JP2002022010A - ダイアフラム - Google Patents
ダイアフラムInfo
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 1
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- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
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Landscapes
- Diaphragms And Bellows (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ダイアフラム３の膜部３ｂが大きく膨らんで
も基布５が十分に追従することができ、もって基布５と
ゴムとの剥がれを防止し、ダイアフラム３の耐久性を向
上させる。 【解決手段】 取付部３ａの内側に膜部３ｂを一体成形
するとともに取付部３ａおよび膜部３ｂの表面または肉
厚内に基布５を埋設したダイアフラム３において、基布
５のうち膜部に配置される部分５ｂを断面波形に形成
し、また、基布５のうち膜部に配置される部分５ｂに埋
設状態で弛みを設定することにした。
も基布５が十分に追従することができ、もって基布５と
ゴムとの剥がれを防止し、ダイアフラム３の耐久性を向
上させる。 【解決手段】 取付部３ａの内側に膜部３ｂを一体成形
するとともに取付部３ａおよび膜部３ｂの表面または肉
厚内に基布５を埋設したダイアフラム３において、基布
５のうち膜部に配置される部分５ｂを断面波形に形成
し、また、基布５のうち膜部に配置される部分５ｂに埋
設状態で弛みを設定することにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ダイアフラムアク
チュエータ、ダイアフラムバルブ、ダイアフラムポンプ
またはダイアフラム式アキュムレータ等、各種のダイア
フラム装置に用いられるダイアフラムに関するものであ
る。
チュエータ、ダイアフラムバルブ、ダイアフラムポンプ
またはダイアフラム式アキュムレータ等、各種のダイア
フラム装置に用いられるダイアフラムに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、図４に示すダイアフラムアクチ
ュエータにおいては、上下一対のカップ１，２の内部に
ゴム状弾性材製のダイアフラム３が架設されており、こ
のダイアフラム３によってカップ１，２内部の空室４が
上下二つの室４ａ，４ｂに仕切られている。
ュエータにおいては、上下一対のカップ１，２の内部に
ゴム状弾性材製のダイアフラム３が架設されており、こ
のダイアフラム３によってカップ１，２内部の空室４が
上下二つの室４ａ，４ｂに仕切られている。
【０００３】図５に拡大して示すように、ダイアフラム
３は、カップ１，２によってカシメ固定される環状の取
付部３ａをその外周縁部に有しており、この取付部３ａ
の内側に、作動時に圧力を受けて変形動作する膜部３ｂ
が一体成形されており、またこの取付部３ａおよび膜部
３ｂの表面または肉厚内に補強用の基布５が埋設されて
いる。
３は、カップ１，２によってカシメ固定される環状の取
付部３ａをその外周縁部に有しており、この取付部３ａ
の内側に、作動時に圧力を受けて変形動作する膜部３ｂ
が一体成形されており、またこの取付部３ａおよび膜部
３ｂの表面または肉厚内に補強用の基布５が埋設されて
いる。
【０００４】しかしながら、このダイアフラム３には、
以下のような不都合がある。
以下のような不都合がある。
【０００５】すなわち、基布５の一種として図６に示す
ような平織りの基布があり、この平織りの基布５はその
バイアス方向Ａには伸び易いが、縦方向Ｂおよび横方向
Ｃには伸びにくく、この方向Ｂ，Ｃでの破断伸びは僅か
に２０％程度である。これに対して、ダイアフラム３の
ゴムは約２００％の伸びを示すものである。したがって
図７に示すように、ダイアフラム３の膜部３ｂが圧力Ｐ
の作用によって大きく膨らんでゴムが伸びると、基布５
がこの伸びに追従できずに縦方向Ｂまたは横方向Ｃに引
っ張られ、よってゴムとの剥がれＤが発生し、ゴムの亀
裂に至ることがある。
ような平織りの基布があり、この平織りの基布５はその
バイアス方向Ａには伸び易いが、縦方向Ｂおよび横方向
Ｃには伸びにくく、この方向Ｂ，Ｃでの破断伸びは僅か
に２０％程度である。これに対して、ダイアフラム３の
ゴムは約２００％の伸びを示すものである。したがって
図７に示すように、ダイアフラム３の膜部３ｂが圧力Ｐ
の作用によって大きく膨らんでゴムが伸びると、基布５
がこの伸びに追従できずに縦方向Ｂまたは横方向Ｃに引
っ張られ、よってゴムとの剥がれＤが発生し、ゴムの亀
裂に至ることがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上の点に鑑
み、ダイアフラムの膜部が大きく膨らんでも基布がこれ
に十分に追従することができ、もって基布とゴムとの剥
がれを防止し、ダイアフラムの耐久性を向上させること
が可能なダイアフラムを提供することを目的とする。
み、ダイアフラムの膜部が大きく膨らんでも基布がこれ
に十分に追従することができ、もって基布とゴムとの剥
がれを防止し、ダイアフラムの耐久性を向上させること
が可能なダイアフラムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の請求項１によるダイアフラムは、取付部の
内側に膜部を一体成形するとともに前記取付部および膜
部の表面または肉厚内に基布を埋設してなるダイアフラ
ムにおいて、前記基布のうち前記膜部に配置される部分
を断面波形に形成したことを特徴とするものである。
め、本発明の請求項１によるダイアフラムは、取付部の
内側に膜部を一体成形するとともに前記取付部および膜
部の表面または肉厚内に基布を埋設してなるダイアフラ
ムにおいて、前記基布のうち前記膜部に配置される部分
を断面波形に形成したことを特徴とするものである。
【０００８】また、本発明の請求項２によるダイアフラ
ムは、取付部の内側に膜部を一体成形するとともに前記
取付部および膜部の表面または肉厚内に基布を埋設して
なるダイアフラムにおいて、前記基布のうち前記膜部に
配置される部分に埋設状態で弛みを設定したことを特徴
とするものである。
ムは、取付部の内側に膜部を一体成形するとともに前記
取付部および膜部の表面または肉厚内に基布を埋設して
なるダイアフラムにおいて、前記基布のうち前記膜部に
配置される部分に埋設状態で弛みを設定したことを特徴
とするものである。
【０００９】上記構成を備えた本発明の請求項１による
ダイアフラムのように、ゴムに埋設される基布のうちの
膜部に配置される部分を断面波形に形成すると、膜部が
大きく膨らんだときの伸びを、この波形部分が同方向に
伸びることによって吸収することが可能となる。
ダイアフラムのように、ゴムに埋設される基布のうちの
膜部に配置される部分を断面波形に形成すると、膜部が
大きく膨らんだときの伸びを、この波形部分が同方向に
伸びることによって吸収することが可能となる。
【００１０】また、上記構成を備えた本発明の請求項２
によるダイアフラムのように、ゴムに埋設される基布の
うちの膜部に配置される部分に埋設状態で弛みを設定す
るとやはり膜部が大きく膨らんだときの伸びを、この弛
ませ部分が同方向に伸びることによって吸収することが
可能となる。基布の一部にこのような弛みを持たせるに
は、基布の予備成形時に弛ませ部分を形成する方法と、
平面状の基布をゴムに埋設するときに弛ませ部分を形成
する方法とがある。
によるダイアフラムのように、ゴムに埋設される基布の
うちの膜部に配置される部分に埋設状態で弛みを設定す
るとやはり膜部が大きく膨らんだときの伸びを、この弛
ませ部分が同方向に伸びることによって吸収することが
可能となる。基布の一部にこのような弛みを持たせるに
は、基布の予備成形時に弛ませ部分を形成する方法と、
平面状の基布をゴムに埋設するときに弛ませ部分を形成
する方法とがある。
【００１１】
【発明の実施の形態】つぎに本発明の実施例を図面にし
たがって説明する。
たがって説明する。
【００１２】図１は、本発明の実施例に係るダイアフラ
ム３の断面を示している。
ム３の断面を示している。
【００１３】当該実施例に係るダイアフラム３は先ず、
ダイアフラムアクチュエータのカップ等によってカシメ
固定される比較的厚肉の環状の取付部３ａをその外周縁
部に有しており、この取付部３ａの内周側に、作動時に
圧力を受けて変形動作する比較的薄肉の膜部（可撓部ま
たは作動部とも称する）３ｂが一体成形されており、こ
の取付部３ａおよび膜部３ｂの表面または肉厚内に補強
用の基布５が埋設されている。尚、基布５が取付部３ａ
および膜部３ｂの表面に埋設されるとは、基布５がダイ
アフラム３のゴムに対して表面露出した状態で一体化さ
れることである。
ダイアフラムアクチュエータのカップ等によってカシメ
固定される比較的厚肉の環状の取付部３ａをその外周縁
部に有しており、この取付部３ａの内周側に、作動時に
圧力を受けて変形動作する比較的薄肉の膜部（可撓部ま
たは作動部とも称する）３ｂが一体成形されており、こ
の取付部３ａおよび膜部３ｂの表面または肉厚内に補強
用の基布５が埋設されている。尚、基布５が取付部３ａ
および膜部３ｂの表面に埋設されるとは、基布５がダイ
アフラム３のゴムに対して表面露出した状態で一体化さ
れることである。
【００１４】膜部３ｂは、取付部３ａの内周からテーパ
ー面状ないし円錐面状に立ち上がった斜面部３ｃと、こ
の斜面部３ｃの内周側に配置された平面状の中心部３ｄ
とを一体に有しており、取付部３ａと斜面部３ｃとの間
および斜面部３ｃと中心部３ｄとの間にそれぞれ環状の
屈曲部３ｅ，３ｆが設けられている。これらの各部分は
互いに同じ厚さに成形されることが多いが、互いに異な
る厚さに成形される場合もある。また中心部３ｄは、装
着時にダイアフラムリテーナやスプリングリテーナ等の
剛性部品によって保持されることがある。
ー面状ないし円錐面状に立ち上がった斜面部３ｃと、こ
の斜面部３ｃの内周側に配置された平面状の中心部３ｄ
とを一体に有しており、取付部３ａと斜面部３ｃとの間
および斜面部３ｃと中心部３ｄとの間にそれぞれ環状の
屈曲部３ｅ，３ｆが設けられている。これらの各部分は
互いに同じ厚さに成形されることが多いが、互いに異な
る厚さに成形される場合もある。また中心部３ｄは、装
着時にダイアフラムリテーナやスプリングリテーナ等の
剛性部品によって保持されることがある。
【００１５】基布５は、上記図６に示したような平織り
の基布であって、この平織りの基布５が取付部３ａおよ
び膜部３ｂの全面に亙って埋設されており、このうち膜
部に配置される部分５ｂであって、更に具体的には上記
斜面部に配置される部分５ｃと、その両側の屈曲部に配
置される部分５ｅ，５ｆとが図示するように断面波形に
形成されて埋設状態で弛みが持たせられている。波形は
これを平面的に見た場合に、当該ダイアフラム３の中心
軸線０を中心として波紋ないし同心円を描くように形成
されており、よって弛みは当該ダイアフラム３の半径方
向に向けて設定されている。基布５の残りの部分、すな
わち、取付部に配置される部分５ａと中心部に配置され
る部分５ｄとはそれぞれ平面状に形成されている。これ
らは、取付部３ａは上記カップ等、中心部３ｄは上記ダ
イアフラムリテーナ等にそれぞれ挟まれて、作動時にそ
れほど大きく伸びることがない部分だからである。
の基布であって、この平織りの基布５が取付部３ａおよ
び膜部３ｂの全面に亙って埋設されており、このうち膜
部に配置される部分５ｂであって、更に具体的には上記
斜面部に配置される部分５ｃと、その両側の屈曲部に配
置される部分５ｅ，５ｆとが図示するように断面波形に
形成されて埋設状態で弛みが持たせられている。波形は
これを平面的に見た場合に、当該ダイアフラム３の中心
軸線０を中心として波紋ないし同心円を描くように形成
されており、よって弛みは当該ダイアフラム３の半径方
向に向けて設定されている。基布５の残りの部分、すな
わち、取付部に配置される部分５ａと中心部に配置され
る部分５ｄとはそれぞれ平面状に形成されている。これ
らは、取付部３ａは上記カップ等、中心部３ｄは上記ダ
イアフラムリテーナ等にそれぞれ挟まれて、作動時にそ
れほど大きく伸びることがない部分だからである。
【００１６】また、上記した基布５の波形は、図２に示
すように、基布５を単独でプレス等の手段によって予備
成形することにより賦形されるものであって、予備成形
後にこの基布５を未加硫のダイアフラム本体３'と組み
合わせて、ゴムの加硫成形時に一体化することになる。
すように、基布５を単独でプレス等の手段によって予備
成形することにより賦形されるものであって、予備成形
後にこの基布５を未加硫のダイアフラム本体３'と組み
合わせて、ゴムの加硫成形時に一体化することになる。
【００１７】上記構成のダイアフラム３によれば、ゴム
に埋設される基布５のうちの膜部に配置される部分５ｂ
が断面波形に形成されて、この部分５ｂに埋設状態で弛
みが持たせられているために、圧力の作用によって膜部
３ｂが大きく膨らんだときに発生する伸びを、この波形
部分ないし弛ませ部分が伸びることによって吸収するこ
とが可能である。したがって、基布５がたとえ伸びにつ
いての方向性をもつ平織りの基布であってもゴムの伸び
に十分に追従することが可能となり、これにより基布５
とゴムとの剥がれを防止し、もって当該基布入りダイア
フラム３の耐久性を向上させることができる。
に埋設される基布５のうちの膜部に配置される部分５ｂ
が断面波形に形成されて、この部分５ｂに埋設状態で弛
みが持たせられているために、圧力の作用によって膜部
３ｂが大きく膨らんだときに発生する伸びを、この波形
部分ないし弛ませ部分が伸びることによって吸収するこ
とが可能である。したがって、基布５がたとえ伸びにつ
いての方向性をもつ平織りの基布であってもゴムの伸び
に十分に追従することが可能となり、これにより基布５
とゴムとの剥がれを防止し、もって当該基布入りダイア
フラム３の耐久性を向上させることができる。
【００１８】尚、本発明は、ダイアフラム３の断面形状
や材質などを特に限定するものではなく、例えば、ダイ
アフラム３にはその膜部３ｂの一面に、図３に示すよう
な断面波形の表面形状が賦形されていても良い。この波
形は、基布５の波形に対して同期するよう同じピッチで
形成されている。また、ダイアフラム３のゴムの材質と
しては、ニトリルゴム、ヒドリンゴム、エチレンプロピ
レンゴムまたはフッ素ゴムなど様々なものが考えられ
る。
や材質などを特に限定するものではなく、例えば、ダイ
アフラム３にはその膜部３ｂの一面に、図３に示すよう
な断面波形の表面形状が賦形されていても良い。この波
形は、基布５の波形に対して同期するよう同じピッチで
形成されている。また、ダイアフラム３のゴムの材質と
しては、ニトリルゴム、ヒドリンゴム、エチレンプロピ
レンゴムまたはフッ素ゴムなど様々なものが考えられ
る。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、以下の効果を奏する。
【００２０】すなわち先ず、上記構成を備えた本発明の
請求項１によるダイアフラムにおいては、ダイアフラム
の取付部および膜部に埋設される基布のうち膜部に配置
される部分が断面波形に形成されているために、圧力の
作用によって膜部が大きく膨らんだときの伸びを、この
波形部分が同方向に伸びることによって吸収することが
可能である。したがって、基布がその伸びについての方
向性をもつ平織りの基布であってもゴムの伸びに十分に
追従することができるために、基布とゴムとの剥がれを
防止し、ダイアフラムの耐久性を向上させることができ
る。
請求項１によるダイアフラムにおいては、ダイアフラム
の取付部および膜部に埋設される基布のうち膜部に配置
される部分が断面波形に形成されているために、圧力の
作用によって膜部が大きく膨らんだときの伸びを、この
波形部分が同方向に伸びることによって吸収することが
可能である。したがって、基布がその伸びについての方
向性をもつ平織りの基布であってもゴムの伸びに十分に
追従することができるために、基布とゴムとの剥がれを
防止し、ダイアフラムの耐久性を向上させることができ
る。
【００２１】また、上記構成を備えた本発明の請求項２
によるダイアフラムにおいては、ダイアフラムの取付部
および膜部に埋設される基布のうち膜部に配置される部
分に埋設状態で弛みが設定されているために、やはり圧
力の作用によって膜部が大きく膨らんだときの伸びを、
この弛ませ部分が同方向に伸びることによって吸収する
ことが可能である。したがって、基布がその伸びについ
ての方向性をもつ平織りの基布であってもゴムの伸びに
十分に追従することができるために、基布とゴムとの剥
がれを防止し、ダイアフラムの耐久性を向上させること
ができる。
によるダイアフラムにおいては、ダイアフラムの取付部
および膜部に埋設される基布のうち膜部に配置される部
分に埋設状態で弛みが設定されているために、やはり圧
力の作用によって膜部が大きく膨らんだときの伸びを、
この弛ませ部分が同方向に伸びることによって吸収する
ことが可能である。したがって、基布がその伸びについ
ての方向性をもつ平織りの基布であってもゴムの伸びに
十分に追従することができるために、基布とゴムとの剥
がれを防止し、ダイアフラムの耐久性を向上させること
ができる。
【図１】本発明の実施例に係るダイアフラムの半裁断面
図
図
【図２】同ダイアフラムの製造過程を示す半裁断面図
【図３】本発明の他の実施例に係るダイアフラムの半裁
断面図
断面図
【図４】ダイアフラムアクチュエータの断面図
【図５】従来例に係るダイアフラムの半裁断面図
【図６】平織り基布の織り構造を示す説明図
【図７】従来例に係るダイアフラムの剥がれ発生状態を
示す半裁断面図
示す半裁断面図
１，２ カップ ３ ダイアフラム ３ａ 取付部 ３ｂ 膜部 ３ｃ 斜面部 ３ｄ 中心部 ３ｅ，３ｆ 屈曲部 ３' ダイアフラム本体 ４ 空室 ４ａ，４ｂ 室 ５ 基布 ５ａ 取付部に配置される部分 ５ｂ 膜部に配置される部分 ５ｃ 斜面部に配置される部分 ５ｄ 中心部に配置される部分 ５ｅ，５ｆ 屈曲部に配置される部分 ０ 中心軸線
Claims (2)
- 【請求項１】 取付部（３ａ）の内側に膜部（３ｂ）を
一体成形するとともに前記取付部（３ａ）および膜部
（３ｂ）の表面または肉厚内に基布（５）を埋設してな
るダイアフラム（３）において、 前記基布（５）のうち前記膜部に配置される部分（５
ｂ）を断面波形に形成したことを特徴とするダイアフラ
ム。 - 【請求項２】 取付部（３ａ）の内側に膜部（３ｂ）を
一体成形するとともに前記取付部（３ａ）および膜部
（３ｂ）の表面または肉厚内に基布（５）を埋設してな
るダイアフラム（３）において、 前記基布（５）のうち前記膜部に配置される部分（５
ｂ）に埋設状態で弛みを設定したことを特徴とするダイ
アフラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000202156A JP2002022010A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | ダイアフラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000202156A JP2002022010A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | ダイアフラム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002022010A true JP2002022010A (ja) | 2002-01-23 |
Family
ID=18699724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000202156A Pending JP2002022010A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | ダイアフラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002022010A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011226626A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | ダイヤフラム弁用ダイヤフラム及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-07-04 JP JP2000202156A patent/JP2002022010A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011226626A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | ダイヤフラム弁用ダイヤフラム及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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