JP2001097902A - フェノールの製造方法 - Google Patents
フェノールの製造方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/08—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by decomposition of hydroperoxides, e.g. cumene hydroperoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/53—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of hydroperoxides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アセトンを生じるが、経済的にモル量で考慮
してアセトン需要よりもより高いフェノール需要に関し
て生産量を柔軟に適合させることができるフェノールの
製造方法を提供すること 【解決手段】 アリールヒドロペルオキシドのホック分
解によりフェノールを製造する方法において、クメン及
びシクロヘキシルベンゼンを少なくとも３：１のクメン
対シクロヘキシルベンゼンの質量比で含有する混合物
を、分子酸素含有ガスで酸化し、その際、生じたクメン
ヒドロペルオキシド及びシクロヘキシルベンゼンヒドロ
ペルオキシドをフェノール、アセトン及びシクロヘキサ
ノンに分解することを特徴とするフェノールの製造方法
してアセトン需要よりもより高いフェノール需要に関し
て生産量を柔軟に適合させることができるフェノールの
製造方法を提供すること 【解決手段】 アリールヒドロペルオキシドのホック分
解によりフェノールを製造する方法において、クメン及
びシクロヘキシルベンゼンを少なくとも３：１のクメン
対シクロヘキシルベンゼンの質量比で含有する混合物
を、分子酸素含有ガスで酸化し、その際、生じたクメン
ヒドロペルオキシド及びシクロヘキシルベンゼンヒドロ
ペルオキシドをフェノール、アセトン及びシクロヘキサ
ノンに分解することを特徴とするフェノールの製造方法
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アリールヒドロペ
ルオキシドのホック分解（Hocksche Spaltung）による
フェノールの製造方法に関する。アリールヒドロペルオ
キシドとは、本発明の範囲内でホック分解によりフェノ
ールを生成する全てのヒドロペルオキシドであると解釈
される。
ルオキシドのホック分解（Hocksche Spaltung）による
フェノールの製造方法に関する。アリールヒドロペルオ
キシドとは、本発明の範囲内でホック分解によりフェノ
ールを生成する全てのヒドロペルオキシドであると解釈
される。
【０００２】
【従来の技術】フェノールは広範囲の用途を有する重要
な化学原料である。フェノールは溶剤としての使用の他
に、特にフェノール樹脂、ビスフェノール−Ａ、ε−カ
プロラクタム、アジピン酸、アルキルフェノール及び可
塑剤の製造のために使用される。
な化学原料である。フェノールは溶剤としての使用の他
に、特にフェノール樹脂、ビスフェノール−Ａ、ε−カ
プロラクタム、アジピン酸、アルキルフェノール及び可
塑剤の製造のために使用される。
【０００３】フェノールを適当なヒドロペルオキシドの
ホック分解により製造することは公知である。この場
合、ヒドロキシ化合物としてのフェノールの他に併産品
（Koppelprodukt）としてカルボニル化合物が生じ、こ
のカルボニル化合物は経済的理由から適当な利用を示さ
なければならない。
ホック分解により製造することは公知である。この場
合、ヒドロキシ化合物としてのフェノールの他に併産品
（Koppelprodukt）としてカルボニル化合物が生じ、こ
のカルボニル化合物は経済的理由から適当な利用を示さ
なければならない。
【０００４】特許明細書ＦＲ−１０３００２０はシクロ
ヘキシルベンゼンを酸素又は空気でシクロヘキシルベン
ゼンヒドロペルオキシドに酸化し、引き続きそのホック
分解してフェノール及びシクロヘキサノンにすることを
教示している。シクロヘキサノンは同様に重要な有用生
成物であり、これは例えば溶剤として又はアジピン酸及
びシクロヘキサノンオキシム（これはε−カプロラクタ
ムの製造のために必要である）の製造のために使用され
る。
ヘキシルベンゼンを酸素又は空気でシクロヘキシルベン
ゼンヒドロペルオキシドに酸化し、引き続きそのホック
分解してフェノール及びシクロヘキサノンにすることを
教示している。シクロヘキサノンは同様に重要な有用生
成物であり、これは例えば溶剤として又はアジピン酸及
びシクロヘキサノンオキシム（これはε−カプロラクタ
ムの製造のために必要である）の製造のために使用され
る。
【０００５】この方法についての他の特許文献におい
て、シクロヘキシルベンゼンを空気又は酸素を用いて６
０℃〜２００℃の温度で、常圧又は加圧下で触媒を用い
て又は用いないで酸化してシクロヘキシルベンゼンヒド
ロペルオキシドにすることが記載されている。特許明細
書ＥＰ−００３７１６７において直鎖Ｃ14〜Ｃ16アルキ
ルアミン又はポリビニルピロリドンを、シクロヘキシル
ベンゼン酸化のための触媒として使用することが記載さ
れており、特許明細書ＦＲ−１０３００２０及びＢＥ−
５５１９０８には触媒なしでのこの酸化を記載してい
る。米国特許第４２９９９９１号明細書はポリマレイン
イミド触媒の存在でのシクロヘキシルベンゼンの酸化を
記載している。
て、シクロヘキシルベンゼンを空気又は酸素を用いて６
０℃〜２００℃の温度で、常圧又は加圧下で触媒を用い
て又は用いないで酸化してシクロヘキシルベンゼンヒド
ロペルオキシドにすることが記載されている。特許明細
書ＥＰ−００３７１６７において直鎖Ｃ14〜Ｃ16アルキ
ルアミン又はポリビニルピロリドンを、シクロヘキシル
ベンゼン酸化のための触媒として使用することが記載さ
れており、特許明細書ＦＲ−１０３００２０及びＢＥ−
５５１９０８には触媒なしでのこの酸化を記載してい
る。米国特許第４２９９９９１号明細書はポリマレイン
イミド触媒の存在でのシクロヘキシルベンゼンの酸化を
記載している。
【０００６】シクロヘキシルベンゼンの酸化により得ら
れたシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドのフェ
ノール及びシクロヘキサノンへの分解は、ＦＲ−１０３
００２０によりシクロヘキシルベンゼンを溶剤として用
いてベンゼンスルホン酸又は硫酸で酸接触させることに
より行う。米国特許第４２４６２０３号明細書による
と、シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドの分解
は１２０〜２００℃の温度で５０〜２０００ｐｐｍの硫
酸の存在で実施され、その際放出される反応熱はフェノ
ール及びシクロヘキサノンの蒸発のために利用される。
Fa. Phillips社の一連の新規の特許明細書は水性酸触媒
と比較して改善された分解触媒を記載しており、この分
解触媒が、酸触媒の場合に常に付加的な更なる後処理が
不利に影響しかねない生成物流の後続する中和の欠点を
回避している。米国特許第４４８７９７０号明細書は触
媒としてＳｂＦ5及び黒鉛の使用を教示しており、米国
特許第４４８０１４１号明細書はその代わりにＢＦ3×
Ｈ3ＰＯ4、及び米国特許第４４８２７５７号明細書は式
Ｒ4Ｐxの有機ホスホニウムハロゲニド及び酸、例えば塩
酸、硫酸又はリン酸を使用している。最後に、米国特許
第４５３２３６０号明細書はシクロヘキシルベンゼンか
ら水素化ホウ素又は塩化水素及び酸化セリウム、トリフ
ェニルボレート、ボロントリホスフェート及び水のグル
ープからの少なくとも１種の添加剤の存在で例えばフェ
ノール及びシクロヘキサノンを製造する直接的な１工程
方法を教示している。
れたシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドのフェ
ノール及びシクロヘキサノンへの分解は、ＦＲ−１０３
００２０によりシクロヘキシルベンゼンを溶剤として用
いてベンゼンスルホン酸又は硫酸で酸接触させることに
より行う。米国特許第４２４６２０３号明細書による
と、シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドの分解
は１２０〜２００℃の温度で５０〜２０００ｐｐｍの硫
酸の存在で実施され、その際放出される反応熱はフェノ
ール及びシクロヘキサノンの蒸発のために利用される。
Fa. Phillips社の一連の新規の特許明細書は水性酸触媒
と比較して改善された分解触媒を記載しており、この分
解触媒が、酸触媒の場合に常に付加的な更なる後処理が
不利に影響しかねない生成物流の後続する中和の欠点を
回避している。米国特許第４４８７９７０号明細書は触
媒としてＳｂＦ5及び黒鉛の使用を教示しており、米国
特許第４４８０１４１号明細書はその代わりにＢＦ3×
Ｈ3ＰＯ4、及び米国特許第４４８２７５７号明細書は式
Ｒ4Ｐxの有機ホスホニウムハロゲニド及び酸、例えば塩
酸、硫酸又はリン酸を使用している。最後に、米国特許
第４５３２３６０号明細書はシクロヘキシルベンゼンか
ら水素化ホウ素又は塩化水素及び酸化セリウム、トリフ
ェニルボレート、ボロントリホスフェート及び水のグル
ープからの少なくとも１種の添加剤の存在で例えばフェ
ノール及びシクロヘキサノンを製造する直接的な１工程
方法を教示している。
【０００７】しかしながら、フェノールは今日では主に
クメンヒドロペルオキシドのホック分解によって製造さ
れる。このいわゆるクメン法の場合、まずクメンを有利
に空気又は酸素で酸化してクメンヒドロペルオキシドに
し、これを通常、未反応のクメンの分離により６０〜８
５質量％のクメンヒドロペルオキシド含有量にまで蒸留
により濃縮した後に、引き続き酸触媒、有利に硫酸を用
いて分解してフェノール及びアセトンにする。クメン法
に関する良好な概略は、例えばWeissermel/Arpe, Indus
trielle Organische Chemie,第２版, Verlag Chemie, 1
978,又はUllmann's Encyclopedia of Industrial Chemi
stry, Vol. A 19, p. 302 ff., VCH Verlagsgesellscha
ft, 1991に記載されている。このクメン法の新規の更な
る展開は、特にクメンヒドロペルオキシド−分解の分野
及び副生成物の生成及びエネルギー消費の減少のための
分解生成物の後処理に該当する、例えばＥＰ−０５８９
５８８Ａ１、ＥＰ−０６７０２９６Ａ１又はＷＯ９７／
０６９０５参照。
クメンヒドロペルオキシドのホック分解によって製造さ
れる。このいわゆるクメン法の場合、まずクメンを有利
に空気又は酸素で酸化してクメンヒドロペルオキシドに
し、これを通常、未反応のクメンの分離により６０〜８
５質量％のクメンヒドロペルオキシド含有量にまで蒸留
により濃縮した後に、引き続き酸触媒、有利に硫酸を用
いて分解してフェノール及びアセトンにする。クメン法
に関する良好な概略は、例えばWeissermel/Arpe, Indus
trielle Organische Chemie,第２版, Verlag Chemie, 1
978,又はUllmann's Encyclopedia of Industrial Chemi
stry, Vol. A 19, p. 302 ff., VCH Verlagsgesellscha
ft, 1991に記載されている。このクメン法の新規の更な
る展開は、特にクメンヒドロペルオキシド−分解の分野
及び副生成物の生成及びエネルギー消費の減少のための
分解生成物の後処理に該当する、例えばＥＰ−０５８９
５８８Ａ１、ＥＰ−０６７０２９６Ａ１又はＷＯ９７／
０６９０５参照。
【０００８】このクメン法は常に均一なモル量でフェノ
ール及びアセトンが得られる。フェノール１トンあたり
の質量に関してアセトン０．６２トンが生じる。両方の
生成物についての本質的な使用目的はビスフェノール−
Ａ−合成であり、その際、反応式に応じてフェノール２
モル及びアセトン１モルから出発しビスフェノール−Ａ
１モルが得られる。ビスフェノール−Ａはポリカーボ
ネート及びエポキシ樹脂の製造のための出発物質として
利用され、従って大量に生産される。ビスフェノール−
Ａの合成のために、モル量で考慮してフェノールの半分
の量のアセトンが必要なだけである。アセトンは他の使
用可能性、を例えば溶剤又は例えばメチルメタクリレー
トの製造のための可能性も有しているが、フェノールと
アセトンとでは、モル量でいくらかフェノールのほうが
アセトンよりも多く必要とされるように全体で異なるマ
ーケット需要が予想される。この異なるマーケット需要
にはこのクメン法はその反応図式に基づき応じることが
できない。
ール及びアセトンが得られる。フェノール１トンあたり
の質量に関してアセトン０．６２トンが生じる。両方の
生成物についての本質的な使用目的はビスフェノール−
Ａ−合成であり、その際、反応式に応じてフェノール２
モル及びアセトン１モルから出発しビスフェノール−Ａ
１モルが得られる。ビスフェノール−Ａはポリカーボ
ネート及びエポキシ樹脂の製造のための出発物質として
利用され、従って大量に生産される。ビスフェノール−
Ａの合成のために、モル量で考慮してフェノールの半分
の量のアセトンが必要なだけである。アセトンは他の使
用可能性、を例えば溶剤又は例えばメチルメタクリレー
トの製造のための可能性も有しているが、フェノールと
アセトンとでは、モル量でいくらかフェノールのほうが
アセトンよりも多く必要とされるように全体で異なるマ
ーケット需要が予想される。この異なるマーケット需要
にはこのクメン法はその反応図式に基づき応じることが
できない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、同様にアセトンを生じるが、経済的にモル量で考慮
してアセトン需要よりもより高いフェノール需要に関し
て生産量を柔軟に適合させることができるフェノールの
製造方法を提供することであった。
は、同様にアセトンを生じるが、経済的にモル量で考慮
してアセトン需要よりもより高いフェノール需要に関し
て生産量を柔軟に適合させることができるフェノールの
製造方法を提供することであった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明の場
合、請求項１により、アリールヒドロペルオキシドのホ
ック分解によるフェノールの製造方法において、クメン
及びシクロヘキシルベンゼンを少なくとも３：１のクメ
ン対シクロヘキシルベンゼンの質量比で含有する混合物
を分子酸素含有ガスで酸化し、その際に生じたクメンヒ
ドロペルオキシド及びシクロヘキシルベンゼンヒドロペ
ルオキシドを分解してフェノール、アセトン及びシクロ
ヘキサノンにすることを特徴とするフェノールの製造方
法により解決される。
合、請求項１により、アリールヒドロペルオキシドのホ
ック分解によるフェノールの製造方法において、クメン
及びシクロヘキシルベンゼンを少なくとも３：１のクメ
ン対シクロヘキシルベンゼンの質量比で含有する混合物
を分子酸素含有ガスで酸化し、その際に生じたクメンヒ
ドロペルオキシド及びシクロヘキシルベンゼンヒドロペ
ルオキシドを分解してフェノール、アセトン及びシクロ
ヘキサノンにすることを特徴とするフェノールの製造方
法により解決される。
【００１１】意想外に、クメン法から公知の製造工程を
用いてシクロヘキシルベンゼンを処理してフェノール及
びシクロヘキサノンに変換することができるだけでな
く、同時にクメン及びシクロヘキシルベンゼンを含有す
る一定の混合物を出発物質として使用して、一緒にフェ
ノール、アセトン及びシクロヘキサノンへ反応させるこ
とができることが見出された。それにより出発混合物の
組成を適合させることにより、クメン及びシクロヘキシ
ルベンゼンの含有量に関して、生成物混合物中のフェノ
ール：アセトン：シクロヘキサノンのモル比を意図的に
制御することができ、一般に両方で生じるカルボニル化
合物に関して市場に過剰供給することは回避される。従
って、本発明による方法は、有用生成物のフェノール、
アセトン及びシクロヘキサノンについて生産量をマーケ
ットに適合させることができ、その際、特に予想される
アセトン−過剰生産を回避することができるという著し
い利点がある。
用いてシクロヘキシルベンゼンを処理してフェノール及
びシクロヘキサノンに変換することができるだけでな
く、同時にクメン及びシクロヘキシルベンゼンを含有す
る一定の混合物を出発物質として使用して、一緒にフェ
ノール、アセトン及びシクロヘキサノンへ反応させるこ
とができることが見出された。それにより出発混合物の
組成を適合させることにより、クメン及びシクロヘキシ
ルベンゼンの含有量に関して、生成物混合物中のフェノ
ール：アセトン：シクロヘキサノンのモル比を意図的に
制御することができ、一般に両方で生じるカルボニル化
合物に関して市場に過剰供給することは回避される。従
って、本発明による方法は、有用生成物のフェノール、
アセトン及びシクロヘキサノンについて生産量をマーケ
ットに適合させることができ、その際、特に予想される
アセトン−過剰生産を回避することができるという著し
い利点がある。
【００１２】本発明による方法は、さらに純粋なクメン
の酸化と比較して、純粋なシクロヘキシルベンゼンの酸
化の場合の緩慢な反応速度が、クメン及びシクロヘキシ
ルベンゼンを含有する出発混合物の使用により有利に影
響するという利点がある。
の酸化と比較して、純粋なシクロヘキシルベンゼンの酸
化の場合の緩慢な反応速度が、クメン及びシクロヘキシ
ルベンゼンを含有する出発混合物の使用により有利に影
響するという利点がある。
【００１３】クメン及びシクロヘキシルベンゼンを含有
する混合物の本発明による反応は、慣用のクメン法から
公知の条件下で行うことができるため、さらに本発明に
よる方法は、迅速かつ簡単に実現することができる。有
利にこの実現の際に酸化及び分解の範囲内で現存する装
置部分に手を加える、つまり出発材料を供給する場合及
び特にここの有用生成物へ分解生成物流を後処理する場
合に適合が必要であるだけである。従って、慣用のクメ
ン法により運転するフェノール及びアセトン用の現存す
る生産装置は、本発明による方法の実施に適するように
簡単に拡張でき、マーケットの状況に応じて本発明によ
る製造方法か又はフェノール及びアセトンの製造方法で
運転することができる。
する混合物の本発明による反応は、慣用のクメン法から
公知の条件下で行うことができるため、さらに本発明に
よる方法は、迅速かつ簡単に実現することができる。有
利にこの実現の際に酸化及び分解の範囲内で現存する装
置部分に手を加える、つまり出発材料を供給する場合及
び特にここの有用生成物へ分解生成物流を後処理する場
合に適合が必要であるだけである。従って、慣用のクメ
ン法により運転するフェノール及びアセトン用の現存す
る生産装置は、本発明による方法の実施に適するように
簡単に拡張でき、マーケットの状況に応じて本発明によ
る製造方法か又はフェノール及びアセトンの製造方法で
運転することができる。
【００１４】本発明による方法にとっての出発物質とし
て、少なくとも３：１、有利に５：１〜９：１のクメン
対シクロヘキシルベンゼンの質量比を有する混合物を利
用する。この混合物はすでに貯蔵タンク中に貯蔵するこ
とができるか、又は別々の供給源から酸化反応器中への
侵入の直前で混合することにより製造することができ
る。クメン又はシクロヘキシルベンゼンを含有する物質
流を別々に酸化反応器中へ供給し、そこで混合すること
も可能である。酸化反応器として有利にクメン法から公
知の気泡塔反応器を用いるのが有利である。酸化はクメ
ン法と同様に有利に触媒なしで、１００℃〜１４０℃の
温度で、１〜２０ｂａｒ（絶対）の圧力で、分子酸素含
有ガスとして有利に空気又は酸素の存在で、一般に酸化
からの生成物流中のペルオキシドが最大３５質量％の総
含有量に達するまで行われる。残りは、ほとんど未反応
のクメン及びシクロヘキシルベンゼンである、それとい
うのも有利に十分に純粋なクメン／シクロヘキシルベン
ゼン−混合物を使用するためである。さらに酸化の際に
生成される少量の数種の副生成物が含まれる。これにつ
いては特にジメチルフェニルカルビノール、フェニルシ
クロヘキサノール−１、アセトフェノン及びカプロフェ
ノンが挙げられる。
て、少なくとも３：１、有利に５：１〜９：１のクメン
対シクロヘキシルベンゼンの質量比を有する混合物を利
用する。この混合物はすでに貯蔵タンク中に貯蔵するこ
とができるか、又は別々の供給源から酸化反応器中への
侵入の直前で混合することにより製造することができ
る。クメン又はシクロヘキシルベンゼンを含有する物質
流を別々に酸化反応器中へ供給し、そこで混合すること
も可能である。酸化反応器として有利にクメン法から公
知の気泡塔反応器を用いるのが有利である。酸化はクメ
ン法と同様に有利に触媒なしで、１００℃〜１４０℃の
温度で、１〜２０ｂａｒ（絶対）の圧力で、分子酸素含
有ガスとして有利に空気又は酸素の存在で、一般に酸化
からの生成物流中のペルオキシドが最大３５質量％の総
含有量に達するまで行われる。残りは、ほとんど未反応
のクメン及びシクロヘキシルベンゼンである、それとい
うのも有利に十分に純粋なクメン／シクロヘキシルベン
ゼン−混合物を使用するためである。さらに酸化の際に
生成される少量の数種の副生成物が含まれる。これにつ
いては特にジメチルフェニルカルビノール、フェニルシ
クロヘキサノール−１、アセトフェノン及びカプロフェ
ノンが挙げられる。
【００１５】慣用のクメン法の場合と同様に、酸化から
の生成物流を直接又は中間貯蔵器としての容器を介して
濃縮ユニットへ供給することができ、この中で有利に真
空下で蒸留により未反応のクメン及び／又はシクロヘキ
シルベンゼンの分離によって、材料流中のクメンヒドロ
ペルオキシドの含有量を有利に３０〜６０質量％に高め
るか及び／又はをシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオ
キシドの含有量を有利に５〜２０質量％に高める。分離
されたクメン及び／又はシクロヘキシルベンゼンは有利
に場合によりさらに後処理した後に酸化工程に返送され
る。
の生成物流を直接又は中間貯蔵器としての容器を介して
濃縮ユニットへ供給することができ、この中で有利に真
空下で蒸留により未反応のクメン及び／又はシクロヘキ
シルベンゼンの分離によって、材料流中のクメンヒドロ
ペルオキシドの含有量を有利に３０〜６０質量％に高め
るか及び／又はをシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオ
キシドの含有量を有利に５〜２０質量％に高める。分離
されたクメン及び／又はシクロヘキシルベンゼンは有利
に場合によりさらに後処理した後に酸化工程に返送され
る。
【００１６】濃縮工程からの材料流は分解工程に供給さ
れ、この分解は本発明により有利に酸触媒作用により、
有利に硫酸を用いる酸触媒作用により均一相中で行われ
る。ここでクメンヒドロペルオキシド及びシクロヘキシ
ルベンゼンヒドロペルオキシドは主にフェノール、アセ
トン及びシクロヘキサノンへと反応させられる。適当な
分解反応及び反応条件は、例えばＥＰ−０５８９５８８
Ａ１又はＷＯ９７／０６９０５から公知である。分解生
成物を、これらの特許明細書中の方法と同様に、収率を
低下させる不所望な副生成物の含有量を減少させるため
に後温度処理を行うのが有利である。引き続き、有用生
成物のフェノール、アセトン及びシクロヘキサノンを単
離するために、当業者に周知のクメン法と同様の方法で
分解生成物混合物の有利な蒸留による後処理を行う。
れ、この分解は本発明により有利に酸触媒作用により、
有利に硫酸を用いる酸触媒作用により均一相中で行われ
る。ここでクメンヒドロペルオキシド及びシクロヘキシ
ルベンゼンヒドロペルオキシドは主にフェノール、アセ
トン及びシクロヘキサノンへと反応させられる。適当な
分解反応及び反応条件は、例えばＥＰ−０５８９５８８
Ａ１又はＷＯ９７／０６９０５から公知である。分解生
成物を、これらの特許明細書中の方法と同様に、収率を
低下させる不所望な副生成物の含有量を減少させるため
に後温度処理を行うのが有利である。引き続き、有用生
成物のフェノール、アセトン及びシクロヘキサノンを単
離するために、当業者に周知のクメン法と同様の方法で
分解生成物混合物の有利な蒸留による後処理を行う。
【００１７】本発明による方法は、ここで概説した主要
な方法工程に限定されず、むしろクメン法から公知の全
ての変法が、特にこの変法が副生成物生成の低下及びエ
ネルギー消費の最適化を目指している場合、本発明によ
る方法に適用することができる。本発明による方法の知
識において当業者にはクメン法のバックグラウンドから
多様な方法技術的及び装置的実施態様が推測できる。
な方法工程に限定されず、むしろクメン法から公知の全
ての変法が、特にこの変法が副生成物生成の低下及びエ
ネルギー消費の最適化を目指している場合、本発明によ
る方法に適用することができる。本発明による方法の知
識において当業者にはクメン法のバックグラウンドから
多様な方法技術的及び装置的実施態様が推測できる。
【００１８】本発明による方法を用いて、９０％を上回
るフェノール、アセトン及びシクロヘキサノンに関する
分解収率を達成することができる。酸化において使用さ
れた出発混合物の組成はシクロヘキシルベンゼンの含有
量に関して、フェノールに対して併産品として生じる有
用生成物のアセトン及びシクロヘキサノンにとってそれ
ぞれ十分な販売の可能性が生じるように適合させられ
る。このように過剰生産による損失を回避しかつ高い経
済性が達成される。
るフェノール、アセトン及びシクロヘキサノンに関する
分解収率を達成することができる。酸化において使用さ
れた出発混合物の組成はシクロヘキシルベンゼンの含有
量に関して、フェノールに対して併産品として生じる有
用生成物のアセトン及びシクロヘキサノンにとってそれ
ぞれ十分な販売の可能性が生じるように適合させられ
る。このように過剰生産による損失を回避しかつ高い経
済性が達成される。
【００１９】本発明による方法を次の実施例により詳説
するが、本発明の方法はこれに制限されるものではな
い：
するが、本発明の方法はこれに制限されるものではな
い：
【００２０】
【実施例】クメン７５質量％及びシクロヘキシルベンゼ
ン２５質量％からなる混合物を、１３２℃で酸素を用い
てサーモスタット制御可能な気泡塔反応器中で酸化し
た。３時間の酸化時間の後に、酸化生成物はガスクロマ
トグラフを用いた分析（ＧＣ−分析）によるとクメンヒ
ドロペルオキシド２４．５質量％及びシクロヘキシルベ
ンゼンヒドロペルオキシド８．２質量％を含有してい
た。この混合物を引き続き高真空中で濃縮し、その際生
じた濃縮物はクメンヒドロペルオキシド３８．３質量％
及びシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシド１３．
１質量％を含有していた。留出物として生じる炭化水素
混合物はクメンヒドロペルオキシドとして計算して１質
量％より少ないペルオキシドを含有していた。この濃縮
物を引き続き５０℃で１相の分解により、アセトン中に
溶かした又はアセトン、ＭＥＫ、フェノール及び炭化水
素からなる試験分解生成物中に溶かした硫酸２０００ｐ
ｐｍの存在で分解した。
ン２５質量％からなる混合物を、１３２℃で酸素を用い
てサーモスタット制御可能な気泡塔反応器中で酸化し
た。３時間の酸化時間の後に、酸化生成物はガスクロマ
トグラフを用いた分析（ＧＣ−分析）によるとクメンヒ
ドロペルオキシド２４．５質量％及びシクロヘキシルベ
ンゼンヒドロペルオキシド８．２質量％を含有してい
た。この混合物を引き続き高真空中で濃縮し、その際生
じた濃縮物はクメンヒドロペルオキシド３８．３質量％
及びシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシド１３．
１質量％を含有していた。留出物として生じる炭化水素
混合物はクメンヒドロペルオキシドとして計算して１質
量％より少ないペルオキシドを含有していた。この濃縮
物を引き続き５０℃で１相の分解により、アセトン中に
溶かした又はアセトン、ＭＥＫ、フェノール及び炭化水
素からなる試験分解生成物中に溶かした硫酸２０００ｐ
ｐｍの存在で分解した。
【００２１】分解収率はＧＣ分析による評価によりアセ
トンについて９５％を上回り、シクロヘキサノンについ
て８０．８％及びフェノールについては９１．５％であ
った。
トンについて９５％を上回り、シクロヘキサノンについ
て８０．８％及びフェノールについては９１．５％であ
った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 49/08 Ｃ０７Ｃ 49/08 Ａ 49/403 49/403 Ａ (72)発明者 ハインリヒ ファン バルネフェルト ドイツ連邦共和国 ボットロップ カペレ ンシュトラーセ 18 (72)発明者 オットー ゲルリッヒ ドイツ連邦共和国 グラートベック メス ターフェルト ３ (72)発明者 ヴェルナー クラインロー ドイツ連邦共和国 ハルテルン イム ハ ートカンプ ２
Claims (9)
- 【請求項１】 アリールヒドロペルオキシドのホック分
解によりフェノールを製造する方法において、クメン及
びシクロヘキシルベンゼンを少なくとも３：１のクメン
対シクロヘキシルベンゼンの質量比で含有する混合物
を、分子酸素含有ガスで酸化し、その際、生じたクメン
ヒドロペルオキシド及びシクロヘキシルベンゼンヒドロ
ペルオキシドをフェノール、アセトン及びシクロヘキサ
ノンに分解することを特徴とするフェノールの製造方
法。 - 【請求項２】 混合物中のクメン／シクロヘキシルベン
ゼン−質量比が５：１〜９：１である、請求項１記載の
方法。 - 【請求項３】 分子酸素含有ガスとして空気又は酸素を
用いて酸化を行う、請求項１又は２記載の方法。 - 【請求項４】 酸化を１００℃〜１４０℃の温度で行
う、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項５】 酸化生成物を分解の前に蒸留によってク
メン又はシクロヘキシルベンゼン又はこの両方の分離に
より濃縮する、請求項１から４までのいずれか１項記載
の方法。 - 【請求項６】 分離したクメン又はシクロヘキシルベン
ゼン又はこの両方を酸化工程に返送する、請求項５記載
の方法。 - 【請求項７】 分解混合物が均一である、請求項１から
６までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項８】 分解を酸触媒作用により行う、請求項１
から７までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項９】 酸として硫酸を使用する、請求項８記載
の方法。
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|---|---|---|---|
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| DE19946886A DE19946886A1 (de) | 1999-09-30 | 1999-09-30 | Verfahren zur Herstellung von Phenol |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| SK (1) | SK14342000A3 (ja) |
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007099746A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Ube Ind Ltd | フェノールおよびシクロアルカノンの製造方法 |
| JP2011518827A (ja) * | 2008-04-25 | 2011-06-30 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | フェノール及び／又はシクロヘキサノンの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2000
- 2000-08-11 EP EP00117402A patent/EP1088808A1/de not_active Withdrawn
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- 2000-09-29 CN CN00129069A patent/CN1290680A/zh active Pending
- 2000-09-29 PL PL00342871A patent/PL342871A1/xx unknown
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