JP2000514592A

JP2000514592A - 電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス、このようなデバイスを実施する装置および方法

Info

Publication number: JP2000514592A
Application number: JP10504882A
Authority: JP
Inventors: クリスチャン、ランプ
Original assignee: ランプ、アンド、コンサルタンツ
Priority date: 1996-07-09
Filing date: 1997-07-09
Publication date: 2000-10-31
Also published as: DE69703212T2; ATE196679T1; DE69703212D1; DK0910772T3; ES2152690T3; CA2259521A1; IL127587A0; EP0910772A2; KR20000022392A; EP0910772B1; AU3625497A; US6333509B1; AU720653B2; IL127587A; WO1998001700A2; CN1225164A; CN1103896C; WO1998001700A3

Abstract

(57)【要約】電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス（１）、およびこのようなデバイスを実施する装置および方法。前記デバイスは、圧下イオン化ガスを保持し、軸線（４）回りに延在し、放射線トランスミッタビームを画成するための端−端孔（３）を有するまっすぐな透過性石英電極管（２）と、前記孔の軸線面（１０）に対して対称的な２つの縦方向側面ウィング（１４）から成る放射線反射面（７）とを含み、前記反射面が少なくとも部分的に前記トランスミッタ管に固着される。

Description

【発明の詳細な説明】電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス、このようなデバイスを実施する装置および方法本発明は圧下イオン化ガスを保持し、軸線回りに延在し、放射線トランスミッタビームを画成するための端−端孔を有するまっすぐな透過性石英電極管を含む紫外線電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイスに関するものである。また本発明はこのようなデバイスを実施する装置および方法に関するものである。本発明は、特に、非限定的に、高圧または中圧のイオン化ガスを収容するトランスミッタ管を使用して紫外線によって素材を光化学的に処理する分野に適用され、例えば、製紙工業、テキスタイル工業、プラスチック工業、食品工業、自動車工業および印刷の分野において、例えば紙ロールまたはまたは厚紙ロールによって形成されたフィルム上のインクまたはワニスの重合のために使用される。高圧または中圧とは、２ｋｇ／ｃｍ²と同等またはこれ以上、例えば中圧については３ｋｇ／ｃｍ²と同等またはこれ以上、高圧としては５ｋｇ／ｃｍ²と同等またはこれ以上で、例えば１００ｋｇ／ｃｍ²に達する事のできる絶対ガス圧を意味する。本発明は処理される製品の型には限定されない。例えば本発明は塗装された製品の乾燥のために、ある種のワニスおよび接着剤の乾燥のために、軸線回りに延在するワイヤ製品の乾燥のために、または液状製品の滅菌のために使用する事ができる。まっすぐなトランスミッタ管と放物線断面または楕円断面を有するまっすぐな凹形リフレクタとを含む紫外線を発生し反射するデバイスは公知である。これらのデバイスはいくつかの問題点を示す。これらのデバイスは実際上大型であって、トランスミッタ管とリフレクタとの間の空気流によって効率的冷却を実施するため、リフレクタから数ミリメートルの間隔で完全に離間したトランスミッタ管を必要とする。実際に、紫外線トランスミッタ上には６００℃乃至９００℃の高温が観察され、これに対してリフレクタの温度ははるかに低く、約５０℃である。また使用材料も相異なり、トランスミッタはガラスから成り、リフレクタは反射性金属、特にアルミニウム型の金属、すなわちガラスと非常に異なる熱膨張係数を示す金属から成る。さらに先行技術の長尺管は時間と共に湾曲する傾向がある。特に本発明の場合、すなわち紫外線放射の場合、公知のトランスミッタは無視できない量のオゾンを形成する。本発明の目的は、先行技術のデバイスよりも実際的要求に答えるデバイス、特に嵩ばらず、オゾン発生を大幅に制限すると共に放射線のエネルギー効率を特に最適化する事のできる構造設計の故に使用可能の光化学的エネルギーを最大限にする事のできるコンパクトな放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス、およびこのようなデバイスを実施する装置および実施する方法を提供するにある。そのため、本発明は、圧下イオン化ガスを保持し、軸線回りに延在し、放射線トランスミッタビームを画成するための端−端孔を有するまっすぐな透過性石英電極管と、前記孔の軸線面に対して対称的な２つの縦方向側面ウィングから成る放射線反射面とを含み、前記反射面が少なくとも部分的に前記トランスミッタ管に固着されまた少なくとも部分的に厳格にまたは近似的に放物線形または楕円形の横方向断面を示すように成された電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイスにおいて、前記側面ウィングに対応しまた少なくとも部分的に厳格にまたは近似的に放物線形または楕円形の横方向断面を示す前記反射面の部分が、前記軸方向対称面において前記孔の軸線から下記式に対応する距離ｄに配置された頂点の母線を有する曲線（放物線または楕円）に属し、ｄ＝ｆおよび０＜ｄ＜ｒ＋ｅ＋１ｍｍ，ここに、ｆ：放物線または楕円の焦点と頂点における対応母線との距離、ｒ：前記孔の軸線と前記頂点母線を通る軸線面中の孔の内側面との距離、ｅ：前記頂点の母線と同一側における軸線面中の管の厚さとする事を特徴とする電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイスを提供する。さらに望ましくは、側面ウィングの２つの端部は厳格に放物線部分または楕円部分の形状または厳格にまっすぐな断面を示す。さらに他の実施態様において、本発明は、対応のリフレクタの焦点と同一の幾何学的照射中心を有するまっすぐなトランスミッタ管を有し、前記リフレクタもまっすぐであって、（例えば平坦面の処理のため）少なくとも部分的に放物線形状の断面または（例えば曲線面の処理のため）少なくとも部分的に楕円形状の断面を有し、反射曲線の頂点における母線が焦点線と一致した軸線に対して平行であり、放物線部分または楕円部分の末端縁部が頂点母線と反対側の孔の母線の下方にあるように成されたトランスミッタ／リフレクタデバイスを実施する。さらに詳しくは、下記に詳細に説明する本発明の中圧または高圧紫外線トランスミッタは、「熱電極」と呼ばれる非常に高温の電極（１０００℃以上の電極）を含むいわゆる「放電管」である。従ってトランスミッタは赤外線トランスミッタのフィラメント型のフィラメントを備えていない。透明管の両側に備えられた２つの電極によって発生された電弧が、プラズマ状態の１つまたは複数の金属ヨウ化物によってまたはキセノンまたは水銀／キセノン混合物またはその他のガスまたは希土類元素によって形成される一定断面積の光円筒体を発生し、この円筒体の各端部は光円錐体を成し、その頂点が電極と一致する。光円筒体は望ましくは切頭形とし、例えば平坦化され、２電極の間隔によって形成される全長、例えば短アークトランスミッタの場合には数ｍｍ、一般に３０ｍｍ乃至２５００ｍｍの範囲内の長さを示し、またこれを収容する透明管の内側断面と同一またはこれより小さい断面を示す。金属ヨウ化物は純粋金属または合金とし、また例えば純粋水銀、純粋鉄、純粋ガリウム、鉄／コバルト（混合物）、ガリウム／鉛（混合物）、水銀／ガリウム（混合物）などを使用する。さらに一般的に、使用ガスは純粋形とし（例えばキセノン）または混合形とする（例えば水銀／キセノン）。前記の金属、希土類元素および／またはガスの混合物リストはもちろん制限的なものではない。さらにそれぞれの元素の割合はそれ自体公知のように所要の放射線波長によって決定される。好ましい実施態様として、さらに下記の要件のいずれかを採用する事ができる。 −ｄ＝ｒ＋ｅ； −ｒ≦ｄ＜ｒ＋ｅ； −ｄ≦ｒ； −孔は円筒形とする； −孔の断面は少なくとも部分的に切頭円形とし、従って放射線ビームが切頭横断面を有する； −孔の断面は孔の軸線面に対して垂直な１つまたは２つの屈折光学的面によって切頭され、従ってビームは例えば円筒形の中に内接する近似的長方形を成す（二重切頭の場合）。 −反射面が管に対して固着される； −管の外側面がキューポラ形の突起部分（下記においてドームと呼ぶ）を含み、このドームの外側面が孔の内側面に対応して配置され、例えば円筒形孔の場合には円筒形の一部を成し、ドームに対して放射された一次放射線を一般に孔の軸線と一致する焦点に送り返して、いわゆる逆放射の形で作動し、前記ドームは孔の軸線面に対して対称的であり、孔に対してその頂点母線と同一側面に配置され、反射物質層によって被覆され、 −前記管は側面ウィングの末端の間において連続し、側面ウィングの外側面は少なくとも部分的に屈折光学的屈折によって前記の反射面を成し、 −前記反射面は全部、反射物質層によって被覆され、 −前記反射面は放物線または部分的放物線横断面図を有し、前記管は下側面と呼ばれる外側面を有し、この外側面はウィングの両端を接続し、孔に対して頂点母線の反対側に配置され、平坦であって、前記頂点母線を含む軸線面に対して垂直であり、 −反射面は楕円形または部分的楕円形横断面を有し、前記管は外側面を有し、この外側面はウィングの両端を接続し、孔に対して頂点母線の反対側に配置され、凸形であって、頂点母線を含む軸線面に対して対称的な曲線に従い、前記外側面は孔の軸線面に向かって放射された放射線を例えば楕円の第２焦点に向かって送り、 −前記外側面の横断面はその一部においてまっすぐで軸線面に対して垂直に定心し、その第２部分において湾曲し、 −管は頂点母線の反対側において、縦方向屈折光学的キャビティを成す部分的凹形の連続ガラス部分を備え、 −前記キャビティは円筒形の一部の形の凹形上側面を含み、この上側面は孔の軸線と同一の軸線を有し、また例えばｒ＋ｅに等しい半径を有し、また前記キャビティは中心角α₂に内接する高さにわたって孔の軸線面に平行な側面を備え、前記角度α₂は、プラズマビームからの一次放射線がデバイスのウィングを相互に接続する下側面の屈折光学的面によって全部屈折される角度である。角度α₂中の放射を避ける事により、放射線の損失を大幅に避ける事ができる。 −屈折光学的キャビティは円筒形の一部の形の凸形下側面を有し、この下側面の軸線は孔の軸線から反対側に配置され、またその曲率半径は放射線を１つまたは複数の所定方向に指向するように配置され、例えば軸線面に対して平行にまたは楕円の第２焦点面に向かって指向する。 −ドームは孔の軸線から下記の式の距離ｘに配置された反射性外側面を有し：ｒ＜ｘ＜２ｙここに、ｙ：孔の内側面と、ウィングの反射面の傾斜のドームと放物線または楕円部分との間の不連続点との間隔； −デバイスはさらに、軸線面に対して対称的にウィング末端の両側に配置された２つの反射性縦方向側面板を含み、 −孔はその内側面上に、軸線に対して頂点母線と反対側に、縦方向屈折光学的凹部を備え、この屈折光学的凹部は半径ｒ’＞ｒの円筒形の一部の形状の底面と、孔の軸線面に対して平行な側面とを有するが、ｒ’はまたｒと同等またはこれ以下とする事ができる。 −前記管は頂点の母線を通る軸線面に対して対称的な２つの縦方向側面ラグを備えた円筒形であって、前記側面ラグは照射面に向けられ、そのそれぞれの外側面が放物線または楕円の一部の形のウィングを成す。 −ラグは管に対して固着されている、 −ラグは例えば円筒形の管から分離可能であって、凹形円筒形部分の形の接合面を含み、この接合面はラグが接触しまたは接触しない管の外側面に対して補形を成す。 −ラグの外側面は頂点母線を含む軸線面に対して垂直であり、 −ラグの端面は凹形であって、この端面に対する入射放射線を前記頂点母線を含む孔の軸線面に向かって送るように配置され、 −円筒形孔は前記頂点母線の反対側のその内側面上に、前記前記頂点母線を含む軸線面に関して対称的な三角形断面の２つの突起を含み、その一方の辺は前記軸線面に対して平行であり、他方の辺は前記軸線面と同一側面に配置され、前記突起は母線を含む軸線面に対して対称的であり、またこれらの突起が内接された孔の中心角α₂の辺が対応ラグの２つの末端頂点を通り、 −管の外側面の上部は孔軸線に対して例えば２α₅の中心角にわたって反射材によって被覆され、このα₅については下記に説明するが、２つの側面ウィングは、例えば管とこれらの反射性側面ウィングとの間に循環冷却ガス流が配置されるように、トランスミッタ管から一定距離に配置される。 −ウィングは少なくとも部分的に放物線または楕円断面を示し、それぞれのウィングの上部から孔と同心の円筒形部分が延在し、これらの円筒形部分はトランスミッタ管から完全に一定距離に配置される。 −２つの側面ウィングは平坦であり、 −２つの側面ウィングは平坦な反射性板から成り、 −管は、放射線トランスミッタビームの内側断面と同等またはこれ以上の、例えばこの内側断面の≧１．５倍、例えば≧２倍、また例えば６倍の断面を有する電極チャンバを含む。 −トランスミッタビームの断面は約４５ｍｍ²と同等またはこれ以下、または約３０ｍｍ²、さらに正確には約１０ｍｍ²、または３ｍｍ²である。 −ビームは、長さの半分以下の幅、例えば長さの１／５または１／１０以下の幅を有する正方形断面または特に長方形断面の縦方向スリットの形を成す。 −有効電弧長にわたる放射線トランスミッタビームの内側断面の最大直径または横方向サイズは９ｍｍと同等またはこれ以下、≦約６ｍｍ，≦約４ｍｍまたは ≦２ｍｍまたは１ｍｍ、例えば０．５ｍｍである。本発明はさらに、前記の型の少なくとも１つのデバイスを含む平坦なまたは湾曲シート状に配置された製品を処理、特に乾燥するための装置、およびこのようなデバイスを使用して連続的にまたは半連続的に走行する製品に対して放射線を加える方法に関するものである。また本発明は、シート状製品または平坦面あるいは湾曲面上に配置された製品に対して放射線を加える方法において、約４５ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定円形横断面または部分的に切頭断面を有しまた例えば約９ｍｍと同等またはこれ以下の最大放射方向サイズを有する軸線回りに細長く延在する紫外線プラズマビームをもって前記製品を照射する事を特徴とする方法に関するものである。プラズマビームは実際上軸線回りに延在する細長いビームであって、その外側形状はこのビームを閉じ込める孔の壁面の形状によって影響され、このビーム形状は例えば実質的に円形断面を有し、従って実質的に円筒形を成す。一定断面とは、ビームの有効アーク長にそった一定横断面を意味し、従って電極チャンバを含まない。望ましくは製品は、約３０ｍｍ²、さらに正確には約１０ｍｍ²の一定横断面、例えば≦約４ｍｍまたは≦２ｍｍまたは１ｍｍと同等またはこれ以下の最大限放射方向サイズを有する軸線回りに延在する円筒形または実質的に円筒形の紫外線プラズマビームによって照射され、ビーム断面に関してはガラスパイプの物理的製造限度のみが考慮される。望ましい実施態様においては、前記製品が、直接に前記プラズマビームから発生する一次放射線と、同時に少なくとも部分的に楕円形または放物線形横断面を有する反射面上の屈折光学的屈折によって前記一次放射線から発生する二次放射線とによって照射される。また望ましくは、製品は全部プラズマビームを閉じ込めた単一の管から来るまたは反射される放射線によって照射され、前記管は前記プラズマビームのトランスミッタ管に対して固着された反射面を含み、フィラメントの不存在により逆光像を画成する。逆光像のコンセプトは下記に詳細に説明するが、プラズマビームによってビーム軸線のレベルで放射される一次放射線が二次放射線の形で反射され、この二次放射線が前記ビームによって反対方向に放射される一次放射線と確実にまたは正確に重ね合される事を意味する。望ましくは照射は、両端においてまたは一端において切頭された円筒形断面のプラズマ円筒体または軸線面に対して垂直な下部において凸形湾曲断面を含むプラズマ円筒体によって実施される。一定断面のプラズマビームの長さは望ましくは３０センチメートル以上とし、１メートル以上とし、望ましくは２メートル以上、さらには３メートル以上とする。望ましくは実施態様においては、リニア電圧は５０ボルト／ｃｍと同等またはこれ以上、望ましくは１００ボルト／ｃｍと同等またはこれ以上の値を有する。さらに望ましくは、紫外線を放射するプラズマビームの長さが約１．５０メートル以上であり、同時的にリニア電圧が２０ボルト／ｃｍ以上、例えば８０ボルト／ｃｍである。望ましくは実施態様においては、プラズマビームの横断面の半径ｒが、管の対応直径ｄに対して下記の関係式の関係にあるまた望ましい実施態様によれば、前記の型の小直径ビームが放射線の反射面を含むデバイスの中に組み込まれ、前記放射面はデバイスの孔の軸線面に対して対称的な２つの縦方向側面ウィングを含み、前記反射面が少なくとも部分的に放物線、楕円形または直線形であり、または少なくとも部分的に著しく放物線形、楕円形または直線形であるように成されたデバイスにおいて、前記デバイスの上部において冷却空気を供給するため、ウィングの上方母線の両側に延在する縦方向中間スペースまたはスリットによって２つのウィングが相互に分離され、前記スペースは一定間隔で平坦な水平板によってカバーされ、スリットを通過したビームによって放射される放射線を反射する事を特徴とするデバイスが提供される。望ましくは前記反射板は穿孔され、ウィングの支持体として作用し、この際に０＜ｄ＜ｒ＋ｅ＋１ｍｍの条件が満たされる。以下、本発明を図面に示す実施例について詳細に説明するが本発明はこれに限定されない。付図において、第１図乃至第５図は全部または部分的に放物線断面を有する反射面を含む本発明によるモノブロックトランスミッタ／リフレクタデバイスの第１実施態様の種々のバージョンを示す断面図である。第６図乃至第１０図は全部または部分的に楕円形断面を有する反射面を含む本発明によるモノブロックトランスミッタ／リフレクタデバイスの第２実施態様の種々のバージョンを示す断面図である。第１１図は相異なる厚さの上方円筒形ドームを有する本発明の第２実施態様の他のバージョンの断面図である。第１２図および第１２Ａ図は本発明の第２実施態様のさらに他のバージョンの断面図である。第１３図は本発明の第２実施態様のさらに他のバージョンの断面図である。第１４図乃至第１６図はラグを備えた本発明の第１実施態様の他のバージョンの断面図である。第１７図はラグと孔の内側面上の縦方向凹部とを備えた第１実施態様のさらに他のバージョンの断面図である。第１８図、第１８Ａ図および第１８Ｂ図はラグと孔の内側面の縦方向突起とを備えた本発明の第１実施態様のさらに他のバージョンの断面図である。第１９図は実質的に長方形断面の孔と平坦な円筒形の形のドーム上側面とを有する本発明の第１実施態様のさらに他のバージョンの断面図である。第１９Ａ図はラグと丸い下側面とを有するさらに他のバージョンの断面図である。第１９Ｂ図はラグと孔の内側面の凹部とを備えたさらに他のバージョンの断面図である。第２０図乃至第２４図はトランスミッタ管から完全に離間されて楕円断面の反射面（第２０図）または放物線断面の反射面（第２１図乃至第２４図）を備えた側面ウィングを含む本発明のトランスミッタ／リフレクタデバイスの第３実施態様の種々のバージョンを示す横断面図である。第２５図はトランスミッタ管から完全に離間されて楕円断面の反射面を備えた側面ウィングを含む本発明のトランスミッタ／リフレクタデバイスの第４実施態様の断面図である。第２６Ａ図および第２６Ｂ図は切頭孔または凹部を備えた孔を含む円筒形トランスミッタから完全に離間配置された３部分から成るリフレクタを有する本発明の第５実施態様の断面図である。第２７Ａ図、第２７Ａ’図、第２７Ｂ図、第２７Ｃ図および第２７Ｄ図は切頭孔を備えた本発明のデバイスの第６実施態様の部分的断面図である。第２８図は第１０図に図示の型のトランスミッタ管の電極チャンバの実施態様の縦方向断面図である。第２９図は第２７図のトランスミッタ管の電極チャンバ実施態様の縦方向断面図である。第３０図は電極を有しない第２８図のバージョンの縦方向断面図である。第３１図および第３１Ａ図は本発明によるトランスミッタ管の電極末端の他の実施態様を示すそれぞれ縦方向および横方向断面図である。第３２図は本発明の種々の実施態様によるトランスミッタ／リフレクタデバイスの横断面図（Ａ，Ａ’，Ｂ，Ｃ．Ｄ．Ｄ’およびＥ）である。第３３図は本発明によるトランスミッタ／リフレクタデバイスを含む装置の第１実施態様の部分的断面図である。第３４図は本発明による装置の第２実施態様の部分的破断された斜視図である。第３５図は相互に平行に配置された数個の本発明のデバイスを含む本発明の装置の第３実施態様の断面図である。第３６図は逆方向に配置された本発明のデバイスを含む本発明の装置の第４実施態様の断面図である。第３７図は角度的に配置された本発明のデバイスを含む本発明の装置の第５実施態様の断面図である。第３８図Ａ，Ｂ，Ｃは塗装製品の処理を実施するための本発明の装置の３実施態様を示す概略平面図である。第３９図は３型のリニア電圧：１０ボルト／ｃｍ、３０ボルト／ｃｍおよび１００ボルト／ｃｍにおける本発明による管の放射密度の分布を示す概略図である。第４０Ａ図は放物線形反射壁体と、小直径の管と、管の壁体から出た円筒形プラズマビームとを有する本発明の他の実施態様によるデバイスの断面図である。第４０Ｂ図は相異なる３電圧におけるプラズマビームの３電圧を示す小直径の円筒形管を含む本発明の他の実施態様の断面図である。また、第４１図は内部孔と比較して小直径のプラズマビームを有する本発明の実施態様による方法を実施するデバイスの断面図である。下記の説明においては、類似または同一型の素子を示すために同一参照数字が使用される。第１図乃至第４図は、例えば押出し石英から成るガラス直管２を含むデバイス１の断面を示す。管２は端から端まで押出形成された軸線４および半径ｒの円筒形孔３を穿孔されている。この孔は各端部において、下記に詳細に説明するような電極支持プラグ（図示されていない）によって閉鎖され、中圧の、イオン化ガス、例えば３バールの圧力の例えばヨウ化水銀を収容し、このガスはそれ自体公知のように、管に電力が加えられて電極の間にプラズマアークを形成する時に紫外線放射光５を放射する事ができる。管２は少なくとも部分的に放物線断面の式ｙ＝ｘ²／４ｆの外側面を有する壁体６を含み、この式において、ｆは、孔の軸線４と一致する焦点８と孔４の対照軸線面に位置する放物線の頂点９の母線との間の、孔の対照軸線面１０の中に配置された放物線の焦点距離である。母線と同一側の壁面から頂点９までの軸線面１０中に配置された管の厚さをｅとし、ｄを孔４の軸線４と頂点９における母線との間の距離とすれば、下記の関係式が得られる。ｄ＝ｆまたｄ＝ｒ＋ｅ（第１図）ｄ＜ｒ＋ｅ（第２図）ｄ＝ｒ（第３図）ｄ＜ｒ（第４図）第１図の本発明の実施態様によれば、表面７は完全に放物線である。表面７は真空中においてスパッタリングを生じるカソード、または放射された紫外線（ＵＶ）を反射する物質のフィルム１１（第１図において破線で示す）、例えば１００ｎｍ乃至１ミクロン、例えば３６０ｎｍのＵＶに対して厚さ約１ミクロンのアルミニウム金属層を石英上に被着させる事のできる業界公知のその他任意の手段によって被覆されている。管２は孔３から頂点９の反対側において、中空壁体１２によって閉鎖され、この側壁１２は、軸線面１０に関して対照的な放物線部分から成る側面ウィング１４の末端１３の間に延在する。壁体１２は、直接に放射される放射光１６または放物線によって反射される放射光１７を通過させる放射光透過性外側面１５を含む。ここで下記の点を注意しなければならない。 −放物線曲線または後述のように楕円曲線または結合「円弧および放物線」または結合「円弧および楕円」の焦点８から照射される放射光エネルギー（全部またはほとんど全部）が下記の２つの放射光エネルギーによって形成される。すなわち、直接に閉じた円錐形スペース１８（第１図において一点鎖線で示すスペース）の中に照射されリフレクタの側面ウィングの末端１３によって限定される一次放射光エネルギー、およびリフレクタの反射曲線上に開いた円錐スペースの中に直接に照射され、このスペースの中で反射され、最もよければ被照射面１９中に配置された製品に対して垂直に（矢印１７）戻り（放物線の場合）、または照射処理される湾曲製品に対する接線に垂直に戻る（後述の楕円の場合）二次照射エネルギー、 −紫外線のエネルギー効率はその放射点からその受理点までをカバーする距離に依存する。従って、一方では放射点から反射面（放物線面または楕円曲線）までの距離を短縮し、他方では反射面から被照射製品までの距離を短縮する事により本発明は紫外線効率を最適化する。 −輝度が方向に依存しない照射源はランベルトの法則に従う。 −高い透過は高い出力密度に依存する。従って任意方向に放射される強度は、被放射面に対する垂直方向に放射される強度と、この方向が垂線と成す角度の余弦との積に等しい。従って第１図乃至第４図の面１５は平坦であって、軸線面１０に対して垂直である。下記に詳細に説明する実施態様においては、トランスミッタ／リフレクタデバイスはモノブロック・エンティティであって、１８０ｎｍ乃至２０００ｎｍの通過帯域の非常に高い透過性を有しまた非常に低い蛍光レベルを有する押出成形された石英ガラス材料から成り、その中においてトランスミッタとそのリフレクタが密接にリンクされ、接合され、また不可分であって、放物線または楕円形状、または円弧＋放物線または円弧＋楕円などの数学的結合形状を示す突起部分が反射部分を成す。被照射製品に対向する他の部分は透明であって、製品に対して被放射放射光の全部を指向するように配置され、一次放射光および二次放射光の全部または大部分が放物線の場合にはランベルトの法則に従って被照射製品に対して垂直に平行なまたは実質的に平行な流束を成して到着し、または楕円の場合には軸線面１０の方向に楕円の第２焦点に向かって集中する。本発明の実施態様の主旨の範囲内において構成され生成される屈折光学的面、特に孔の下部の幾何学的形状は本発明による管を含むデバイスの幾何学的焦点を中心として設計され、この焦点は孔の軸線とだいたいに一致するので、この孔の軸線を下記において焦点軸線と呼ぶ。従って、焦点軸線から出る任意のビームの光点は付図に図示のように放射方向に照射される。他方、焦点軸線の外部に位置するビームの任意の光点は屈折光学的面の設計に対応するこの放射方向照射モードと部分的にしか一致しない。焦点軸線を通る面から出た放射光のみがこの設計に対応する。従って第１図の場合、まっすぐなトランスミッタの曲率半径Ｐはまた放物線曲線の頂点の曲率半径である。従ってＲ＝ｒ＋ｅ’が得られ、ここにｒは前述のように、紫外線トランスミッタの光ディスクを画成する円筒形孔３の半径であり、ｅ’は対応の軸線面中の壁体の厚さｅと最大厚さとの間を変動する同一トランスミッタの石英ガラス壁体１１の厚さである。言い替えれば、トランスミッタの曲率半径とリフレクタの頂点の曲率半径は同等であって同一となる。さらに本発明によれば、これらの曲率半径は望ましくは小サイズであって、すなわち≦１５ｍｍ、望ましくは≦１０ｍｍ、または≦５ｍｍ，または≦２ｍｍとし、例えば＝１．５ｍｍとする。第２図、第３図および第４図について述べれば、曲率半径Ｒは、軸線面１０に対して対称的なまた孔３の軸線４と同一の軸線を有する円筒形の一部の形を成すドーム２０の円弧の外径である。本発明によるドームはさらにその外側面において反射材１１（実線で示す）、例えばアルミニウムで被覆されている。付図に見られるように、放物線ウィングの外側面１４の他の部分は反射材によって全部被覆され、または限界入射角α_Lに対応する一定の中心角α₅以外は被覆されない事ができる。後者の場合、管によって放射される光の反射は本発明の特に望ましい実施態様として、屈折光学的屈折によって生じる。放物線曲線の頂点におけるアークは第２図乃至第４図において鎖線２１で図示されている（仮想的状態）。第５図に図示の本発明の他の実施態様は屈折光学的凹部２２を含み、この凹部は縦方向スリットによって形成され、ｒ＋ｅの外径を有する軸線４の円筒形の一部を成す凹形上側面２３を含む。キャビティ２２は軸線面１０に対して平行な２側面２３’および２３”を有し、これらの側面は角度α₂の２面角の中に内接し、この角度の中において、キャビティがなければ放射光は屈折光学的壁体１５によって完全に反射されるであろう。さらにキャビティは曲線の形の下側面２４を含み、この下側面の式は、乾燥される製品のできるだけ平行な支承搬送面１９に放射される放射光ビーム２５を得るように、光学法則に従って決定される。このキャビティ下側面の曲線は半径Ｒ’＝Ｒ（Ｒ＝ｒ＋ｅ）の円筒形の一部である。部分的円筒形ドームが存在しない場合（第１図）またはドーム頂点の円弧が２ ×α₅以下である場合、角度α₅の中に内接する放射光は全部または少なくとも部分的に放物線曲線上で反射されて（これは楕円曲線の場合も同様）、再び光ディスクの内部を通過して円形ジオプター２６（第５図）とその位置によって変動する角度を画成する。これらの放射光は放射焦点以外の光ディスク２７の表面上で屈折され、次に再び可変的入射角および屈折角に従って他の方向に円形ジオプター２８を通過し、放物線（または後述の楕円）曲線によって正常に反射された放射光以外の方向に放射を分布する。従って、本発明が角度α₅の中に内接した放物線曲線または楕円曲線（第２図乃至第５図および第７図乃至第１８Ｂ図）の代わりに、トランスミッタ／リフレクタの焦点に幾何学的中心を有する円筒形の一部の形の円弧断面のドーム２０を提案するのは、この放射分散を最小限にするためである。孔の軸線から内接角α₅（これは常に９０°以下）の中に放射されるすべての放射光は、反射材で被覆された円筒形ドーム２０の背面上で反射され、内接角（ α₁₂＋α₃）によって限定されたトランスミッタ／リフレクタの前面に向かって放射するように方向変換された光像として挙動し、これらの放射光が焦点または孔の軸線から来てドーム２０の背面に被着された反射材の反射係数のみによってそのエネルギー値を影響されるかのように逆光像を画成する。このようにして、すべての放射光がトランスミッタ／リフレクタの正面に位置する面１９に向けられる角度（α₁₂＋α₃）の中に内接する一次放射光エネルギーに対して、内接角α₅から放射される二次放射光エネルギーが追加される。従ってこのレベルにおいて、原則的に３６０°の中に内接したすべての放射光エネルギーが角度（α₁₂＋α₃）の中に含まれ、次に２部分、すなわち内接角α₃に内接した放射光と、内接角α₁₂に内接した放射光とに分割される。次に少なくとも部分的に楕円反射面３１を有する第６図乃至第１３図に図示の本発明のトランスミッタ／リフレクタの実施態様を下記に説明するが、これらの図において、ｄ＝ｒ＋ｅ（第６図）；ｒ＜ｄ＜ｒ＋ｅ（第７図）；ｄ＝ｒ（第８図）およびｄ＜ｒ（第９図）。この場合にも、トランスミッタ／リフレクタデバイスは望ましくは、反射材（破線）、例えばアルミニウムの薄層３３で被覆された円筒形ドーム３２の一部を備える。さらに詳しくは、デバイス３０は円筒形孔３４と中実石英ガラス壁体３５とを含み、この壁体３５は、楕円断面の反射面を有しまたは楕円部分の形を有し、例えば下記式の半楕円状のウィング３６を相互に接合している。ここに、ＦとＦ’はそれぞれの楕円の焦点を示す。第６図は第１図と同様に上ドームを有せず、反射金属材料層によって完全に被覆された反射面を有する。この反射面が管によって放射される放射光を第２焦点Ｆ’にむかって集中する。第７図、第８図および第９図の場合、第２図、第３図および第４図の場合と同様に、円筒形ドーム３２と、このドームに隣接する楕円面部分３６（第７図）のみが反射材によって被覆されている。従ってドーム壁体が焦点Ｆに対して逆放射像を送り、焦点Ｆは楕円壁体に対して反射放射光をこの焦点そのものから出るかのように、エネルギーＥで放射される一次放射光と同一波長で、放射するが、そのエネルギーＥ’はドームの背面に堆積された反射材の反射係数に関連する吸収により、Ｅ’＜Ｅである。壁体３５は、光学業者に公知のように、デバイス内部から出る放射光の大部分に対して垂直に配置された湾曲断面の面３８によって、被処理湾曲製品３７に向けて限定されている。 α_Lの計算例を下記に示す。本明細書に記載の本発明の実施態様においては、下記に説明する中心角α₅の特定中心角を有する上方反射ドーム以外の放物線または楕円反射面の部分は反射材によって被覆されず、この部分に対するプラズマディスクによって放射される放射光反射、すなわち中心角α₃の円錐中の反射は、石英および周囲ガスから成る２つの屈折媒体の相異なる屈折指数により屈折光学的屈折によって実施される。しかし、放射される放射光の波長と、反射湾曲１４または３１に遭遇する入射放射光が完全に反射される限度を成す各媒体の屈折指数の正確な値とに依存する限度α_Lが存在する。この限度角α_Lに従って、前記のドームまたは円筒形部分２０または３２の中心角α₅をデバイスの屈折光学的反射を最大限利用するように決定する事ができる。実際に、このようにして一次放射光に関連して放射される二次放射光エネルギーの損失がなくなり、これは大きな利点を成す。従って、この屈折光学的反射は、通常は乾燥される製品上に使用される光開始剤によって完全に吸収される２５０ナノメータ以下の波長のエネルギーを完全に回復させる。従ってこれらの波長エネルギーの最適回復は例えば処理されるインクの重合プロセスを著しく加速し、従って単なるエネルギー比率よりはるかに高い倍率をもって乾燥速度を加速する。他方、２５０ｎｍ以下の波長のエネルギーを吸収するアルミニウムから成る反射面は望ましくないが、本発明によって排除する事ができない。従って本発明は、トランスミッタ／リフレクタデバイスにおいて、 −円筒体の一部を成すドームと放物線または楕円反射面を有するウィングの形状、 −使用される石英とその周囲ガスの屈折指数、 −また使用される反射材が、特定波長およびエネルギーの放射光の全部または実質的に全部が単一の制御された均質な流束に結束されて、前記デバイスのサイズによる光化学的処理パラメータに対応して、実質的に単一方向に、被処理製品に向かって放射されるように配備されたデバイスを提供する。放物線トランスミッタ／リフレクタデバイスの場合、一次および二次放射光はランベルトの法則により、１に等しい余弦をもって被照射面に対して垂直でなければならない。楕円形トランスミッタ／リフレクタデバイスの場合、これらの放射光は楕円の焦点Ｆ’に向かって指向される。また本発明は第５図に対して第１０図に図示の型のデバイスを提案する。このデバイスは光ディスクの光学平衡をさらに改良するため、第５図のキャビティ２２と同様にして計算された形状を有する屈折光学的キャビティ３９を含む。第１０図のデバイスの放射光の挙動を下記に詳細に説明する。このデバイスは、放射エネルギー全部が第５図について述べたように、角度（ α₁₂＋α₃）の中に収容されるように配置された組立体を成す。角度α₃の中に内接された面３１が、放射光３０と４１の限界間に含まれたすべての放射光を受ける。これらの放射光がそのエネルギーを屈折媒体としての石英中を搬送し、この媒体の屈折係数は通過放射光の波長に依存する。次にこの放射光は屈折光学的湾曲面に遭遇し、この面の第２屈折媒体は空気またはガス（例えば中性ガス）である。次に、使用波長を選択し第２媒体を成すガスを決定した後に、（湾曲屈折光学的反射面３１に遭遇する任意の入射放射光が完全に反射されるような）限界入射角α_Lが計算され、孔の軸線と合致する軸線の中心角α₅が前記の限界入射角から、反射面の式および光学法則に従って誘導される。角度α_Lの計算例を下記に示す。第５図の場合に楕円曲線と同様に放物線曲線を構築する事により、限度入射角 α_Lが円弧としての曲線２０または４２と放物線または楕円としての曲線１４または３１との遭遇点であるような曲線が数学的に構築される。この場合にも得られる性能は下記から明かである。 −インクまたはワニスの重合率はこの製品の中に使用される光開始剤の反応性に密接に関連している。 −光開始剤に対する影響は本質的に、２５０ｎｍ以下の波長によって加えられるエネルギーによる。 −処理されたアルミニウムが紫外線反射性となるための金属反射係数は、１８０乃至２７０ｎｍの範囲内の波長については約０．４であり、水銀スペクトル、すなわち３６０ｎｍの波長では約０．８５である。従って、同一の反応性レベルを得るため、「オゾンなし」と呼ばれる先行技術の公知のトランスミッタについては、「オゾンつき」と呼ばれるトランスミッタの場合よりも３倍の電力が必要とされる。他方、放射される波長がどのようであれ、固体透過媒体からガス透過媒体の境界に移動する放射光の拡散方向において、屈折光学的表面上の反射係数は常に１に等しい。下記に詳細に説明する実施態様においては、角度α_Lのもとの放物線または楕円曲線の背面は反射被覆で被覆されていないので、この利点が見られる。第７Ａ図は屈折光学的反射を使用するさらに他の本発明によるデバイスの改良実施態様を示す。実際に、角度α₂の中に内接するすべての放射光について、曲線３８は曲線３１と同様に機能する事を注意しなければならない。事実、放射光４３と放射光４４との間の角度α₂中の放射光は、２つの屈折媒体の限界角度より大きな入射角度をもって曲線３８に到達する。従って反射は完全であり、反射係数は１に等しい。例えば楕円の軸線４５の方向にこの角度α₂を越えると、放射光４６は外部に向かって斜方向に出ていく。しかし全反射の場合には、放射光エネルギーは全部、放物線１４または楕円ウィング（この実施態様の場合）によって形成される曲線部分の上に送り返され、そこで新しい入射角が０に近づく。下記の状態が見られる。すなわち、曲線部分４７が角度α₃の中で放射されるすべての放射光に対して反射作用し、同時に角度α₂の中で放射されるすべての放射光に対して透明となる。角度α₂の中で放射される放射光はトランスミッタ／リフレクタから曲線部分４７において透明で出てゆき、次に平坦なまたは湾曲した傾斜縦方向板の形の例えば金属の反射障害物４８によって、反射放射光４９の方向に反射される。同様に反射障害物について屈折光学的キャビティを使用しまたは使用しない事ができる。もちろん、前述の説明および補足的要素は放物線構造にも適用される。本発明によるデバイスの他の実施態様を第１１図に図示する。この実施態様は相異なる厚さｅの円筒体部分の形のドームを有し、ここに混合線５１で図示のようにｅ＜Ｒ（Ｒは孔円筒体の外径）、破線５２で示すようにｅ＝Ｒ、また実線５３で示すようにｅ＞Ｒ、例えばｅ＝２Ｒである。第１２図に図示のデバイス３０の孔３４の内側面５４は２つの縦方向グルーブ５５を備え、これらのグルーブの断面は三角形であって、その高さは孔の直径の例えば≦１／５、例えば１／１０に等しく、角度α₂の中に内接し、その外側側面５５’は軸線面に平行である。従ってこの角度α₂を限定する放射光４３、４４とグルーブ５５の曲線は、一方において紫外線ディスク（ｎ＝１の第１屈折媒体）によって石英ガラス（ｎ＝１．５の第２屈折媒体）上に形成される第１円形ジオプター５６を照射し、他方においてグルーブの側面によって側壁３１にむかって反らされるエネルギー部分を限定する。さらに詳しくはグルーブ５５は軸線面１０に対して平行な側面を含みまた角度 α₂の中に内接されて２面体を成し、この２面体の中において放射光は全部、放物線曲線デバイスの場合には屈折光学的反射曲線２４上に、また楕円曲線デバイス（第１２図）の場合には屈折光学的反射曲線３１上に屈折によって反らされる。第１３図に図示の他の実施態様のデバイス３０は部分的凹部を有する下部６０を備え、この下部において角度α₁₂に対応する内側面６１上に突起６２を形成され、この突起６２の曲率半径Ｒ’はＲと相違して、屈折光学的曲線６２上に屈折される放射光が例えば収束するように成されている。第１ジオプター５６を照射するエネルギー部分を限定する角度α₁＋α₂＝α₁₂ の中に内接する放射光全部が凹部６０の曲線部分６２を限定し、このようにして屈折された一次放射光全部が楕円の場合には仮想焦点Ｆ’に向けられ、放物線の場合には被照射面に対して垂直に方向づけられる。角度α₂中に内接された放射光全部が凹部６０の軸線に対して平行な第１垂直ジオプターを照射するエネルギー部分を限定し、このようにして屈折された一次放射光全部が放物線の場合ジオプター反射曲線１４上に、楕円の場合ジオプター反射曲線３１上に向けられるように再配向され、この場合、前記ジオプター曲線上の反射に際して、これらの放射光は角度α₃から出る被反射放射光と実質的に同一の行程を通る。従って、トランスミッタとリフレクタが物理的に分離されまた２種類の配向放射光、すなわち一次放射光と二次放射光が相互に区別される先行技術のデバイスと相違し、本発明は一次放射光と二次放射光の全部を実質的に単一の同等方向の単一の均質な統一され制御された流束に融合させる事のできるデバイスを提供する。望ましくは、角度α₅の側に配置される光半断面が角度α₁、α₂およびα₃の側に配置された光半断面と同等または実質的に同等となるように、ビームの光断面の形状が選択される。また前述のように（第５図または第１０図）、屈折光学的曲線１５または３８を変更して、変更された屈折光学的透過曲線から出る屈折放射光が相互にさらに平行となりランベルトの法則によって被放射面に対してさらに垂直となるように放射光を再配向し、または逆に仮想焦点Ｆ’に向かって収束する放射光流束を得るように再配向し、または逆に業界公知のように屈折光学的キャビティ２２または３９を加える事によって拡散放射光流束を得るように再配向する事ができる。円形屈折光学的曲線６５は円形金属反射曲線１１または４２の幾何学的延長であって、このようにして（さらに詳細には第１１図参照）焦点から出る放射光は（同一軌道上の任意の放射光と同様に）第１円形屈折光学的曲線６５と第２円形屈折光学的曲線６６とを通過して、軸線面に配置された仮想焦点にむかって反らされる。すべての放射光が内接角α₁の限界内の面１５または３８に到達し、従って一次放射光全部が第２ジオプター６７（第１１図）に対して垂直に到達する。楕円の場合、さらに屈折光学的透過曲線（第１１図における鎖線６８）を変更してα₂およびα₃から出る二次放射光を再配向して、変更された屈折光学的透過曲線６８上で屈折されるすべてのの放射光がランベルトの法則による余弦１をもって被放射面に対して垂直に放射する平行流束を成すようにする事ができる。また、業界公知のように、光学法則を使用して放物線トランスミッタ／リフレクタ（第５図）の屈折光学的透過曲線１５を変更して屈折放射光全部を修正された屈折光学的透過曲線（図示されていない）上に再配向し、例えば仮想焦点Ｆ’にむかって収束する放射流束または拡散放射流束を再構成する事ができる。また本発明は、端部から端部まで円筒体孔７２を穿孔された円筒体管７１を含むデバイス７０（第１４図乃至第１８Ｂ図）を提案する。この管７１は内側面７４と外側面７５とを有する２つの縦方向側面ラグ７３を備え、これらのラグは平行放物線の一部の形状の断面を示し、外側面７５が本発明によるウィングの放物線反射面部分を成す。ラグ７３は例えば孔７２の半径に等しい幅を有する。これらのラグ７３は、頂点７７における母線と孔７２の軸線と一致する焦点７８とを通る軸線面７６に対して対称的である。放物線形状を有するこれらのラグ７３の下側面７９は軸線面７６に対して垂直であり、また例えば孔７２の半径の半分に等しい厚さを有する管７１の円筒体の下部に接する面８０（鎖線）の中に配置される。管７１の上部は、第２図と第４図について前述したように、上方ドーム８１を成し、放物線の頂点の円弧は円筒体壁体の厚さの中に完全に含まれ（ｒ＜ｄ＜ｒ＋ｅ）（第１４図）、または孔７２に接し（ｄ＝ｒ）（第１５図）、または孔特に交差する（ｄ＜ｒ）（第１６図）。下記に詳細に説明する実施態様においては、ｅ＝ｒであり、またラグ７３の両端間の距離は７．４ｒに等しい。前述の場合と同様に、孔７２は二等辺三角形または正三角形断面の縦方向グルーブ８２を含み、角度α₂の放射光を一次放射光として内側にまたは二次放射光として外側にむかって屈折光学的または金属反射によって再配向する事ができる。グルーブ断面の高さは例えば孔半径の約１／１０とする事ができる。他方、第１８図、第１８Ａ図および第１８Ｂ図の実施態様においては、直角三角形断面の縦方向突起８３が備えられ、その外側側壁は軸線面７６に対して平行であって、光学法則により軸線面７６に向かう放射光または軸線面７６に平行な放射光の撤回を改良する。一例として、第１８図に関連して、光ディスク半径ｒ＝２ｍｍ、石英ガラス厚さｅ＝２ｍｍおよび使用される波長に依存する屈折指数を有する反射面８４の放物線を構築するための計算法を下記に示す。 λ＝２００ｎｍ、ｎ２００＝１．５５１に対して、またλ＝３６０ｎｍ、ｎ３６０＝１．４７５に対して、従って計算のため、波長λ≦３６０ｎｍに対する反射限界角度としてα_L＝４２°をとる。放物線曲線に対する接線は下記である。またこれは放物線方程式：ｙ’＝０．９の導関数である。放物線の方程式を下記のように置く。これは下記を与える。これは下記式を与える。前述の定義：Ｒ＝ｒ＋ｅ＝４ｍｍに従って、次に点Ｔにおける座標を計算する事ができる。すなわち、Ｘ_T=Ｒ sin 84° =４Ｘ0.9945=3.978ｍｍこれは、放物線の係数“ａ”に対して下記式を与える。点Ｔにおいてまた従って放物線の方程式は下記の形をとる：この場合、曲線の有意点は下記である。 −屈折光学的接線の点８５（Ｘ_T；Ｙ_T），ここに X_T=3.978mm→Ｙ_T＝1.7909mm −頂点における母線の点８６（Ｘ_f＝０；Ｙ_f）。放物線の焦点から放物線の頂点（従ってｘ＝０）までの距離は下記である。その結果、Ｙｆ＝２．２０９ｍｍとなる。 −軸線面８８と放物線との交点８７（Ｘ1，Ｙ1）、Ｙ1＝2.209mmなら、Ｘ1＝4.418mm、 −ラグ７３の末端点（Ｘ₂；Ｙ₂）、Ｙ₂＝(2.209+4)mmなら、Ｘ₂＝7.4mm。第１９図に図示のデバイス９０は、前述の図面について記載した側面ラグ９３を有する型の放物線反射面９１を備える。この場合、孔９３の断面は円形ではなく、切頭円形の形を成し、その断面の半月形の上部９４と下部９５は中実で、ガラスから成り、また放物線の頂点９８の母線を含む軸線面９７に垂直な面９６に関して対称的である。このような構造は、円形断面９９（第１９図における鎖線）に対して、下記の型の法則によって、光断面積の変化率に関して大きな効率増大を与える事が観察された。ここに、Ｓ₂は円の断面積、またＳ₁は切頭円形の断面積とする。この実施態様において、角度α₃＝α’₃＋α”₃は下記の式で表わされる（半径と厚さは第１８図について取られた値とする）。上方に反射される放射光の分布平衡を再構築するため、デバイス９０のドーム１０１の壁体１００は円筒形ドーム１０３（付図において鎖線で示す）と比較して平坦な面１０２を示す。その方程式は、孔９３から放射された放射光１０４の正確に逆方向の戻りを可能とするように計算され、従って入射放射光は反射面１０２に対して垂直に衝突しなければならない。第１９Ａ図は円筒形孔を有する他のモノブロックデバイス１０５を示し、このデバイスは放物線面１０６’の２つのラグ１０６を含む。デバイスの下側面１０７は円筒形であって、孔の軸線と同一の軸線を有し、ラグの内端１０７’を相互に接合する。第１９Ｂ図は、ラグと円筒形孔を有する前記の型のモノブロックデバイス１０８を示し、その下側内側面に凹部１０９を含み、この凹部は軸線面に平行な側面１０９’とキャップの外径に等しい半径の円筒形下側面１０９”とを備える。この場合、ラグは楕円面を有し、ラグの下側面は円筒形の一部として形成されている。本発明によるデバイス１１０の他の実施態様を第２０図乃至第２５図に図示するが、このデバイス１１０は管状石英から成る放射管１１を含み、この放射管は、金属反射材から成る反射ウィング１１２、１１３から分離されている。しかしこのトランスミッタ／リフレクタ組立体は、リフレクタとトランスミッタが相互に連結された前述のトランスミッタ／リフレクタ組立体と同一の機械的構造から出発している。従って、２つのウィング１１２と１１３とから成るリフレクタは反射性幾何学形状を有し、円弧を放物線曲線または楕円曲線と結合している。例えばトランスミッタ管１１４は円筒形であって、図示のように反射材１１５によって被覆され、ウィングと角度的に少し重なり合っている。トランスミッタ管１１４は下記のような種々の形状をとる事ができる。 −本発明による電極チャンバを備えた円形トランスミッタ、 −通常のトランスミッタ、および／または −マイクロ波によって励磁されるトランスミッタ。第２１図乃至第２４図は、例えばアルミニウムから成るウィングを部分的に形成する放物線の頂点１１６における母線に対する管１１４のそれぞれの位置を概略図示するが、これは楕円形の場合も同様である。トランスミッタとリフレクタとの分離は冷媒液の循環１１７を可能とする。第２５図は楕円面を有するデバイス１１８を示し、このデバイスは放物線形状にも同様に適用される。第２５図は２つの対称ウィング１２０を有し、これらの各ウィングは上端において円筒形ドーム１２１に終わり、また相互に縦方向スリット１２２によって分離され、スリット１２２を通して冷媒１２３が導入される。円筒形トランスミッタ管１２５の上端１２４は放射線の脱出角を残さないように金属層１２６によって被覆され、円筒形ドーム１２１の末端部分と前記の同様に円筒形の金属層１２６との間に重なり合が生じる。第２６Ａ図、第２６Ｂ図および第２６Ｃ図は上部を本発明の反射層によって被覆された円筒形管の３実施態様を示す。第２６Ａ図は孔１２８を有する管１２７を示し、前記の孔１２８は軸線面１３０に対して垂直な下側面１２９によって切頭された円筒形の形状を有し、前記下側面は例えば軸線１３１から半径の半分の距離に配置される。第２６Ｂ図は他のトランスミッタ管１３２を示し、この管は円筒形孔の下側面１３４に凹部１３３を有する。この凹部１３３は、軸線面１３５に対して平行な側壁と、下側面１３６とを有し、この下側面１３６は例えば管の外径に等しい半径の円筒形の一部の形状を成す。本発明による他のトランスミッタ管１４０を第２７Ａ図、第２７Ａ’図、第２７Ｂ図および第２７Ｃ図に示す。このトランスミッタ管１４０は部分的に分離された放物線断面形状のリフレクタを備える。さらに詳しくは管１４０（第２７Ａ図）は多少とも円筒形を成し、その上部１４１とその孔１４２は平坦に成されまたは第１９図に図示のように切頭型である。上部１４１は反射層１４３によって被覆されている。管（第２７Ａ’図）は下部１４１’を含み、この下部の外側面１４１”は、孔の切頭キャビティによって屈折された放射線を例えば平行流束に偏向させ、または同様の凸形がさらに強調されている場合（小曲率半径を有する場合）、光学法則に従って収束流束が第２焦点Ｆ’に向かって偏向される。ウィング１４４がトランスミッタ管から一定距離において、数学的位置に保持されるようにピンネジ１４５によって少し予応力をかけられて機械的に固定されている（第２７Ｂ図）。このネジ１４５は、押出アルミニウム形材から成る乾燥支持構造のグルーブ１４６の中に固定されている。例えば第２７Ｃ図には、仮設的冷却掃引流１４８が図示されている。第２７Ｄ図は本発明の他の好ましいバージョンを示し、管にそって管から一定間隔でまたは間隔なしで延在する平坦な長方形ウィング１４９の一部を示し、この部分は前述の図面のウィングの平行部分または楕円形部分に接しまた／あるいは実質的に同形である。従って本発明によるこれらの部分は放物線または楕円と実質的に類似であるが、製造容易である。本発明は特に電極を備えた紫外線トランスミッタに応用可能であるが、電極を備えず、水銀またはその他の金属のヨウ化物がマイクロ波効果によって生かされるトランスミッタ技術にも容易に適用される。本発明において使用可能のトランスミッタの二、三の実施態様１５０、１５１、１５２、１５３を図示した（第２８図乃至第３１Ａ図）。これらの実施態様についてさらに詳細に説明すれば、約４ｍｍ（望ましくはこれ以下）の内径「ＩＤ」の光ディスクが全放射線波長「Ｌｕｖ」に対して備えられる。各末端に、電極（使用される場合）のハウジングに対応してまた汚染および失透の可能性のある区域に対応してチャンバ１５４、１５５、１５６が配備されている。第２８図と第２９図においてチャンバ「Ｄｃｅ」の直径が通常値１１ｍｍまで拡大され、この値は経験上、電極の正確な動作と、石英囲障の機械的強度にとって十分であるとみなされる。第３０図において、例えばマイクロ波による外部刺激の場合、電極を有しない構造が備えられている。公知のトランスミッタの動作に際して、電極の回りにミルク状区域が観察され、この区域が一定長「Ｌｃｅ」にわたって徐々に不透明となり、これが伝統的に電極チャンバの長さである。この長さは電極の脚部分において始まり、本発明においては内径「ＩＤ」の縮小区域で終わる。従ってこの問題点を解決するため、本発明によれば、チャンバの全外周にわたって、電極に対して一定放射温度を保持するように設計された反射材１５７の被覆が備えられる。この被覆は第２８図乃至第３１Ａ図において破線で示されている。本発明はインクまたはワニスを紫外線トランスミッタによって乾燥する事ができ、このトランスミッタは線形出力の増大よりはむしろ光ディスクの形状の変動および／またはその断面の縮小に依存し、その結果、前記の線形出力を低下させ４る事ができ、これは低出力（≦３０Ｗ／ｃｍ）において、低直径の電極チャンバさえも必要としない事を意味する（第３１図）。トランスミッタ／リフレクタデバイスの製造の容易な事を示すため、その製造例を第２８図について説明する。トランスミッタ／リフレクタデバイス１５０は第１０図の型のものであって、本体１６０を含む。まず本体の末端１６１を加熱し、次に通常の手法で電極プラグ１６２の直径まで縮小させる。電極プラグ１６２は、例えばフイリップ社によって製造に際して使用されるようなセラミック端部１６３を含む。実際に組立ては下記の３段階で生じる。 −屈折光学的キャビティのレベルで切削する事により長さ「Ｌｃｅ」のトランスミッタ／リフレクタデバイスの末端を製造する。これは、トランスミッタの囲障を成す管がネジ込に際して実際上円筒形形状に完成されているので実施容易である。次に石英ガラスをその軟化点まで加熱する。次に直径を拡大して電極プラグの外径を与える。 −次に電極プラグ１６２を加熱しながらトランスミッタ／リフレクタデバイスの本体１６０上に取付ける。次にガラスメーカと同一方法で両部材を完全に融合してトランスミッタの末端を閉じる。 −最後に、溶接によって電気接続を成した後に電極プラグ上にセラミック端部１６３を取付ける。水銀は通常の製造法によって挿入される。次に反射層をトランスミッタに対してまたトランスミッタ／リフレクタの端部に対して、また／あるいは部分的にまたは全面的にウィング上に被着する。低線出力（≦３０ワット／ｃｍ）のため、またエネルギー効率の増大の故に、１メートルより少し長い可変放射線波長「Ｌｕｖ」のトランスミッタについて、３０ボルト／ｃｍの値まで（すなわち供給電圧３０００ボルト、職業的に使用される値）までリニア電圧を増大させる事ができる。これは約１Ａの最大強度の電流を保持しながら紫外線アークの品質を改良する事ができる。必要に応じて適当に冷却用通風を変更する事により、８０ワット／ｃｍのさらに一般的な出力を採用する事ができる。第３２図は本発明のトランスミッタ／リフレクタの孔の断面の種々の実施態様を示し、その透過面は所望の用途に従って相異なる形を示す。第３２Ａ図は半月形の断面を示す。第３２Ａ’図は同一型の断面を示すが、第１９Ａ図について述べた型の下方円筒形キャップを有する。第３２Ｂ図は凸形の下側面を有する目の形の横断面の孔を示す。第３２Ｃ図は大きな厚さの下壁体と放物線反射面とを有する第１図の型のデバイスの実施態様を示す。第３２Ｄ図はブーメラン型孔とこの孔に対して平行な反射壁体とを有するバージョンを示す。第３２Ｄ’図は３孔を有し、１つの中心孔は円筒形孔であり、２つの側面孔は軸線面に対して対称的であり、実質的に三角形断面を有し、その壁体は一方においてデバイスの外壁に平行、他方において中心孔の壁体に対して平行な他のバージョンを示す。第３２Ｅ図は軸線面に対して対称的であり２つの対向する放物線部分または楕円部分と円筒形孔とを備えたデバイスの他の実施態様を示す。第３３図または第３７図は前記の１つまたは複数の型に対応する１つまたは複数のデバイスを含む装置を示す。第３３図はサポート構造２０２の対向側壁上に配置された２つの同形のデバイスを含む事のできる本発明による装置２００の概略断面図である。第３４図について述べれば、本発明は紫外線乾燥装置２００を提案し、そのサポート構造２０２は押出アルミニウムから成る正方形断面または長方形断面、円形または長円形断面の形材パイプ２０３から成り、そのｙ−軸線上に１つまたは２つのデバイス２０１を対向配置されている。さらに詳しくは、第３３図のトランスミッタ／リフレクタデバイス２０１はアルミニウム形材構造２０３の中に取付けられ、この構造の「クレードル」と呼ばれる凹形部分２０４の輪郭はデバイスの凸形部分２０５の輪郭と同一である。約１ｍｍの通気スペース２０６がこれらの２つの形材の間に残されている。デバイス２０１の底部において顕著な圧力損失を生じ従って空気流２０７を放射デバイスの両側の背後において均一に成すように、前記の通気スペース２０６は形材の断面より小である。「クレードル」形材はその頂点において、縦方向スリット２０８を備え、このスリットの幅は、デバイスの背後を掃気する空気流がその全長にわたって一定であるように通気方向に従って可変である。さらにトランスミッタ／リフレクタデバイス２０１は、その両端に固着された固定部品２０９によって、アルミニウム形材に対して幾何学的に定心されている。デバイスが組立てられる時、固定部品２０９は同時的に形材２０３中の２つの内側グルーブ２１０とデバイスのセラミック円筒形端部２１１との中を滑動する。固定部品２０９は例えば３個の浮動部品によって形成されて、トランスミッタ／リフレクタデバイスを製造公差の範囲内でアルミニウム形材の中心に配置保持されるようにする事を注意しよう。固定部品２０９は，形材の底部内側グルーブ２１０の中に収容され締付けられた２つのボルト２１２によって固定される。さらにカバー２１３がデバイスの両端に備えられて、形材の中を空気カーテンのように搬送される縦方向通気を、前記のデバイスの背後２１４から一定距離で流れる横方向層流を成す横方向通気から分離させる。このカバー２１３の組立てと機械的固定は固定部品２０９と同一原理で実施される。デバイスの両端に、その上端グルーブと下端グルーブ２１５の中にカバー２１６が滑り込まされ、設定されるとデバイスを形材中において縦方向に配置する。最後に熱ブリッジを防止するため、例えばデバイスの横方向に、デバイスの各側面の２つの底部グルーブの中に、２つの小さい先の尖った離間ウェッジ２１７が配置されている。これらの小ウェッジは通気スペースを保持し、デバイス２０１を形材の中に２軸線方向に定心させるように設計されている。電極脚部分のセラミック端部の温度を３００℃までグラジエントに従って下降させるため、外側カバーはデバイスの末端長さのレベルにおいて縦方向スリット（図示されていない）を備え、このスリットの長さは「ＬＥ」（末端部分の長さ）より小でありまた約３ｍｍの幅を有する。形材の幅側面上に、複数の小グルーブ２１８が備えられ、これらのグルーブは拡散された反射放射線の無制御な排出を防止するように設計された傾斜面を成す。放射部分と反対側の幅側面は狭いハウジング２１９（第３５図）を備え、このハウジングはトランスミッタのウィングおよびサーモスタット、光電制御素子などのドライヤに必要な電気装備を受けるように設計されている。この同一の幅側面は第２トランスミッション／リフレクタデバイス２０１を受けるように考案される事ができる。そのクレードル形状をハウジングとして利用して単一のトランスミッション／リフレクタに使用される電気結線を収容する事ができる。長方形形材の両側の長さ側面において、外側壁体上に長方形グルーブ２２０が配置され、これらのグルーブによって数個のドライヤをスペーサ２２１によって同時に組立てる事ができ、このスペーサ２２１の可変幅と形状によって相互に接合された別々のドライヤから成るドライヤセットを構成する事ができ、このドライヤセットの構成はまっすぐまたは円形（第３７図）とし、または正方形、長方形または多角形とする事ができる。この場合、スペーサ２２１は処理囲障の外側壁体または内側壁体となる。さらに形材の均一形状の故に、ドライヤセットを「頭−尾」（第３６図）に容易に組立てて、２枚のシートを「往復」手法（矢印２２２）で処理する最小限の占有スペースが達成される。最後に、ドライヤの縦方向両端に（第３４図）、一端には通気ダクトの接続部品２２３が配置され、他端にはトランスミッタ、サーモスタットリレーおよび光電管の接続部品２２４が配置される。本発明は非蛍光低圧トランスミッタおよび可視光線放射ランプに適用される。トランスミッタの両端の通気に関する限り、全長「Ｌｃｅ」にわたって、構造の空気に対する開口は、温度降下を３００℃またはこれ以下の値まで促進するようにはるかに大となる。デバイス（第２図）の円形曲線２０の中に放射源が配置され、ここで温度が最高となるが、ウィング１４の形の両端部においては膨張係数の差を考慮しまた内部張力を最小限にするため、これより少ない外部通気によって掃気される事を注意しなければならない。「トランスミッタ」の管状部分の円形容器中の温度と「リフレクタ」の楕円部分または放物線部分の末端中の温度との温度差を無視するために石英の低膨張係数を利用する。また放射素子の作動温度を保持するように設計された通気分布設計は、エアカーテンを放射素子の熱機械的要求に基づいて設計するためファンの穴のサイズ、その位置、ファンの選択および特性（流量／圧力）を扱う当業者には公知である事を注意しよう。放射素子の回りに循環する空気流の本発明による制御により、熱平衡をえるために必要な流量が５０ｍ³／ｈ／ｋＷ以下となる。本発明によるトランスミッタ／リフレクタデバイスによって与えられる５利点を下記に列挙しよう。 −公知の乾燥システムの同一の重合能力において、放射素子の冷却に必要な送風量は印刷機の空スペースの中に容易に合体できる程度まで大幅に縮小される。 −本発明のトランスミッタ／リフレクタデバイスは通気によって掃引される機械的反射面または放射面を有しないので、空気の濾過が不必要である。 −第２の利点の結果、放射素子は空気中の機械的反射面を有しないので、反射係数の経時劣化が不可能であり、またその反射性が損なわれない。 −従って、走行するシートのベンチュリ効果による以外には放射部分の下方に空気流がほとんどまったく存在しないので、オゾン量が測定素子にも検知されず、また吸引の必要がないので、機械の金属部品の酸化の危険が無視可能である。 −通気量が少ないので、製品上の必要があれば、例えば空気の代わりに窒素を使用して酸化防止性エアカーテンをを備える事ができる。本発明の多くの利点は特に下記の７パラメータによる。 −放射光線の断面の縮小、 −光ディスクの非円形性、 −光通路の短縮、 −オゾンの発生皆無、 −反射係数１の屈折光学的反射曲線、 −約１の余弦の屈折光学的透過曲線、 −高い出力密度。要約すれば、また非限定的に、本発明の前記の利点は、同等の光化学的結果を得るための非常に低い線出力、従って同一割合での迷走熱エネルギーの減少、一定出力密度に対して平行な均質流束の方向性、反射面の非損傷性、および従って濾過装置の不使用、測定可能のオゾンの不存在、エアカーテン設備を不要にする程度の低冷却通気、電気装備およびキャビネットサイズの大幅な縮小、ドライヤ製造工程の極度の簡単化、先行技術と比較してドライヤのサイズの大幅な縮小、インクおよびワニス製造現場に直接に紫外線ドライヤの設置、長寿命の単一の部品を有するトランスミッタ／リフレクタデバイス、「バナナ」効果と呼ばれるねじれ作用の除去などである。第３８図Ａ、ＢおよびＣは製品シート２２５を乾燥するように配置された数個のデバイス２００を含む本発明による装置の平面図である。第３８図Ａは、製品の走行方向２２６に対して垂直に、左右交互に、製品の中心と少し重なり合うように配置された複数のデバイス２００を示す。第３８図ＢおよびＣは、放射線を均質に分布するように製品の走行方向に対して５°乃至２０°、望ましくは１５°の角度をもって斜方向に配置された複数のデバイス２００を示す。第３９図は円筒形管３００中の光密度の３種の分布曲線を示す。小直径（例えば＜１０ｍｍ）の円筒形管３００が反射放物線３０２の焦点３０１に配置される（第４０Ａ図）。曲線３０３は実質的に均質な分布を示し、プラズマ３０３’（第４０Ｂ図参照）が例えば長さ数センチメートルの管の場合、５ボルト／ｃｍのリニア電圧をもって管容積全部を占める。曲線３０４は、３０ボルト／ｃｍの電極間電圧について密度分布３０４’を示し、曲線３０５は１００ボルト／ｃｍの電圧に対するプラズマ３０５’の分布を示す。この場合、プラズマビームはほとんど線形であって、ピンポイントに近い断面を示し、壁体３０６から離間している。第４０Ｂ図の場合、反射壁体３０７は双曲線横断面を有し、ビームによって放射された放射線３０８はビーム３０５’と干渉する事なく、焦点３０９に戻される。第４１図に図示のデバイス１１０は例えば９ｍｍ以下の小直径の一定断面円筒形管１１１を含み、この管は楕円部分の形状の横断面を有する２つのウィング１１２を備え、これらのウィングは反射材によって被覆されまたその頂点において、例えば１−５ｃｍの幅のスリット１１３によって相互に分離されている。このデバイスは、ウィングから一定距離において管１１１に対向する水平平坦板１１４を含む。楕円の軸線と頂上母線との距離ｄは、ｄ＝ｆまたｄ≦ｒ＋ｅ＋１mm（ｆ＝焦点までの距離、ｒ＝管の半径、ｅ＝管の厚さ）であり、前記板１１４は管の内部孔の直径より小さい直径のプラズマビーム１１５によって放射される放射線を反射する。板（金属板）はトランスミッタ／リフレクタデバイス全体の支持体として作用する。この金属板は例えば１０ｍｍ乃至３ｃｍの距離ｈに配置され、例えばスペーサ（図示されていない）によって固定され、このスペーサ上にウィングの上端の平坦縁部１１６が載置されている。スリット１１３に対向するように配置された板１１４の下側面１１７は反射性物質の付着、堆積またはフィルムによって反射性に成され、また板の両側面に冷却空気１１９を通すオリフィス１１８が備えられている。もちろん、本発明は前記の説明のみに限定されるものでなく、その主旨の範囲内において任意に変更実施できる。例えば、光ディスクの断面をさらに平坦としまたは横方向に切頭形とする事ができる。また本発明は軸線回りの水の滅菌装置、および電線、ケーブル、ゴムホース、ＰＶＣ管などのマーク付けなど、軸線回りに円形の製品上で重合されるインクおよびワニスの乾燥装置に関するものである。従って本発明による紫外線トランスミッタ／リフレクタ装置は例えば滅菌チャンバまたは重合チャンバとして作用する透過性円筒形の回りに対向して取付ける事ができる。軸方向製品の処理装置は、滅菌チャンバとして作用する透過性円筒形の回りに星形に規則的に配置された数個の放射デバイス、例えば３個、５個または７個のデバイスを含む事ができる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成１０年１０月１２日（１９９８．１０．１２）【補正内容】請求の範囲１．圧下イオン化ガスを保持し、軸線（４）回りに延在し、放射線トランスミッタビームを画成するための端−端孔（３、３４、７２、９３、１１１、１２８、１４２）を有するまっすぐな透過性石英電極管（２、３５、１１４、１４１）と、前記孔の軸線面（１０）に対して対称的な２つの縦方向側面ウィング（１４、７５、１１２、１１３、１２０、１２８）から成る放射線反射面（７）とを含み、前記反射面が少なくとも部分的に前記トランスミッタ管に固着されまた少なくとも部分的に厳格にまたは近似的に放物線形または楕円形の横方向断面を示すように成された電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス（１、３０、７０、９０、１１０、１１８、１３２、１４０）において、前記管の孔の内側面の直径または最大内径が９ｍｍと同等またはこれより小である事を特徴とする電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス。２．前記側面ウィングに対応しまた少なくとも部分的に厳格にまたは近似的に放物線形または楕円形の横方向断面を示す前記反射面の部分が、前記軸方向対称面において前記孔の軸線から下記式に対応する距離ｄに配置された頂点の母線を有する曲線に属し、ｄ＝ｆおよび０＜ｄ＜ｒ＋ｅ＋１ｍｍ，ここに、ｆ：放物線（８）または楕円（Ｆ）の焦点と頂点（９）における対応母線との距離、ｒ：前記頂点の母線と同一側において、前記孔の軸線（４）と軸線面中の孔の内側面との距離、ｅ：前記頂点（９）の母線と同一側における軸線面（１０）中の管の厚さとする事を特徴とする電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス。３．ｄ＝ｒ＋ｅである事を特徴とする請求項２に記載のデバイス。４．ｒ≦ｄ＜ｒ＋ｅである事を特徴とする請求項２に記載のデバイス。５．ｄ≦ｒである事を特徴とする請求項２に記載のデバイス。６．前記孔が円筒形である事を特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のデバイス。７．孔（９３）の横断面が少なくとも部分的に切頭円形である事を特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のデバイス。８．前記反射面が前記管に対して全部固着されている事を特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のデバイス。９．前記管の外壁は前記孔に対してその頂点の母線と同一側面に配置されたドーム（２０）を含み、前記ドームは孔の内側面に対応するように設計された外側面を有しまた放射線をドームに送り返して孔の中心に戻すように成され、前記ドームは反射材（１１）によって被覆されている事を特徴とする請求項９に記載のデバイス。１０．前記管が前記側面ウィング（１３、１４）の間において連続し、前記ウィングの内側面が少なくとも部分的に屈折光学的反射によって前記反射面を成す事を特徴とする請求項８または９のいずれかに記載のデバイス。１１．前記反射面が反射性物質の被覆によって全部被覆されている事を特徴とする請求項８または９のいずれかに記載のデバイス。１２．前記反射面が放物線または部分的に放物線形の断面を有し、また前記管が前記ウィングの末端を結ぶ外側面（１５）を有し、前記外側面は孔に対して前記頂点の母線の反対側に配置され、平坦で、前記頂点母線を含む軸線面に対して垂直である事を特徴とする請求項８乃至１１のいずれかに記載のデバイス。１３．前記反射面が楕円形または部分的楕円形の断面を有し、また前記管が前記ウィングの末端を結ぶ外側面（３８）を有し、前記外側面は孔に対して前記頂点の母線から反対側に配置され、凹形であって、前記頂点母線を含む軸線面に対して対称的曲線に従い、前記外側面が放射線を少なくとも部分的に孔の軸線面に向かって指向するように成された事を特徴とする請求項８乃至１１のいずれかに記載のデバイス。１４．前記管が前記頂点の母線と反対側に、縦方向屈折光学的キャビティを成す部分的凹形の連続的石英部分を含み、前記凹部は円筒形の一部として形成された凹形面を含み、この凹形面は前記管の軸線の配置された側に向かって配向されまた前記管軸線から距離ｒ＋ｅに配置されている事を特徴とする請求項８乃至１３のいずれかに記載のデバイス。１５．前記外側面は軸線面に定心した第１部分において平坦であり、第２部分において湾曲している事を特徴とする請求項１４に記載のデバイス。１６．ドーム（２０、３２）は孔軸線から下記の式の距離ｘに配置された外側反射面（５１、５２、５３）を含み、ｒ＜ｘ≦２ｙ、ここに、ｙは孔の内側面とウィングの反射面の傾斜の不連続点との距離とする事を特徴とする請求項８に従属する請求項１乃至１５のいずれかに記載のデバイス。１７．さらに、軸線面（１０）に対して対称的に、ウィングの端部の両側に配置された縦方向反射側面板（４８）を含む事を特徴とする請求項１０に従属する請求項１乃至１６のいずれかに記載のデバイス。１８．前記管は頂点の母線を通る軸線面に対して対称的な２つの縦方向側面ラグ（７３）を備えた円筒形であって、前記側面ラグは照射面に向けられそのそれぞれの外側面が放物線または楕円の一部の形のウィングを成す事を特徴とする請求項９に記載のデバイス。１９．前記ラグの端面（７９）が前記頂点母線を含む前記軸線面に対して直交する事を特徴とする請求項１８に記載のデバイス。２０．ラグの端面が凹形であって、この端面に対する入射放射線を前記頂点母線を含む孔の軸線面に向かって送るように配置されている事を特徴とする請求項１８に記載のデバイス。２１．円筒形孔は前記頂点母線の反対側のその内側面上に、前記前記頂点母線を含む軸線面に関して対称的な三角形断面の２つの突起（８３）を含み、前記突起はそれぞれ軸線面に対して平行な側面を含みまた前記突起の内接する孔の中心角が対応のラグの２つの尖端を通る事を特徴とする請求項１８乃至２０のいずれかに記載のデバイス。２２．孔（３４）はその内側面上に、軸線に対して頂点母線と反対側に、縦方向屈折光学的凹部（６０）を備え、この屈折光学的凹部は半径ｒと同等または相異なる半径ｒ’の円筒形の一部の形状の底面と、孔の軸線面に対して平行な側面とを有する事を特徴とする請求項１乃至２１のいずれかに記載のデバイス。２３．管の外側面の上部が反射材によって被覆され、また２つの側面ウィング（１１２、１１３、１２０）がトランスミッタ管から完全に離間して一定距離に配置されている事を特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のデバイス（１１０）。２４．管から完全に一定距離を置いて配置され少なくとも部分的に放物線または楕円断面を示す側面ウィング（１２０）の上部から孔と同軸の円筒形部分（１２１）が延在する事を特徴とする請求項２３に記載のデバイス。２５．２つの側面ウィングが縦方向反射板によって形成される事を特徴とする請求項１に依存する請求項２３に記載のデバイス。２６．管が、この管の放射線トランスミッタビームの内側断面と同等またはこれ以上の内側断面を有する電極チャンバ（１５４）を含む事を特徴とする請求項１乃至２５のいずれかに記載のデバイス。２７．前記トランスミッタビームの最大断面積が約４５ｍｍ²、約３０ｍｍ² または約１０ｍｍ²と同等またはこれ以下である事を特徴とする請求項１乃至２６のいずれかに記載のデバイス。２８．平坦シート、ワイヤまたは円筒体として配置された製品を紫外線によって処理するための装置（２００）において、請求項１乃至２７のいずれかに記載の少なくとも１つのデバイス（２０１）を含む事を特徴とする装置。２９．前記デバイスの反射面の少なくとも一部の外側に冷却ガスを流すように配置された冷却手段を含む事を特徴とする請求項２８に記載の乾燥装置。３０．相互に逆方向に配置された少なくとも２つのデバイス（２０１）を含む事を特徴とする請求項２８または２９のいずれかに記載の装置。３１．被処理製品の走行方向に対して斜方向に配置された数個のデバイス（２０１）を含む事を特徴とする請求項２８乃至３０のいずれかに記載の装置。３２．相互に一定角度を成して配置された数個のデバイスを含む事を特徴とする請求項２８乃至３１のいずれかに記載の装置。３３．シート状製品または平坦面あるいは湾曲面上に配置された製品に対して放射線を加える方法において、約４５ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定横断面の軸線の回りに細長く延在するように電極管の中で発生された紫外線プラズマビームをもって前記製品を照射する事を特徴とする方法。３４．前記製品が約３０ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定横断面の軸線の回りに細長く延在する紫外線プラズマビームをもって照射される事を特徴とする請求項３３に記載の方法。３５．前記製品が約１０ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定横断面の軸線の回りに細長く延在する紫外線プラズマビームをもって照射される事を特徴とする請求項３４に記載の方法。３６．前記製品が、直接に前記プラズマビームから発生する一次放射線と、同時に少なくとも部分的に楕円形横断面を有する反射面上の屈折光学的屈折によって前記一次放射線から発生する二次放射線とによって照射される事を特徴とする請求項３３乃至３５のいずれかに記載の方法。３７．前記製品が、直接に前記プラズマビームから発生する一次放射線と、同時に少なくとも部分的に放物線形横断面を有する反射面上の屈折光学的屈折によって前記一次放射線から発生する二次放射線とによって照射される事を特徴とする請求項３５に記載の方法。３８．前記プラズマビームのトランスミッタ管に固着された反射面を含む単一のプラズマビーム閉じ込め管によって全部発生され反射される放射線によって製品を照射する事を特徴とする請求項３３乃至３７のいずれかに記載の方法。３９．前記一定断面の円筒形プラズマビームの長さが３０センチメートルより大である事を特徴とする請求項３３乃至３８のいずれかに記載の方法。４０．前記一定断面の円筒形プラズマビームの長さが１メートルより大である事を特徴とする請求項３９に記載の方法。４１．プラズマビームのリニア電圧が約３０ボルト／ｃｍ以上の値を有する事を特徴とする請求項３３乃至４０のいずれかに記載の方法。４２．プラズマビームのリニア電圧が５０ボルト／ｃｍと同等またはこれ以上、望ましくは１００ボルト／ｃｍの値を有する事を特徴とする請求項４１に記載の方法。４３．紫外線を放射するプラズマビームの長さが約１．５０メートル以上であり、リニア電圧が２０ボルト／ｃｍ以上である事を特徴とする請求項３３に記載の方法。４４．プラズマビームの横断面の半径ｒが、管のｄに等しい直径に対して下記の関係式の関係にある事を特徴とする請求項１乃至４３のいずれかに記載の方法。４５．照射が切頭円筒形の紫外線を放射するプラズマビームによって実施される事を特徴とする請求項３３乃至４４のいずれかに記載の方法。４６．請求項３３乃至４５のいずれかに記載の方法を実施するデバイス。４７．縦方向中央スリット（１１３）によって相互に分離された２つの反射ウィング（１１２）を含み、前記ウィングが少なくとも部分的に顕著な放物線形部分または顕著な楕円形部分を有する横断面を示し、前記の部分が、孔の軸線から距離ｄにある頂点母線を有する曲線に属し、ここに、ｄ＝ｆまた０＜ｄ＜ｒ＋ｅ＋１ｍｍとし、またここに、ｆ：焦点までの距離、ｒ：管の半径、ｅ：管の厚さとし、またさらに前記スリット（１１３）に対向して、ウィングの頂点から完全にｈの距離にある平坦な反射板（１１４）を含む事を特徴とする請求項４６に記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＨＵ，ＩＬ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＭＸ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＵＡ，ＵＳ，ＶＮ，ＹＵ

Claims

【特許請求の範囲】１．圧下イオン化ガスを保持し、軸線（４）回りに延在し、放射線トランスミッタビームを画成するための端−端孔（３、３４、７２、９３、１１１、１２８、１４２）を有するまっすぐな透過性石英電極管（２、３５、１１４、１４１）と、前記孔の軸線面（１０）に対して対称的な２つの縦方向側面ウィング（１４、７５、１１２、１１３、１２０、１２８）から成る放射線反射面（７）とを含み、前記反射面が少なくとも部分的に前記トランスミッタ管に固着されまた少なくとも部分的に厳格にまたは近似的に放物線形または楕円形の横方向断面を示すように成された電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス（１、３０、７０、９０、１１０、１１８、１３２、１４０）において、前記側面ウィングに対応しまた少なくとも部分的に厳格にまたは近似的に放物線形または楕円形の横方向断面を示す前記反射面の部分が、前記軸方向対称面において前記孔の軸線から下記式に対応する距離ｄに配置された頂点の母線を有する曲線に属し、ｄ＝ｆおよび０＜ｄ＜ｒ＋ｅ＋１ｍｍ，ここに、ｆ：放物線（８）または楕円（Ｆ）の焦点と頂点（９）における対応母線との距離、ｒ：前記頂点の母線と同一側において、前記孔の軸線（４）と軸線面中の孔の内側面との距離、ｅ：前記頂点（９）の母線と同一側における軸線面（１０）中の管の厚さとする事を特徴とする電磁放射線トランスミッタ／リフレクタデバイス。２．ｄ＝ｒ＋ｅである事を特徴とする請求項１に記載のデバイス。３．ｒ≦ｄ＜ｒ＋ｅである事を特徴とする請求項１に記載のデバイス。４．ｄ≦ｒである事を特徴とする請求項１に記載のデバイス。５．前記孔が円筒形である事を特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のデバイス。６．孔（９３）の横断面が少なくとも部分的に切頭円形である事を特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のデバイス。７．前記反射面が前記管に対して全部固着されている事を特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のデバイス。８．前記管の外壁は前記孔に対してその頂点の母線と同一側面に配置されたドーム（２０）を含み、前記ドームは孔の内側面に対応するように設計された外側面を有しまた放射線をドームに送り返して孔の中心に戻すように成され、前記ドームは反射材（１１）によって被覆されている事を特徴とする請求項７に記載のデバイス。９．前記管が前記側面ウィング（１３、１４）の間において連続し、前記ウィングの内側面が少なくとも部分的に屈折光学的反射によって前記反射面を成す事を特徴とする請求項７または８のいずれかに記載のデバイス。１０．前記反射面が反射性物質の被覆によって全部被覆されている事を特徴とする請求項７または８のいずれかに記載のデバイス。１１．前記反射面が放物線または部分的に放物線形の断面を有し、また前記管が前記ウィングの末端を結ぶ外側面（１５）を有し、前記外側面は孔に対して前記頂点の母線の反対側に配置され、平坦で、前記頂点母線を含む軸線面に対して垂直である事を特徴とする請求項７乃至１０のいずれかに記載のデバイス。１２．前記反射面が楕円形または部分的楕円形の断面を有し、また前記管が前記ウィングの末端を結ぶ外側面（３８）を有し、前記外側面は孔に対して前記頂点の母線から反対側に配置され、凹形であって、前記頂点母線を含む軸線面に対して対称的曲線に従い、前記外側面が放射線を少なくとも部分的に孔の軸線面に向かって指向するように成された事を特徴とする請求項７乃至１０のいずれかに記載のデバイス。１３．前記管が前記頂点の母線と反対側に、縦方向屈折光学的キャビティを成す部分的凹形の連続的石英部分を含み、前記凹部は円筒形の一部として形成された凹形面を含み、この凹形面は前記管の軸線の配置された側に向かって配向されまた前記管軸線から距離ｒ＋ｅに配置されている事を特徴とする請求項７乃至１２のいずれかに記載のデバイス。１４．前記外側面は軸線面に定心した第１部分において平坦であり、第２部分において湾曲している事を特徴とする請求項１３に記載のデバイス。１５．ドーム（２０、３２）は孔軸線から下記の式の距離ｘに配置された外側反射面（５１、５２、５３）を含み、ｒ＜ｘ≦２ｙ、ここに、ｙは孔の内側面とウィングの反射面の傾斜の不連続点との距離とする事を特徴とする請求項８に従属する請求項１乃至１４のいずれかに記載のデバイス。１６．さらに、軸線面（１０）に対して対称的に、ウィングの端部の両側に配置された縦方向反射側面板（４８）を含む事を特徴とする請求項９に従属する請求項１乃至１５のいずれかに記載のデバイス。１７．前記管は頂点の母線を通る軸線面に対して対称的な２つの縦方向側面ラグ（７３）を備えた円筒形であって、前記側面ラグは照射面に向けられそのそれぞれの外側面が放物線または楕円の一部の形のウィングを成す事を特徴とする請求項１０に記載のデバイス。１８．前記ラグの端面（７９）が前記頂点母線を含む前記軸線面に対して直交する事を特徴とする請求項１７に記載のデバイス。１９．ラグの端面が凹形であって、この端面に対する入射放射線を前記頂点母線を含む孔の軸線面に向かって送るように配置されている事を特徴とする請求項１７に記載のデバイス。２０．円筒形孔は前記頂点母線の反対側のその内側面上に、前記前記頂点母線を含む軸線面に関して対称的な三角形断面の２つの突起（８３）を含み、前記突起はそれぞれ軸線面に対して平行な側面を含みまた前記突起の内接する孔の中心角が対応のラグの２つの尖端を通る事を特徴とする請求項１７乃至１９のいずれかに記載のデバイス。２１．孔（３４）はその内側面上に、軸線に対して頂点母線と反対側に、縦方向屈折光学的凹部（６０）を備え、この屈折光学的凹部は半径ｒと同等または相異なる半径ｒ’の円筒形の一部の形状の底面と、孔の軸線面に対して平行な側面とを有する事を特徴とする請求項１乃至２０のいずれかに記載のデバイス。２２．管の外側面の上部が反射材によって被覆され、また２つの側面ウィング（１１２、１１３、１２０）がトランスミッタ管から完全に離間して一定距離に配置されている事を特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のデバイス（１１０）。２３．管から完全に一定距離を置いて配置され少なくとも部分的に放物線または楕円断面を示す側面ウィング（１２０）の上部から孔と同軸の円筒形部分（１２１）が延在する事を特徴とする請求項２２に記載のデバイス。２４．２つの側面ウィングが縦方向反射板によって形成される事を特徴とする請求項１に依存する請求項２２に記載のデバイス。２５．管が、この管の放射線トランスミッタビームの内側断面と同等またはこれ以上の内側断面を有する電極チャンバ（１５４）を含む事を特徴とする請求項１乃至２４のいずれかに記載のデバイス。２６．前記トランスミッタビームの最大断面積が約４５ｍｍ²、約３０ｍｍ² または約１０ｍｍ²と同等またはこれ以下である事を特徴とする請求項１乃至２５のいずれかに記載のデバイス。２７．平坦シート、ワイヤまたは円筒体として配置された製品を紫外線によって処理するための装置（２００）において、請求項１乃至２６のいずれかに記載の少なくとも１つのデバイス（２０１）を含む事を特徴とする装置。２８．前記デバイスの反射面の少なくとも一部の外側に冷却ガスを流すように配置された冷却手段を含む事を特徴とする請求項２７に記載の乾燥装置。２９．相互に逆方向に配置された少なくとも２つのデバイス（２０１）を含む事を特徴とする請求項２７または２８のいずれかに記載の装置。３０．被処理製品の走行方向に対して斜方向に配置された数個のデバイス（２０１）を含む事を特徴とする請求項２７乃至２９のいずれかに記載の装置。３１．相互に一定角度を成して配置された数個のデバイスを含む事を特徴とする請求項２７乃至３０のいずれかに記載の装置。３２．シート状製品または平坦面あるいは湾曲面上に配置された製品に対して放射線を加える方法において、約４５ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定横断面の軸線の回りに細長く延在するように電極管の中で発生された紫外線プラズマビームをもって前記製品を照射する事を特徴とする方法。３３．前記製品が約３０ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定横断面の軸線の回りに細長く延在する紫外線プラズマビームをもって照射される事を特徴とする請求項３２に記載の方法。３４．前記製品が約１０ｍｍ²と同等またはこれ以下の一定横断面の軸線の回りに細長く延在する紫外線プラズマビームをもって照射される事を特徴とする請求項３３に記載の方法。３５．前記製品が、直接に前記プラズマビームから発生する一次放射線と、同時に少なくとも部分的に楕円形横断面を有する反射面上の屈折光学的屈折によって前記一次放射線から発生する二次放射線とによって照射される事を特徴とする請求項３２または３４のいずれかに記載の方法。３６．前記製品が、直接に前記プラズマビームから発生する一次放射線と、同時に少なくとも部分的に放物線形横断面を有する反射面上の屈折光学的屈折によって前記一次放射線から発生する二次放射線とによって照射される事を特徴とする請求項３４に記載の方法。３７．前記プラズマビームのトランスミッタ管に固着された反射面を含む単一のプラズマビーム閉じ込め管によって全部発生され反射される放射線によって製品を照射する事を特徴とする請求項３２乃至３６のいずれかに記載の方法。３８．前記一定断面の円筒形プラズマビームの長さが３０センチメートルより大である事を特徴とする請求項１乃至３７のいずれかに記載の方法。３９．前記一定断面の円筒形プラズマビームの長さが１メートルより大である事を特徴とする請求項３８に記載の方法。４０．プラズマビームのリニア電圧が約３０ボルト／ｃｍ以上の値を有する事を特徴とする請求項１乃至３９のいずれかに記載の方法。４１．プラズマビームのリニア電圧が５０ボルト／ｃｍと同等またはこれ以上、望ましくは１００ボルト／ｃｍの値を有する事を特徴とする請求項４０に記載の方法。４２．紫外線を放射するプラズマビームの長さが約１．５０メートル以上であり、リニア電圧が２０ボルト／ｃｍ以上である事を特徴とする請求項３２に記載の方法。４３．プラズマビームの横断面の半径ｒが、管のｄに等しい直径に対して下記の関係式の関係にある事を特徴とする請求項１乃至４２のいずれかに記載の方法。４４．照射が切頭円筒形の紫外線を放射するプラズマビームによって実施される事を特徴とする請求項３２乃至４３のいずれかに記載の方法。４５．請求項３２乃至４４のいずれかに記載の方法を実施するデバイス。４６．縦方向中央スリット（１１３）によって相互に分離された２つの反射ウィング（１１２）を含み、前記ウィングが少なくとも部分的に顕著な放物線形部分または顕著な楕円形部分を有する横断面を示し、前記の部分が、孔の軸線から距離ｄにある頂点母線を有する曲線に属し、ここに、ｄ＝ｆまた０＜ｄ＜ｒ＋ｅ＋１ｍｍとし、またここに、ｆ：焦点までの距離、ｒ：管の半径、ｅ：管の厚さとし、またさらに前記スリット（１１３）に対向して、ウィングの頂点から完全にｈの距離にある平坦な反射板（１１４）を含む事を特徴とする請求項４５に記載の方法。