源１４（図１ａ、１ｂ）は、独立した 水対水の熱交換器４４を介して温度制御される。従来の電気的な空気圧縮機（図 示せず）が、空気式テーブル絶縁支持部３０（図１ａ、１ｂ）に対して必要な圧 縮された空気を付与する。制御塔４０は、ホログラフの露光エネルギを計測しか つ示すための露光エネルギ計（exposure energy meter）４６と、パネルの露光 のタイミングを制御するためのシャッタドライバ（及び制御リレー）と、Ｘ−Ｙ 移動段２０（図１ａ、１ｂ）を配置するために使用される電気的なステッパモー タを制御するためのステッパモータコントローラ５０とを有し、パネル取付部１ ８は、パターン化室３４内でＸ−Ｙ移動段上にある。制御塔４０はさらに、レー ザ照明源１４のために電源 ５２を収納するために使用される。 図３は、レーザ源１４’の実施態様を有するプラットフォームの頭上からの平 面図であり、およその尺度で描かれた光学的な図を示し、自由な空間のレーザビ ーム経路と、従来のビームを分割する光学的装置及びビームを指示する光学的装 置と、光ファイバを接続するコネクタと、ケーブルと、光学的装置及び光ファイ バケーブルを取り付けかつ配列させるための光機械的なハードウェアとを示す。 記述されたレーザは、アルゴンイオンガスレーザ６０であり、このレーザは、偏 光した単一周波数（又は選択的に単一ラインの）の可視スペクトルの青い範囲内 の４５７．９ｎｍの波長を有するビームを発生させる。以上に記述されたように 、この波長の選択は、大きな界の寸法の適応性のあるビーム運搬に寄与し、本発 明の工具装置の高められた照明の一様性の利点に寄与する。レーザ源６０は、干 渉性のある光源のビームを発生させ、このビームは、連続する第一及び第二反射 鏡６２、６４を通って、それぞれ、二つ、三つ又は四つの等しい部分に分割する 一組の一つ、二つ又は三つのビーム分割器へ向けられる。以上に記述されたよう に、本発明のパターン化工具は、二つ、三つ又は四つのレーザビームを有するこ とができる。図３に示されるレーザ源１４’の実施態様において、四つの実質的 に等しく相互に干渉性のあるレーザビームは、第一、第二及び第三の連続して位 置するビーム分割器６６、６８及び７０の使用によって生ぜしめられる。当業界 において公知のように、ビーム分割器は、入射するレーザビームの一部分を反射 させ、残りのレーザビームを通過させることができ、図３に示されるように、ビ ーム分割器６６に入射する干渉性のある光源のビームの一部分は、鋭角で反射さ れ、（開放していて光を伝達する状態の）第一の電気的なシャッタ７２へ、第一 のウェイブプレート７４を通り、接続されて取り付け られたファイバ位置決め段７８を介して第一の適応性のある光ファイバのパッチ コード７６へ送り出される。ビーム分割器６６を通過せしめられた光は、ビーム 分割器６８によって受け入れられる。同様に、第二のビーム分割器６８からの反 射エネルギは、（開放していて光を伝達する状態の時の）第二の電気的なシャッ タ８０を通り、第二のウェイブプレート８２を通り、第二の接続されて取り付け られたファイバ位置決め段７８を介して第二の適応性のある光ファイバのパッチ コード８４へ送り出される。同様に、ビーム分割器６８を通過せしめられた光は ビーム分割器７０で受け入れられる。第三のビーム分割器７０からの反射された エネルギは、（開放していて光を伝達する状態の時の）第三の電気的なシャッタ ９０を通り、第三のウェイブプレート９２を通り、第三の接続されて取り付けら れたファイバ位置決め段９６を介して第三の適応性のある光ファイバのパッチコ ード９４へ送り出される。最後に、第三のビーム分割器７０から伝達された光は 、第三の反射鏡から反射され、（開放していて光を伝達する状態の時の）第四の 電気的なシャッタ１００を通り、第四のウェイブプレート１０２を通り、第四の 接続されて取り付けられたファイバ位置決め段１０６を介して第四の適応性のあ る光ファイバのパッチコード１０４へ送り出される。 ビーム分割器６６、６８及び７０は、干渉性のある光源ビームを第一、第二、 第三及び第四の相互に干渉性のある光ビームへ分割するのに供する。図７ａ、７ ｂ、７ｃ及び７ｄに示されるように、光源ビームを分割するための多数の代替物 がある。別の実施態様において、光源ビームは、図７ａに示される回折性の一対 四ファンアウト１１０を通り、図７ｂに示される連続的に配置される一対二ファ ンアウトを通り、図７ｃに示される（離間した回折性のある要素を有するスラブ 導波管からなる）格子の結合された漏れ全内部反射鏡 （ＦＴＩＲ）１１１又は図７ｄに示されるように（分岐するトリーを有するスラ ブ導波管及び電気光学的な位相変調装置を有する）モード交差接続された一体の 光学的導波管（光波ガイド）の分割器１１４を通って、所望の四つのビームを発 生させる。 そして、四つのビームは、近端部に適合された光ファイバケーブル７６、８４ 、９４、１０４（図３）に入射し、前もって配列されたコリメータ型のファイバ を接続するコネクタが、それぞれの取り付けられたファイバ位置決め段７８、８ ６、９６、１０６内に含まれている。一旦、送り出されて柔軟な光ファイバのパ ッチコードによって含まれると、ビームは容易に光ファイバのパッチコードによ って操作される。光ファイバケーブル７６、８４、９４、１０４は、図４ｂに示 されるように、移動段テーブルにおけるアクセス穴を通して、ガントリー支持柱 に沿って上がり、ビーム運搬ブレッドボードのレベルヘ向けられる。 図４ａ及び４ｂは、レーザビーム運搬ブレッドボードの二つの平面図である。 図４ａの三ビームの実施態様は、図１ａ及び１ｂのパターン化へッドの実施態様 １０に対応する。図４ｂの四ビームの実施態様は、図３に示されるレーザ源の実 施態様１４’に対応する。両方の実施態様において、各光ファイバケーブルの遠 方の端部は二軸の機械的なジンバルに取り付けられ、このジンバルは往復台型の 基部に取り付けられている。この往復台型の基部は、手動で（又は選択的な自動 操作によって）全レールに沿って配置されることができ、往復台の位置は、パタ ーンの形状の寸法及びパターンの形状の間隔の範囲を確定する。較正されたレー ル装置に沿った目盛りをした止め部は、共通に選択された位置に配置される。ガ ントリー支持装置２４は、図４ａに示され、四つの垂直な強固な支柱又は柱１３ ４に固定された平坦な支持ビーム運搬ブレッドボード２２を有する 。三ビームのレール装置１１８は、第一、第二及び第三の等しい長さのレール１ ２０、１２２及び１２４を有し、これらのレールは、共通な平面で半径方向に離 間し、パターン化室３４の中央の近傍に配置された中央のレール接続ハブ１２８ に互いに固定されている。レールの目盛り点１２６は、担体取り付けファイバ位 置決め段２５ａ、２５ｂ、２５ｃを配置するために使用され、これらの段は、図 ４ａに含まれている想像上の基準線１３０を使用して見られることができるよう に、好ましくは中央のレール接続ハブ１２８から等距離に配置される。パターン 化室壁３２は、四つの強固な柱支持部１３４と共に断面図に見られることができ る。レール装置の四つのレールの実施態様は、図４ｂに示され、第一、第二、第 三及び第四レール１３６、１３８、１４０及び１４２をそれぞれ有し、これらの レールは、共通の面で半径方向に離間して配置され、中央のレール接続ハブ１４ ４内で室３４’の中央で互いに固定され、以上のように、この実施態様はさらに パターン化室３２及び四つのコーナーの強固な柱支持部１３４を有する。図４ａ 及び図４ｂの実施態様において、ブレッドボード（例えば、図１ａ及び図４ａの ２２）は、正確な機械加工された垂直な強固な柱１３４によって四つのコーナー で支持される。光ファイバケーブルの遠端部から放射するレーザビームは、以上 に説明されたように、移動段又はパネル取り付けレベルに向かって下方へ向けら れる。 図５は、移動段レベル１６の平面図であり、二軸Ｘ−Ｙ段２０及び真空チャッ ク１５０を有するパネル１８の運動又は移動の範囲を示している。記述された実 施態様において、真空チャック１５０のための真空吸引力は、コンピュータによ って制御され、種々の真空制御機構は、最大５５０ｍｍ×６５０ｍｍまでの種々 のパネルの寸法を収納することを可能にする。大きなパネルが、工具及びチャッ ク１５０の尺度を簡単に変化させて受け入れられることができる。チャックの温 度は温度制御の下で維持されることができる。チャック１５０はパネルリフトの 機構を組み込み、自動化されたパネルの荷積み及び荷降ろしを容易にし、ビーム 出力検知器１５２は、照準点３８にあり、自動化された露光の計量のためにチャ ックの面の下で一体化される。 本発明の照明装置は、図６ａに略図的に示され、適応性のあるシフトされた四 つのビームの照明構造である。図６ｂはさらに三つのビームの実施態様を略図的 に示す。以上に説明されたように、レーザ源からのビームは、ここに記述された いずれかの方法で分割され、ケーブル近端部（例えば、取り付けファイバ位置決 め段７８、８６、９６及び１０６）において光ファイバケーブルへ送り出される 。レーザ光の単一モードへ接続し、偏光を維持するファイバ（光学的な導波管） は、小さなファイバの芯の直径が典型的に２〜４μｍであるために、従来困難な 仕事であった。最近、しかしながら、光ファイバケーブル製造者は、通常ファイ バの端部から放射する光を平行にするために、機械的取り付けハードウェア及び 光学的装置をケーブル製品へ「接続させてきた」。しかしながら、本発明におい て、典型的なファイバのコリメータは、逆方向に動作され、それにより、ほとん ど平行にされたレーザ光は、ファイバの近端部で（例えば、取り付けファイバ位 置決め段７８、８６、９６及び１０６で）ファイバへ結合され、その結果として 、ファイバへ光を送り出すための配列の許容量が大いに増され、結合の安定性が 非常に改善される。これらの利点は、ファイバケーブルの柔軟な性質と共に、フ ァイバケーブルを本発明の製造工具において使用に適切たらしめる。光ファイバ ケーブルを使用することによって得られるさらなる驚異的な利点は、光ファイバ ケーブルが、実験室体制において使用さ れる従来の空間周波数フィルタの機能に取って代わることができることである。 レーザ光のファイバケーブルへの結合の動作は、ビーム内での振幅のノイズを除 去し、小さな直径のファイバ芯部内における光の閉じ込めの結果として非常に散 開するビームを発生させる。図６ａ及び６ｂに示されるように、ファイバケーブ ルの端部から放射する非常に散開するビームは、非常に多数の穴を有する。ファ イバは、光学的経路を等しくさせられることのできる長さへ切断され、それによ り、多数の長手方向モードの存在により又は産業述語の単一線動作によって与え られた増加されたパワーレベルにおいて、レーザが動作することを可能とする。 各ファイバの遠端部に接続されて、光学的要素１６０（すなわち従来の屈折レン ズ）は、加工物を照明する照明ビームの散開を最適化するために使用されること ができる。しかしながら、好適な実施態様において、光学的要素１６０は、位相 及び振幅のノイズ又は収差の両方を与える従来の拡散要素であり、この光学的要 素は、ファイバの遠端部から放射する非常に散開するビームと関連して、位相ノ イズを調整する。以上に説明されたように、この組み合わせは、ディフューザを 使用する時に典型的に見出されるように、受け入れることのできない空間ノイズ なく、照明するビームの散開に対して正確な制御をもたらす。光ファイバの導波 管及び位相を変えるディフューザの有利な組み合わせは、結果としての照明ビー ムを修正させ、こうして、結果としてのホログラフのパターン化において、空間 ノイズを規格化して誤差を除去する。光学的要素１６０は好ましくは、（一様な 又はガウスの）５°〜４０°の範囲の拡散角度を有するディフューザであり、好 ましくは微視的な形状の一様性を最適化するように選択され、現在、拡散角度１ ０°を有するディフューザが実験されている。あるいは、光学的要素１６０は、 拡散する面及び拡大する面を有する鏡と することができ、反射モードの動作において使用される。図６ｂの三ビームの実 施態様において、ケーブルの遠端部１６４は、共通面内１６６内に三角形の配置 で配置され、記録面１６８は、共通面１６６から不変の距離（例えば、一メート ル以上）で共通面に平行に配置され、この共通面は、ケーブルの遠端部１６４に よって確定され、ケーブルの遠端部を含んでいる。あるいは、図６ａに示される ように四ビームにおいて、ケーブルの遠端部１６４は確定して平坦な四角の格子 １７０内に配置される。図６ａ及び６ｂの配置は、記録面１６８において観察さ れることのできる二次元の干渉じまを発生させる。 従来技術の実験室の作業において、記録面１６８は、交差するビームの重心を 有する面（すなわち、三つ又は四つの照明ビームの中心の交差点によって確定さ れる面）と一致する。図６ａ及び６ｂはさらに、本発明のシフトされる照明技術 を示し、この照明技術によって、ビーム重心は、記録面１６８から移され（すな わち、記録面で交差せず）、ビーム重心は、代わりに記録面１６８の上方の５〜 １０ｃｍで平行に配置されるシフトされた又は偏倚した平面１７２で交差する。 光ファイバケーブルの遠端部１６４から放射する光の強度がビームの中心で最も 大きいので、ほとんど正規分布でビーム半径に沿って減少し、角度方向に三つ（ 又は四つ）の照明ビームを移すことは、ビーム重心重なり面１７２から垂直に偏 倚する（例えば、５〜１０ｃｍ）記録面１６８でより一様な照明を可能とする。 図８ａ及び８ｂは、図６ｂの三つの照明ビームの実施態様についてこの効果を 示す。図８ａ及び図８ｂの図は、照明する三つのビームを重ねる結果、微視的な 強度の分布を示している。この微視的な尺度において、三つのビームの強度が合 計され、結果としての分布が、形状の図で示され、連続するリングの各々は、隣 接する内部又 は高い強度から５％の低下を示す。矩形１８０がさらに図において描かれ、この 矩形は、ＦＥＤのパターン化に適した３００ｍｍの対角スクリーン領域に対応す る２５０×２００ｍｍ領域を表す。図８ａ及び８ｂの図において、照明ビームの 散開が固定される。図８ａは、シフトされた又は偏倚した平面１７２内に見出さ れる照明を示し（図６ｂ）、ここで全ての三つのビーム重心が重なる。この場合 において、結果としての強度分布は、矩形のターゲットフィールド１８０内で照 明のレベルで５０％の変化をもたらす期待されるガウス曲線と共に変化する。こ れは、直接的に光硬化性樹脂に記録される形状の寸法に影響を与え、露光された 領域において比較できる及び受け入れられない形状の寸法の変化を生じる。この 問題に対する一つの解決方法は、照明ビームの寸法をさらに拡大させ、しかしな がら、これは、現存するレーザパワーレベルで実際的でなく、長い露光時間及び 乏しい工具製造処理量をもたらす。本発明の方法において、照明ビーム中心は、 軸方向に移され、それにより、記録面からビーム重心重なり面をシフトさせ、低 い変化の照明の領域を効果的に広げ、その結果が、固定されたビーム散開のため に再び図８ｂに描かれる。図８ｂの図は、ビーム重心が重なる平面１７２からい くらかの距離だけ軸方向に偏倚した又はシフトされた記録面１６８に照明を表示 し、三つの照明ビームの各々の明白な移動が監視される。照明レベルのより満足 できる１５％の最大の変化が、矩形のターゲットフィールド１８０のコーナー１ ８２に見出されるということが記述される。照明モデルにおける最適のシフトは 、二等辺三角形のコーナーの中心から放射状に伸びる線に沿って計測された１８ ｃｍであり、この平面におけるガウスのビーム直径はほとんど６０ｃｍであり、 微視的な干渉じまのパターンを発生させるために必要な時に十分なビームの重な りを付与する。 図９は、図６ａのように、四つの照明ビームを使用する本発明のシフトされた 照明技術について、（領域において照明強度のグラフとして）描かれる実験結果 を示す。図８ｂの曲線と図９の曲線とを比べて、図９において、矩形のターゲッ ト１８４にわたって良好な照明の一様性が四ビームを用いてより容易に得られ、 より低いビームの散開及びより少ない移動をもたらすということが明らかである 。図９において描かれた照明強度の形状の曲線は、ほんの１０ｃｍの偏倚又はシ フトを組み込んで結果が図８ｂに示される照明ビーム直径より３分の１小さい照 明ビーム直径を有する四つのビーム装置についてである。低いビーム散開は、よ り集中された照明、結果としてより短い露光時間及び高い工具製造処理能力を生 じる。 以上の記述から、本発明は、生産環境で使用に十分に適したホログラフのリソ グラフィの工具及び方法を利用可能にし、ここに開示された実施態様は例であり 、多くの変形例が実施可能であるということが認識される。例えば、格子及び電 極の応用に適したラインの配列は、二つ又は三つの照明ビームを利用することに よって得られることができる。このようなパターンはさらに、液晶を主成分とす る装置及びディスプレイにおいて配列層を形成するのに有益である。照明ビーム の非対称配置（例えば、レール１３６、１３８及び１４０上の担体取り付けファ イバ位置決め段２５ａ、２５ｂ、２５ｃの非対称配置によって）は、矩形又は楕 円形状を有して光学的装置をシフトする段階に適している又は、一体の回路の応 用において、より任意の形状の構造をパターン化するのに適している種々のサブ ミクロンの寸法の構造を生じることができる。照明ビームが重なる時はいつでも 微視的な干渉パターンが存在するので、パターン化装置は、周期的な構造に、ミ サイルの丸天井、飛行機の天蓋及び湾曲した屈折の光学的装置等の任意の形状の 面を発生するようにさらに 使用されることができる。 以上に示されたように、種々の製品が、大きな領域にわたって表面仕上げする モスアイによって与えられる増加された凹凸及び非反射性能から利益を得ること ができる。部分的なリストは、自動車又は飛行機の窓、美術の仕事又はディスプ レイのための保護スクリーン又は光らないスクリーン、目又はサングラス、住宅 の又は商業用の窓、カメラ、望遠鏡、顕微鏡及び双眼鏡と同様に光学的感知、光 学的データ伝送及びエネルギ蓄積の使用のための光電管等の適用を含む。さらに 、モスアイ面は、ダイヤモンド薄膜産業において適用を見出し、増加された面の 領域はダイヤモンドの層の接着を高め、面構造自身は、より一定の薄膜被覆をも たらすより大きな密度のダイヤモンドの密集部位を付与することができる。 新しい及び改良された方法及び装置の好適な実施態様を記述して、他の修正、 変形及び変化が、ここに記述された教授の観点から当業者に提案されるというこ とが考えられる。それゆえ、このような変形、修正及び変化等の全てが添付され た請求の範囲によって確定されるような本発明の範囲内に属すると考えられてい るということが理解されることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ， ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ， ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，Ｎ Ｚ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ， ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．干渉のパターン発生器を有するリソグラフィの工具装置であって、 干渉性のある光源ビームを発生する干渉性のある光源と、 前記干渉性のある光源ビームを第一、第二及び第三の相互に干渉性のある光ビ ームに分割する手段と、 第一端部及び第二端部を有する第一光波ガイドであって、前記第一光波ガイド は、前記第一の相互に干渉性のある光ビームを前記第一光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第一光波ガイドの第二端部において光学的要素を有 し、前記光学的要素は、前記第一の相互に干渉性のある光ビームを第一重心を有 する第一の散開するビームたらしめる第一光波ガイドと、 第一端部及び第二端部を有する第二光波ガイドであって、前記第二光波ガイド は、前記第二の相互に干渉性のある光ビームを前記第二光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第二光波ガイドの第二端部において光学的要素を有 し、前記光学的要素は、前記第二の相互に干渉性のある光ビームを第二重心を有 する第二の散開するビームたらしめる第二光波ガイドと、 第一端部及び第二端部を有する第三光波ガイドであって、前記第三光波ガイド は、前記第三の相互に干渉性のある光ビームを前記第三光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第三光波ガイドの第二端部において光学的要素を有 し、前記光学的要素は、前記第三の相互に干渉性のある光ビームを第三重心を有 する第三の散開するビームたらしめる第三光波ガイドと、 選択された厚さ及び感光面を有する加工物を支持するように適合された実質的 に平坦な面を有するプラットフォームと、 前記プラットフォームの面から選択された距離だけ離れて配置される第一支持 部であって、前記第一支持部は、第一取付部を有し、前記第一光波ガイドの第二 端部は、前記第一取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第 一の散開するビームを照準するように配置される第一支持部とを具備し、 前記第一支持部はさらに第二取付部を有し、前記第二光波ガイドの第二端部は 、前記第二取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第二の散 開するビームを照準するように配置され、 前記第一支持部はさらに第三取付部を有し、前記第三光波ガイドの第二端部は 、前記第三取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第三の散 開するビームを照準するように配置され、 前記第一散開ビーム、前記第二散開ビーム及び前記第三散開ビームが結合せし められ、基準面において光の干渉のパターンを発生させ、前記基準面は、前記第 一、第二及び第三散開ビームの前記重心の重なりによって確定され、前記基準面 は、実質的に前記プラットフォームの面に実質的に平行である干渉のパターン発 生器を有するリソグラフィの工具装置。 ２．前記第一、第二及び第三光波ガイドが実質的に等しい長さである請求項１ に記載のリソグラフィの工具装置。 ３．前記基準面は、前記加工物の選択された厚さより大きな偏倚距離によって 、前記プラットフォームの面から偏倚した請求項１に記載のリソグラフィの工具 装置。 ４．前記偏倚距離が５〜１０ｃｍの範囲にある請求項３に記載のリソグラフィ の工具装置。 ５．前記第一の相互に干渉性のある光ビームを前記第一光波ガイ ドの第一端部へ送るための手段が、コリメータからなる請求項１に記載のリソグ ラフィの工具装置。 ６．前記第一光波ガイドは、単一モードの偏光を維持する光ファイバを具備す る請求項１に記載のリソグラフィの工具装置。 ７．前記第一光波ガイドの第二端部上の前記光学的要素が、屈折レンズを具備 する請求項１に記載のリソグラフィの工具装置。 ８．前記第一光波ガイドの第二端部上の前記光学的要素が、拡散させる光学的 要素を具備する請求項１に記載のリソグラフィの工具装置。 ９．前記干渉性のある光源は、アルゴンイオンガスレーザを具備する請求項１ に記載のリソグラフィの工具装置。 １０．前記干渉性のある光源ビームは、偏光し、可視スペクトルの青の範囲に 波長を有する請求項１に記載のリソグラフィの工具装置。 １１．干渉のパターンを発生させるための手段であって、 （ａ）干渉性のある光源ビームを発生させる方法の段階と、 （ｂ）前記干渉性のある光源を第一、第二及び第三の相互に干渉性のある光ビ ームに分割する方法の段階と、 （ｃ）前記第一の相互に干渉性のある光ビームを第一光波ガイドの第一端部へ 送る方法の段階であって、前記送りが前記第一の相互に干渉性のある光ビームを 第一重心を有する第一の変えられたビームたらしめる前記第一の相互に干渉性の ある光ビームを第一光波ガイドの第一端部へ送る方法の段階と、 （ｄ）前記第二の相互に干渉性のある光ビームを第二光波ガイドの第一端部へ 送る方法の段階であって、前記送りが前記第二の相互に干渉性のある光ビームを 第一重心を有する第一の変えられたビームたらしめる前記第一の相互に干渉性の ある光ビームを第二光波ガ イドの第一端部へ送る方法の段階と、 （ｅ）実質的に平坦なプラットフォームの面から選択された距離で第一支持部 を提供する方法の段階と、 （ｆ）選択された厚さ及び感光面を有する加工物を前記パネル面に配置する方 法の段階と、 （ｇ）前記プラットフォームの面において前記第一の変えられたビームを照準 する方法の段階と、 （ｈ）前記プラットフォームの面において前記第二の変えられたビームを照準 する方法の段階と、 （ｉ）前記第一の変えられたビームと前記第二の変えられたビームを結合する 方法の段階と、 （ｊ）光の干渉のパターンを基準面において発生させる段階であって、前記基 準面は前記第一の変えられたビーム前記重心及び前記第二の変えられたビームの 前記重心の重なりによって確定され、前記基準面は、前記プラットフォームの面 に実質的に平行であり、前記加工物の選択された厚さより大きな選択された偏倚 距離だけ前記プラットフォームの面から偏倚する光の干渉のパターンを基準面に おいて発生させる段階とを具備する干渉のパターンを発生させるための手段。 １２．前記段階（ｂ）は、前記干渉性のある光源ビームを回折すファンアウト 要素へ向かわせることを含む請求項１１に記載の方法。 １３．前記段階（ｂ）は、前記干渉性のある光源ビームを格子接続された反射 性のある光学的要素へ向かわせることを含む請求項１１に記載の方法。 １４．前記段階（ｂ）は、前記干渉性のある光源ビームをモード交差接続され た一体の光波ガイドへ向かわせることを含む請求項１ １に記載の方法。 １５．前記段階（ｂ）は、前記干渉性のある光源ビームをビーム分割器へ向か わせることを含む請求項１１に記載の方法。 １６．前記段階（ｃ）は、前記第一の相互に干渉性のある光ビームを前記第一 光波ガイドの第二端部を通して送ることを具備する請求項１１に記載の方法。 １７．干渉のパターン発生器を有するリソグラフィの工具装置であって、 干渉性のある光源ビームを発生する干渉性のある光源と、 前記干渉性のある光源ビームを第一、第二、第三及び第四の相互に干渉性のあ る光ビームに分割する手段と、 第一端部及び第二端部を有する第一光波ガイドであって、前記第一光波ガイド は、前記第一の相互に干渉性のある光ビームを前記第一光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第一光波ガイドの第二端部において拡散させる光学 的要素を有し、前記光学的要素は、前記第一の相互に干渉性のある光ビームを第 一重心を有する第一の散開する変えられたビームたらしめる第一光波ガイドと、 第一端部及び第二端部を有する第二光波ガイドであって、前記第二光波ガイド は、前記第二の相互に干渉性のある光ビームを前記第二光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第二光波ガイドの第二端部において光学的要素を有 し、前記光学的要素は、前記第二の相互に干渉性のある光ビームを第二重心を有 する第二の散開する変えられたビームたらしめる第二光波ガイドと、 第一端部及び第二端部を有する第三光波ガイドであって、前記第三光波ガイド は、前記第三の相互に干渉性のある光ビームを前記第三光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第三光波ガイドの第二端部において光学的要素を有 し、前記光学的要素は、前 記第三の相互に干渉性のある光ビームを第三重心を有する第三の散開する変えら れたビームたらしめる第三光波ガイドと、 第一端部及び第二端部を有する第四光波ガイドであって、前記第四光波ガイド は、前記第四の相互に干渉性のある光ビームを前記第四光波ガイドの第一端部に 送るための手段を有し、前記第四光波ガイドの第二端部において光学的要素を有 し、前記光学的要素は、前記第四の相互に干渉性のある光ビームを第四重心を有 する第四の散開する変えられたビームたらしめる第四光波ガイドと、 選択された厚さ及び感光面を有する加工物を支持するように適合された実質的 に平坦な面を有するプラットフォームと、 前記プラットフォームの面から選択された距離だけ離れて配置される第一支持 部であって、前記第一支持部は、第一取付部を有し、前記第一光波ガイドの第二 端部は、前記第一取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第 一の散開する変えられたビームを照準するように配置される第一支持部とを具備 し、 前記第一支持部はさらに第二取付部を有し、前記第二光波ガイドの第二端部は 、前記第二取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第二の散 開する変えられたビームを照準するように配置され、 前記第一支持部はさらに第三取付部を有し、前記第三光波ガイドの第二端部は 、前記第三取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第三の散 開する変えられたビームを照準するように配置され、 前記第一支持部はさらに第四取付部を有し、前記第四光波ガイドの第二端部は 、前記第四取付部へ固定され、前記プラットフォームの面において前記第四の散 開する変えられたビームを照準するように配置され、 前記第一の変えられた散開ビーム、前記第二の変えられた散開ビーム、前記第 三の変えられた散開ビーム及び前記第四の変えられた散開ビームが結合せしめら れ、基準面において光の干渉のパターンを発生させ、前記基準面は、前記第一、 第二、第三及び第四の変えられた散開ビームの前記重心の重なりによって確定さ れ、前記基準面は、実質的に前記プラットフォームの面に実質的に平行である干 渉のパターン発生器を有するリソグラフィの工具装置。 １８．前記第一、第二、第三及び第四光波ガイドが実質的に等しい長さである 請求項１７に記載のリソグラフィの工具装置。 １９．前記基準面は、前記加工物の選択された厚さより大きな偏倚距離によっ て、前記プラットフォームの面から偏倚した請求項１７に記載のリソグラフィの 工具装置。 ２０．前記偏倚距離が５〜１０ｃｍの範囲にある請求項１９に記載のリソグラ フィの工具装置。 ２１．前記第一の相互に干渉性のある光ビームを前記第一光波ガイドの第一端 部へ送るための手段が、コリメータからなる請求項１７に記載のリソグラフィの 工具装置。 ２２．前記第一光波ガイドは、単一モードの偏光を維持する光ファイバを具備 する請求項１７に記載のリソグラフィの工具装置。