JP2000514132A - オレフィン類の重合 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. R67CH=CH2、シクロペンテン、スチレン、ノルボルネンまたはH2 C=CH(CH2)sCO2R77の1種以上から選択されるオレフィンの重合方法 であって、R67CH=CH2、シクロペンテン、スチレン、ノルボルネンまたは H2C=CH(CH2)sCO2R77、任意にルイス酸、および式: [式中、 Ar1、Ar2、Ar4、Ar5、Ar10、Ar11、Ar12およびAr13は、各々独 立して、アリールまたは置換アリールであり、 R1およびR2が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルである か或はR1とR2が一緒になって環を形成しており、そしてR3が水素、ヒドロカ ルビルまたは置換ヒドロカルビルであるか、或はR1 とR2とR3が一緒になって環を形成しており、 Aは、π−アリルまたはπ−ベンジル基であり、 R10およびR15は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビルであり、 R11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R30、R31、 R32、R33、R34、R35、R50、R51、R52、R53およびR54は、各々独立して 、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、不活性な官能基であり、そして これらの基のいずれか2つは互いに隣接していることを条件として、一緒になっ て環を形成することができ、 Kは、NまたはCR27であり、 R22がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、−SR117、−OR117または−N R118 2であり、R24が水素、官能基、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル であり、そしてR27がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そして R22とR24またはR24とR27は一緒になって環を形成することができ、 R117は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 各R118は、独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり 、 GおよびLは両方がNであるか或はGがCR57でLがCR55であり、 R55、R56およびR57は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド ロカルビルであるか、或はR55、R56およびR57のいずれか2つが一緒になって 環を形成しており、 R67は、水素、アルキルまたは置換アルキルであり、 R77は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 R78は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 R79、R80、R81、R82、R83、R84、R85、R86、R87、R88およびR89は、 各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり 、 R90、R91、R92およびR93は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒド ロカルビルであり、 R94およびR95は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルで あり、 R96、R97、R98およびR99は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒ ドロカルビルまたは官能基であり、 Tは両方ともS(硫黄)またはNH(アミノ)であり、 各Eは、N(窒素)またはCR108であり、ここで、R108は、水素、ヒドロカル ビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106およびR107は、各々独立し て、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115およびR116は、各々独立し て、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 sは、1またはそれ以上の整数であり、そして R28およびR29は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビルである] 但しH2C=CH(CH2)sCO2R77が存在する時にはまたR67CH=CH2も 存在する で表される化合物を約−100℃から約+200℃の温度で接触させることを含 んでなる方法。 2. R67CH=CH2、シクロペンテン、スチレン、ノルボルネンまたはH2 C=CH(CH2)sCO2R77の1種以上から選択されるオレフィンの重合方法 であって、R67CH=CH2、シクロペンテン、スチレン、ノルボルネンまたは H2C=CH(CH2)sCO2R77、任意にルイス酸、および式: [式中、 L1は上記オレフィンで置換され得る中性の単座配位子であり、L2はモノアニオ ン性の単座配位子であるか、或はL1とL2が一緒になってモノアニオン性の二座 配位子であるが、但し上記モノアニオン性の単座配位子または上記モノアニオン 性の二座配位子は上記オレフィンに付加することができ、 Ar1、Ar2、Ar4、Ar5、Ar10、Ar11、Ar12およびAr13は、各々独 立して、アリールまたは置換アリールであり、 R1およびR2が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルである か或はR1とR2が一緒になって環を形成しており、そしてR3が水素、ヒドロカ ルビルまたは置換ヒドロカルビルであるか、或はR1とR2とR3が一緒になって 環を形成しており、 R10およびR15は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビルであり、 R11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R30、R31、 R32、R33、R34、R35、R50、R51、R52、R53およびR54は、各々独立して 、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、不活性な官能基であり、そして これらの基のいずれか2つが互いに隣接している ことを条件として、一緒になって環を形成することができ、 Kは、NまたはCR27であり、 R22がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、−SR117、−OR117または−N R118 2であり、R24が水素、官能基、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル であり、そしてR27がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そして R22とR24またはR24とR27は一緒になって環を形成することができ、 R117は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 各R118は、独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり 、 GおよびLは両方がNであるか或はGがCR57でLがCR55であり、 R55、R56およびR57は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド ロカルビルであるか、或はR55、R56およびR57のいずれか2つが一緒になって 環を形成しており、 R67は、水素、アルキルまたは置換アルキルであり、 R77は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 R78は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 R79、R80、R81、R82、R83、R84、R85、R86、R87、R88およびR89は、 各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり 、 R90、R91、R92およびR93は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒド ロカルビルであり、 R94およびR95は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルで あり、 R96、R97、R98およびR99は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒ ドロカルビルまたは官能基であり、 Tは両方ともS(硫黄)またはNH(アミノ)であり、 各Eは、N(窒素)またはCR108であり、ここで、R108は、水素、ヒドロカル ビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106およびR107は、各々独立し て、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115およびR116は、各々独立し て、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 sは、1またはそれ以上の整数であり、そして R28およびR29は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビルである] 但しH2C=CH(CH2)sCO2R77が存在する時にはまたR67CH=CH2も 存在する で表される化合物を約−100℃から約+200℃の温度で接触させることを含 んでなる方法。 3. 上記温度が約0℃から約150℃である請求の範囲第1または2項記載 の方法。 4. 上記温度が約25℃から約100℃である請求の範囲第1または2項記 載の方法。 5. 上記ルイス酸を存在させる請求の範囲第1または2項記載の方法。 6. 上記ルイス酸を存在させない請求の範囲第1または2項記載の方法。 7. 上記化合物が(I)または(VII)である請求の範囲第1または2項 記載の方法。 8. R1およびR2が両方とも水素であり、 R3が炭素原子を1から20個含むアルキルまたはアリールであるか、 或はR1とR2とR3が一緒になって であり、そして Ar1およびAr2が各々独立して であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、 置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40 のいずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成 することができ、 請求の範囲第7項記載の方法。 9. R3がt−ブチルであり、R1およびR2が水素であり、そしてR36およ びR39がハロ、フェニル、または炭素原子を1から6個含むア ルキルである請求の範囲第8項記載の方法。 10. 上記化合物が(II)または(VIII)である請求の範囲第1また は2項記載の方法。 11. R10が水素またはメチルであり、 R78がAr3であり、これがアリールまたは置換アリールであり、そ して R11、R12、R13およびR14が各々独立してクロロ、ブロモ、ヨード 、アルキル、アルコキシ、水素またはニトロであるか、或はR11とR12が一緒に なって6員の炭素環状環を形成し、そしてR13およびR14が水素である、 請求の範囲第10項記載の方法。 12. 上記化合物が(III)または(IX)である請求の範囲第1または 2項記載の方法。 13. R15、R16、R17およびR18が水素であり、そして Ar4が であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成する ことができる、 請求の範囲第12項記載の方法。 14. 上記化合物が(IV)または(X)である請求の範囲第1または2項 記載の方法。 15. R19、R20およびR21が水素であるか或はR19およびR20が水素でR21 がメチルである請求の範囲第14項記載の方法。 16. 上記化合物が(V)または(XI)である請求の範囲第1または2項 記載の方法。 17. KがCR27であり、 R27が水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であ り、 R24が水素、アルキルまたはハロであり、 R22がヒドロカルビルまたは−OR117であり、ここで、R117がヒド ロカルビルである、 請求の範囲第16項記載の方法。 18. R27がメチルであり、 R22がフェニルまたは−OR117であり、ここで、R117が炭素原子を 1から6個含むアルキルであり、そして R24が水素である、 請求の範囲第17項記載の方法。 19. 上記化合物が(VI)または(XII)である請求の範囲第1または 2項記載の方法。 20. R32およびR33が両方とも炭素原子を1から6個含むアルキルまたは フェニル、より好適にはイソプロピルであり、R28およびR29が両方とも水素ま たはフェニルであり、そしてR30、R31、R34および R35が全部水素であるか、或は R31とR32が一緒になりかつR33とR34が一緒になって両方が6員の 芳香族炭素環状環で、この6員の芳香族炭素環状環がR32およびR33位の付近に t−ブチル基を有し、そしてR28およびR29が両方とも水素である、 請求の範囲第19項記載の方法。 21. 上記化合物が(XVIII)または(XIX)である請求の範囲第1 または2項記載の方法。 22. R50、R51、R52、R53およびR54が水素であり、そして Ar10およびAr11が各々独立して であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成する ことができる、 請求の範囲第21項記載の方法。 23. 上記化合物が(XXVII)または(XXVIII)である請求の範 囲第1または2項記載の方法。 24. LがCR55であり、 R55がヒドロカルビル、水素、または置換ヒドロカルビルで あり、 GがCR57であり、 R57がヒドロカルビル、水素、または置換ヒドロカルビルであり、 R56が水素であり、そして Ar12およびAr13が各々独立して であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成する ことができる、 請求の範囲第23項記載の方法。 25. R55およびR57が両方ともアルキルまたはフッ素置換アルキルであり 、そしてAr12およびAr13が両方とも2,6−ジイソプロピルフェニルである 請求の範囲第24項記載の方法。 26. 上記化合物が(XXXVII)または(XXXXI)である請求の範 囲第1または2項記載の方法。 27. R79、R80、R81、R82、R83、R84、R85、R86、R87、R88およ びR89が各々独立して水素またはアルキルであり、そして R90、R91、R92およびR93が各々独立してヒドロカルビル である、 請求の範囲第26項記載の方法。 28. 上記化合物が(XXXVIII)または(XXXXII)である請求 の範囲第1または2項記載の方法。 29. R94およびR95が各々独立してヒドロカルビルであり、そして R96、R97、R98およびR99が各々独立して水素またはヒドロカルビ ルである、 請求の範囲第28項記載の方法。 30. 上記化合物が(XXXIX)または(XXXXIII)である請求の 範囲第1または2項記載の方法。 31. EがNまたはCR108であり、 R108が水素またはヒドロカルビルであり、そして R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106およびR107が各 々独立して水素、ヒドロカルビルまたはハロである、 請求の範囲第30項記載の方法。 32. 上記化合物が(XXXX)または(XXXXIV)である請求の範囲 第1または2項記載の方法。 33. R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115およびR116が各 々独立して水素またはヒドロカルビルである請求の範囲第32項記載の方法。 34. L1がニトリル、ピリジンまたは置換ピリジンでありそしてL2がメチ ルである請求の範囲第2項記載の方法。 35. 上記オレフィンまたはオレフィン類がエチレン、スチレン、 ノルボルネン、α−オレフィン、シクロペンテン、H2C=CH(CH2)sCO2 R77とエチレン;エチレンとα−オレフィン;スチレンとノルボルネン;および 2種以上のノルボルネン類である請求の範囲第1項記載または第2項記載の方法 。 36. 式: [式中、 L1がオレフィンで置換され得る中性の単座配位子であり、L2がモノアニオン性 の単座配位子であるか、或はL1とL2が一緒になってモノアニオン性の二座配位 子であるが、但し上記モノアニオン性の単座配位子または上記モノアニオン性の 二座配位子は上記オレフィンに付加することができ、 Ar1、Ar2、Ar4、Ar5、Ar10、Ar11、Ar12およびAr13は、各々独 立して、アリールまたは置換アリールであり、 R1およびR2が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルである か或はR1とR2が一緒になって環を形成しており、そしてR3が水素、ヒドロカ ルビルまたは置換ヒドロカルビルであるか、或はR1とR2とR3が一緒になって 環を形成しており、 R10およびR15は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビルであり、 R11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R30、R31、 R32、R33、R34、R35、R50、R51、R52、R53およびR54は、各々独立して 、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、不活性な官能基であり、そして これらの基のいずれか2つが互いに隣接していることを条件として、一緒になっ て環を形成することができ、 Kは、NまたはCR27であり、 R22がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、−SR117、−OR117または−N R118 2であり、R24が水素、官能基、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル であり、そしてR27がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、ただし R22とR24またはR24とR27が一緒になって 環を形成することができ、 R117は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 各R118は、独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり 、 GおよびLは両方がNであるか或はGがCR57でLがCR55であり、 R55、R56およびR57は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド ロカルビルであるか、或はR55、R56およびR57のいずれか2つが一緒になって 環を形成しており、 R78は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 R79、R80、R81、R82、R83、R84、R85、R86。R87、R88およびR89は、 各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり 、 R90、R91、R92およびR93は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒド ロカルビルであり、 R94およびR95は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルで あり、 R96、R97、R98およびR99は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒ ドロカルビルまたは官能基であり、 Tは両方ともS(硫黄)またはNH(アミノ)であり、 各Eは、N(窒素)またはCR108であり、ここで、R108は、水素、ヒドロカル ビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106およびR107は、各々独立し て、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115およびR116は、各々独立し て、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、そして R28およびR29は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビルである] で表される化合物。 37. (I)または(VII)である請求の範囲第36項記載の化合物。 38. R1およびR2が両方とも水素であり、 R3が炭素原子を1から20個含むアルキルまたはアリール であるか、或はR1とR2とR3が一緒になって であり、そして Ar1およびAr2が各々独立して であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として 一緒になって環を形成することができる、 請求の範囲第37項記載の化合物。 39. R3がt−ブチルであり、R1およびR2が水素であり、そしてR36お よびR39がハロ、フェニル、または炭素原子を1から6個含むアルキルである請 求の範囲第38項記載の化合物。 40. (II)または(VIII)である請求の範囲第36項記載の化合物 。 41. R10が水素またはメチルであり、 R78がAr3であり、これがアリールまたは置換アリールであり、そ して R11、R12、R13およびR14が各々独立してクロロ、ブロモ、ヨード 、アルキル、アルコキシ、水素またはニトロであるか、或はR11とR12が一緒に なって6員の炭素環状環を形成しそしてR13およびR14が水素である、 請求の範囲第40項記載の化合物。 42. (III)または(IX)である請求の範囲第36項記載の化合物。 43. R15、R16、R17およびR18が水素であり、そして Ar4がであり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成する ことができる、 請求の範囲第42項記載の化合物。 44. (IV)または(X)である請求の範囲第36項記載の化合物。 45. R19、R20およびR21が水素であるか或はR19およびR20が水素でR21 がメチルである請求の範囲第44項記載の化合物。 46. (V)または(XI)である請求の範囲第36項記載の化合物。 47. KがCR27であり、 R27が水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であ り、 R24が水素、アルキルまたはハロであり、 R22がヒドロカルビルまたは−OR117であり、ここで、R117がヒド ロカルビルである、 請求の範囲第46項記載の化合物。 48. R27がメチルであり、 R22がフェニルまたは−OR117であり、ここで、R117が炭素原子を 1から6個含むアルキルであり、そして R24が水素である、 請求の範囲第47項記載の化合物。 49. (VI)または(XII)である請求の範囲第36項記載の 化合物。 50. R32およびR33が両方とも炭素原子を1から6個含むアルキル、また はフェニル、より好適にはイソプロピルであり、R28およびR29が両方とも水素 またはフェニルであり、そしてR30、R31、R34およびR35が全部水素であるか 、或は R31とR32が一緒になりかつR33とR34が一緒になって両方が6員の 芳香族炭素環状環で、この6員の芳香族炭素環状環がR32およびR33位の付近に t−ブチル基を有し、そしてR28およびR29が両方とも水素である、 請求の範囲第49項記載の化合物。 51. (XVIII)または(XIX)である請求の範囲第36項記載の化 合物。 52. R50、R51、R52、R53およびR54が水素であり、そして Ar10およびAr11が各々独立して であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成する ことができる、 請求の範囲第51項記載の化合物。 53. (XXVII)または(XXVIII)である請求の範囲第36項記 載の化合物。 54.LがCR55であり、 R55がヒドロカルビル、水素、または置換ヒドロカルビルであり、 GがCR57であり、 R57がヒドロカルビル、水素、または置換ヒドロカルビルであり、 R56が水素であり、そして Ar12およびAr13が各々独立して であり、ここで、 R36、R37、R38、R39およびR40が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、但しR36、R37、R38、R39およびR40の いずれか2つが互いに隣接していることを条件として一緒になって環を形成する ことができる、 請求の範囲第53項記載の化合物。 55. R55およびR57が両方ともアルキルまたはフッ素置換アルキルであり そしてAr12およびAr13が両方とも2,6−ジイソプロピルフェニルである請 求の範囲第54項記載の化合物。 56. (XXXVII)または(XXXXI)である請求の範囲第 36項記載の化合物。 57. R79、R80、R81、R82、R83、R84、R85、R86、R87、R88およ びR89が各々独立して水素またはアルキルであり、そして R90、R91、R92およびR93が各々独立してヒドロカルビルである、 請求の範囲第56項記載の化合物。 58. (XXXVIII)または(XXXXII)である請求の範囲第36 項記載の化合物。 59. R94およびR95が各々独立してヒドロカルビルであり、そして R96、R97、R98およびR99が各々独立して水素またはヒドロカルビ ルである、 請求の範囲第58項記載の化合物。 60. (XXXIX)または(XXXXIII)である請求の範囲第36項 記載の化合物。 61. EがNまたはCR108であり、 R108が水素またはヒドロカルビルであり、そして R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106およびR107が各 々独立して水素、ヒドロカルビルまたはハロである、 請求の範囲第60項記載の化合物。 62. (XXXX)または(XXXXIV)である請求の範囲第36項記載 の化合物。 63. R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115およびR116が 各々独立して水素またはヒドロカルビルである請求の範囲第6 2項記載の化合物。 64. L1がニトリル、ピリジンまたは置換ピリジンでありそして L2がメチルである請求の範囲第36項記載の化合物。 65. L1とL2が一緒になってπ−アリルでもπ−ベンジルでもない請求の 範囲第36項記載の化合物。 66. 式: [式中、 R58、R59、R60、R62、R63およびR64は各々独立して水素、ヒドロカルビル 、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、ただしこれらの基のいずれか2つが 互いに隣接していることを条件として、一緒になって環を形成することができ、 或はR61またはR65に隣接している場合にはそれらと一緒に環を形成することが でき、 R66は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そして R61およびR65は、各々独立して、炭素原子を2つ以上含むヒドロカルビル、ま たは炭素原子を2つ以上含む置換ヒドロカルビルであり、ただしR61およびR65 はそれに隣接するいずれかの基と一緒に環を形成することができる] で表される化合物。 67. R58、R59およびR60が水素であり、 R66が水素であり、 R61およびR65が各々独立して炭素原子を2個以上含むアルキルであ り、そして R62、R63およびR64が水素である、 請求の範囲第66項記載の化合物。 68. 式: [式中、 R68がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、−SR117、−OR117または−N R118 2であり、R76が水素、官能基、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル であり、そしてR75がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、ただし R68とR76またはR75とR76が一緒になって環を形成することができ、 R117は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、 各R118は、独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり 、 R70、R71およびR72は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換 ヒドロカルビルまたは官能基であり、 R69およびR73は、炭素原子を3個以上含むヒドロカルビル、炭素原子を3個以 上含む置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、そして R70、R71、R72、R69およびR73のいずれか2つが互いに隣接していることを 条件として一緒になって環を形成することができる] で表される化合物。 69. R68が−OR117またはアリールであり、 R75がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そして R76が水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であ る、 請求の範囲第68項記載の化合物。 70. R76が水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルである請求の 範囲第69項記載の化合物。
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