JP2001237692A - 論理回路 - Google Patents
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Abstract
容量が大きいこと,入力波形がなまること,素子分離領
域が必要となり面積が大となること,PN構成のため出
力がフル振幅となること,ドライバーのしきい値に達す
るのに時間がかかる等の従来のデコーダ回路の欠点のな
い論理回路の提供。 【解決手段】 論理入力段をNMOSーFET(N2,N3)の縦積構
成とし、その最上段のNMOSーFET(N2)のドレインと電源
ラインとの間にPMOSーFET(P2)をアクティブ負荷として
接続し、その最下段のNMOSーFET(N3)のソースには論理
入力信号の内の1つの入力(C1)を接続し、出力段もNMOS
ーFETのインバータ(INV3,INV4)で構成し、その出力を前
記のアクティブ負荷であるPMOSーFET(P2)のゲートにフ
ィードバックするように基本論理回路を構成した。
Description
特に、ワードデコーダ回路を構成するのに好適な論理回
路に関する。
13〜図15に従来のこの種の論理回路を示している。
図13の従来例は、最も一般的な回路で、A2,B2,
C2の3入力のNANDゲートと、その出力を入力とす
る2段のインバータINV11,INV12が接続さ
れ、D2として出力される。NANDゲートは、A2,
B2,C2全てがハイのときにN12〜N14がオンと
なり、出力がロウとなる。それ以外はハイ出力であり、
デコーダ回路では、ロウ出力の場合が選択状態となる。
INV11及び12はNAND出力を示談回路に伝達す
るために駆動能力を高めるためのバッファ回路として使
用している。すなわち、図13に示すものにおいて、N
12,N13およびN14は縦積構成され三つの論理入力(A
2,B2,C2)を備えたNMOSーFETとからなる論
理入力段である。P6,P7およびP8は前記三つの論理
入力(A2,B2,C2)にゲートが接続され、ドレイン
が電源ラインに、ソースが前記論理入力段の最上段のF
ET(N12)のドレインに接続された三つのPMOSー
FETである。前記論理入力段の最下段のFET(N1
2)のソースは基準電源に接続されている。この論理回
路では、入力部のゲート容量が大きく、入力波形がなま
る欠点がある。また、このものは、出力ドライバーがP
MOS,NMOS構成であり、マスク設計の観点から素
子分離領域が必要となり面積が大となる。また、PN構
成のため出力がフル振幅となること、また、PMOSは
同一サイズのNMOSに比べて電流能力が低いため、次
段のドライバーのしきい値に達するのに時間がかかるこ
とになる。
信号に接続されていたPMOSをNAND論理の負荷回
路として、ノーマルオン状態で1つにまとめたものであ
る。選択時は、A3,B3,C3の全てがハイ状態で、
N15〜N17がオンして出力をロウにする。このと
き、PMOS負荷P9のインピーダンスよりNMOS側
のインピーダンスを十分に低くすることで論理動作が成
り立つ。入力のどれかがロウとなると、NMOSは直列
なのでオフとなり、P9の能力で出力はハイに切り替わ
る。このものは、入力容量が小さい個のが利点である
が、NANDのロウ出力を確実に出すためには、PMO
S負荷のインピーダンスを低くしづらいので、ハイ出力
の速度が遅れる欠点がある。すなわち、図14に示すも
のにおいて、N15,N16およびN17は縦積構成され三つ
の論理入力(A3,B3,C3)を備えたNMOSーFE
Tとからなる論理入力段である。P9はドレインが電源
ラインに、ソースが前記論理入力段の最上段のFET
(N12)のドレインに、ゲートが基準電源ラインに接続
されたPMOSーFETである。前記論理入力段の最下
段のFET(N12)のソースは基準電源に接続されてい
る。この論理回路においても図13のものと同様に、入
力部のゲート容量が大きく、入力波形がなまる欠点があ
る。また、従来例は、出力ドライバーがPMOS,NM
OS構成であり、マスク設計の観点から素子分離領域が
必要となり面積が大となる。また、PN構成のため出力
がフル振幅となること、また、PMOSは同一サイズの
NMOSに比べて電流能力が低いため、次段のドライバ
ーのしきい値に達するのに時間がかかることになる。さ
らにこの従来例では、通常ONの負荷PMOSトランジ
スタ(P9)のインピーダンスで速度がリミットする。
これは負荷インピーダンスが固定となっている事に起因
する。
をソース端子に入力した回路で、A4,B4がハイでC
4がロウの場合のみ出力がロウとなる。それ以外は、図
14と同じである。図15に示すものにおいて、N18お
よびN19は縦積構成された三つの論理入力(A4,B4,
C4)を備えたNMOSーFETとからなる論理入力段
である。P10はドレインが電源ラインに、ソースが前記
論理入力段の最上段のFET(N12)のドレインに、ゲ
ートが基準電源ラインに接続されたPMOSーFETで
ある。前記論理入力段の最下段のFET(N19)のソー
スは論理入力(C4)に接続されている。この従来例
は、出力ドライバーがPMOS,NMOS構成であり、
マスク設計の観点から素子分離領域が必要となり面積が
大となる。また、PN構成のため出力がフル振幅となる
こと、また、PMOSは同一サイズのNMOSに比べて
電流能力が低いため、次段のドライバーのしきい値に達
するのに時間がかかることになる。また、この従来例で
は、通常ONの負荷PMOSトランジスタ(P10)のイ
ンピーダンスで速度がリミットする。これは、負荷イン
ピーダンスが固定となっている事に起因する。
の問題を解消することを目的として発明されたものであ
って、デーコーダ回路のクリティカルパスの入出力を低
振幅化すること、また、PMOS負荷(P2)のインピ
ーダンスのアクティブなコントロールにより論理バッフ
ァのTPD(遅延時間)を高速化すること、及び、入出
力が低振幅という同一のインターフェイスで使用可能と
することを目的とし、したがって、本デコーダ回路を多
段化する事で、論理バッファのTPDの高速化において
著しい効果を発揮する論理回路を提供することを目的と
する。そして、このことは、入力部にソースドライブ、
出力部をNMOS-NMOS構成(以下、「NN構成」
と略記。)とし、かつ、その出力をフィードバックして
PMOS負荷のインピーダンスをアクティブに変化させ
る構造とすることにより達成される。
に、本発明は、入力部にソースドライブ、出力部をNM
OS-NMOS構成(以下、「NN構成」と略記。)と
し、かつ、その出力をフィードバックしてPMOS負荷
のインピーダンスをアクティブに変化させる構造とした
ことを特徴とする。これにより、論理回路のクリティカ
ルパスの入出力を低振幅化する事が可能となり、また、
PMOS負荷のインピーダンスのアクティブなコントロ
ールにより論理バッファのTPD(遅延時間)を高速化
することが可能となる。個の論理回路を多段化する事
で、論理バッファのTPDの高速化において著しい効果
を発揮するさせることが可能となる。そして、本発明
は、論理回路の構成を次のとおりとすることにより前記
目的を達成できる。 1:一方の極性のMOSーFETの縦積構成されてな
り、複数の論理入力を備えた論理入力段と、一方の極性
のMOSーFETの縦積構成された論理出力段と、前記
論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ラインと
の間に接続された他方の極性のMOSーFETで構成さ
れたのアクティブ負荷と、前記論理入力段の最上段のF
ETのドレインと前記論理出力段の最上段のFETのゲ
ートとの間に接続された直列接続の一方の極性のMOS
ーFETで構成されたインバータと、前記各インバータ
の接続点と前記論理出力段の最下段のFETのゲートと
の間の接続構成と、前記論理出力段と前記アクティブ負
荷である他方の極性のMOSーFETのゲートとの間の
フィードバック接続構成と、からなり、前記論理入力段
の最下段のFETのソースに論理入力信号の内の1つの
入力を接続した。 2:前記論理入力段の最下段のFETに、さらに、一方
の極性のMOSーFETを縦積構成し、この一方の極性
のMOSーFETのゲートに前記論理入力信号の内の1
つの入力を接続した。 3:前記他方の極性のMOSーFETで構成されたアク
ティブ負荷と並列にゲートが基準電源に接続された他方
の極性のMOSーFETを接続した。 4:前記論理出力段と前記アクティブ負荷である他方の
極性のMOSーFETのゲートとの間のフィードバック
接続構成中に、ゲートが電源ラインに接続された一方の
極性のMOSーFETを接続した。 5:一方の極性のMOSーFETの縦積構成されてな
り、複数の論理入力を備えた論理入力段と、一方の極性
のMOSーFETの縦積構成された論理出力段と、前記
論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ラインと
の間に接続された他方の極性のMOSーFETで構成さ
れたのアクティブ負荷と、前記論理入力段の最上段のF
ETのドレインと前記論理出力段の最上段のFETのゲ
ートとの間に接続された一方の極性のMOSーFETで
構成された第1のインバータと、前記第1のインバータ
の出力側と前記論理出力段の最下段のFETのゲートと
の間の接続された一方の極性のMOSーFETで構成さ
れた第2のインバータと、前記第2のインバータの出力
側と前記アクティブ負荷である他方の極性のMOSーF
ETのゲートとの間接続されたFETからなるフィード
バック接続構成と、からなり、前記論理入力段の最下段
のFETのソースに論理入力信号の内の1つの入力を接
続した。 6:一方の極性のMOSーFETの縦積構成されてな
り、複数の論理入力を備えた論理入力段と、一方の極性
のMOSーFETの縦積構成された論理出力段と、前記
論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ラインと
の間に接続された他方の極性のMOSーFETで構成さ
れたのアクティブ負荷と、前記論理入力段の最上段のF
ETのドレインと前記論理出力段の最上段のFETのゲ
ートとの間に接続された一方の極性のMOSーFETで
構成された単一のインバータと、前記インバータの出力
側と前記論理出力段の最上段のFETのゲートとの間の
接続構成と、前記論理入力段の最上段のFETのドレイ
ンと前記論理出力段の最下段のFET(N32)のゲートと
の間の接続構成と、前記論理出力段の出力端と前記アク
ティブ負荷である他方の極性のMOSーFETのゲート
との間のフィードバック接続構成と、からなり、前記論
理入力段の最下段のFETのソースに論理入力信号の内
の1つの入力を接続した。 7:前記論理出力段と前記アクティブ負荷である他方の
極性のMOSーFETのゲートとの間のフィードバック
接続構成中に、挿入された一方の極性のMOSーFET
の縦積構成されたドライバであって、そのドライバは、
前記ドライバの最上段のFETのゲートは前記論理入力
段の最上段のFETのドレインに接続され、前記ドライ
バの最下段のFETのゲートは前記論理出力段の出力側
に接続され、前記ドライバの出力側は、前記前記アクテ
ィブ負荷である他方の極性のMOSーFETのゲートに
接続されている。 8:前記ドライバの最上段のFETのゲートと前記論理
入力段の最上段のFETのドレインとの接続構成中に抵
抗が挿入されている。 9:一方の極性のMOSーFETの縦積構成され、複数
の論理入力を備えた論理入力段と、一方の極性のMOS
ーFETの縦積構成された論理出力段と、前記論理入力
段の最上段のFETのドレインと電源ラインとの間に接
続された他方の極性のMOSーFETで構成されたのア
クティブ負荷と、前記論理入力段の最上段のFETのド
レインと前記論理出力段の最上段のFETのゲートとの
間の接続構成と、前記論理入力段の最上段のFETのド
レインと前記論理出力段の最下段のFETのゲートとの
間に接続された一方の極性のMOSーFETで構成され
た単一のインバータと、前記論理出力段と前記アクティ
ブ負荷である他方の極性のMOSーFETのゲートとの
間のフィードバック接続構成と、前記論理出力段の出力
端に接続された一方の極性のMOSーFETの縦積構成
された第2の論理出力段を構成し、前記論理出力段の出
力端と第2の論理出力段の最上段のFETのゲートとの
間の接続構成と、前記インバータの出力側と第2の論理
出力段の最下段のFETのゲートとの間の接続構成と、
からなり、前記論理入力段の最下段のFETのソースに
論理入力信号の内の1つの入力を接続した。 10:前記一方の極性のMOSーFETはNMOS−F
ETであり、前記他方の極性のMOSーFETはPMO
S−FETである、ことを特徴とする請求項1〜9のい
ずれかに記載の論理回路。 11:前記一方の極性のMOSーFETはPMOS−F
ETであり、前記他方の極性のMOSーFETはNMO
S−FETである。 12:前記論理回路を複数個縦続接続した。 13:前記縦続接続された論理回路のうち、後段の論理
回路の論理入力段の最下段のFETのソース入力に、前
段の論理回路の論理出力段を次々と接続することにより
多段構成とした。14:前記論理回路の論理出力段の出
力側にインバータを接続した。
明に係る実施例を示す。3入力のメインワード・デコー
ダ回路を例に説明する。入力部は、NMOSトランジス
タN2,N3のゲート及びNMOSトランジスタN3の
ソースから成り、出力部はNMOSトランジスタN4,
N5のNN構成とし、かつ、その出力D1をフィードバ
ックしてPMOSトランジスタ負荷P2のインピーダン
スをアクティブに変化させる構造からなる。図1は、本
発明回路を適用する回路ブロックの一例を示しており、
メインワードデコーダ部(X)及びサブワードデコーダ
部(Y)から成る。本発明の論理回路(図2)は、デコ
ーダ回路ブロック図1のメインワードデコーダ部(X)
に適用されるものとする。
ーダ部(X)に図2の論理回路を適用した回路をもとに
説明する。メインワードデコーダ部(X)の3入力の
内、クリティカルなパスCにトランジスタのソースドラ
イブを当て(図2のC1)、その他の2入力(図2のA
1,B1)は、フル振幅の信号が入力されるても良い
が、タイミング的にはソースドライブの入力(C1)よ
り充分早く選択されるものとする。図2の論理回路にお
いて選択時には、デコーダ入力(A1,B1,C1)の
全てが(〔H〕,〔H〕,〔L〕)の組み合わせとな
り、非選択時には、デコーダの3入力(A1,B1,C
1)のうちいずれかが(〔L〕,〔L〕,〔H〕)とな
るものとする。
て説明する。非選択時には、メインデコーダ出力D1の
電圧レベルは、最高電源電位(VCC)のレベルからN
MOSトランジスタN4のスレッショルド電圧(Vt)
分下がったVCCーVtのレベルとなっている。このレ
ベルがフィードバックされてPMOSトランジスタP2
のゲートに入り、PMOSトランジスタP2は完全にO
FFせず高インピーダンス状態となっている。これによ
り、PMOSトランジスタP2のドレインの接点Vは、
フローティングにならず〔H〕レベルに保持される事に
なる。デコーダ入力の非選択から選択の変化を受け、接
点Vは〔H〕から〔L〕に向かい、NMOSトランジス
タN4,N5は、各々OFF、ONとなり、メインワー
ドデコーダの出力D1も〔H〕→〔L〕に変化する。こ
れにより、トランジスタP2は、ONして低インピーダ
ンス状態となる。ただし、このときPMOS(P2)よ
りNMOS(N2,N3)側の方が低インピーダンスで
あり、接点Vのレベルは、インバータ(INV3)が
〔L〕を感知できるレベルとする。
は、デコーダ入力(A1,B1,C1のいずれか)が、
選択から非選択に変化する事により、接点VはPMOS
トランジスタP2がONしているため〔H〕に向かい、
NMOSトランジスタN4,N5は、各々ON、OFF
となりメインワードデコーダ出力D1も〔L〕→〔H〕
に変化する。これにより、PMOSトランジスタP2は
高インピーダンス状態になる。
施例は次のとおりの効果を奏する。 (A)、メインワードデコーダ部 図2の入力信号のうちクリティカルなパス(タイミング
的に遅いパス)にNMOSトランジスタN3のソースを
接続することで図13に示す従来例の様なPMOS,N
MOSのゲート受け(C2)、あるいは、図14に示す
従来例の様なNMOSのゲートのみ(C3)に入ってい
る場合に比べ、入力容量が小さく、高速動作可能とな
る。 (B)、デコーダ出力部がPMOS−NMOS構成(図
13〜15の従来例)では、選択・非選択切り替え時に
出力(図13のD2,図14のD3および図15のD
4)がフル振幅することになる(図4のW1)。一方、
本デコーダ回路の出力部はNN(図2のN4,N5)構
成であり、〔H〕のレベルがNchのVt分低くなり低
振幅となる。これにより、出力部に接続される配線等の
負荷の充放電電流が減少することで出力の高速化及び低
消費電力化できる。また、NN出力の次段にインバータ
が接続されている場合、NN構成により出力の〔H〕レ
ベルがNchのVt分低くなる(図6のW2)ため、出
力〔H〕→〔L〕変化時に次段のドライバ(図1のN
1)のしきい値に達するのが速くなる。また、同一サイ
ズのPMOSと比較してNMOSの方が、トランジスタ
の電流能力が大きいため、出力〔L〕→〔H〕変化を速
くする事が可能となる(図4のΔt1)(メインワード
デコーダ回路部の出力を10%程度高速化可能。)。 (C)、図14〜15の従来例の通常導通状態のPMO
SトランジスタP9、10を使用する場合と比較して、
非選択から選択切り替え時には、PMOS負荷(図2の
P2)のインピーダンスが、高いため選択が速く、選択
から非選択切り替え時は、PMOS負荷P2のインピー
ダンスが低いため非選択が速くなる。つまり、NN(図
2のN4,N5)構成で低振幅になった出力D1をフィ
ードバックし、選択・非選択の切り替え時にPMOS負
荷P2のインピーダンスをアクティブに制御すること
で、出力の高速化が可能となった。なお、PMOS負荷
P2のゲート容量は、出力端子にぶら下がる配線及び次
段のドライバ等の容量に比べ非常に小さく無視できる
為、フィードバックに伴う出力の遅れはないと言える
(メインワードデコーダ回路部の出力を15%程度高速
化可能。)。また、非選択状態(デコーダ出力〔H〕)
では、PMOSトランジスタP2のゲートには、VCC
−Vtnのレベルがかかり、PMOSドレイン側接点V
のフローティング防止の役目も担っている。
3段接続した構成からなる多段化構成の一例である。一
段目の出力H1を次段のNMOSトランジスタN20の
ソース入力に接続、また、2段目の出力Q1を次段のN
MOSトランジスタN22のソース入力に接続する構成
からなる。
内、クリティカルなパスにトランジスタのソースドライ
ブ(図3のG1,H1,Q1)を当て、その他の2入力
(図3の<E1,F1>、<J1,K1>、<L1,M
1>)は、フル振幅の信号が入力されるとしても、タイ
ミング的にはソースドライブの入力より充分速く選択さ
れる事とする。
る。各段の動作は、基本的には、前述の図2の実施例の
動作項と同じである。一段目の出力H1が〔H〕→
〔L〕に変化する以前に二段目の入力J1,K1は
〔H〕となっており、一段目の出力H1の変化を受けて
2段目の出力Q1が〔H〕→〔L〕に変化する事にな
る。ここで、3段目のL1,M1の入力は、Q1の変化
以前に〔H〕となっているものとする。したがって、3
段目もソースドライブ入力Q1の変化を受けて出力R1
が〔H〕→〔L〕に変化する。
る。選択のタイミングと同様に非選択動作のための入力
変化が起きるとすると、三段目のL1,M1のいずれか
が〔H〕→〔L〕に変化することで出力R1は、〔L〕
→〔H〕に変化する。
イブ(図3のG1,H1,Q1)は低振幅入力で動作可
能であり、入力容量もゲート受けに比べ小さく、かつ本
デコーダでは、出力(N6,N7,N8,N9,N1
0,N11)がNNで構成されて低振幅出力であるこ
と、つまり、入出力が低振幅という同一のインターフェ
イスであるため、本デコーダ回路を多段化する事 で、
本回路ブロックのTPDを20%程度高速化できる。
入力のうちソースドライブ入力C1をNMOS(N2
2)で置き換えた構成から成る。
はC1が〔L〕であるが、図5の場合、選択時には、入
力C5は〔H〕となる。
のソースドライブ入力C1から、図5のゲート入力C5
に変わることによって入力容量が増大するため高速化の
点で不利であるが、本デコーダ回路は、フル振幅の入力
を低振に変換するインターフェイスとして有効である。
高速化において、前記図2の実施例とは、同様の回路構
成のため、この実施例と同様の効果を得られる。
MOS(P2)の代わりに通常ONのPMOS(P12)
とデコーダ回路内部のインバータ(INV19)の出力
により制御されるPMOS(P13)に置き換えた構成
から成る。
6,B6,C6)は(〔L〕→〔H〕,〔L〕→
〔H〕,〔H〕→〔L〕)に変化しそれに伴い、INV
19の出力は〔L〕→〔H〕に変化しP13はON→O
FFに向かう。デコーダ出力D6は、〔H〕→〔L〕に
変化する。
はNN構成であり、〔H〕のレベルがNchのVt分低
くなり低振幅となる。これにより、出力部に接続される
配線等の負荷の充放電電流が減少することで出力の高速
化及び低消費電力化できる。また、選択期間中に、PM
OS(P13)がOFFすることにより、VCCからソー
スドライブ入力C6に抜ける貫通電流を低減することが
可能となる。なお、通常ONのPMOS(P12)は、
インバータ(INV19)の入力接点(V1)のフロー
ティング防止のためで能力は充分小さいもので良い。
S(P2、図7ではP17)の制御をNN構成の前段のイ
ンバータ(INV26)の出力を通常ONのNMOS(N
44)を介して行う構成から成る。
おいて選択時には、デコーダ入力(A10,B10,C
10)の全てが(〔H〕,〔H〕,〔L〕)の組み合わ
せとなり、非選択時には、デコーダの3入力(A10,
B10,C10)のうちいずれかが(〔L〕,〔L〕,
〔H〕)となるものとする。
て説明する。非選択時には、インバータ(INV26)の
出力の電圧レベルは、〔H〕であり通常ONのNMOS
(N44)を介して、PMOS(P17)のゲート入力部の
電圧レベルは、最高電源電位(VCC)のレベルからN
MOSトランジスタ(N44)のスレッショルド電圧
(Vt)分下がったVCC-Vtとなっている。これにより、
PMOSトランジスタ(P17)は完全にOFFせず高
インピーダンス状態となっている。これにより、PMO
Sトランジスタ(P17)のドレイン側の接点V2は、
フローティングにならず〔H〕レベルに保持される事に
なる。デコーダ入力の非選択から選択の変化を受け、P
MOS(P17)のドレイン側接点V2は、〔H〕から
〔L〕に向かい、インバータ(INV26)出力は〔H〕
→〔L〕に変化する。これにより、PMOS(P17)
は、ONして低インピーダンス状態となる。
は、デコーダ入力(A10,B10,C10のいずれ
か)が、選択から非選択に変化する事により、P17の
ドレイン側接点V2はPMOSトランジスタP17がO
Nしているため〔H〕に向かい、インバータ(INV
2)出力も〔L〕→〔H〕に変化する。これにより、P
MOSトランジスタ(P17)のゲート入力部は、VC
C−Vtのレベルがかかり、PMOSトランジスタ(P
17)は高インピーダンス状態になる。
をデコーダ出力<図2のD1>で行うかインバータ出力
<図7のINV26の出力>で行うかの違いで、図2と
同様の効果が得られる。つまり、PMOSアクティブ制
御による高速化とデコーダ出力NN構成による出力の低
振幅化による高速化、低消費電力化は同様に享受され
る。図2のデコーダ出力(D1)の負荷が重く、デコー
ダ出力のフィードバックが遅くなり、選択・非選択切り
換え時にPMOS(P1)のゲートにかかる電圧レベル
が安定していないと、フィードバックによる高速化の効
果が充分得られない可能性がある。この時、図7に示す
様にNN構成の前段のインバータ(INV26)出力を
利用して、PMOS(P17,図2のP2)の制御するタ
イミングを早くすることで改善が可能である。
(INV3)を削除した構成から成る。
選択時の出力のフィードバックによるPMOSの制御が
図2の実施例と逆になる。
5〜7の実施例2〜4と異なり選択時の出力信号が
〔H〕であるので、例えば図2のサブデコーダにおい
て、NMOS(N1)のソースドライブ入力部に、図2
及び図5〜7の様な選択時に〔L〕出力のデコーダ回路
の出力を接続し、NMOS(N1)のゲートに本デコー
ダの出力を接続することで、サブデコーダ回路部の入力
全てを低振幅化することが可能となる。本デコーダ出力
はNN構成であり、〔H〕のレベルがNchのVt分低
くなり低振幅となる。これにより、出力部に接続される
配線等の負荷の充放電電流が減少することで出力の高速
化及び低消費電力化できる。非選択から選択へ変化する
際(A7,B7,C7=〔L〕→〔H〕,〔L〕→
〔H〕,〔H〕→〔L〕)、デコーダ出力(D7)は、
〔L〕→〔H〕になり、PMOS(P14)がOFF
し、選択期間中の貫通電流(VCC→P14→N29→
N30→C7の経路に流れる電流)の低減に効果があ
る。
(INV3)を削除した構成から成る。 〈実施例6の構成〉図9は、図2のインバータ(INV
3)を削除し、かつそのデコーダ出力(D1)とPMOS
(P2)の間にNN構成のドライバを挿入した構成から
成る。
おいて選択時には、デコーダ入力(A8,B8,C8)
の全てが(〔H〕,〔H〕,〔L〕)の組み合わせとな
り、非選択時には、デコーダの3入力(A8,B8,C
8)のうちいずれかが(〔L〕,〔L〕,〔H〕)とな
るものとする。
て説明する。非選択時には、メインデコーダ出力D8の
電圧レベルは、〔L〕でありNMOS(N34)はOF
Fし、インバータ(INV22)の入力部の接点V3は
〔H〕でNMOS(N33)はONしており、PMOS
(P15)のゲート入力部には、最高電源電位(VC
C)のレベルからNMOSトランジスタ(N33)のス
レッショルド電圧(Vt)分下がったVCCーVtのレ
ベルとなっている。これにより、PMOSトランジスタ
(P15)は完全にOFFせず高インピーダンス状態と
なっている。これにより、PMOSトランジスタP15
のドレイン側の接点V3は、フローティングにならず
〔H〕レベルに保持される事になる。デコーダ入力の非
選択から選択の変化を受け、PMOS(P15)のドレイ
ン側接点V3は、〔H〕から〔L〕に向かい、NMOS
(N33)はOFF、NMOSトランジスタN37,N
38は、各々ON、OFFに向かい、メインワードデコ
ーダの出力D8も〔L〕→〔H〕に変化する。これによ
り、NMOS(N34)がONに向かい、PMOS(P
15)は、ONして低インピーダンス状態となる。
は、デコーダ入力(A8,B8,C8のいずれか)が、
選択から非選択に変化する事により、P15のドレイン
側接点V3はPMOSトランジスタP15がONしてい
るため〔H〕に向かい、NMOS(N33)がONに向
かい、NMOSトランジスタN37,N38は、各々O
FF、ONとなり、メインワードデコーダ出力D1も
〔H〕→〔L〕に変化する。これにより、NMOSN3
4もOFFし、PMOSトランジスタP15は高インピ
ーダンス状態になる。
5〜7の実施例2〜4と異なり、選択時の出力信号が
〔H〕であるので、例えば図1のサブデコーダにおい
て、NMOS(N1)のソースドライブ入力部に、図2
及び図5〜7の様な選択時に〔L〕出力のデコーダ回路
の出力を接続し、NMOS(N1)のゲートに本デコー
ダの出力を接続することで、サブデコーダ回路部の入力
全てを低振幅化することが可能となる。図2のデコーダ
と比較して、デコーダの出力論理が異なるだけで、PM
OSの制御による高速化の効果及び出力の低振幅化によ
る高速化、低消費電力化は同様に享受される。選択から
非選択切り替え時にN33,N34が同時にONする期
間が生じ貫通電流が生じる可能性があるが、これを防ぐ
ためには図9の様にNMOS(N33)のゲートポリ配
線を引き伸ばし抵抗R3を付けるなどしてONを遅らせ
る事で防ぐ事が可能である。
(INV3)を削除した構成から成る。 〈実施例7の構成〉図10は、図2のインバータ(IN
V3)を削除し、かつそのデコーダ出力(D1)とPMO
S(P2)の間にNN構成のドライバを挿入した構成か
ら成る。 <実施例8の構成>図11は、図7の回路においてデコ
ーダ出力部のNNドライバの入力を入れ替えた構成から
成る。
において選択時には、デコーダ入力(A9,B9,C
9)の全てが(〔H〕,〔H〕,〔L〕)の組み合わせ
となり、非選択時には、デコーダの3入力(A9,B
9,C9)のうちいずれかが(〔L〕,〔L〕,
〔H〕)となるものとする。
て説明する。非選択時には、インバータ出力(INV2
4)の電圧レベルは、〔H〕であり通常ONのNMOS
(N39)を介して、PMOS(P16)のゲート入力部に
は、最高電源電位(VCC)のレベルからNMOSトラ
ンジスタ(N39)のスレッショルド電圧(Vt)分下
がったVCC−Vtのレベルとなっている。これによ
り、PMOSトランジスタ(P16)は完全にOFFせ
ず高インピーダンス状態となっている。これにより、P
MOSトランジスタP16のドレイン側の接点V4は、
フローティングにならず〔H〕レベルに保持される事に
なる。デコーダ入力の非選択から選択の変化を受け、P
MOS(P16)のドレイン側接点V4は、〔H〕から
〔L〕に向かい、インバータ(INV24))出力は
〔H〕→〔L〕に変化する。これにより、PMOS(P
16)は、ONして低インピーダンス状態となる。
は、デコーダ入力(A9,B9,C9のいずれか)が、
選択から非選択に変化する事により、P16のドレイン
側接点V4はPMOSトランジスタP16がONしてい
るため〔H〕に向かい、インバータ(INV24)出力
も〔L〕→〔H〕に変化する。これにより、PMOSト
ランジスタP16は高インピーダンス状態になる。
図2及び図5〜7の実施例1,2〜4と異なり選択時の
出力信号が〔H〕であるので、例えば図1のサブデコー
ダにおいて、NMOS(N1)のソースドライブ入力部
に、図2及び図5〜7の様な選択時に〔L〕出力のデコ
ーダ回路の出力を接続し、NMOS(N1)のゲートに
本デコーダ出力を接続することで、サブデコーダ回路部
の入力全てを低振幅化することが可能となる。PMOS
(P16)のアクティブ制御による高速化の効果は、図
7の場合と同様に得られる。また、図2と同様NN構成
のため出力の低振幅化による高速化、低消費電力化は同
様に享受される。
V3)を削除した構成から成る。 〈実施例9の構成〉図12は、図2のインバータ(IN
V3)を削除し、かつそのデコーダ出力(D1)とPMO
S(P2)の間にNN構成のドライバを挿入した構成か
ら成る。 <実施例9の構成>図12は、図7の回路においてデコ
ーダ出力部のNNドライバの入力を入れ替えた構成から
成る。 <実施例9の構成>図12は、図1においてサブデコー
ダ部(Y)のゲート入力に図8,9,11の様なNN構
成のデコーダの〔H〕出力を接続する構成からなり、こ
のときソースドライブ入力に入るメインデコーダ部は、
図1bのインバータ(INV4)をNN構成に置き換え
た形状から成る。つまり、ドライバー出力のNN構成
(N53,N54)の前段にNN構成(N51,N5
2)を接続したNNドライバー2段構成からなる。
おいて選択時には、デコーダ入力(A11,B11,C
11)の全てが(〔H〕,〔H〕,〔L〕)の組み合わ
せとなり、非選択時には、デコーダの3入力(A11,
B11,C11)のうちいずれかが(〔L〕,〔L〕,
〔H〕)となるものとする。
て説明する。非選択時には、NNドライバー(N51,
N52)出力の電圧レベルは、NMOS(N51)のス
レッショルド電圧(Vt)分下がったVCC−Vtのレ
ベルの〔H〕である。これにより、PMOS(P18)
のゲート入力部には、VCC−Vtのレベルがであり、
PMOS(P18)完全にOFFせず高インピーダンス状
態となっている。これにより、PMOSトランジスタP
18のドレイン側の接点V5は、フローティングになら
ず〔H〕レベルに保持される事になる。デコーダ入力の
非選択から選択の変化を受け、PMOS(P18)のドレ
イン側接点V5は、〔H〕から〔L〕に向かい、NNド
ライバー(N51,N52)の出力は〔H〕→〔L〕に
変化する。これにより、PMOS(P18)は、ONし
て低インピーダンス状態となる。また、デコーダ出力D
11は、インバータ出力(INV27)の出力変化
(〔L〕→〔H〕)を受けて、NMOS(N54)がO
Nし、NNドライバー(N51,N52)の出力変化
(〔H〕→〔L〕)を受けてNMOS(N53)がOF
Fして、〔L〕出力となる。
は、デコーダ入力(A11,B11,C11のいずれ
か)が、選択から非選択に変化する事により、P18の
ドレイン側接点V5はPMOSトランジスタP18がO
Nしているため〔H〕に向かい、NNドライバー(N5
1,N52)の出力も〔L〕→〔H〕に変化する。これ
により、PMOSトランジスタP18は高インピーダン
ス状態になる。また、デコーダ出力D11は、インバー
タ出力(INV27)の出力変化(〔H〕→〔L〕)を
受けて、NMOS(N54)がOFFし、NNドライバ
ー(N51,N52)の出力変化(〔L〕→〔H〕)を
受けてNMOS(N53)がONして、〔H〕出力とな
る。このときのデコーダー出力(D11)の〔H〕のレ
ベルは、前段のNN(N51,N52)ドライバーの出
力がVCC−Vtであるため、VCCー2Vtのレベル
となる。サブデコーダ部のゲート入力部の〔H〕レベル
は、VCC−Vtのレベルが入ってくるため、メインデ
コーダ出力(D11)のレベルは、VCC-2Vtまで
引き下げても、サブデコーダ入力をOFF可能である。
ライブ、出力部をNMOS-NMOS構成(以下、「N
N構成」と略記。)とし、かつ、その出力をフィードバ
ックしてPMOS負荷のインピーダンスをアクティブに
変化させる構造とした例について説明したが、入力部の
ソースドライブ、出力部をPMOS-PMOS構成(以
下、「PP構成」と略記。)とし、かつ、その出力をフ
ィードバックしてNMOS負荷のインピーダンスをアク
ティブに変化させる構造としても、原理上可能であるこ
とは明らかである。その場合は、信号受ける論理側もP
MOSのソースもしくはゲート入力となる。つまり、P
とNの関係、VDDとGND側の電位関係を逆にしたケ
ースとなり、容易に構成できる。ただし、実際の製品回
路構成を考えた場合、NMOSのほうが高い効果が期待
できる。NMOSは移動度がPMOSの約2倍あり、原
理的に単位ゲートは場当たりの電流能力が有利である。
したがって、信号を受けるトランジスタ及び駆動バッフ
ァをNMOSで構成し、論理回路内部の負荷素子として
PMOSを用いるほうが理にかなっている。
例,他の実施例1〜9を説明したが、以下にその特徴と
する点をかかげる。 ・論理入力段をNチャネルFET(N2,N3)の縦積
構成とし、その最上段のNchFET(N2)のドレイン
と電源ラインとの間にPchFET(P2)をアクティブ
負荷として接続し、その最下段のNchFET(ん3)の
ソースには論理入力信号の内の1つの入力(C1)を接
続し、出力段もNチャネルFETのインバータ(INV
3,INV4)で構成し、その出力を前記のアクティブ
負荷PチャネルFET(P2)のゲートにフィードバッ
クするように基本論理回路を構成した(図2)。 ・また、その基本論理回路構成について、最下段のソー
ス入力に前段の論理回路出力を次々に接続する構成とし
た(図3)。 ・論理段をNchFETのみで構成したこと。 ・最下段のNchFETのソースに論理入力信号の1つを
接続するようにしたこと。 ・ソース入力に前段の論理出力を次次と接続するように
構成すること。
述べた様に、サブデコーダのゲート入力部の〔H〕レベ
ルを低振幅化(VCC−Vt)することで、メインデコ
ーダ部出力部の〔H〕のレベルをVCC−2Vtと他の
実施例に比べ、更に低振幅かする事が可能となり、更な
る高速化と低消費電力化を享受できる。以下に、本発明
に係る論理回路の特徴点を列挙する。 ・出力部にNN構成を適用し、出力を低振幅化したデコ
ーダ回路。 ・前記デコーダ回路の入力部にソースドライブを適用
し、入出力を低振幅化したデコーダ回路。 ・前記デコーダ回路の入力部にゲート入力を適用し、入
力がフル振幅で出力を低振幅化したデコーダ回路。 ・前記デコーダ回路の出力の高速化のため、その出力に
より制御されるPMOS負荷の構造を有する。 ・前記デコーダ回路のデコーダ回路内部のインバータ出
力を利用し選択時の貫通電流を低減したデコーダ回路。 ・前記デコーダ回路の出力の高速化のため、デコーダ回
路内部のインバータ出力により制御されるPMOS負荷
の構造を有する。 ・前記デコーダ回路の選択時の貫通電流低減のため、そ
のデコーダ出力により制御されるPMOS負荷の構造を有す
る。 ・前記デコーダ回路の出力の高速化のため、その出力及
びデコーダ内部信号により制御されるNN構成のドライ
バーを有し、その出力で制御するPMOS負荷の構造を有す
る。 ・前記デコーダ回路に関し、デコーダ回路内部のインバ
ータ出力を通常ONのNMOSを介して、その出力によ
り制御されるPMOS負荷の構造を有する。 ・多段化が可能。
部とからなるデコーダ回路の構成図。
本発明の実施例の構成図。
の構成図。
Claims (14)
- 【請求項1】 一方の極性のMOSーFETの縦積構成
されてなり、複数の論理入力を備えた論理入力段と、 一方の極性のMOSーFETの縦積構成された論理出力
段と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ライ
ンとの間に接続された他方の極性のMOSーFETで構
成されたのアクティブ負荷と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと前記論理
出力段の最上段のFETのゲートとの間に接続された直
列接続の一方の極性のMOSーFETで構成されたイン
バータと、 前記各インバータの接続点と前記論理出力段の最下段の
FETのゲートとの間の接続構成と、 前記論理出力段と前記アクティブ負荷である他方の極性
のMOSーFETのゲートとの間のフィードバック接続
構成と、からなり、 前記論理入力段の最下段のFETのソースに論理入力信
号の内の1つの入力(C1)を接続したことを特徴とする論
理回路。 - 【請求項2】 前記論理入力段の最下段のFETに、さ
らに、一方の極性のMOSーFETを縦積構成し、この
一方の極性のMOSーFETのゲートに前記論理入力信
号の内の1つの入力を接続した、ことを特徴とする請求
項1記載の論理回路。 - 【請求項3】 前記他方の極性のMOSーFETで構成
されたアクティブ負荷と並列にゲートが基準電源に接続
された他方の極性のMOSーFETを接続した、ことを
特徴とする請求項1記載の論理回路。 - 【請求項4】 前記論理出力段と前記アクティブ負荷で
ある他方の極性のMOSーFETのゲートとの間のフィ
ードバック接続構成中に、ゲートが電源ラインに接続さ
れた一方の極性のMOSーFETを接続した、ことを特
徴とする請求項1記載の論理回路。 - 【請求項5】 一方の極性のMOSーFETの縦積構成
されてなり、複数の論理入力を備えた論理入力段と、 一方の極性のMOSーFETの縦積構成された論理出力
段と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ライ
ンとの間に接続された他方の極性のMOSーFETで構
成されたのアクティブ負荷と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと前記論理
出力段の最上段のFETのゲートとの間に接続された一
方の極性のMOSーFETで構成された第1のインバー
タと、 前記第1のインバータの出力側と前記論理出力段の最下
段のFETのゲートとの間の接続された一方の極性のM
OSーFETで構成された第2のインバータと、 前記第2のインバータの出力側と前記アクティブ負荷で
ある他方の極性のMOSーFETのゲートとの間接続さ
れたFETからなるフィードバック接続構成と、からな
り、 前記論理入力段の最下段のFETのソースに論理入力信
号の内の1つの入力を接続したことを特徴とする論理回
路。 - 【請求項6】 一方の極性のMOSーFETの縦積構成
されてなり、複数の論理入力を備えた論理入力段と、 一方の極性のMOSーFETの縦積構成された論理出力
段と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ライ
ンとの間に接続された他方の極性のMOSーFETで構
成されたのアクティブ負荷と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと前記論理
出力段の最上段のFETのゲートとの間に接続された一
方の極性のMOSーFETで構成された単一のインバー
タと、 前記インバータの出力側と前記論理出力段の最上段のF
ETのゲートとの間の接続構成と、前記論理入力段の最
上段のFETのドレインと前記論理出力段の最下段のF
ET(N32)のゲートとの間の接続構成と、 前記論理出力段の出力端と前記アクティブ負荷である他
方の極性のMOSーFETのゲートとの間のフィードバ
ック接続構成と、からなり、 前記論理入力段の最下段のFETのソースに論理入力信
号の内の1つの入力を接続したことを特徴とする論理回
路。 - 【請求項7】 前記論理出力段と前記アクティブ負荷で
ある他方の極性のMOSーFETのゲートとの間のフィ
ードバック接続構成中に、挿入された一方の極性のMO
SーFETの縦積構成されたドライバであって、そのド
ライバは、 前記ドライバの最上段のFETのゲートは前記論理入力
段の最上段のFETのドレインに接続され、 前記ドライバの最下段のFETのゲートは前記論理出力
段の出力側に接続され、 前記ドライバの出力側は、前記前記アクティブ負荷であ
る他方の極性のMOSーFETのゲートに接続されてい
る、ことを特徴とする請求項6記載の論理回路。 - 【請求項8】 前記ドライバの最上段のFETのゲート
と前記論理入力段の最上段のFETのドレインとの接続
構成中に抵抗が挿入されている、ことを特徴とする請求
項7記載の論理回路。 - 【請求項9】 一方の極性のMOSーFETの縦積構成
され、複数の論理入力を備えた論理入力段と、一方の極
性のMOSーFETの縦積構成された論理出力段と、前
記論理入力段の最上段のFETのドレインと電源ライン
との間に接続された他方の極性のMOSーFETで構成
されたのアクティブ負荷と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと前記論理
出力段の最上段のFETのゲートとの間の接続構成と、 前記論理入力段の最上段のFETのドレインと前記論理
出力段の最下段のFETのゲートとの間に接続された一
方の極性のMOSーFETで構成された単一のインバー
タと、 前記論理出力段と前記アクティブ負荷である他方の極性
のMOSーFETのゲートとの間のフィードバック接続
構成と、 前記論理出力段の出力端に接続された一方の極性のMO
SーFETの縦積構成された第2の論理出力段を構成
し、前記論理出力段の出力端と第2の論理出力段の最上
段のFETのゲートとの間の接続構成と、 前記インバータの出力側と第2の論理出力段の最下段の
FETのゲートとの間の接続構成と、からなり、 前記論理入力段の最下段のFETのソースに論理入力信
号の内の1つの入力を接続したことを特徴とする論理回
路。 - 【請求項10】 前記一方の極性のMOSーFETはN
MOS−FETであり、前記他方の極性のMOSーFE
TはPMOS−FETである、ことを特徴とする請求項
1〜9のいずれかに記載の論理回路。 - 【請求項11】 前記一方の極性のMOSーFETはP
MOS−FETであり、前記他方の極性のMOSーFE
TはNMOS−FETである、ことを特徴とする請求項
1〜9のいずれかに記載の論理回路。 - 【請求項12】 請求項1〜9のいずれかに記載の論理
回路を複数個縦続接続した、ことを特徴とする請求項1
〜9のいずれかに記載の論理回路。 - 【請求項13】 前記縦続接続された論理回路のうち、
後段の論理回路の論理入力段の最下段のFETのソース
入力に、前段の論理回路の論理出力段を次々と接続する
ことにより多段構成とした、ことを特徴とする請求項1
0記載の論理回路。 - 【請求項14】 請求項1〜11のいずれかに記載の論
理回路の論理出力段の出力側にインバータを接続した、
ことを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の論
理回路
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