JP2002040468A - Liquid crystal devices and electronic equipment - Google Patents
Liquid crystal devices and electronic equipmentInfo
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 193
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 513
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 69
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 43
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 34
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 claims description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100036738 Guanine nucleotide-binding protein subunit alpha-11 Human genes 0.000 description 1
- 101100283445 Homo sapiens GNA11 gene Proteins 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001094026 Synechocystis sp. (strain PCC 6803 / Kazusa) Phasin PhaP Proteins 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 引き廻し抵抗の増大による表示品質の低下を
招くことなく、狭額縁化による小型化を図ることができ
る液晶装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶装置は、一対の基板のう
ち、下側基板2の内面上に信号電極6が設けられるとと
もに、信号電極用引き廻し配線11が下側基板2を貫通
するスルーホール17を介して基板外面にわたって設け
られている。一方、上側基板3の内面上に走査電極7が
設けられるとともに、走査電極用引き廻し配線が基板間
にわたる上下導通部、さらに下側基板2を貫通するスル
ーホールを介して下側基板2の外面にわたって設けられ
ている。そして、下側基板2の外面側には、信号電極用
引き廻し配線11および走査電極用引き廻し配線と電気
的に接続された駆動用IC10が実装されている。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a liquid crystal device which can be downsized by narrowing a frame without deteriorating display quality due to an increase in drawing resistance. SOLUTION: In the liquid crystal device of the present invention, a signal electrode 6 is provided on an inner surface of a lower substrate 2 of a pair of substrates, and a signal electrode wiring 11 penetrates through the lower substrate 2. 17 is provided over the outer surface of the substrate. On the other hand, the scanning electrodes 7 are provided on the inner surface of the upper substrate 3, and the wiring for the scanning electrodes is connected to the upper and lower conductive portions extending between the substrates, and further, through the through holes penetrating the lower substrate 2, the outer surface of the lower substrate 2 is formed. Is provided over. On the outer surface side of the lower substrate 2, a driving IC 10 electrically connected to the signal electrode wiring 11 and the scanning electrode wiring is mounted.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置および電
子機器に関し、特に液晶装置の小型化にあたって表示領
域外の領域を極力狭くした液晶表示パネルの構成に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus, and more particularly to a structure of a liquid crystal display panel in which a region outside a display area is reduced as much as possible in miniaturizing the liquid crystal device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ノートパソコン、携帯電話機、腕
時計等の携帯用電子機器において、各種の情報を表示す
る手段として液晶表示パネルが広く使用されている。特
に携帯用電子機器等では、筐体内部の限られた空間に液
晶表示パネルを収容し、しかも表示し得る情報量を多く
したいという要求から、表示領域を極力広く、表示領域
外の部分(以下、本明細書ではこの部分を非表示領域ま
たは額縁などという)を狭くする構成が望まれている。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display panels have been widely used as means for displaying various types of information in portable electronic devices such as notebook personal computers, mobile phones, wristwatches, and the like. In particular, in portable electronic devices and the like, a liquid crystal display panel is accommodated in a limited space inside a housing, and furthermore, there is a demand for increasing the amount of information that can be displayed. In this specification, this portion is called a non-display region or a frame).
【0003】通常、この種の液晶表示装置、特にパッシ
ブマトリクス(単純マトリクス)型と呼ばれる液晶表示
装置では、2枚の透明基板間に液晶が封入され、各透明
基板の対向面に互いに直交するストライプ状の透明電極
が形成されている。この液晶表示装置では、2枚の基板
上の透明電極が互いに交差する部分が画素となり、液晶
を各画素毎に外部から駆動する方式が採用されている。
液晶を外部から駆動するためには、例えば各透明基板上
の非表示領域を互いに対向する基板の外側に張り出さ
せ、その領域に各基板の透明電極に対して信号を供給す
る駆動用ICをそれぞれ実装し、各駆動用ICの端子と
各透明電極とを引き廻し配線を用いて電気的に接続する
構成が採用されていた。Usually, in this type of liquid crystal display device, particularly a liquid crystal display device of a passive matrix (simple matrix) type, liquid crystal is sealed between two transparent substrates, and stripes orthogonal to each other are formed on opposing surfaces of the transparent substrates. Transparent electrodes are formed. In this liquid crystal display device, a portion in which transparent electrodes on two substrates intersect each other becomes a pixel, and a method of externally driving the liquid crystal for each pixel is employed.
In order to drive the liquid crystal from the outside, for example, a non-display area on each transparent substrate is extended outside the substrate facing each other, and a driving IC for supplying a signal to the transparent electrode of each substrate is provided in the area. A configuration has been adopted in which each of them is mounted and the terminals of each driving IC and each transparent electrode are routed and electrically connected using wiring.
【0004】ところがその後、液晶表示パネルの狭額縁
化、駆動用ICの使用数の削減等を目的として、画素数
がそれ程多くない小規模のパネルの場合には、2枚の透
明基板上の全ての電極を一方の基板上の非表示領域に設
けた多数の引き廻し配線に導通させ、これら引き廻し配
線に接続した1個の駆動用ICで駆動する方式が提案さ
れた。図27、図28はこの方式の液晶表示装置の構成
例を示している。However, in order to narrow the frame of the liquid crystal display panel and reduce the number of driving ICs, in the case of a small-sized panel having a relatively small number of pixels, all of the two transparent substrates are used. A method has been proposed in which this electrode is electrically connected to a large number of routing wirings provided in a non-display area on one substrate, and is driven by a single driving IC connected to these routing wirings. FIG. 27 and FIG. 28 show a configuration example of a liquid crystal display device of this system.
【0005】図27はチップ部品をフィルム(可撓性)
基板上に実装した、いわゆるCOF(Chip On Film)実
装と呼ばれる形態の回路基板を液晶表示パネルに接合し
たものである。下側基板100の一辺側が上側基板10
1の外側に張り出しており、この部分に1個の駆動用I
C102が搭載されたフレキシブルプリント配線基板1
03(Flexible Printed Circuit, 以下、FPCと略記
する)が電気的に接合されている。下側基板100およ
び上側基板101の対向面には互いに直交する方向に多
数のストライプ状電極104,105が形成されてい
る。FIG. 27 shows a case where a chip component is formed into a film (flexibility).
A circuit board mounted on a board, which is a so-called COF (Chip On Film) mounting, is bonded to a liquid crystal display panel. One side of the lower substrate 100 is the upper substrate 10
1, and one driving I
Flexible printed circuit board 1 on which C102 is mounted
03 (Flexible Printed Circuit, hereinafter abbreviated as FPC) is electrically connected. On the opposing surfaces of the lower substrate 100 and the upper substrate 101, a number of striped electrodes 104, 105 are formed in a direction orthogonal to each other.
【0006】図28はチップ部品をガラス基板上に実装
した、いわゆるCOG(Chip On Glass)実装と呼ばれ
る形態のものであり、下側基板(ガラス基板)110の
一辺側が上側基板111の外側に張り出しており、この
部分に駆動用IC112が直接搭載され、さらに駆動用
IC112に駆動信号を供給するためのFPC113が
電気的に接合されている。FIG. 28 shows a so-called COG (Chip On Glass) mounting in which chip components are mounted on a glass substrate, and one side of a lower substrate (glass substrate) 110 extends outside the upper substrate 111. The driving IC 112 is directly mounted on this portion, and further, an FPC 113 for supplying a driving signal to the driving IC 112 is electrically connected.
【0007】いずれの形態にしても、下側基板の電極用
の引き廻し配線と上側基板の電極用の引き廻し配線は全
て、FPCや駆動用ICが実装された下側基板の一辺側
に集められている。In either case, the wiring for the electrodes on the lower substrate and the wiring for the electrodes on the upper substrate are all collected on one side of the lower substrate on which the FPC and the driving IC are mounted. Have been.
【0008】液晶表示パネルを構成する上側基板、下側
基板の引き廻し配線の接続構造の一例を図29、図30
を用いて詳細に説明する。図29は上側基板120の電
極および引き廻し配線の配置を示す平面図であり、図3
0は下側基板130の電極および引き廻し配線の配置を
示す平面図である。図29に示すように、上側基板12
0においては、図中横方向に延在する短冊状の走査電極
121がストライプ状に多数配置されている。ここで、
多数の走査電極121が形成された領域が液晶表示装置
としての表示領域122となる。そして、表示領域12
2の外方(図中表示領域122の右側と左側)の非表示
領域に、各走査電極121に信号を供給するための走査
電極用引き廻し配線123がそれぞれ配置されている。
この引き廻し配線123は電極の延在方向に引き出され
た後、屈曲して上側基板120の一辺側(図中下側の
辺)の両端部に集められている。FIG. 29 and FIG. 30 show an example of a connection structure of the lead wiring of the upper substrate and the lower substrate constituting the liquid crystal display panel.
This will be described in detail with reference to FIG. FIG. 29 is a plan view showing the arrangement of the electrodes and the routing wiring on the upper substrate 120, and FIG.
Reference numeral 0 is a plan view showing the arrangement of the electrodes and the routing wiring on the lower substrate 130. As shown in FIG.
At 0, a large number of strip-shaped scanning electrodes 121 extending in the horizontal direction in the figure are arranged in a stripe shape. here,
A region where a large number of scanning electrodes 121 are formed becomes a display region 122 as a liquid crystal display device. And the display area 12
In the non-display area outside (the right and left sides of the display area 122 in FIG. 2), a scanning electrode lead-out line 123 for supplying a signal to each scanning electrode 121 is arranged.
After being led out in the direction in which the electrodes extend, the lead-out wiring 123 is bent and collected at both ends on one side (the lower side in the figure) of the upper substrate 120.
【0009】一方、図30に示すように、下側基板13
0においては、上側基板120に形成された走査電極1
21と直交する方向(図中縦方向)に延在する短冊状の
信号電極131がストライプ状に多数配置されている。
そして、表示領域122の外方(図中表示領域122の
下側中央部)の非表示領域に、各信号電極131に信号
を供給するための信号電極用引き廻し配線132がそれ
ぞれ配置されている。また、これら信号電極用引き廻し
配線132が配置された領域の両側方に、上側基板12
0の走査電極用引き廻し配線123と電気的に接続する
ための走査電極用引き廻し配線133が走査電極121
の数と同数、配置されている。また、この走査電極用引
き廻し配線133のピッチは上側基板120の走査電極
用引き廻し配線123のピッチと一致している。なお、
本構成例においては、全ての引き廻し配線123,13
2は走査電極121もしくは信号電極131と一体に形
成されており、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxid
e, 以下、ITOと略記する)等の透明導電膜で形成さ
れている。On the other hand, as shown in FIG.
0, the scanning electrode 1 formed on the upper substrate 120
A large number of strip-like signal electrodes 131 extending in a direction orthogonal to 21 (vertical direction in the figure) are arranged in a stripe shape.
In addition, in the non-display area outside the display area 122 (the lower central part of the display area 122 in the drawing), the signal electrode lead-out wiring 132 for supplying a signal to each signal electrode 131 is arranged. . The upper substrate 12 is provided on both sides of the region where the signal electrode lead-out wiring 132 is disposed.
The scanning electrode lead-out line 133 for electrically connecting to the scan electrode lead-out line 123 is connected to the scan electrode 121.
As many as are arranged. Further, the pitch of the scanning electrode lead-out lines 133 matches the pitch of the scan electrode lead-out lines 123 on the upper substrate 120. In addition,
In the present configuration example, all the routing wirings 123, 13
2 is formed integrally with the scanning electrode 121 or the signal electrode 131, and is made of indium tin oxide (Indium Tin Oxid).
e, hereafter abbreviated as ITO).
【0010】上記構成の上側基板120と下側基板13
0を貼り合わせると、下側基板130の外形よりも上側
基板120の外形の方が小さく、上側基板120上の走
査電極用引き廻し配線123の下端と下側基板130上
の走査電極用引き廻し配線133の上端とが、図中符号
134で示す上下導通部で対向するように位置する。上
下導通部134には例えば異方性導電膜、導電ペース
ト、導電性粒子を含む導電材等が設けられており、これ
を介して上側基板120上の走査電極用引き廻し配線1
23と下側基板130上の走査電極用引き廻し配線13
3とが電気的に接続される。このようにして、全ての走
査電極用引き廻し配線133と全ての信号電極用引き廻
し配線132が下側基板130の一辺側に集められたこ
とになるので、この部分に例えば図27に示したような
COF実装された基板との接続を行えば、COF実装基
板上の1個の駆動用ICから全ての走査電極121と信
号電極131に対して信号を供給することができる。[0010] The upper substrate 120 and the lower substrate 13 having the above configuration.
0, the outer shape of the upper substrate 120 is smaller than the outer shape of the lower substrate 130, and the lower end of the scanning electrode routing wiring 123 on the upper substrate 120 and the scanning electrode routing on the lower substrate 130. The upper end of the wiring 133 is positioned so as to face the upper and lower conductive portions indicated by reference numeral 134 in the drawing. For example, an anisotropic conductive film, a conductive paste, a conductive material containing conductive particles, or the like is provided in the upper / lower conductive portion 134.
23 and the lead-out wiring 13 for the scanning electrode on the lower substrate 130
3 are electrically connected. In this manner, all of the scanning electrode lead-out lines 133 and all of the signal electrode lead-out lines 132 are gathered on one side of the lower substrate 130, and this part is shown in FIG. 27, for example. By making such a connection with the COF-mounted substrate, a signal can be supplied to all the scanning electrodes 121 and the signal electrodes 131 from one driving IC on the COF-mounted substrate.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の液晶表示装置には、以下のような問題点があった。
すなわち、従来の液晶表示装置を構成する基板には、上
記のように表示領域の外側に引き廻し配線を形成する領
域が必ず必要になる。上述したように、近年の液晶表示
装置においては表示容量がますます増加する傾向にある
が、表示容量(画素数)が増加する程、この引き廻し配
線の本数が増えて引き廻し配線の形成領域が広くなって
しまうため、これが狭額縁化の障害となる。However, the liquid crystal display device having the above configuration has the following problems.
In other words, the substrate constituting the conventional liquid crystal display device must have a region in which the wiring is formed outside the display region as described above. As described above, in recent liquid crystal display devices, the display capacity tends to increase more and more. As the display capacity (the number of pixels) increases, the number of the wirings increases, and the area for forming the wirings increases. This becomes an obstacle to narrowing the picture frame because the picture becomes wider.
【0012】表示容量を増やしても引き廻し配線形成領
域が広くならないようにするには、引き廻し配線のピッ
チ(配線幅+配線間隔)を小さくすることも考えられる
が、その場合、引き廻し配線抵抗の増大を招き、表示品
質に悪影響を与える恐れがある。例えば100本の引き
廻し配線を50μmピッチで形成する場合、5mm程度
の引き廻し配線形成領域が必要になる。この時の引き廻
し抵抗は数kΩ〜MΩオーダーにまで達し、信号波形な
まりなどの問題が生じる場合がある。In order to prevent the area for forming the lead wiring from becoming wide even if the display capacity is increased, it is conceivable to reduce the pitch of the lead wiring (wiring width + interval between wirings). This may increase the resistance and adversely affect the display quality. For example, when 100 wirings are formed at a pitch of 50 μm, a wiring forming area of about 5 mm is required. The routing resistance at this time reaches several kΩ to MΩ order, and a problem such as a rounded signal waveform may occur.
【0013】引き廻し配線の抵抗増大を抑えるために
は、引き廻し配線を構成する透明導電膜の低抵抗化、低
抵抗の金属補助配線の付加等の方法がある。しかしなが
ら、前者の方法の場合、透明導電膜は電極の部分では充
分な光透過率を確保することが重要であり、高い透過率
を維持したままでの低抵抗化は困難である。また、後者
の方法の場合は、製造工程の負荷が増大するという問題
がある。結局のところ、引き廻し配線の抵抗を増大させ
ることなく、引き廻し配線形成領域の縮小化を図る有効
な手段は今まで存在しなかった。In order to suppress the increase in the resistance of the routing wiring, there are methods such as lowering the resistance of the transparent conductive film constituting the routing wiring and adding a low-resistance metal auxiliary wiring. However, in the case of the former method, it is important that the transparent conductive film has a sufficient light transmittance at the electrode portion, and it is difficult to reduce the resistance while maintaining a high transmittance. Further, in the case of the latter method, there is a problem that the load on the manufacturing process increases. After all, there has been no effective means for reducing the size of the routing wiring formation area without increasing the resistance of the routing wiring.
【0014】また、図27、図28に示したように、従
来の液晶表示装置ではFPCや駆動用ICを実装する領
域が必要なため、一方の基板を他方の基板から大きく張
り出させなければならず、液晶表示装置を電子機器の筐
体内に収容する場合、この部分が無駄な空間となってい
た。そのため、液晶表示装置の非表示(額縁)領域の確
保、及び拡大に繋がっていた。Further, as shown in FIGS. 27 and 28, the conventional liquid crystal display device requires a region for mounting an FPC and a driving IC, so that one substrate must be greatly extended from the other substrate. However, when the liquid crystal display device is housed in the housing of the electronic device, this portion is a useless space. Therefore, the non-display (frame) area of the liquid crystal display device is secured and expanded.
【0015】なお、液晶表示装置の狭額縁化を目的とし
て、基板の裏面側に電子回路および駆動用ICを搭載す
る技術が特開平5−323354号公報に開示されてい
る。同様に、一方の基板に画素パターン配線基板と駆動
回路配線基板としての機能を兼用させる技術が特開平7
−159802号公報に開示されている。しかしなが
ら、この公報には、ただ単に一方の基板の表面側の駆動
線をビアホール(コンタクトホール)を介して裏面側に
導通させ、裏面側の駆動回路および駆動用ICに接続す
ることが記載されているだけであって、液晶表示装置の
全体構成は不詳である。Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-323354 discloses a technique for mounting an electronic circuit and a driving IC on the back side of a substrate for the purpose of narrowing the frame of the liquid crystal display device. Similarly, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 7 (1999) discloses a technology in which one of the substrates has a function as both a pixel pattern wiring substrate and a drive circuit wiring substrate.
No. 159802. However, this publication describes that a drive line on the front side of one substrate is simply conducted to the back side via a via hole (contact hole) and connected to a drive circuit and a drive IC on the back side. However, the overall configuration of the liquid crystal display device is unknown.
【0016】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、引き廻し抵抗の増大などによる表
示品質の低下を招くことなく、狭額縁化による小型化を
図ることができる液晶装置、およびこれを用いた電子機
器を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a liquid crystal display device that can be reduced in size by reducing a frame without causing a decrease in display quality due to an increase in drawing resistance. It is an object to provide an apparatus and an electronic device using the same.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の液晶装置は、互いに対向配置された一対
の基板間に液晶層が挟持された液晶装置であって、一対
の基板のうち、第1の基板においては液晶層に面する内
面上に第1の導電部が設けられるとともに、第1の導電
部と電気的に接続された第1の引き廻し導電部が前記内
面から基板内部を通り前記内面と反対側の外面にわたっ
て設けられ、透光性を有する第2の基板においては液晶
層に面する内面上に第2の導電部が設けられるととも
に、第2の導電部と電気的に接続された第2の引き廻し
導電部が第2の基板の内面から第1の基板の内面へ、さ
らに第1の基板の内面から基板内部を通り第1の基板の
外面にわたって設けられ、第1の基板の内面側に光反射
部が設けられるとともに第2の基板の外面側には偏光手
段が設けられ、第1の基板の外面側には第1の引き廻し
導電部および第2の引き廻し導電部と電気的に接続され
た電子部品が実装されたことを特徴とする。In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention is a liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates opposed to each other. In the first substrate, a first conductive portion is provided on an inner surface facing the liquid crystal layer, and a first routing conductive portion electrically connected to the first conductive portion is provided from the inner surface. In a second substrate having a light-transmitting property, the second conductive portion is provided on the inner surface facing the liquid crystal layer, and the second conductive portion is provided on the second substrate having a light-transmitting property. An electrically connected second routing conductive portion is provided from the inner surface of the second substrate to the inner surface of the first substrate, and further from the inner surface of the first substrate to the inside of the substrate and to the outer surface of the first substrate. When the light reflecting portion is provided on the inner surface side of the first substrate, Polarizing means is provided on the outer surface side of the second substrate, and electronic components electrically connected to the first wiring conductive portion and the second wiring conductive portion are provided on the outer surface side of the first substrate. It is characterized by being implemented.
【0018】すなわち、本発明の液晶装置は、第1の基
板の外面側に、第1の基板内面の第1の導電部および第
2の基板内面の第2の導電部と電気的に接続された電子
部品が実装されたものである。ここで言う「第1の導電
部」、「第2の導電部」とは、具体的にはパッシブマト
リクス型液晶装置における走査電極、信号電極等の電
極、もしくはアクティブマトリクス型液晶装置における
走査線、データ線等の配線のことを指す。また、「電子
部品」とは、具体的には液晶装置の駆動回路に用いる駆
動用IC、コンデンサ等のことを指す。That is, the liquid crystal device of the present invention is electrically connected to the first conductive portion on the inner surface of the first substrate and the second conductive portion on the inner surface of the second substrate on the outer surface side of the first substrate. Electronic components mounted. Here, the “first conductive portion” and “second conductive portion” are specifically defined as a scanning electrode in a passive matrix liquid crystal device, an electrode such as a signal electrode, or a scanning line in an active matrix liquid crystal device. Refers to wiring such as data lines. The “electronic component” specifically refers to a driving IC, a capacitor, and the like used in a driving circuit of a liquid crystal device.
【0019】詳細には、第1の導電部は、第1の基板の
内面から基板内部を通り第1の基板の外面にわたって設
けられた第1の引き廻し導電部を介して電子部品に電気
的に接続されている。一方、第2の導電部は、第2の基
板の内面から基板間をわたって第1の基板の内面へ、さ
らに第1の基板の内面から基板内部を通り第1の基板の
外面にわたって設けられた第2の引き廻し導電部を介し
て電子部品に電気的に接続されている。More specifically, the first conductive portion is electrically connected to the electronic component via a first routing conductive portion provided from the inner surface of the first substrate, the inside of the substrate, and the outer surface of the first substrate. It is connected to the. On the other hand, the second conductive portion is provided from the inner surface of the second substrate to the inner surface of the first substrate across the substrates, and from the inner surface of the first substrate to the inner surface of the substrate through the inner surface of the first substrate. Also, it is electrically connected to the electronic component via the second routing conductive part.
【0020】よって、従来の構成で言えば、引き廻し配
線が第1の基板の内面上の電極形成領域(言い換えると
表示領域)の外側の領域(非表示領域)に引き廻されて
いたのに対し、本発明の基本的構成では、引き廻し配線
(引き廻し導電部)が第1の基板の内面側から基板内部
を通って外面側に引き廻されている。ここで、本発明
は、第1の基板の内面側に光反射部が設けられ、第2の
基板の外面側に偏光手段が設けられた反射型液晶装置で
あるから、引き廻し配線を第1の基板の外面側に引き廻
した後は平面的に表示領域に相当する領域内に配線を形
成しても表示上何ら支障はない。また、これらの配線に
電気的に接続される電子部品も、同様に第1の基板外面
の表示領域に相当する領域内に配置することができる。Therefore, in the conventional configuration, the routing wiring is routed to a region (non-display region) outside the electrode formation region (in other words, the display region) on the inner surface of the first substrate. On the other hand, in the basic configuration of the present invention, the routing wiring (routing conductive portion) is routed from the inner surface of the first substrate to the outer surface through the inside of the substrate. Here, the present invention is a reflection type liquid crystal device in which the light reflecting portion is provided on the inner surface side of the first substrate and the polarizing means is provided on the outer surface side of the second substrate. After wiring to the outer surface side of the substrate, even if wiring is formed in an area equivalent to the display area in a plan view, there is no problem in display. Further, electronic components electrically connected to these wirings can be similarly arranged in a region corresponding to a display region on the outer surface of the first substrate.
【0021】しかも、本発明の構成では、上記引き廻し
導電部の基本構成は、電子部品が実装された側の基板で
ある第1の基板上の第1の引き廻し導電部のみならず、
液晶層を挟んで対峙する第2の基板からの第2の引き廻
し導電部についても同様である。すなわち、一対の基板
の全ての引き廻し導電部が第1の基板の内部を通って最
終的に第1の基板の外面側に引き廻され、電子部品に接
続される構成になっている。Further, in the configuration of the present invention, the basic configuration of the routing conductive portion is not limited to the first routing conductive portion on the first substrate which is the substrate on which the electronic component is mounted.
The same applies to the second lead conductive portion from the second substrate facing the liquid crystal layer. In other words, all of the routing conductive portions of the pair of substrates are finally routed to the outer surface side of the first substrate through the inside of the first substrate, and are connected to the electronic components.
【0022】したがって、本発明の構成によれば、従来
の構成において第1の基板内面の表示領域外側に設けて
いた引き廻し領域、さらにはFPCや電子部品の実装領
域が不要となるので、その分だけ従来に比べて大幅に額
縁部分を狭くすることができる。また、表示領域内を含
めて第1の基板の外面側全面に引き廻し導電部をレイア
ウトすることができ、引き廻し導電部間のピッチを余裕
を持って設計することができるため、引き廻し抵抗が増
大するという問題が生じることもない。Therefore, according to the configuration of the present invention, the routing area provided outside the display area on the inner surface of the first substrate in the conventional configuration, and the mounting area for the FPC and the electronic components are not required. The frame portion can be significantly narrowed as compared with the related art. In addition, the conductive portions can be laid out on the entire outer surface of the first substrate including the display area, and the pitch between the conductive portions can be designed with a margin. Does not occur.
【0023】さらに、本発明においては、第1の基板は
必ずしも透光性基板である必要はないため、基板材料の
選択肢として従来から一般的なガラス基板、石英基板等
の透明基板の他、例えばポリイミド等の樹脂基板、セラ
ミック基板等を用いることもでき、第1の基板の材料選
択の自由度が向上する。別の表現をすれば、本発明の液
晶装置において、第1の基板は、液晶装置そのものを構
成する一方の基板として機能すると同時に、駆動回路の
搭載基板としても機能する。したがって、場合によって
は、フレキシブルテープ等の接続用部品の削減を図るこ
ともできる。Further, in the present invention, the first substrate is not necessarily a light-transmitting substrate, and thus, as a material choice of the substrate, in addition to a conventional transparent substrate such as a glass substrate and a quartz substrate, for example, for example, A resin substrate such as a polyimide substrate, a ceramic substrate, or the like can also be used, and the degree of freedom in selecting a material for the first substrate is improved. In other words, in the liquid crystal device of the present invention, the first substrate functions as one of the substrates included in the liquid crystal device itself, and at the same time, functions as a mounting substrate for a driving circuit. Therefore, in some cases, the number of connection components such as a flexible tape can be reduced.
【0024】また、第1の基板の外面側周縁部に、駆動
用IC等の電子部品の入力端子と電気的に接続した外部
接続端子を設けることが望ましい。It is preferable that an external connection terminal electrically connected to an input terminal of an electronic component such as a driving IC is provided on a peripheral portion on an outer surface side of the first substrate.
【0025】外部接続端子を周縁部に設けておけば、駆
動用ICに駆動信号を供給するためのFPCなどをさら
に実装するような場合、外部接続端子とFPCの端子を
接合する際の位置合わせを容易に行うことができる。ま
た、FPC接合時もしくは接合後、接合部分に応力が発
生する場合があるが、その位置が表示領域から外れた基
板周縁部であれば、前記応力が表示に悪影響を及ぼすこ
ともない。If the external connection terminal is provided on the peripheral portion, when an FPC or the like for supplying a drive signal to the driving IC is further mounted, the positioning when the external connection terminal and the FPC terminal are joined is performed. Can be easily performed. Further, during or after the FPC bonding, stress may be generated at the bonding portion. However, if the position is a peripheral portion of the substrate that is out of the display area, the stress does not adversely affect the display.
【0026】第1の基板における第1の引き廻し導電部
の具体的な構成は、第1の基板の内面側と外面側との間
に設けられた孔の内部に設けられ第1の導電部と電気的
に接続された第1の孔内接続部と、第1の基板の外面上
において第1の孔内接続部と電子部品とを電気的に接続
する第1の外面上接続部とを有するものを用いることが
できる。また、前記孔は、第1の基板の内面側と外面側
とを貫通するスルーホールとすることができる。The specific configuration of the first routing conductive portion of the first substrate is as follows. The first conductive portion is provided inside a hole provided between the inner surface side and the outer surface side of the first substrate. A first in-hole connection portion electrically connected to the first substrate, and a first on-outside connection portion for electrically connecting the first in-hole connection portion and the electronic component on the outer surface of the first substrate. Can be used. Further, the hole may be a through hole penetrating the inner surface side and the outer surface side of the first substrate.
【0027】この構成とすれば、第1の基板に例えばレ
ーザー加工、ケミカルエッチング等の操作を施すことに
より容易にスルーホールを形成することができる。さら
に、スルーホール内への銀ペースト等の充填、電解メッ
キ処理等を施すことによりスルーホール内に導電性材料
からなる上記第1の孔内接続部を形成することができ
る。一方、第1の外面上接続部は、導電膜の成膜、パタ
ーニング等の通常の配線形成技術によって容易に形成す
ることができる。なお、上記第1の孔内接続部は、第1
の導電部と第1の外面上接続部とを電気的に接続できれ
ばよいのであって、必ずしも孔の内部全体に埋め込まれ
ていなくてもかまわない。また、第1の孔内接続部はシ
ール直下に設けても良いし、シールから離間した位置に
第1の孔内接続部を配置しても良い。シール直下に第1
の孔内接続部を設けた場合には、例えばシール材中に導
電部材を混入させ、重合することで電気的に接続できる
ので、額縁を狭くできるとともに構造が簡単になる。第
1の孔内接続部の部分は製造上の理由から第1の基板上
で若干盛り上がった形状となる可能性があるので、表示
上で支障があればシールの外側に第1の孔内接続部を配
置させれば問題ない。With this configuration, through holes can be easily formed by performing operations such as laser processing and chemical etching on the first substrate. Further, by filling the through-hole with silver paste or the like, performing electrolytic plating, or the like, the first in-hole connecting portion made of a conductive material can be formed in the through-hole. On the other hand, the first outer surface connection portion can be easily formed by a normal wiring formation technique such as film formation and patterning of a conductive film. Note that the first in-hole connecting portion is provided in the first hole connection portion.
It is sufficient that the conductive portion and the first outer surface connection portion can be electrically connected, and it is not always necessary that the conductive portion is embedded in the entire inside of the hole. Further, the first in-hole connecting portion may be provided directly below the seal, or the first in-hole connecting portion may be arranged at a position separated from the seal. First below the seal
In the case where the connection portion in the hole is provided, for example, a conductive member is mixed in a sealing material, and polymerization can be performed, so that electrical connection can be made. Since the first connection portion in the hole may have a slightly raised shape on the first substrate for manufacturing reasons, if there is a problem with the display, the first connection portion in the outside of the seal is formed. There is no problem if the parts are arranged.
【0028】また、第1の基板は、内面側の第1の導電
部を構成する導電層、外面側の第1の外面上接続部を構
成する導電層の他、基板内部に1層以上の内部導電層を
有する基板、いわゆる多層プリント配線基板のような基
板で構成してもよい。この場合には、第1の基板の内面
から外面にわたる孔は、第1の基板の内面と内部導電層
との間、第1の基板の外面と内部導電層との間、もしく
は相互の内部導電層の間に設けられた複数のビアホール
から構成されるものとなる。The first substrate includes a conductive layer forming a first conductive portion on the inner surface side, a conductive layer forming a first connection portion on the outer surface side, and one or more layers inside the substrate. A substrate having an internal conductive layer, that is, a substrate such as a so-called multilayer printed wiring board may be used. In this case, the hole extending from the inner surface to the outer surface of the first substrate is formed between the inner surface of the first substrate and the inner conductive layer, between the outer surface of the first substrate and the inner conductive layer, or the mutual inner conductive layer. It consists of a plurality of via holes provided between the layers.
【0029】この種の基板を用いると、例えば引き廻し
導電部の数が増え、第1の基板の外面上だけに多数の引
き廻し導電部を配置するのが難しくなった場合に、一部
の引き廻し導電部を内部導電層を用いて引き廻すことも
でき、引き回しの自由度が向上するので、表示容量の増
大にも対応することが可能になる。When this type of substrate is used, for example, when the number of routing conductive portions increases and it becomes difficult to arrange a large number of routing conductive portions only on the outer surface of the first substrate, some of the routing conductive portions are difficult to be disposed. The routing conductive portion can also be routed by using the internal conductive layer, and the degree of freedom of routing is improved, so that it is possible to cope with an increase in display capacity.
【0030】第1の外面上接続部を有する構成の場合、
内面側の第1の導電部と外面側の第1の外面上接続部を
同じ導電性材料で構成することができる。In the case of the structure having the first connection portion on the outer surface,
The first conductive portion on the inner surface side and the first connection portion on the outer surface on the outer surface side can be made of the same conductive material.
【0031】この構成にすると、第1の基板の内面側と
外面側に導電膜を成膜した後、内面側と外面側の両面に
フォトリソグラフィー、エッチングを施し、両面の導電
膜を同時にパターニングして第1の導電部と第1の外面
上接続部を形成することができるので、製造工程の簡略
化を図ることができる。According to this structure, after a conductive film is formed on the inner surface and the outer surface of the first substrate, photolithography and etching are performed on both the inner surface and the outer surface, and the conductive films on both surfaces are simultaneously patterned. As a result, the first conductive portion and the first outer surface connection portion can be formed, so that the manufacturing process can be simplified.
【0032】また逆に、内面側の第1の導電部と外面側
の第1の外面上接続部を異なる導電性材料で構成するこ
ともできる。Conversely, the first conductive portion on the inner surface side and the first connecting portion on the outer surface on the outer surface side can be made of different conductive materials.
【0033】この構成においては、後述するように第1
の導電部、例えばパッシブマトリクス型液晶装置におけ
る電極が光反射部を兼ねる場合、第1の導電部には光反
射率の高い銀(または銀を含有する合金)、アルミニウ
ム等の金属材料を用い、第1の外面上接続部には引き廻
し抵抗低減のために低抵抗材料である銅等の金属材料を
用いるというように、第1の導電部、第1の外面上接続
部各々の機能に最適な導電材料を選択することができ
る。その結果、製造工程の簡略化という上記の利点は得
られない代りに、表示品質を高めることができる。In this configuration, as will be described later, the first
In the case where the conductive portion of, for example, an electrode in a passive matrix type liquid crystal device also serves as a light reflecting portion, a metal material such as silver (or an alloy containing silver) and aluminum having a high light reflectance is used for the first conductive portion, Optimum for the functions of the first conductive portion and the first external connection portion, such as using a metal material such as copper which is a low-resistance material for reducing the drawing resistance for the first external connection portion. A suitable conductive material can be selected. As a result, the display quality can be improved instead of obtaining the above advantage of simplifying the manufacturing process.
【0034】一方、第2の引き廻し導電部の具体的な構
成については、第2の引き廻し導電部が、第1の基板と
第2の基板との間に設けられ第2の導電部と電気的に接
続された基板間接続部と、第1の基板の内面側と外面側
との間に設けられた孔の内部に設けられ基板間接続部と
電気的に接続された第2の孔内接続部と、第1の基板の
外面上において第2の孔内接続部と電子部品とを電気的
に接続する第2の外面上接続部とを有する構成とするこ
とができる。On the other hand, with regard to a specific configuration of the second routing conductive portion, the second routing conductive portion is provided between the first substrate and the second substrate and is connected to the second conductive portion. An electrically connected inter-substrate connection, and a second hole provided inside the hole provided between the inner surface and the outer surface of the first substrate and electrically connected to the inter-substrate connection. The internal connection portion and a second external connection portion on the external surface of the first substrate for electrically connecting the second internal connection portion and the electronic component can be provided.
【0035】前記基板間接続部には、双方の基板間にわ
たるように形成した導電性ペーストや導電性粒子等、任
意の手段を用いることができる。もしくは、液晶層を封
止するシール材の内部に混入させた導電材を用いて基板
間の導電接続を行っても良い。For the connection between the substrates, any means such as a conductive paste or conductive particles formed so as to extend between the two substrates can be used. Alternatively, conductive connection between substrates may be performed using a conductive material mixed in a sealant for sealing a liquid crystal layer.
【0036】また、基板間接続部と第2の孔内接続部と
の位置関係については、基板間接続部の直下に第2の孔
内接続部を設けても良いし、基板間接続部から離間した
位置に第2の孔内接続部を配置しても良い。その場合、
第1の基板の内面上に、基板間接続部と第2の孔内接続
部との間を電気的に接続する第2の内面上接続部を設け
ることが望ましい。Regarding the positional relationship between the inter-substrate connecting portion and the second inter-hole connecting portion, the second inter-hole connecting portion may be provided immediately below the inter-substrate connecting portion, You may arrange | position a 2nd connection part in a hole in the space | separated position. In that case,
It is desirable to provide a second on-inner connection portion for electrically connecting the inter-substrate connection portion and the second in-hole connection portion on the inner surface of the first substrate.
【0037】基板間接続部の直下に第2の孔内接続部を
設けた場合には、例えばシール材中に導電部材を混入さ
せ、重合することで電気的に接続できるので、額縁を狭
くできるとともに構造が簡単になる。第1の孔内接続部
と同様、第2の孔内接続部の部分は製造上の理由から第
1の基板上で若干盛り上がった形状となる可能性がある
ので、基板間接続部の形成との関係、もしくは表示上で
支障があれば、基板間接続部と第2の孔内接続部とを離
間させれば問題はない。In the case where the second in-hole connecting portion is provided immediately below the inter-substrate connecting portion, for example, a conductive material can be mixed in a sealing material and polymerized, so that electrical connection can be made, so that the frame can be narrowed. At the same time, the structure becomes simple. Similarly to the first connection portion in the hole, the portion of the second connection portion in the hole may have a slightly raised shape on the first substrate for manufacturing reasons. If there is a problem in the relationship or display, there is no problem if the inter-substrate connecting portion and the second in-hole connecting portion are separated from each other.
【0038】さらにその場合、第2の内面上接続部と第
1の導電部とを同じ導電性材料で形成することが望まし
い。Further, in that case, it is desirable that the second inner connection portion and the first conductive portion are formed of the same conductive material.
【0039】この構成とした場合、第2の内面上接続部
と第1の導電部とを一工程で同時に形成できるので、製
造工程が複雑化することがない。In this configuration, the second inner connecting portion and the first conductive portion can be simultaneously formed in one step, so that the manufacturing process does not become complicated.
【0040】上述したように、本発明の液晶装置では、
第1の基板に使用可能な基板材料の選択肢が多くなって
いるが、さらに第1の基板、第2の基板の一方あるいは
両方の基板ともに、例えばプラスチックフィルム基板等
の可撓性を有する基板で構成しても良い。As described above, in the liquid crystal device of the present invention,
Although there are many choices of substrate materials that can be used for the first substrate, one or both of the first substrate and the second substrate may be a flexible substrate such as a plastic film substrate. You may comprise.
【0041】この構成にすると、液晶装置の薄型化、軽
量化が図れる、基板の割れ等の破損が生じにくくなる、
基板を湾曲させることで曲面表示が可能になる、等の利
点が得られ、携帯機器等の電子機器に好適なものとな
る。According to this structure, the liquid crystal device can be made thinner and lighter, and breakage such as cracking of the substrate is less likely to occur.
Advantages such as curved surface display can be obtained by curving the substrate, which is suitable for electronic devices such as portable devices.
【0042】本発明を適用し得る液晶装置の方式として
は、例えば以下の3つが挙げられる。一つはパッシブマ
トリクス型液晶装置であり、その場合、第1の基板上の
第1の導電部はストライプ状に形成された複数の電極と
なり、第2の基板上の第2の導電部が前記電極と交差す
る方向に延在するようストライプ状に形成された複数の
電極となる。勿論、第1の導電部と第2の導電部のどち
らが走査電極であっても、信号電極であってもかまわな
い。The liquid crystal device to which the present invention can be applied includes, for example, the following three types. One is a passive matrix type liquid crystal device. In that case, a first conductive portion on a first substrate is a plurality of electrodes formed in a stripe shape, and a second conductive portion on a second substrate is A plurality of electrodes are formed in a stripe shape so as to extend in a direction intersecting with the electrodes. Of course, either the first conductive part or the second conductive part may be a scanning electrode or a signal electrode.
【0043】本発明をパッシブマトリクス型液晶装置に
適用する場合、第1の基板上の第1の導電部を光反射性
の高い材料、例えば銀(または銀を含有する合金)やア
ルミニウム等の金属で形成すれば、第1の導電部自身を
前記光反射部を兼ねた反射電極とすることができる。す
なわち、本発明の液晶装置は、反射電極を有するタイプ
の反射型液晶装置であっても良いし、反射層と表示電極
とを別個に有するタイプの反射型液晶装置であっても良
い。When the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal device, the first conductive portion on the first substrate is made of a material having high light reflectivity, for example, a metal such as silver (or an alloy containing silver) or aluminum. In this case, the first conductive portion itself can be used as a reflection electrode that also serves as the light reflection portion. That is, the liquid crystal device of the present invention may be a reflective liquid crystal device having a reflective electrode or a reflective liquid crystal device having a reflective layer and a display electrode separately.
【0044】他の一つはスイッチング素子に薄膜ダイオ
ード(Thin Film Diode, 以下、TFDと略記する)を
用いたアクティブマトリクス型液晶装置であり、その場
合、第1の基板上の第1の導電部は複数のデータ線もし
くは走査線となり、第2の基板上の第2の導電部は前記
データ線もしくは走査線と交差する方向に延在するよう
ストライプ状に形成された複数の走査線もしくはデータ
線となる。Another is an active matrix type liquid crystal device using a thin film diode (hereinafter abbreviated as TFD) as a switching element. In this case, a first conductive portion on a first substrate is used. Is a plurality of data lines or scanning lines, and the second conductive portion on the second substrate is a plurality of scanning lines or data lines formed in a stripe shape so as to extend in a direction intersecting the data lines or scanning lines. Becomes
【0045】さらに他の一つはスイッチング素子に薄膜
トランジスタ(Thin Film Transistor, 以下、TFTと
略記する)を用いたアクティブマトリクス型液晶装置で
あり、その場合、第1の基板上の第1の導電部は複数の
データ線もしくは走査線の少なくともいずれか一方とな
り、第2の基板上の第2の導電部は一つの共通電極とな
る。Still another is an active matrix type liquid crystal device using a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) as a switching element, and in this case, a first conductive portion on a first substrate. Becomes at least one of a plurality of data lines or scanning lines, and the second conductive portion on the second substrate becomes one common electrode.
【0046】また、以上説明した本発明の液晶装置にお
いて、第1の基板または第2の基板の内面上にカラーフ
ィルターを設けても良い。In the liquid crystal device of the present invention described above, a color filter may be provided on the inner surface of the first substrate or the second substrate.
【0047】この構成にすれば、狭額縁で表示品質の高
いカラー液晶装置を実現することができ、今後、カラー
化がさらに進むことが予想される各種電子機器に好適な
ものとなる。With this configuration, it is possible to realize a color liquid crystal device having a high display quality with a narrow frame, and it is suitable for various electronic devices in which colorization is expected to further advance in the future.
【0048】本発明の電子機器は、上記本発明の液晶装
置を備えたことを特徴とする。本発明によれば、狭額縁
化による小型の液晶装置を備えたことによって、装置全
体が小型である割に表示領域が広く、携帯性に優れた電
子機器を実現することができる。An electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device according to the present invention. According to the present invention, by providing a small liquid crystal device with a narrow frame, it is possible to realize an electronic device having a wide display area and excellent portability, despite the small size of the entire device.
【0049】[0049]
【発明の実施の形態】[第1の実施の形態]以下、本発
明の第1の実施の形態を図1〜図13を参照して説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0050】本実施の形態は、本発明の液晶装置をパッ
シブマトリクス型液晶表示装置に適用した例であって、
光反射部を兼ねた表示電極、いわゆる反射電極を有する
液晶表示装置の例である。This embodiment is an example in which the liquid crystal device of the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal display device.
This is an example of a liquid crystal display device having a display electrode also serving as a light reflection portion, a so-called reflection electrode.
【0051】図1は本実施の形態の液晶表示装置全体を
上面側から見た斜視図、図2は下面側から見た斜視図、
図3は下側基板の上面(電極形成面)図、図4は下側基
板を下面側から観た透過平面図(電子部品の実装面側か
ら観た透過平面図)、図5は上側基板の下面(電極形成
面)図、図6は上側基板と下側基板を重ね合わせた状態
を示す透過平面図、図7は図6のA−A’線に沿う断面
図、図8は図6のB−B’線に沿う断面図である。な
お、以下の全ての図面においては、各層や各部材を図面
上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材
毎に縮尺を異ならせてある。FIG. 1 is a perspective view of the entire liquid crystal display device of the present embodiment as viewed from above, FIG. 2 is a perspective view as viewed from below.
3 is a top view (electrode formation surface) of the lower substrate, FIG. 4 is a transmission plan view of the lower substrate viewed from the lower surface side (a transmission plan view of the electronic component mounting surface), and FIG. 5 is an upper substrate. 6 is a transparent plan view showing a state in which the upper substrate and the lower substrate are overlapped, FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 6, and FIG. FIG. 7 is a sectional view taken along line BB ′ of FIG. In all of the following drawings, the scale of each layer and each member is different in order to make each layer and each member have a size recognizable in the drawings.
【0052】本実施の形態の液晶表示装置1は、図1に
示すように、下側基板2(第1の基板)と上側基板3
(第2の基板)とが対向配置され、これら基板間に液晶
層(図1では図示略)が挟持されている。本実施の形態
では、下側基板2としてポリイミド等からなる不透明基
板が用いられ、上側基板3としてポリカーボネート、ポ
リエーテルスルホン、アクリル系樹脂等からなる透明基
板が用いられている。以下の説明では、双方の基板の液
晶層に面する側の面を「内面」、それと反対側の面を
「外面」という。即ち、双方の基板において液晶層が配
置される側の面を「内面」、それと反対側の面を「外
面」という。また、上側基板3の外面側に、位相差板4
(λ/4板)、偏光板5(偏光手段)が順次貼着されて
いる。なお、図2以降の図面では、位相差板4、偏光板
5の図示を省略する。As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 1 of the present embodiment has a lower substrate 2 (first substrate) and an upper substrate 3
And a liquid crystal layer (not shown in FIG. 1) is sandwiched between these substrates. In the present embodiment, an opaque substrate made of polyimide or the like is used as the lower substrate 2, and a transparent substrate made of polycarbonate, polyether sulfone, acrylic resin, or the like is used as the upper substrate 3. In the following description, the surface of both substrates facing the liquid crystal layer is referred to as “inner surface”, and the surface on the opposite side is referred to as “outer surface”. That is, the surface on both sides of the substrate on which the liquid crystal layer is arranged is called the "inner surface", and the surface on the opposite side is called the "outer surface". A phase difference plate 4 is provided on the outer surface of the upper substrate 3.
(Λ / 4 plate) and a polarizing plate 5 (polarizing means) are sequentially adhered. In the drawings after FIG. 2, the illustration of the phase difference plate 4 and the polarizing plate 5 is omitted.
【0053】下側基板2の内面上には多数の信号電極6
(第1の導電部)がストライプ状に設けられ、それと対
向する上側基板3の内面上には信号電極6と直交する方
向に延在する多数の走査電極7(第2の導電部)がスト
ライプ状に設けられている。そして、信号電極6と走査
電極7が交差する部分が個々の画素8となり、多数の画
素8がマトリクス状に配列した領域が表示領域9とな
る。なお、本実施の形態では下側基板2側の電極を信号
電極、上側基板3側の電極を走査電極として説明する
が、これは逆であっても一向にかまわない。また、本実
施の形態では信号電極6及び走査電極7の形状をストラ
イプ状としたが、本形状に限定されるものでなく、例え
ば多重マトリクス構成やアイコン等の任意の電極形状に
も適応が可能である。On the inner surface of the lower substrate 2, a large number of signal electrodes 6
(First conductive portions) are provided in a stripe shape, and a number of scanning electrodes 7 (second conductive portions) extending in a direction orthogonal to the signal electrodes 6 are formed on the inner surface of the upper substrate 3 facing the stripes. It is provided in the shape. A portion where the signal electrode 6 intersects with the scanning electrode 7 becomes an individual pixel 8, and a region where a number of pixels 8 are arranged in a matrix becomes a display region 9. In the present embodiment, the electrode on the lower substrate 2 side is described as a signal electrode, and the electrode on the upper substrate 3 side is described as a scanning electrode. However, the order may be reversed. Further, in the present embodiment, the shape of the signal electrode 6 and the scanning electrode 7 is a stripe shape. However, the present invention is not limited to this shape, and can be applied to any electrode shape such as a multiplex matrix configuration and icons. It is.
【0054】図2に示すように、下側基板2の外面上に
おいて、平面的に表示領域9に対応する領域内に駆動用
IC10(電子部品)が実装されている。この駆動用I
C10は、外部回路(図示せず)から外部接続端子26
を通じて入力された信号を受けて信号電極6に対しては
画像信号を、走査電極7に対しては走査信号を供給する
ものである。また、下側基板2の外面上には、後述する
信号電極用引き廻し配線(第1の引き廻し導電部)の一
部を構成する信号電極用接続配線12(第1の外面上接
続部)、および走査電極用引き廻し配線(第2の引き廻
し導電部)の一部を構成する走査電極用接続配線14
(第2の外面上接続部)がそれぞれ配設されており、駆
動用IC10の端子(図2、図4は図示省略)と電気的
に接続されている。As shown in FIG. 2, a driving IC 10 (electronic component) is mounted on an outer surface of the lower substrate 2 in a region corresponding to the display region 9 in a plane. This drive I
C10 is connected to an external connection terminal 26 from an external circuit (not shown).
The image signal is supplied to the signal electrode 6 and the scanning signal is supplied to the scanning electrode 7 in response to the signal inputted through the input terminal. Also, on the outer surface of the lower substrate 2, a signal electrode connection wire 12 (a first outer surface connection portion) which constitutes a part of a signal electrode lead wire (a first lead conductive portion) described later. , And scanning electrode connection wiring 14 constituting a part of the scanning electrode wiring (second wiring conductive portion)
(The second connection portion on the outer surface) are provided, and are electrically connected to the terminals of the driving IC 10 (not shown in FIGS. 2 and 4).
【0055】図3に示すように、下側基板2の内面上
に、アルミニウムや銀(または銀を含有する合金)など
の光反射率の高い金属薄膜からなる多数の信号電極6が
ストライプ状(帯状)に設けられている。これら信号電
極6は反射層を兼ねており、表示時には偏光板5、位相
差板4を介して上側基板3の外方から入射し、液晶層を
透過した光が下側基板の内面に達してこれら信号電極6
の表面で反射し、画像表示がなされるようになってい
る。信号電極6の一端はそのまま電極の延在方向に細く
延び、その先端が円形に形成され、後述する孔内接続部
(第1の孔内接続部)と接続するためのランド16とな
っている。ランド16は下側基板2において信号電極6
の延在方向の基板辺に沿って端部に配置されている。ラ
ンド16の中央には、下側基板2の内面、外面間を貫通
するスルーホールが形成されている。信号電極6の端部
のこの部分が、信号電極6と駆動用IC10とを電気的
に接続する信号電極用引き廻し配線の一部を構成する信
号電極用接続配線18となる。As shown in FIG. 3, on the inner surface of the lower substrate 2, a large number of signal electrodes 6 made of a metal thin film having a high light reflectivity such as aluminum or silver (or an alloy containing silver) are formed in a striped shape. Band-like). These signal electrodes 6 also serve as reflection layers. At the time of display, light enters from the outside of the upper substrate 3 via the polarizing plate 5 and the phase difference plate 4, and light transmitted through the liquid crystal layer reaches the inner surface of the lower substrate. These signal electrodes 6
The light is reflected on the surface of the camera and an image is displayed. One end of the signal electrode 6 is thinly extended in the extending direction of the electrode as it is, and the tip is formed in a circular shape, and serves as a land 16 for connecting to a connection portion in a hole (a first connection portion in a hole) described later. . The land 16 is formed on the signal electrode 6 on the lower substrate 2.
Are arranged at the ends along the side of the substrate in the extending direction. In the center of the land 16, a through hole is formed that penetrates between the inner surface and the outer surface of the lower substrate 2. This portion of the end portion of the signal electrode 6 serves as a signal electrode connection wiring 18 which forms a part of a signal electrode lead-out wiring for electrically connecting the signal electrode 6 and the driving IC 10.
【0056】本実施の形態の場合、信号電極用接続配線
18は、図3における最上部の信号電極6から順に、信
号電極6の左側、右側、左側、…というように交互に反
対側の領域に引き出されているため、上下方向に隣接す
る接続配線間の間隔が広く、接続配線同士が短絡しにく
く信頼性が確保されている。しかしながら、特に接続配
線間の間隔等に問題がなければ、全ての接続配線を同方
向に引き出したり、例えば上側半分の接続配線を左側、
下側半分の接続配線を右側と分けて引き出すなど、接続
配線の引き出し方向は任意で良い。また、スルーホール
を直線的に配置するのではなく、ジグザグ(千鳥配列)
に配置することで狭ピッチにも対応可能になる。さら
に、特に接続配線として信号電極6よりも細い部分を作
らなくても、単に信号電極6の端部にスルーホールを設
けた構成でも良い。In the case of the present embodiment, the signal electrode connection wirings 18 are arranged in the order of the left, right, left,... Therefore, the distance between the connection wirings adjacent in the vertical direction is wide, and the connection wirings are hardly short-circuited and the reliability is secured. However, if there is no problem particularly in the interval between the connection wirings, all the connection wirings may be pulled out in the same direction, or, for example, the upper half of the connection wirings may be left-
The connection wiring may be drawn in any direction, such as drawing out the lower half of the connection wiring separately from the right side. Also, instead of arranging through holes in a straight line, zigzag (staggered arrangement)
By arranging them at a narrow pitch, it becomes possible to cope with a narrow pitch. Further, a configuration in which a through-hole is simply provided at an end of the signal electrode 6 may be used without particularly forming a portion thinner than the signal electrode 6 as a connection wiring.
【0057】また、下側基板2においてランド16が端
部で配置された基板辺と隣接する他の一方の基板辺の端
部には、後述する上下導通部(基板間接続部)と孔内接
続部(第2の孔内接続部)との間を電気的に接続する多
数の走査電極用接続配線21(第2の内面上接続部)が
形成されている。これら走査電極用接続配線21は上側
基板3の各走査電極7とランド22で上下基板間の上下
導通により電気的に接続されるものである。本実施の形
態の場合、各走査電極用接続配線21の一端は上下導通
部に接する矩形のランド22、他端は孔内接続部に接す
る円形のランド23となっており、円形のランド23の
中央には下側基板2の内面、外面間を貫通するスルーホ
ールが形成されている。これら走査電極用接続配線21
も信号電極6と同じアルミニウムなどの材料で形成され
ている。In the lower substrate 2, an end of another substrate side adjacent to the substrate side where the land 16 is disposed at the end is provided with an up-down conductive portion (substrate connection portion) to be described later and a hole in the hole. A large number of scanning electrode connection wirings 21 (second connection portions on the inner surface) for electrically connecting the connection portions (second connection portions in the hole) are formed. These scanning electrode connection wirings 21 are electrically connected to the respective scanning electrodes 7 of the upper substrate 3 and the lands 22 by vertical conduction between the upper and lower substrates. In the case of the present embodiment, one end of each scanning electrode connection wiring 21 is a rectangular land 22 in contact with the upper and lower conductive portions, and the other end is a circular land 23 in contact with the in-hole connection portion. In the center, a through-hole penetrating between the inner surface and the outer surface of the lower substrate 2 is formed. These scanning electrode connection lines 21
Is also formed of the same material as the signal electrode 6 such as aluminum.
【0058】図4は、図3に示す下側基板2を裏返した
状態を示している。下側基板2の外面上には、図3に示
した信号電極用接続配線18のランド16の中に形成さ
れたスルーホール、走査電極用接続配線21のランド2
3の中に形成されたスルーホールの位置に対応して円形
のランド24,25がそれぞれ設けられている。更に下
側基板2の外面上には、信号電極用接続配線18のラン
ド16の中に形成されたスルーホールに対応する各ラン
ド24から駆動用IC10の実装領域に向けて信号電極
用接続配線12がそれぞれ設けられ、同様に走査電極用
接続配線21のランド23の中に形成されたスルーホー
ルに対応する各ランド25から駆動用IC10の実装領
域に向けて走査電極用接続配線14が設けられている。FIG. 4 shows a state where the lower substrate 2 shown in FIG. 3 is turned upside down. On the outer surface of the lower substrate 2, through holes formed in the lands 16 of the signal electrode connection wiring 18 shown in FIG.
Circular lands 24 and 25 are provided respectively corresponding to the positions of the through holes formed in 3. Further, on the outer surface of the lower substrate 2, the signal electrode connection wirings 12 extend from the lands 24 corresponding to the through holes formed in the lands 16 of the signal electrode connection wiring 18 toward the mounting region of the driving IC 10. Similarly, the scanning electrode connection wiring 14 is provided from each land 25 corresponding to the through hole formed in the land 23 of the scanning electrode connection wiring 21 to the mounting area of the driving IC 10. I have.
【0059】下側基板2の周縁部の4辺(四つの基板
辺)のうち、3辺(三つの基板辺)に沿って上記多数の
ランド24,25が配置されており、上側基板3の内面
に形成された走査電極7との電気的接続(上下導通)が
なされる基板辺(ランド25が配置される基板辺)と対
向する残りの1辺に沿って多数の外部接続端子26が形
成されている。つまり、下側基板2の外面上に形成され
る外部接続端子26は、上側基板3の内面に形成された
走査電極7の延在方向に位置する下側基板2の基板辺に
沿って端部で配列形成されている。外部接続端子26
は、この液晶表示装置1と駆動用外部回路等をFPCや
異方性導電コネクター(またはラバーコネクター)など
の接続用部品を用いて接続する際にそのFPCの端子と
接続するための端子である。そして、これら外部接続端
子26の各々から駆動用IC10の実装領域に向けて、
駆動用IC10に駆動信号を供給するための信号入力用
配線41がそれぞれ設けられている。本実施の形態の場
合、下側基板2の外面に形成された信号電極用接続配線
12、走査電極用接続配線14、外部接続端子26、信
号入力用配線41等は全て、内面側の信号電極6、各接
続配線18,21等と同じく、アルミニウムや銀(また
は銀を含有する合金)等の材料から形成されている。つ
まり、上側基板3の内面に形成された走査電極7以外の
配線、及び電極は同じ材料から形成されている。Out of the four sides (four substrate sides) of the peripheral portion of the lower substrate 2, the lands 24 and 25 are arranged along three sides (three substrate sides). A large number of external connection terminals 26 are formed along the remaining one side opposite to the side of the substrate (the side of the substrate on which the lands 25 are disposed) where electrical connection (vertical conduction) with the scanning electrodes 7 formed on the inner surface is made. Have been. That is, the external connection terminals 26 formed on the outer surface of the lower substrate 2 are connected to the ends of the lower substrate 2 located in the direction in which the scanning electrodes 7 formed on the inner surface of the upper substrate 3 extend. It is formed in an array. External connection terminal 26
Is a terminal for connecting the liquid crystal display device 1 to a driving external circuit or the like using a connecting part such as an FPC or an anisotropic conductive connector (or a rubber connector) with a terminal of the FPC. . Then, from each of these external connection terminals 26 toward the mounting area of the driving IC 10,
A signal input wiring 41 for supplying a drive signal to the drive IC 10 is provided. In the case of the present embodiment, the signal electrode connection wiring 12, the scanning electrode connection wiring 14, the external connection terminal 26, the signal input wiring 41, and the like formed on the outer surface of the lower substrate 2 are all internal signal electrodes. 6, like the connection wirings 18 and 21, etc., are formed of a material such as aluminum or silver (or an alloy containing silver). That is, the wiring and electrodes other than the scanning electrodes 7 formed on the inner surface of the upper substrate 3 are formed of the same material.
【0060】なお、下側基板2の外面は、駆動用IC1
0の実装領域および外部接続端子26の形成領域を除
く、配線が露出した領域をポリイミド、レジスト等の樹
脂を用いて被覆しておくことが望ましい。このような被
覆層を形成すると、信号電極用接続配線12、走査電極
用接続配線14、信号入力用配線41等の配線の腐食、
断線、ショート等の不具合を防止することができる。The outer surface of the lower substrate 2 is
It is desirable to cover the area where the wiring is exposed, except for the mounting area of No. 0 and the area where the external connection terminal 26 is formed, with a resin such as polyimide or resist. When such a coating layer is formed, corrosion of wirings such as the signal electrode connection wiring 12, the scanning electrode connection wiring 14, and the signal input wiring 41,
Problems such as disconnection and short-circuit can be prevented.
【0061】図5に示すように、上側基板3の内面上
に、ITOなどの透明導電性薄膜からなる多数の走査電
極7がストライプ状(帯状)に設けられている。図5に
おける各走査電極7の長さ方向(配線形成方向)の端部
が上下導通部に接続される部分となる。なお、図示しな
い上側基板3の外面側は何も形成されていない平坦な面
となっている。As shown in FIG. 5, a large number of scanning electrodes 7 made of a transparent conductive thin film such as ITO are provided on the inner surface of the upper substrate 3 in a stripe shape (strip shape). The end in the length direction (wiring forming direction) of each scanning electrode 7 in FIG. 5 is a portion connected to the vertical conducting portion. The outer surface of the upper substrate 3 (not shown) is a flat surface on which nothing is formed.
【0062】上記構成の下側基板2と上側基板3を重ね
合わせると、図6に示すようになる。図6において、2
点鎖線で示した符号27の部材は両基板を接着するとと
もに液晶層を基板間に封止するためのシール材である。
信号電極6と走査電極7が交差する部分が個々の画素8
となり、多数の画素8がマトリクス状に配列した領域が
表示領域9となる。本実施の形態の場合、下側基板2の
外形よりも上側基板3の外形の方が小さく、下側基板2
の周縁部は上側基板3の外側にはみ出している。下側基
板2の内面上の各信号電極用接続配線18の先端のラン
ド16の部分は、それぞれ上側基板3の外側にはみ出し
て位置している。つまり、各信号電極6から導出される
各信号電極用接続配線18はシール材の形成部を突き抜
け、更に上側基板3の外形(外周)よりも外側に延在し
て形成され、その先端部分にランド16が配置されてい
る。一方、下側基板2の内面上の各走査電極用接続配線
21については、上下導通部に接する矩形のランド22
の部分がシール材27の部分に位置し、スルーホールが
設けられた円形のランド23の部分が上側基板3の外側
にはみ出して位置している。When the lower substrate 2 and the upper substrate 3 having the above structure are superposed, the result is as shown in FIG. In FIG. 6, 2
A member indicated by a dotted line 27 is a sealant for bonding the two substrates and sealing the liquid crystal layer between the substrates.
The portion where the signal electrode 6 and the scanning electrode 7 intersect each other is a pixel 8
The area where many pixels 8 are arranged in a matrix is the display area 9. In the case of the present embodiment, the outer shape of the upper substrate 3 is smaller than the outer shape of the lower substrate 2,
Are protruding outside the upper substrate 3. The lands 16 at the tips of the signal electrode connection wirings 18 on the inner surface of the lower substrate 2 protrude outside the upper substrate 3. In other words, each signal electrode connection wiring 18 derived from each signal electrode 6 penetrates through the formation portion of the sealing material, is formed so as to extend outside the outer shape (outer periphery) of the upper substrate 3, and is formed at the tip portion. The land 16 is arranged. On the other hand, each scanning electrode connection wiring 21 on the inner surface of the lower substrate 2 has a rectangular land 22
Is located at the portion of the sealing material 27, and the portion of the circular land 23 provided with the through hole is located outside the upper substrate 3.
【0063】図7は図6のA−A’線に沿う断面図、す
なわち信号電極6に沿った方向に切断した断面図であ
る。この図に示すように、下側基板2と上側基板3との
間にシール材27が挟持され、下側基板2と上側基板3
とシール材27とにより密閉された空間に液晶層28が
挟持されている。ここでは、液晶層28として例えばS
TN(Super Twisted Nematic)液晶等の一般的な液晶
を用いることができる。FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 6, that is, a cross-sectional view cut in a direction along the signal electrode 6. As shown in this figure, a sealing material 27 is sandwiched between the lower substrate 2 and the upper substrate 3, and the lower substrate 2 and the upper substrate 3
A liquid crystal layer 28 is sandwiched in a space sealed by the sealing material 27 and the sealing material 27. Here, for example, S
A general liquid crystal such as a TN (Super Twisted Nematic) liquid crystal can be used.
【0064】下側基板2の内面上に信号電極6および信
号電極6と一体形成された信号電極用接続配線18が形
成されるとともに、下側基板2の外面上には信号電極用
接続配線12が形成され、双方の信号電極用接続配線1
2,18の先端のランドの部分には基板を貫通するスル
ーホール17が形成されている。スルーホール17の内
部には銀ペースト等の導電性材料が充填されており、こ
の導電性材料が、内面側の信号電極用接続配線18と外
面側の信号電極用接続配線12とを電気的に接続する孔
内接続部15を構成している。On the inner surface of lower substrate 2, signal electrode 6 and signal electrode connection wiring 18 integrally formed with signal electrode 6 are formed, and on the outer surface of lower substrate 2, signal electrode connection wiring 12 is formed. Is formed, and both signal electrode connection wirings 1 are formed.
Through holes 17 penetrating the substrate are formed in the lands at the tips of the ends 2 and 18. The inside of the through-hole 17 is filled with a conductive material such as a silver paste, and the conductive material electrically connects the signal electrode connection wiring 18 on the inner surface and the signal electrode connection wiring 12 on the outer surface. The connection part 15 in a hole which connects is comprised.
【0065】ここで、孔内接続部15のより詳細な構成
としては、例えば図11(a)に示すように、スルーホ
ール17の内部に銀ペースト等の導電性材料を埋め込ん
で孔内接続部15を形成した後、導電性材料の表面を絶
縁性の樹脂で被覆するなどして被覆層29を形成する
と、導電性材料の腐食を防止することができる。もしく
は、図11(b)に示すように、スルーホール17の内
部に導電性材料を埋め込んで孔内接続部15を先に形成
した後、孔内接続部15の上面および下面を覆うように
下側基板2の内面上および外面上にそれぞれ信号電極用
接続配線18,12を形成してもよい。Here, as a more detailed structure of the connection portion 15 in the hole, for example, as shown in FIG. 11A, a conductive material such as silver paste is embedded in the through hole 17 to connect the connection portion in the hole. By forming the coating layer 29 by, for example, coating the surface of the conductive material with an insulating resin after forming 15, the corrosion of the conductive material can be prevented. Alternatively, as shown in FIG. 11B, after the conductive material is embedded in the through hole 17 to form the connection portion 15 in the hole first, the lower portion is formed so as to cover the upper surface and the lower surface of the connection portion 15 in the hole. The connection wirings 18 and 12 for signal electrodes may be formed on the inner surface and the outer surface of the side substrate 2, respectively.
【0066】もしくは、孔内接続部は、内面側および外
面側の信号電極用接続配線同士を電気的に接続できれば
よいのであって、必ずしも孔の内部全体に埋め込まれて
いなくてもかまわない。したがって、図12に示すよう
に、電解メッキ法を用いてスルーホール17の内壁にの
み導電性材料を付着させ、孔内接続部30としてもよ
い。Alternatively, the connection portion in the hole is only required to be capable of electrically connecting the signal electrode connection wirings on the inner surface side and the outer surface side, and may not necessarily be embedded in the entire inside of the hole. Therefore, as shown in FIG. 12, a conductive material may be adhered only to the inner wall of the through hole 17 using an electrolytic plating method to form the connection portion 30 in the hole.
【0067】また図7に示すように、下側基板2の外面
上に形成された信号電極用接続配線12のスルーホール
17が設けられた側と反対側の端部には、駆動用IC1
0の端子31が接続されている。以上のような配線構造
を採ることにより、駆動用IC10から出力された画像
信号は、下側基板2の外面上の信号電極用接続配線1
2、孔内接続部15、下側基板2の内面上の信号電極用
接続配線18を経由して各信号電極6に供給される。よ
って、これら下側基板2の外面上の信号電極用接続配線
12、孔内接続部15、下側基板2の内面上の信号電極
用接続配線18が信号電極用引き廻し配線11を構成す
ることになる。As shown in FIG. 7, the driving IC 1 is provided at the end of the signal electrode connection wiring 12 formed on the outer surface of the lower substrate 2 on the side opposite to the side where the through hole 17 is provided.
0 terminal 31 is connected. By employing the above wiring structure, the image signal output from the driving IC 10 is connected to the signal electrode connection wiring 1 on the outer surface of the lower substrate 2.
2. It is supplied to each signal electrode 6 via the connection portion 15 in the hole and the signal electrode connection wiring 18 on the inner surface of the lower substrate 2. Therefore, the connection wiring 12 for signal electrodes on the outer surface of the lower substrate 2, the connection portion 15 in the hole, and the connection wiring 18 for signal electrodes on the inner surface of the lower substrate 2 constitute the wiring 11 for signal electrodes. become.
【0068】図7に示す駆動用IC10の実装形態は、
ICの表面(端子形成面)側を基板側に向けた、いわゆ
るフェイスダウン実装(もしくはILB(Inner Lead B
onding)実装)と呼ばれるものであり、例えばマトリク
ス状に配置された半田ボールが端子31を構成するBG
A(Ball Grid Array)型半導体素子やバンプ電極をI
Cの外形周辺部に沿って配置された半導体素子などが用
いられる。The mounting form of the driving IC 10 shown in FIG.
The so-called face-down mounting (or ILB (Inner Lead B) with the surface (terminal formation surface) side of the IC facing the substrate side
onding), for example, a BG that forms the terminal 31 by solder balls arranged in a matrix.
A (Ball Grid Array) type semiconductor elements and bump electrodes
A semiconductor element or the like arranged along the periphery of the outer shape of C is used.
【0069】もしくは、図10に示すように、駆動用I
C32の裏面側を下側基板2上に固定し、IC表面側の
電極パッド33と信号電極用接続配線12とをワイヤー
34でボンディングした、いわゆるフェイスアップ実装
(もしくはOLB(Outer Lead Bonding)実装)と呼ば
れる実装形態により駆動用ICを実装してもよい。Alternatively, as shown in FIG.
So-called face-up mounting (or OLB (Outer Lead Bonding) mounting) in which the back surface side of C32 is fixed on the lower substrate 2 and the electrode pads 33 on the IC surface side and the signal electrode connection wiring 12 are bonded by wires 34. The driving IC may be mounted by a mounting mode called “driver IC”.
【0070】また図7に示すように、上側基板3の内面
には多数の走査電極7が形成されている。そして、下側
基板2、上側基板3双方の液晶層28に接する側の最上
層には配向膜35,36がそれぞれ形成されている。配
向膜35,36はポリイミド等の膜からなり、ラビング
等の配向処理が施されたものである。また、下側基板2
と上側基板3の間には基板間の間隔(以下、セルギャッ
プという)を一定に保持するためのスペーサ37が散布
されている。As shown in FIG. 7, a large number of scanning electrodes 7 are formed on the inner surface of the upper substrate 3. Then, alignment films 35 and 36 are formed on the uppermost layers of both the lower substrate 2 and the upper substrate 3 on the side in contact with the liquid crystal layer 28, respectively. The alignment films 35 and 36 are made of a film such as polyimide, and have been subjected to an alignment process such as rubbing. Also, the lower substrate 2
Spacers 37 for keeping the distance between the substrates (hereinafter referred to as a cell gap) constant are dispersed between the upper substrate 3 and the upper substrate 3.
【0071】一方、図8は図6のB−B’線に沿う断面
図、すなわち走査電極7に沿った方向に切断した断面図
であり、走査電極用引き廻し配線13の構成が示されて
いる。この図に示すように、上側基板3の内面上に、シ
ール材27の上面と走査電極7の端部で接触するように
走査電極7が形成されている。また、下側基板2の内面
上には、多数の信号電極6が形成されるとともに、シー
ル材27の下面と接触するように走査電極用接続配線2
1が形成されている。ここで、シール材27の内部には
樹脂等のバインダー中に金属粒子、プラスチックボール
の表面を金属めっきした粒子等の導電材が混入されてお
り、シール材27の上面および下面にそれぞれ接触した
走査電極7と走査電極用接続配線21とが異方性を有し
て電気的に接続されて上下導通部19を構成している。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 6, that is, a cross-sectional view cut in a direction along the scanning electrode 7, showing the configuration of the scanning electrode lead-out wiring 13. I have. As shown in this figure, the scanning electrode 7 is formed on the inner surface of the upper substrate 3 so as to be in contact with the upper surface of the sealing material 27 at the end of the scanning electrode 7. A large number of signal electrodes 6 are formed on the inner surface of the lower substrate 2, and the scanning electrode connection wiring 2 is so contacted with the lower surface of the sealing material 27.
1 is formed. Here, metal particles and conductive material such as particles obtained by metal-plating the surface of a plastic ball are mixed in a binder such as a resin inside the sealing material 27, and the scanning is performed in contact with the upper and lower surfaces of the sealing material 27, respectively. The electrode 7 and the scanning electrode connection wiring 21 are electrically connected with anisotropy to form the upper / lower conducting portion 19.
【0072】以下、下側基板2の内面から外面にわたっ
て電気的に接続される構成は、信号電極用引き廻し配線
11の場合と同様である。すなわち、下側基板2の外面
上に走査電極用接続配線14が形成され、内面側、外面
側双方の走査電極用接続配線21,14の先端のランド
23,25の部分にスルーホール38が形成されてい
る。スルーホール38の内部には銀ペースト等の導電性
材料が充填され、この導電性材料が孔内接続部20を構
成し、内面側、外面側の走査電極用接続配線21,14
を互いに電気的に接続している。Hereinafter, the structure of electrical connection from the inner surface to the outer surface of the lower substrate 2 is the same as that of the signal electrode wiring 11. That is, the scanning electrode connection wiring 14 is formed on the outer surface of the lower substrate 2, and the through holes 38 are formed in the lands 23, 25 at the tips of the scanning electrode connection wirings 21, 14 on both the inner surface and the outer surface. Have been. The inside of the through hole 38 is filled with a conductive material such as a silver paste, and the conductive material forms the connection portion 20 in the hole, and the connection wirings 21 and 14 for the scanning electrodes on the inner surface and the outer surface.
Are electrically connected to each other.
【0073】また、下側基板2の外面上の走査電極用接
続配線14の一端にはスルーホール38が設けられ、反
対側の端部には駆動用IC10の端子31が接続されて
いる。以上のような配線構造を採ることにより、駆動用
IC10から出力された走査信号は、下側基板2の外面
上の走査電極用接続配線14、孔内接続部20、下側基
板2の内面上の走査電極用接続配線21、上下導通部1
9を経由して各走査電極7に供給される。よって、これ
ら下側基板2の外面上の走査電極用接続配線14、孔内
接続部20、下側基板2の内面上の走査電極用接続配線
21、および上下導通部19が走査電極用引き廻し配線
13を構成することになる。Further, a through hole 38 is provided at one end of the scanning electrode connection wiring 14 on the outer surface of the lower substrate 2, and a terminal 31 of the driving IC 10 is connected to the opposite end. By adopting the above-described wiring structure, the scanning signal output from the driving IC 10 is connected to the scanning electrode connection wiring 14 on the outer surface of the lower substrate 2, the connection portion 20 in the hole, and the inner surface of the lower substrate 2. Scanning electrode connection wiring 21, upper and lower conductive portion 1
9 and is supplied to each scanning electrode 7. Therefore, the scanning electrode connection wiring 14 on the outer surface of the lower substrate 2, the connection portion 20 in the hole, the scanning electrode connection wiring 21 on the inner surface of the lower substrate 2, and the vertical conducting portion 19 are routed for the scanning electrode. The wiring 13 is configured.
【0074】なお、シール材27の内部に導電材を混入
してこの部分を上下導通部19とすることに代えて、例
えば図9に示すように、上側基板2の内面上でシール材
27外側の下側基板2のスルーホール38の上方にあた
る位置まで走査電極7を延在させ、下側基板2のスルー
ホール38の上方に任意の上下導通材39を形成し、こ
の部分を上下導通部40としてもよい。この上下導通材
39は、例えば銀ペースト等の印刷により形成すること
ができる。この構成の場合、シール材27の部分では電
気的導通がないが、上下導通材39の形成部分で基板間
の導通がなされ、導通経路としては図8の配置、及び接
続構造とほとんど同様になる。It is to be noted that, instead of mixing a conductive material into the inside of the sealing material 27 and forming this portion as the upper and lower conductive portion 19, for example, as shown in FIG. The scanning electrode 7 is extended to a position above the through hole 38 of the lower substrate 2, an arbitrary vertical conductive material 39 is formed above the through hole 38 of the lower substrate 2, and this portion is It may be. The upper and lower conductive members 39 can be formed by printing, for example, silver paste or the like. In the case of this configuration, although there is no electrical conduction at the portion of the sealing material 27, conduction between the substrates is performed at the portion where the upper and lower conductive materials 39 are formed, and the conduction path is almost the same as the arrangement and connection structure of FIG. .
【0075】以下、上記構成の液晶表示装置の製造方法
について説明する。Hereinafter, a method of manufacturing the liquid crystal display device having the above configuration will be described.
【0076】下側基板2の材料としてポリイミド基板を
用意し、基板の表裏両面にアルミニウム等の金属材料か
らなる導電性薄膜を成膜する。次に、基板両面の導電性
薄膜上に感光性レジストを塗布した後、基板両面上にフ
ォトマスクを配置し、同時に露光を行う。次いで、周知
のフォトリソグラフィー、エッチング技術を用いて下側
基板の表裏両面の導電性薄膜のパターニングを同時に行
うことにより、上述の下側基板2内面側の信号電極6、
各接続配線18,21、外面側の信号電極用接続配線1
2、走査電極用接続配線14、信号入力用配線41、外
部接続端子26等を一括して形成する。A polyimide substrate is prepared as a material of the lower substrate 2, and a conductive thin film made of a metal material such as aluminum is formed on both surfaces of the substrate. Next, after a photosensitive resist is applied on the conductive thin film on both surfaces of the substrate, a photomask is arranged on both surfaces of the substrate, and exposure is performed simultaneously. Next, by simultaneously patterning the conductive thin films on both the front and back surfaces of the lower substrate using well-known photolithography and etching techniques, the signal electrodes 6 on the inner surface side of the lower substrate 2 are formed.
Connection wirings 18 and 21, connection wiring 1 for signal electrode on outer surface side
2. The scanning electrode connection wiring 14, the signal input wiring 41, the external connection terminal 26, and the like are collectively formed.
【0077】次に、基板上の各接続配線端部の所定の箇
所にCO2レーザー等を照射することによって基板を貫
通するスルーホール17,38を形成する。スルーホー
ルの他の形成方法としては、レジストパターンをマスク
としたケミカルエッチング等を用いてもよい。その後、
スルーホール17,38の内部に銀ペースト等の導電性
材料を充填して孔内接続部15,20を形成し、下側基
板2両面の各接続配線間を電気的に導通させる。また、
孔内接続部の他の形成方法としては、電解メッキ処理等
を用いてスルーホールの内壁に導電性材料を付着させる
方法でもよい。いずれにしても、本実施の形態の場合、
基板の表裏両面の導電性薄膜材料を同じにしたことによ
って、1回のフォトリソグラフィー、エッチング工程で
下側基板2内面側の信号電極等と外面側の各種接続配線
等を同時に形成できるため、製造工程を大幅に簡略化す
ることができる。Next, through holes 17 and 38 penetrating the substrate are formed by irradiating a predetermined portion of each connection wiring end portion on the substrate with a CO2 laser or the like. As another method of forming the through hole, chemical etching or the like using a resist pattern as a mask may be used. afterwards,
The insides of the through holes 17 and 38 are filled with a conductive material such as silver paste to form the connection portions 15 and 20 in the holes, and the connection wirings on both surfaces of the lower substrate 2 are electrically connected. Also,
As another method of forming the connection portion in the hole, a method of attaching a conductive material to the inner wall of the through hole using an electrolytic plating process or the like may be used. In any case, in the case of the present embodiment,
Since the same conductive thin film material is used on both the front and back surfaces of the substrate, the signal electrodes and the like on the inner surface side of the lower substrate 2 and various connection wirings and the like on the outer surface side can be simultaneously formed in one photolithography and etching process. The process can be greatly simplified.
【0078】一方、上側基板3の材料としてポリカーボ
ネート、ポリエーテルスルホン、アクリル系樹脂等の透
明基板を用意し、基板の一面(内面となる面)側にIT
O等の透明性導電膜を成膜する。次いで、周知のフォト
リソグラフィー、エッチング技術を用いて透明性導電膜
をパターニングし、ストライプ状の走査電極7を形成す
る。On the other hand, a transparent substrate such as polycarbonate, polyethersulfone, or acrylic resin is prepared as a material for the upper substrate 3, and an IT (inner surface) is provided on one side of the substrate.
A transparent conductive film such as O is formed. Next, the transparent conductive film is patterned using well-known photolithography and etching techniques to form a stripe-shaped scanning electrode 7.
【0079】次に、下側基板2、上側基板3双方の内面
上にポリイミド等を塗布、焼成した後、ラビング法等に
よる配向処理を施して配向膜35,36をそれぞれ形成
する。次いで、下側基板2、上側基板3のいずれか一方
の基板上にセルギャップを保持するためのスペーサ37
を散布し、シール材27となる樹脂材料を印刷した後、
下側基板2と上側基板3とを貼り合わせ、シール材27
を硬化させて、空セルを作製する。本実施の形態の場
合、シール材27の部分を上下導通部とするためにシー
ル材27となる樹脂材料の中に金属粒子等の導電材を混
入させておく。Next, after coating and baking polyimide or the like on the inner surfaces of both the lower substrate 2 and the upper substrate 3, an alignment process such as a rubbing method is performed to form alignment films 35 and 36, respectively. Next, a spacer 37 for maintaining a cell gap on one of the lower substrate 2 and the upper substrate 3
After printing the resin material to be the sealing material 27,
The lower substrate 2 and the upper substrate 3 are attached to each other,
Is cured to produce an empty cell. In the case of the present embodiment, a conductive material such as metal particles is mixed in a resin material to be the sealing material 27 in order to make the sealing material 27 a vertical conductive portion.
【0080】次に、空セル内に、真空注入法等によりシ
ール材の液晶注入口から液晶を注入し、液晶注入口を封
止することで液晶セルが作製される。さらに、上側基板
3の外面側に位相差板4、偏光板5を順次貼着した後、
下側基板2の外面側にフェイスダウン実装、フェイスア
ップ実装等の形態で駆動用IC10を実装する。以上の
工程により、本実施の形態の液晶表示装置1が完成す
る。Next, a liquid crystal is injected into the empty cell from a liquid crystal injection port of a sealing material by a vacuum injection method or the like, and the liquid crystal injection port is sealed, whereby a liquid crystal cell is manufactured. Further, after the retardation plate 4 and the polarizing plate 5 are sequentially attached to the outer surface side of the upper substrate 3,
The driving IC 10 is mounted on the outer surface side of the lower substrate 2 in a form such as face-down mounting or face-up mounting. Through the above steps, the liquid crystal display device 1 of the present embodiment is completed.
【0081】本実施の形態の液晶表示装置1において
は、下側基板2の外面上に下側基板2内面の信号電極6
および上側基板3内面の走査電極7と電気的に接続さ
れ、これら電極に対して信号を供給する駆動用IC10
が実装されている。そして、従来の構成では、各電極の
引き廻し配線が例えば下側基板の内面上の表示領域の外
側に引き廻されていたのに対し、本実施の形態の構成で
は、信号電極用引き廻し配線11、走査電極用引き廻し
配線13の双方が、下側基板2、上側基板3各々の内面
から下側基板2の内部を通って下側基板2の外面側に引
き廻されている。In the liquid crystal display device 1 of the present embodiment, the signal electrodes 6 on the inner surface of the lower substrate 2
And a driving IC 10 electrically connected to the scanning electrodes 7 on the inner surface of the upper substrate 3 and supplying signals to these electrodes.
Has been implemented. In the conventional configuration, the lead wiring of each electrode is led, for example, to the outside of the display area on the inner surface of the lower substrate, whereas in the configuration of the present embodiment, the lead wiring for the signal electrode is provided. 11, both of the scanning electrode routing wiring 13 are routed from the inner surfaces of the lower substrate 2 and the upper substrate 3 to the outer surface of the lower substrate 2 through the inside of the lower substrate 2.
【0082】したがって、本実施の形態によれば、従来
の構成において下側基板内面の表示領域外側に設けてい
た引き廻し領域、さらにはFPCや電子部品の実装領域
が不要となるので、その分だけ従来に比べて大幅に額縁
を狭くすることができる。また、表示領域9内を含めて
下側基板2の外面側全面に多数の接続配線をレイアウト
することができ、接続配線間のピッチを余裕を持って設
計することができるので、引き廻し抵抗が増大するとい
う問題が生じることもない。Therefore, according to the present embodiment, the routing area provided outside the display area on the inner surface of the lower substrate and the mounting area for the FPC and the electronic components in the conventional configuration are not required, and accordingly, it becomes unnecessary. Only the frame can be significantly narrowed compared with the conventional case. Also, a large number of connection wirings can be laid out on the entire outer surface of the lower substrate 2 including the display area 9 and the pitch between the connection wirings can be designed with a margin, so that the drawing resistance is reduced. The problem of increase does not occur.
【0083】さらに、本実施の形態で下側基板2の材料
にポリイミドを用いたように、下側基板2は必ずしも透
明基板である必要はないため、液晶表示装置の基板材料
として従来から一般的なガラス、石英等の透明基板の
他、ポリイミド等の樹脂基板、セラミック基板等を用い
ることもでき、下側基板2の材料選択の自由度が向上す
る。例えば下側基板2にセラミック基板を用いた場合、
下側基板の剛性が向上するので、基板の変形が生じにく
くなり、セルギャップの均一性、ひいては表示の均一性
に優れた液晶表示装置が得られる。また、上下の基板と
もにプラスチックフィルム基板等の可撓性を有する基板
で構成しても良い。この構成にすると、液晶表示装置の
薄型化、軽量化が図れる、基板の割れ等の破損が生じに
くくなる、基板を湾曲させることで曲面表示が可能にな
る、等の利点が得られ、携帯機器等の電子機器に好適な
ものとなる。Further, as in the present embodiment, the lower substrate 2 is not necessarily a transparent substrate as in the case of using polyimide as the material of the lower substrate 2, so that a conventional substrate material for a liquid crystal display device is generally used. In addition to a transparent substrate such as glass or quartz, a resin substrate such as polyimide, a ceramic substrate, or the like can be used, and the degree of freedom in selecting the material of the lower substrate 2 is improved. For example, when a ceramic substrate is used for the lower substrate 2,
Since the rigidity of the lower substrate is improved, the deformation of the substrate is less likely to occur, and a liquid crystal display device having excellent cell gap uniformity and thus excellent display uniformity can be obtained. Further, both the upper and lower substrates may be formed of a flexible substrate such as a plastic film substrate. With this configuration, the liquid crystal display device can be made thinner and lighter, breakage such as breakage of the substrate is less likely to occur, and a curved surface can be displayed by bending the substrate. And the like.
【0084】また、下側基板2外面の周縁部に外部接続
端子26が設けられているので、駆動用IC10に駆動
信号を供給するためのFPCなどをさらに実装するよう
な場合、外部接続端子26とFPCの端子を接続する際
の位置合わせを容易に行うことができる。また、FPC
接合時もしくは接合後、接合部分に応力が発生する場合
があるが、その位置が表示領域9から外れた基板周縁部
であれば、前記応力が表示に悪影響を及ぼすこともな
い。Further, since the external connection terminals 26 are provided at the peripheral portion of the outer surface of the lower substrate 2, when an FPC or the like for supplying a drive signal to the drive IC 10 is further mounted, the external connection terminals 26 are provided. Alignment when connecting the terminals of the FPC and the FPC can be easily performed. Also, FPC
At the time of joining or after joining, stress may be generated in the joined portion. However, if the position is a peripheral portion of the substrate that is out of the display area 9, the stress does not adversely affect the display.
【0085】本実施の形態の場合、下側基板2のスルー
ホール17,38の位置をシール材27の外側に配置し
たため、スルーホール17,38の孔内接続部15,2
0の部分が下側基板2上で若干盛り上がった形状となっ
たとしても、その影響でシール材27内部の表示領域9
のセルギャップが変わるようなこともなく、画像表示上
何ら支障がない。In the case of the present embodiment, since the positions of the through holes 17 and 38 of the lower substrate 2 are arranged outside the sealing material 27, the connection portions 15 and 2 of the through holes 17 and 38 in the holes.
Even if the portion of “0” has a slightly raised shape on the lower substrate 2, the display area 9 inside the sealing material 27 is affected by the influence.
The cell gap does not change, and there is no problem in displaying images.
【0086】また本実施の形態では、上述したように、
下側基板2の内面側の信号電極6等と外面側の各種接続
配線等をアルミニウムなどの同じ材料で構成したため、
製造工程の簡略化を図ることができたが、下側基板2の
内面側の信号電極6等と外面側の各種接続配線等を異な
る材料で形成してもよい。例えば、内面側の信号電極6
には光反射率の高い銀(または銀を含有する合金)、ア
ルミニウム等の金属材料を用い、外面側の接続配線には
低抵抗材料である銅等の金属材料を用いるようにしても
良い。このようにすると、製造工程の簡略化という上記
の利点は得られない代りに、引き廻し抵抗のより一層の
低減を図ることができる。In the present embodiment, as described above,
Since the signal electrodes 6 and the like on the inner surface of the lower substrate 2 and the various connection wirings and the like on the outer surface are made of the same material such as aluminum,
Although the manufacturing process can be simplified, the signal electrodes 6 and the like on the inner surface of the lower substrate 2 and various connection wirings and the like on the outer surface may be formed of different materials. For example, the signal electrode 6 on the inner surface side
, A metal material such as silver (or an alloy containing silver) or aluminum having a high light reflectance may be used, and a metal material such as copper which is a low-resistance material may be used for the connection wiring on the outer surface side. By doing so, the above advantage of simplifying the manufacturing process cannot be obtained, but the routing resistance can be further reduced.
【0087】また下側基板2の構成に関しては、基板の
内外面に導電層を形成し基板を貫通するスルーホールに
より、内外面の導電層の導通を図る基板だけでなく、例
えば図13に示すように、下側基板2の内部に1層以上
の内部導電層42を有する基板、いわゆる多層プリント
配線基板のような基板で構成してもよい。この場合に
は、下側基板2の内面と外面の間の電気的導通は、下側
基板2の内面と内部導電層42との間を貫通及び導通す
るビアホール43内の孔内接続部44、および下側基板
2の外面と内部導電層42との間を貫通及び導通するビ
アホール45内の孔内接続部46(もしくは内部導電層
が2層以上ある場合には相互の内部導電層間を貫通及び
導通するビアホール内の孔内接続部)によってなされる
ことになる。As for the structure of the lower substrate 2, not only a substrate for forming a conductive layer on the inner and outer surfaces of the substrate and through holes penetrating the substrate to establish conduction of the conductive layer on the inner and outer surfaces but also, for example, as shown in FIG. As described above, a substrate having one or more internal conductive layers 42 inside the lower substrate 2, that is, a substrate such as a so-called multilayer printed wiring board may be used. In this case, the electrical conduction between the inner surface and the outer surface of the lower substrate 2 is performed by connecting the inner connection portion 44 in the via hole 43 that penetrates and conducts between the inner surface of the lower substrate 2 and the internal conductive layer 42. And a connection portion 46 in a via hole 45 that penetrates and conducts between the outer surface of the lower substrate 2 and the internal conductive layer 42 (or penetrates between the internal conductive layers when there are two or more internal conductive layers). The connection is made by a connection portion in a conductive via hole.
【0088】下側基板2にこの種の基板を用いると、例
えば引き廻し配線の数が増え、下側基板の外面上だけで
多数の引き廻し配線を引き廻すことが難しくなった場合
に、一部の引き廻し配線を内部導電層を経由して引き廻
すこともできる。そうすれば、引き回しの自由度が向上
するので、表示容量の増大にも対応することが可能にな
る。If this type of substrate is used as the lower substrate 2, for example, the number of routing wires increases, and it becomes difficult to route a large number of routing wires only on the outer surface of the lower substrate. The wiring of the portion can also be routed via the internal conductive layer. Then, the degree of freedom of routing is improved, so that it is possible to cope with an increase in display capacity.
【0089】[第2の実施の形態]以下、本発明の第2
の実施の形態を図14〜図16を参照して説明する。[Second Embodiment] Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIGS.
【0090】本実施の形態も第1の実施の形態と同様、
本発明の液晶装置をパッシブマトリクス型液晶表示装置
に適用した例であって、光反射部を兼ねた表示電極、い
わゆる反射電極を有する液晶表示装置の例である。第1
の実施の形態と異なる点は、上側基板と下側基板がほぼ
同一形状である点と、下側基板上のスルーホールの位置
および外部接続端子の位置が異なる点である。第1の実
施の形態では、下側基板を上側基板の外形より大きくし
てスルーホールをシール材の外側に配置するとともに、
外部接続端子は下側基板の外面上で上側基板から下側基
板が張り出した領域の基板辺に沿って配置されたのに対
し、本実施の形態では、上側基板と下側基板をほぼ等し
い大きさにしてスルーホールをシール材の直下に配置し
ている。即ち、シール材の形成領域にスルーホールを配
置している。また、更に外部接続端子の配置は下側基板
の外面上で上下両基板の重なる領域に配置されている。This embodiment is also similar to the first embodiment.
This is an example in which the liquid crystal device of the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal display device, and is an example of a liquid crystal display device having a display electrode also serving as a light reflection portion, a so-called reflective electrode. First
The difference from the third embodiment is that the upper substrate and the lower substrate have substantially the same shape, and that the positions of the through holes and the positions of the external connection terminals on the lower substrate are different. In the first embodiment, the lower substrate is made larger than the outer shape of the upper substrate, and the through holes are arranged outside the sealing material.
While the external connection terminals are arranged on the outer surface of the lower substrate along the substrate side in a region where the lower substrate extends from the upper substrate, in the present embodiment, the upper substrate and the lower substrate are approximately equal in size. The through-hole is located immediately below the sealing material. That is, the through holes are arranged in the formation region of the sealing material. Further, the external connection terminals are arranged in an area where the upper and lower substrates overlap on the outer surface of the lower substrate.
【0091】このように、本実施の形態の液晶表示装置
の概略構成は第1の実施の形態と共通であるため、共通
な構成については図示および説明を省略する。図14は
第1の実施の形態の図6に対応する図であって、上側基
板と下側基板を重ね合わせた状態を示す透視図、図15
は図14のA−A’線に沿う断面図、図16は図14の
B−B’線に沿う断面図である。なお、これらの図面に
おいて、図1〜図13と共通の構成要素については同一
の符号を付す。As described above, since the schematic configuration of the liquid crystal display device of the present embodiment is common to that of the first embodiment, illustration and description of the common configuration will be omitted. FIG. 14 is a view corresponding to FIG. 6 of the first embodiment, and is a perspective view showing a state in which the upper substrate and the lower substrate are superimposed,
14 is a sectional view taken along the line AA 'of FIG. 14, and FIG. 16 is a sectional view taken along the line BB' of FIG. In these drawings, the same components as those in FIGS. 1 to 13 are denoted by the same reference numerals.
【0092】本実施の形態の液晶表示装置50は、図1
4に示すように、下側基板2の内面上に多数の信号電極
6(第1の導電部)がストライプ状に設けられており、
各信号電極6の長さ方向(配線形成方向)の一端には、
先端のランド16の中央にスルーホールを有する信号電
極用接続配線18が設けられている。これと対向する上
側基板3の内面上には、信号電極6と直交する方向に多
数の走査電極7(第2の導電部)がストライプ状に設け
られている。そして、図15、図16に示すように、下
側基板2の外面上には、信号電極用引き廻し配線11
(第1の引き廻し導電部)の一部を構成する信号電極用
接続配線12(第1の外面上接続部)、および走査電極
用引き廻し配線13(第2の引き廻し導電部)の一部を
構成する走査電極用接続配線14(第2の外面上接続
部)がそれぞれ配設されており、駆動用IC10と電気
的に接続されている。さらに、下側基板2の外面上に
は、外部接続端子26、信号入力用配線41等が設けら
れている。以上の構成は、第1の実施の形態と同様であ
る。[0092] The liquid crystal display device 50 of the present embodiment is similar to that of FIG.
As shown in FIG. 4, a large number of signal electrodes 6 (first conductive portions) are provided on the inner surface of the lower substrate 2 in a stripe shape.
One end of each signal electrode 6 in the length direction (wiring forming direction)
A signal electrode connection wire 18 having a through hole is provided at the center of the land 16 at the tip. On the inner surface of the upper substrate 3 facing this, a number of scanning electrodes 7 (second conductive portions) are provided in a stripe shape in a direction orthogonal to the signal electrodes 6. Then, as shown in FIGS. 15 and 16, the signal electrode lead-out wiring 11 is provided on the outer surface of the lower substrate 2.
One of the signal electrode connection wiring 12 (first external connection part) and the scanning electrode wiring 13 (second wiring conductive part), which constitute a part of the (first wiring conductive part). The scanning electrode connection wirings 14 (the second outer surface connection portions) constituting the units are provided, and are electrically connected to the driving IC 10. Further, on the outer surface of the lower substrate 2, external connection terminals 26, signal input wires 41, and the like are provided. The above configuration is the same as in the first embodiment.
【0093】また第1の実施の形態の場合、スルーホー
ル38の位置がシール材27(上下導通部)の位置の外
側に離れて配置されていたので、下側基板2のシール材
の外側の内面上に、シール材27とスルーホール38内
の孔内接続部20との間を電気的に接続する走査電極用
接続配線21が形成されていた。これに対して、本実施
の形態の場合、スルーホール38とシール材27とが同
じ位置にあるので、第1の実施の形態における下側基板
2内面上の走査電極用接続配線21に相当するものは特
に必要がない。したがって、下側基板2の内面上のシー
ル材27が配置される領域には、これに対向する位置に
配置される上側基板3上の各走査電極7の本数に対応す
る数の矩形のランド22が設けられている。これらラン
ド22の中央には下側基板2の内面、外面間を貫通する
スルーホール38が形成されている。Further, in the case of the first embodiment, since the position of the through hole 38 is located outside the position of the seal member 27 (upper and lower conductive portions), the position of the lower substrate 2 outside the seal member is reduced. On the inner surface, the scanning electrode connection wiring 21 for electrically connecting between the sealing material 27 and the through-hole connection portion 20 in the through hole 38 was formed. On the other hand, in the case of the present embodiment, since the through hole 38 and the sealing material 27 are located at the same position, it corresponds to the scanning electrode connection wiring 21 on the inner surface of the lower substrate 2 in the first embodiment. There is no need for anything. Therefore, in the area where the sealing material 27 is arranged on the inner surface of the lower substrate 2, the rectangular lands 22 of the number corresponding to the number of the respective scanning electrodes 7 on the upper substrate 3 arranged at the position opposed thereto are provided. Is provided. In the center of these lands 22, a through hole 38 penetrating between the inner surface and the outer surface of the lower substrate 2 is formed.
【0094】すなわち、図6と図14を改めて比較する
と、第1の実施の形態では、図6に示すように、下側基
板2の内面上の各信号電極用接続配線18のランド16
の部分がシール材27の外側(上側基板3の外側)には
み出して位置し、各走査電極用接続配線21の端部のス
ルーホール38が設けられた円形のランド23の部分が
シール材27の外側(上側基板3の外側)にはみ出して
位置している。これに対して、本実施の形態において
は、図14に示すように、下側基板2の内面上の各信号
電極用接続配線18のランド16の部分がシール材27
の直下に位置し、各走査電極7に対応して設けられた上
下導通用の矩形のランド22の部分もシール材27の直
下に位置している。つまり、上下基板間の導通を図るラ
ンド22、並びに下側基板2の内面上から外面上への導
通を図るランド16,23とスルーホール17,38の
全てがシール材27の形成領域内に配置されている。That is, comparing FIG. 6 with FIG. 14 again, in the first embodiment, as shown in FIG. 6, the lands 16 of the signal electrode connection wiring 18 on the inner surface of the lower substrate 2 are formed.
Portion protrudes outside the seal material 27 (outside the upper substrate 3), and the portion of the circular land 23 provided with the through hole 38 at the end of each scanning electrode connection wiring 21 corresponds to the seal material 27. It protrudes outside (outside the upper substrate 3). On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 14, the land 16 of each signal electrode connection wiring 18 on the inner surface of the lower substrate 2 is
, And a portion of a rectangular land 22 for vertical conduction provided for each scanning electrode 7 is also located immediately below the sealing material 27. That is, the lands 22 for conducting between the upper and lower substrates, the lands 16 and 23 for conducting from the inner surface to the outer surface of the lower substrate 2, and the through holes 17 and 38 are all disposed in the formation region of the sealing material 27. Have been.
【0095】この構成を断面構造で見ると、図15、図
16に示す通りである。すなわち、信号電極6に沿った
方向に切断すると、図15に示すように、下側基板2の
内面上の信号電極6および信号電極6と一体の信号電極
用接続配線18が形成されるとともに、下側基板2の外
面上には信号電極用接続配線12が形成されている。そ
して、シール材27の直下にあたる双方の信号電極用接
続配線18,12のランド16,24の部分には基板を
貫通するスルーホール17が形成されている。スルーホ
ール17の内部には銀ペースト等の導電性材料が充填さ
れ、この導電性材料が内面側の信号電極用接続配線18
と外面側の信号電極用接続配線12を接続することで孔
内接続部15を構成している。また、下側基板2の外面
上の信号電極用接続配線12のスルーホール17が設け
られた側と反対側の端部には、駆動用IC10の端子3
1が接続されている。孔内接続部の具体的な構成とし
て、図11(a)、(b)、図12に示したような種々
の構造が採用できることは、第1の実施の形態と同様で
ある。This structure is viewed in a sectional structure as shown in FIGS. That is, when cut in a direction along the signal electrode 6, as shown in FIG. 15, the signal electrode 6 on the inner surface of the lower substrate 2 and the signal electrode connection wiring 18 integrated with the signal electrode 6 are formed, The connection wiring 12 for signal electrodes is formed on the outer surface of the lower substrate 2. Further, through holes 17 penetrating the substrate are formed in the portions of the lands 16 and 24 of the signal electrode connection wirings 18 and 12 immediately below the sealing material 27. The inside of the through hole 17 is filled with a conductive material such as a silver paste, and the conductive material is connected to the signal electrode connection wiring 18 on the inner surface side.
And the connection wiring 12 for signal electrodes on the outer surface side to form an in-hole connection portion 15. The terminal 3 of the driving IC 10 is provided at the end of the outer surface of the lower substrate 2 opposite to the side on which the through hole 17 of the signal electrode connection wiring 12 is provided.
1 is connected. As in the first embodiment, various structures shown in FIGS. 11A, 11B, and 12 can be employed as a specific configuration of the connection portion in the hole.
【0096】以上のような配線構造を採ることにより、
駆動用IC10からの画像信号は、下側基板2の外面上
の信号電極用接続配線12、孔内接続部15、下側基板
2の内面上の信号電極用接続配線18を経由して各信号
電極6に供給される。よって、これら下側基板2の外面
上の信号電極用接続配線12、孔内接続部15、下側基
板2の内面上の信号電極用接続配線18が信号電極用引
き廻し配線11を構成することになる。By adopting the above wiring structure,
The image signal from the driving IC 10 is transmitted through the signal electrode connection wiring 12 on the outer surface of the lower substrate 2, the connection portion 15 in the hole, and the signal electrode connection wiring 18 on the inner surface of the lower substrate 2. It is supplied to the electrode 6. Therefore, the connection wiring 12 for signal electrodes on the outer surface of the lower substrate 2, the connection portion 15 in the hole, and the connection wiring 18 for signal electrodes on the inner surface of the lower substrate 2 constitute the wiring 11 for signal electrodes. become.
【0097】一方、走査電極7に沿った方向に切断する
と、図16に示すように、上側基板3の内面上に、シー
ル材27の上面と接触するように走査電極7が形成され
ている。また、下側基板2の内面上には、多数の信号電
極6とともに、シール材27の下面と接触するように走
査電極7との接続用のランド22が形成されている。シ
ール材27の内部には金属粒子等の導電材が混入されて
おり、シール材27の上面および下面にそれぞれ接触し
た走査電極7とランド22とが電気的に接続されて上下
導通部19を構成している。On the other hand, when cut in the direction along the scanning electrode 7, the scanning electrode 7 is formed on the inner surface of the upper substrate 3 so as to be in contact with the upper surface of the sealing material 27 as shown in FIG. In addition, on the inner surface of the lower substrate 2, lands 22 for connection with the scanning electrodes 7 are formed so as to be in contact with the lower surface of the sealing material 27 together with a large number of signal electrodes 6. A conductive material such as metal particles is mixed in the sealing material 27, and the scanning electrode 7 and the land 22 that are in contact with the upper surface and the lower surface of the sealing material 27 are electrically connected to each other to form the upper / lower conductive portion 19. are doing.
【0098】さらに、下側基板2の内面側のランド2
2、外面側の走査電極用接続配線14の先端のランド2
5の部分にスルーホール38が形成されている。スルー
ホール38の内部には銀ペースト等の導電性材料が充填
され、この導電性材料が孔内接続部20を構成し、内面
側のランド22と外面側の走査電極用接続配線14とを
電気的に接続している。また、下側基板2の外面上の走
査電極用接続配線14のスルーホール38が設けられた
側と反対側の端部には、駆動用IC10の端子31が接
続されている。以上のような配線構造を採ることによ
り、駆動用IC10から出力された走査信号は、下側基
板2の外面上の走査電極用接続配線14、孔内接続部2
0、下側基板2の内面上のランド22、上下導通部19
を経由して各走査電極7に供給される。よって、これら
下側基板2の外面上の走査電極用接続配線14、孔内接
続部20、下側基板2の内面上のランド22、および上
下導通部19が走査電極用引き廻し配線13を構成する
ことになる。Further, the land 2 on the inner surface side of the lower substrate 2
2. Land 2 at the end of the scanning electrode connection wiring 14 on the outer surface side
A through hole 38 is formed at a portion 5. The inside of the through hole 38 is filled with a conductive material such as a silver paste, and the conductive material forms the connection portion 20 in the hole, and electrically connects the land 22 on the inner surface and the connection wiring 14 for the scanning electrode on the outer surface. Connected. Further, a terminal 31 of the driving IC 10 is connected to an end of the scanning electrode connection wiring 14 on the outer surface of the lower substrate 2 opposite to a side where the through hole 38 is provided. By adopting the wiring structure as described above, the scanning signal output from the driving IC 10 is connected to the scanning electrode connection wiring 14 on the outer surface of the lower substrate 2 and the in-hole connection portion 2.
0, lands 22 on the inner surface of the lower substrate 2,
Is supplied to each scanning electrode 7 via Therefore, the connection wiring 14 for the scanning electrode on the outer surface of the lower substrate 2, the connecting portion 20 in the hole, the land 22 on the inner surface of the lower substrate 2, and the vertical conducting portion 19 constitute the wiring 13 for the scanning electrode. Will do.
【0099】本実施の形態の場合、第1の実施の形態の
ように下側基板2の内面上の各信号電極用接続配線18
のランド16や走査電極7と接続されるランド22の部
分がシール材27の外側にはみ出していないので、下側
基板2の外形と上側基板3の外形とを同じ程度の大きさ
にできる。その結果、第1の実施の形態に比べてさらに
狭額縁化を図ることができる。In the case of the present embodiment, the connection wirings 18 for the signal electrodes on the inner surface of the lower substrate 2 as in the first embodiment.
Since the land 16 and the land 22 connected to the scanning electrode 7 do not protrude outside the sealing material 27, the outer shape of the lower substrate 2 and the outer shape of the upper substrate 3 can be made substantially the same. As a result, it is possible to further narrow the frame as compared with the first embodiment.
【0100】[第3の実施の形態]以下、本発明の第3
の実施の形態を図17、図18を参照して説明する。[Third Embodiment] Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described.
Will be described with reference to FIG. 17 and FIG.
【0101】本実施の形態も第1、第2の実施の形態と
同様、本発明の液晶装置をパッシブマトリクス型液晶表
示装置に適用した例であって、光反射部を兼ねた表示電
極、いわゆる反射電極を有する液晶表示装置の例であ
る。そして、本実施の形態の液晶表示装置は下側基板に
カラーフィルターを備え、反射型カラー液晶表示装置を
実現した例である。This embodiment is also an example in which the liquid crystal device of the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal display device, similarly to the first and second embodiments, and is a display electrode which also serves as a light reflection portion, a so-called display electrode. It is an example of a liquid crystal display device having a reflective electrode. The liquid crystal display device of the present embodiment is an example in which a color filter is provided on the lower substrate to realize a reflective color liquid crystal display device.
【0102】本実施の形態の液晶表示装置の概略構成は
第1、第2の実施の形態と共通であるため、共通な構成
については図示および説明を省略する。図17は第1の
実施の形態の図7(図6のA−A’線に沿う断面図)に
対応する断面図、図18は第1の実施の形態の図8(図
6のB−B’線に沿う断面図)に対応する断面図であ
る。なお、これらの図面において、図7、図8と共通の
構成要素については同一の符号を付す。The schematic configuration of the liquid crystal display device of this embodiment is common to the first and second embodiments, and illustration and description of the common configuration will be omitted. FIG. 17 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 7 (a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 6) of the first embodiment, and FIG. 18 is a cross-sectional view of FIG. FIG. 14 is a cross-sectional view corresponding to (a cross-sectional view taken along line B ′). In these drawings, the same components as those in FIGS. 7 and 8 are denoted by the same reference numerals.
【0103】本実施の形態の液晶表示装置52において
は、図17および図18に示すように、下側基板2の信
号電極6を覆うように表示領域全域に絶縁膜53が形成
され、その絶縁膜53上にカラーフィルター54が形成
されている。カラーフィルター54は、各画素に対応し
て形成された赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の色
材層55と、金属膜、ブラックレジスト等からなる格子
状の遮光膜56(ブラックマトリクス)とから構成され
ている。そして、カラーフィルター54上に配向膜35
が形成されている。信号電極6、走査電極7等の電極構
成、信号電極用引き廻し配線11、走査電極用引き廻し
配線13等の配線構成に関しては、上記第1の実施の形
態と全く同様である。In the liquid crystal display device 52 of the present embodiment, as shown in FIGS. 17 and 18, an insulating film 53 is formed over the entire display region so as to cover the signal electrode 6 of the lower substrate 2, and the insulating film 53 is formed. A color filter 54 is formed on the film 53. The color filter 54 includes three color material layers 55 of three colors of red (R), green (G), and blue (B) formed corresponding to each pixel, and a lattice-shaped light shielding made of a metal film, a black resist, or the like. And a film 56 (black matrix). Then, the alignment film 35 is formed on the color filter 54.
Are formed. The electrode configuration such as the signal electrode 6 and the scanning electrode 7 and the wiring configuration such as the signal electrode wiring 11 and the scanning electrode wiring 13 are exactly the same as those in the first embodiment.
【0104】本実施の形態の液晶表示装置においては、
下側基板2の内面上にカラーフィルター54を備えてい
るので、狭額縁による小型化が図れ、表示品質の高いカ
ラー液晶表示装置を実現することができ、今後、カラー
化がさらに進むことが予想される携帯電子機器等に好適
なものとなる。また、本実施の形態においては、カラー
フィルターを下側基板側に形成しているが、上側基板側
に形成してもよく、その効果には何ら支障をきたすもの
ではない。In the liquid crystal display of the present embodiment,
Since the color filter 54 is provided on the inner surface of the lower substrate 2, it is possible to reduce the size by using a narrow frame, and to realize a color liquid crystal display device having a high display quality. Suitable for portable electronic devices and the like. Further, in the present embodiment, the color filter is formed on the lower substrate side, but may be formed on the upper substrate side, and the effect thereof is not affected at all.
【0105】[第4の実施の形態]以下、本発明の第4
の実施の形態を図19、図20を参照して説明する。[Fourth Embodiment] Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIGS. 19 and 20.
【0106】本実施の形態も第1〜第3の実施の形態と
同様、本発明の液晶装置をパッシブマトリクス型液晶表
示装置に適用した例である。しかしながら、第1〜第3
の実施の形態が反射電極を有するタイプの反射型液晶表
示装置の例であったのに対して、本実施の形態の液晶表
示装置は反射層と表示電極とを別個に有するタイプの反
射型液晶表示装置の例である。This embodiment is an example in which the liquid crystal device of the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal display device, as in the first to third embodiments. However, the first to third
Embodiment 1 is an example of a reflective liquid crystal display device having a reflective electrode, whereas the liquid crystal display device of the present embodiment is a reflective liquid crystal device having a reflective layer and a display electrode separately. It is an example of a display device.
【0107】本実施の形態の液晶表示装置の全体構成は
第1、第2の実施の形態と共通であるため、共通な構成
については図示および説明を省略する。図19は第1の
実施の形態の図7(図6のA−A’線に沿う断面図)に
対応する断面図、図20は第1の実施の形態の図8(図
6のB−B’線に沿う断面図)に対応する断面図であ
る。なお、これらの図面において、図7、図8と共通の
構成要素については同一の符号を付す。Since the overall configuration of the liquid crystal display device of this embodiment is common to the first and second embodiments, illustration and description of the common configuration will be omitted. FIG. 19 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 7 (a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 6) of the first embodiment, and FIG. 20 is a cross-sectional view of FIG. FIG. 14 is a cross-sectional view corresponding to (a cross-sectional view taken along line B ′). In these drawings, the same components as those in FIGS. 7 and 8 are denoted by the same reference numerals.
【0108】本実施の形態の液晶表示装置58において
は、図19および図20に示すように、下側基板2上の
表示領域全域にアルミニウム、銀(または銀を含有する
合金)等の光反射率の高い金属薄膜からなる反射層59
が形成されている。そして、この反射層59を覆うよう
に絶縁膜60が形成され、その絶縁膜60上に多数の信
号電極6がストライプ状に形成されている。信号電極6
は、絶縁膜60および反射層59の形成領域外では下側
基板2上に直接形成された状態となっているため、スル
ーホール17,38の部分の接続構造は第1の実施の形
態と全く同様である。In the liquid crystal display device 58 of the present embodiment, as shown in FIGS. 19 and 20, light reflection of aluminum, silver (or an alloy containing silver), or the like is performed over the entire display region on the lower substrate 2. Reflective layer 59 made of high-efficiency metal thin film
Are formed. Then, an insulating film 60 is formed so as to cover the reflective layer 59, and a number of signal electrodes 6 are formed on the insulating film 60 in a stripe shape. Signal electrode 6
Is formed directly on the lower substrate 2 outside the region where the insulating film 60 and the reflective layer 59 are formed. Therefore, the connection structure of the through holes 17 and 38 is completely the same as that of the first embodiment. The same is true.
【0109】また、図21に示すように、信号電極用接
続配線18を反射層59を形成する際に同時に形成し、
少なくとも表示領域内の反射層59表面に絶縁膜60を
形成し、絶縁膜60上に多数の信号電極6をストライプ
状に形成し、信号電極6を延伸させて信号電極用接続配
線18と電気的に導通させる構成としてもよい。As shown in FIG. 21, the signal electrode connection wiring 18 is formed at the same time when the reflection layer 59 is formed.
An insulating film 60 is formed on at least the surface of the reflective layer 59 in the display area, a number of signal electrodes 6 are formed on the insulating film 60 in a stripe shape, and the signal electrodes 6 are extended to electrically connect with the signal electrode connection wiring 18. It is good also as a structure made to conduct.
【0110】本実施の形態の場合、信号電極6は光反射
層を兼ねておらず、信号電極6の下方に反射層59が別
個に形成されている。したがって、表示時には上側基板
3の外方から入射し、液晶層28を透過した光が反射層
59の表面で反射し、画像表示がなされるようになって
いるので、反射層59の上方に位置する信号電極6は透
明でなければならない。したがって、本実施の形態で
は、信号電極6は上側基板3の走査電極7と同様、IT
O等の透明性導電膜で形成されている。また第1の実施
の形態と同様、図20に示すように、下側基板2の内面
上には、シール材27の部分の上下導通部19とスルー
ホール38の部分の孔内接続部20とを電気的に接続す
る走査電極用接続配線21が設けられているが、この走
査電極用接続配線21は、反射層59と同じ材料である
アルミニウム、銀(または銀を含有する合金)等の金属
膜で形成してもよいし、信号電極6と同じ材料であるI
TO等の透明性導電膜で形成してもよい。いずれにし
ろ、反射層59または信号電極6と同じ材料を用いる限
り、製造工程が増えることはない。In the case of the present embodiment, the signal electrode 6 does not double as a light reflection layer, and a reflection layer 59 is separately formed below the signal electrode 6. Therefore, at the time of display, light incident from outside of the upper substrate 3 and transmitted through the liquid crystal layer 28 is reflected on the surface of the reflective layer 59 to display an image. The signal electrode 6 to be used must be transparent. Therefore, in the present embodiment, the signal electrode 6 has the same
It is formed of a transparent conductive film such as O. Also, as in the first embodiment, as shown in FIG. 20, on the inner surface of the lower substrate 2, the upper and lower conductive portions 19 of the sealing material 27 and the in-hole connecting portion 20 of the through hole 38 are formed. Is provided, and the scanning electrode connection wiring 21 is made of a metal such as aluminum, silver (or an alloy containing silver), which is the same material as the reflection layer 59. It may be formed of a film, or may be made of the same material as the signal electrode 6.
It may be formed of a transparent conductive film such as TO. In any case, as long as the same material as the reflective layer 59 or the signal electrode 6 is used, the number of manufacturing steps does not increase.
【0111】一方、下側基板2の外面側には、信号電極
用接続配線12、走査電極用接続配線14、信号入力用
配線等が設けられており、これら配線の引き廻しについ
ては第1の実施の形態と同様であるが、配線の材料とし
ては銅等の低抵抗金属材料が用いられている。On the other hand, on the outer surface of the lower substrate 2, there are provided signal electrode connection wirings 12, scanning electrode connection wirings 14, signal input wirings, and the like. As in the embodiment, a low-resistance metal material such as copper is used as a wiring material.
【0112】本実施の形態の液晶表示装置58において
も、下側基板2にスルーホール17,38を設け、信号
電極6、走査電極7それぞれの引き廻し配線11,13
を下側基板2の外面側に引き廻し、駆動用IC10を実
装したことにより狭額縁化を図ることができる、という
第1〜第3の実施の形態と同様の効果を得ることができ
る。Also in the liquid crystal display device 58 of the present embodiment, the through holes 17 and 38 are provided in the lower substrate 2 and the wiring lines 11 and 13 for the signal electrode 6 and the scanning electrode 7 are provided.
The same effect as in the first to third embodiments can be obtained in that the frame can be narrowed by extending the wire to the outer surface side of the lower substrate 2 and mounting the driving IC 10.
【0113】さらに本実施の形態の場合、反射層59と
信号電極6とを別個に設けているため、反射層として必
要な特性と信号電極として必要な特性を分けて考えるこ
とができ、特に信号電極の設計の自由度を上げることが
できる。しかも本実施の形態の場合、下側基板2外面の
各種接続配線等には銅等の低抵抗金属材料を用いたた
め、内面側の導電層材料と異なることで製造プロセスが
若干複雑にはなるものの、引き廻し抵抗が低減し、表示
品質の向上を図ることができる。Further, in the case of the present embodiment, since the reflection layer 59 and the signal electrode 6 are provided separately, characteristics necessary for the reflection layer and characteristics required for the signal electrode can be considered separately. The degree of freedom in electrode design can be increased. In addition, in the case of the present embodiment, a low-resistance metal material such as copper is used for various connection wirings and the like on the outer surface of the lower substrate 2, so that the manufacturing process is slightly complicated because the material is different from the conductive layer material on the inner surface. In addition, the routing resistance is reduced, and the display quality can be improved.
【0114】[第5の実施の形態]以下、本発明の第5
の実施の形態を図22を参照して説明する。[Fifth Embodiment] Hereinafter, a fifth embodiment of the present invention will be described.
Will be described with reference to FIG.
【0115】上記第1〜第4の実施の形態ではパッシブ
マトリクス型液晶表示装置の例を示したが、本実施の形
態では、TFDをスイッチング素子に用いたアクティブ
マトリクス方式の反射型液晶表示装置への本発明の適用
例を示す。図22(a)は本実施の形態の液晶表示装置
の全体構成を示す斜視図であり、図22(b)は図22
(a)における一画素の拡大図である。In the first to fourth embodiments, examples of the passive matrix type liquid crystal display device have been described. In the present embodiment, however, the present invention is applied to an active matrix type reflection type liquid crystal display device using a TFD as a switching element. The following shows an application example of the present invention. FIG. 22A is a perspective view showing the entire configuration of the liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG.
It is an enlarged view of one pixel in (a).
【0116】本実施の形態の液晶表示装置61は、図2
2(a)に示すように、2枚の基板、すなわちTFD素
子が形成された側の素子基板62(第1の基板)と対向
基板63(第2の基板)とが対向配置され、これら基板
間に液晶(図示略)が封入されている。なお、図示は省
略するが、実際には液晶と接する各基板の内面には配向
膜が形成されている。素子基板62の内面側には、多数
のデータ線64(第1の導電部)が設けられており、各
データ線64に対して多数の画素電極65がTFD素子
66を介して接続されている。一方、対向基板63の内
面側には、短冊状の多数の走査線67(第2の導電部)
がデータ線に交差する方向に形成されている。The liquid crystal display device 61 of the present embodiment is similar to that of FIG.
As shown in FIG. 2A, two substrates, that is, an element substrate 62 (first substrate) on which a TFD element is formed and a counter substrate 63 (second substrate) are arranged to face each other. A liquid crystal (not shown) is sealed between them. Although not shown, an alignment film is actually formed on the inner surface of each substrate in contact with the liquid crystal. A large number of data lines 64 (first conductive portions) are provided on the inner surface side of the element substrate 62, and a large number of pixel electrodes 65 are connected to each data line 64 via a TFD element 66. . On the other hand, on the inner surface side of the opposing substrate 63, a number of strip-shaped scanning lines 67 (second conductive portions)
Are formed in a direction crossing the data lines.
【0117】また、素子基板62の外面には、データ線
用接続配線および走査線用接続配線(いずれも図示略)
が設けられ、データ線64、走査線67をそれぞれ駆動
するデータ線駆動回路、走査線駆動回路(いずれも図示
略)がそれぞれ形成されている。On the outer surface of the element substrate 62, connection lines for data lines and connection lines for scanning lines (both not shown) are provided.
Are provided, and a data line driving circuit and a scanning line driving circuit (both not shown) for respectively driving the data line 64 and the scanning line 67 are formed.
【0118】TFD素子66は、図22(b)に示すよ
うに、例えばタンタル膜からなる第1の導電膜68と、
第1の導電膜68の表面に陽極酸化によって形成された
タンタル酸化膜からなる絶縁膜69と、絶縁膜69の表
面に形成されたクロム、アルミニウム、チタン、モリブ
デン等の金属膜からなる第2の導電膜70とから構成さ
れている。そして、TFD素子66の第1の導電膜68
がデータ線64に接続され、第2の導電膜70が画素電
極65に接続されている。本実施の形態の場合、画素電
極65が光反射層を兼ねる反射電極であり、アルミニウ
ム等の光反射率の高い金属薄膜から形成されている。も
しくは、第4の実施の形態のように、画素電極65をI
TO等の透明性導電膜で形成し、画素電極65の下方に
反射層を別個に形成してもよい。一方、対向基板63の
内面の走査線67は、ITO等の透明性導電膜で形成さ
れている。As shown in FIG. 22B, the TFD element 66 includes a first conductive film 68 made of, for example, a tantalum film,
An insulating film 69 made of a tantalum oxide film formed on the surface of the first conductive film 68 by anodic oxidation, and a second film made of a metal film of chromium, aluminum, titanium, molybdenum or the like formed on the surface of the insulating film 69. And a conductive film 70. Then, the first conductive film 68 of the TFD element 66
Are connected to the data line 64, and the second conductive film 70 is connected to the pixel electrode 65. In the case of the present embodiment, the pixel electrode 65 is a reflection electrode also serving as a light reflection layer, and is formed of a metal thin film having a high light reflectance such as aluminum. Alternatively, as in the fourth embodiment, the pixel electrode 65 is
A transparent conductive film such as TO may be used, and a reflective layer may be separately formed below the pixel electrode 65. On the other hand, the scanning lines 67 on the inner surface of the counter substrate 63 are formed of a transparent conductive film such as ITO.
【0119】そして、本実施の形態の液晶表示装置61
の場合、素子基板62の内面の各データ線64の一端が
矩形状に形成され、この部分に素子基板62の内面側と
外面側を貫通するスルーホール71が形成されている。
断面構造は、第1の実施の形態の図7および図8におい
て、信号電極6を本実施の形態のデータ線64に置き換
えたものと同様になる。The liquid crystal display device 61 of the present embodiment
In the case of (1), one end of each data line 64 on the inner surface of the element substrate 62 is formed in a rectangular shape, and a through hole 71 penetrating the inner surface side and the outer surface side of the element substrate 62 is formed in this portion.
The cross-sectional structure is the same as that in FIGS. 7 and 8 of the first embodiment except that the signal electrode 6 is replaced with the data line 64 of the present embodiment.
【0120】すなわち、素子基板62の内面上にデータ
線64が形成される一方、素子基板62の外面上にはデ
ータ線用接続配線が形成され、双方の配線の先端には基
板を貫通するスルーホール71が形成されている。スル
ーホール71の内部には銀ペースト等の導電性材料が充
填されており、この導電性材料が内面側のデータ線と外
面側のデータ線用接続配線を接続することで孔内接続部
を構成する。そして、データ線用接続配線の他端には駆
動用ICが接続されている。以上のような配線構造を採
ることにより、駆動用ICから出力された画像信号は、
素子基板62の外面上のデータ線用接続配線、孔内接続
部を経由して各データ線64に供給される。つまり、こ
れら素子基板62の外面上のデータ線用接続配線、孔内
接続部がデータ線用引き廻し配線を構成することにな
る。That is, the data lines 64 are formed on the inner surface of the element substrate 62, while the connection lines for the data lines are formed on the outer surface of the element substrate 62. A hole 71 is formed. The inside of the through hole 71 is filled with a conductive material such as a silver paste, and the conductive material forms a connection portion in the hole by connecting the data line on the inner surface and the connection wire for the data line on the outer surface. I do. A driving IC is connected to the other end of the data line connection wiring. With the above wiring structure, the image signal output from the driving IC is
The data lines 64 are supplied to the data lines 64 via connection lines for data lines on the outer surface of the element substrate 62 and connection portions in the holes. That is, the connection lines for data lines and the connection portions in the holes on the outer surface of the element substrate 62 constitute the wiring lines for data lines.
【0121】一方、対向基板63の走査線67側につい
ては、シール材の上面と接触するように走査線67が形
成されている。シール材中には金属粒子等の導電材が混
入されており、シール材の上面および下面が電気的に接
続されて上下導通部を構成する。素子基板62の上下導
通部の下部にあたる部分はランドおよびスルーホールが
形成されており、スルーホールの内部に銀ペースト等の
導電性材料が充填され、この導電性材料が孔内接続部を
構成し、内面側、外面側の走査線用接続配線を電気的に
接続している。また、素子基板の外面上の走査線用接続
配線の他端には駆動用ICが接続されている。以上のよ
うな配線構造を採ることにより、駆動用ICから出力さ
れた走査信号は、素子基板62の外面上の走査線用接続
配線、孔内接続部、上下導通部を経由して対向基板63
上の各走査線67に供給される。つまり、これら素子基
板62の外面上の走査線用接続配線、孔内接続部、およ
び上下導通部が走査線用引き廻し配線を構成することに
なる。On the other hand, on the scanning line 67 side of the counter substrate 63, the scanning line 67 is formed so as to be in contact with the upper surface of the sealing material. A conductive material such as metal particles is mixed in the seal material, and the upper and lower surfaces of the seal material are electrically connected to form a vertical conductive portion. A land and a through hole are formed in a portion corresponding to a lower portion of the upper and lower conductive portions of the element substrate 62. A conductive material such as a silver paste is filled in the through hole, and the conductive material forms a connection portion in the hole. , And the inner and outer scanning line connection wirings are electrically connected. A driving IC is connected to the other end of the scanning line connection wiring on the outer surface of the element substrate. By adopting the wiring structure as described above, the scanning signal output from the driving IC is transmitted to the opposing substrate 63 via the scanning line connection wiring on the outer surface of the element substrate 62, the connection portion in the hole, and the vertical conduction portion.
It is supplied to each scanning line 67 above. In other words, the connection lines for the scanning lines, the connection portions in the holes, and the upper and lower conductive portions on the outer surface of the element substrate 62 constitute the wiring lines for the scanning lines.
【0122】本実施の形態はTFD素子を用いたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置の例であるが、この場合
も上記第1〜第4の実施の形態のパッシブマトリクス型
液晶表示装置の例と同様の効果を得ることができる。す
なわち、素子基板62の内面の表示領域外部に引き廻し
配線を配置するスペースが要らなくなり、しかもTFD
アクティブマトリクス型液晶表示装置に必要なデータ線
駆動回路、走査線駆動回路等の形成領域を素子基板62
の外面側に配置できるので、大幅な狭額縁化を図ること
ができる。また、素子基板62の外面側全域を引き廻し
配線のためのスペースとできるので、充分な配線ピッチ
を確保することができ、引き廻し抵抗の増大を招くこと
もない。This embodiment is an example of an active matrix type liquid crystal display device using a TFD element. In this case, too, the same as the example of the passive matrix type liquid crystal display device of the first to fourth embodiments is used. The effect can be obtained. In other words, there is no need for a space for laying out the wiring outside the display area on the inner surface of the element substrate 62.
A region for forming a data line driving circuit, a scanning line driving circuit, and the like necessary for an active matrix liquid crystal display device is formed on the element substrate 62
Can be arranged on the outer surface side, so that the frame can be significantly narrowed. Further, since the entire area on the outer surface side of the element substrate 62 can be used as a space for the wiring, a sufficient wiring pitch can be secured, and the wiring resistance does not increase.
【0123】[第6の実施の形態]以下、本発明の第6
の実施の形態を図23を参照して説明する。[Sixth Embodiment] Hereinafter, a sixth embodiment of the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIG.
【0124】本実施の形態では、TFTをスイッチング
素子に用いたアクティブマトリクス方式の反射型液晶表
示装置への本発明の適用例を示す。図23(a)は本実
施の形態の液晶表示装置の全体構成を示す斜視図であ
り、図23(b)は図23(a)における一画素の拡大
図である。In this embodiment, an application example of the present invention to an active matrix type reflection type liquid crystal display device using a TFT as a switching element will be described. FIG. 23A is a perspective view showing the overall configuration of the liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG. 23B is an enlarged view of one pixel in FIG.
【0125】本実施の形態の液晶表示装置73は、図2
3(a)に示すように、TFD型液晶表示装置の第5の
実施の形態とほぼ同様の構成を有している。すなわち、
TFT素子が形成された側の素子基板74(第1の基
板)と対向基板75(第2の基板)とが対向配置され、
これら基板間に液晶(図示略)が封入されている。素子
基板74の内面側には、多数のソース線76(データ
線、第1の導電部)および多数のゲート線77(走査
線、第1の導電部)が互いに交差するように格子状に設
けられている。各ソース線76と各ゲート線77の交差
点の近傍にはTFT素子78が形成されており、各TF
T素子78を介して画素電極79が接続されている。一
方、対向基板75の内面側全面には、表示領域に対応し
て共通電極80(第2の導電部)が形成されている。The liquid crystal display device 73 of the present embodiment is similar to that of FIG.
As shown in FIG. 3A, the TFD type liquid crystal display device has a configuration substantially similar to that of the fifth embodiment. That is,
An element substrate 74 (first substrate) on the side on which the TFT element is formed and a counter substrate 75 (second substrate) are arranged to face each other,
Liquid crystal (not shown) is sealed between these substrates. On the inner surface side of the element substrate 74, a large number of source lines 76 (data lines, first conductive parts) and a large number of gate lines 77 (scanning lines, first conductive parts) are provided in a grid pattern so as to intersect each other. Have been. A TFT element 78 is formed near the intersection of each source line 76 and each gate line 77,
The pixel electrode 79 is connected via the T element 78. On the other hand, a common electrode 80 (second conductive portion) is formed on the entire inner surface of the counter substrate 75 so as to correspond to the display area.
【0126】また、素子基板74の外面にはソース線用
接続配線およびゲート線用接続配線(いずれも図示略)
が設けられ、ソース線76、ゲート線77をそれぞれ駆
動するソース線駆動回路、ゲート線駆動回路(いずれも
図示略)がそれぞれ形成されている。On the outer surface of the element substrate 74, source line connection lines and gate line connection lines (both not shown).
Are provided, and a source line driving circuit and a gate line driving circuit (both not shown) for driving the source line 76 and the gate line 77 respectively are formed.
【0127】TFT素子78は、図23(b)に示すよ
うに、ゲート線77から延びるゲート電極81と、ゲー
ト電極81を覆う絶縁膜(図示略)と、絶縁膜上に形成
された多結晶シリコン、アモルファスシリコン等からな
る半導体層82と、半導体層82中のソース領域に接続
されたソース線76から延びるソース電極83と、半導
体層82中のドレイン領域に接続されたドレイン電極8
4とを有している。そして、TFT素子78のドレイン
電極84が画素電極79に接続されている。本実施の形
態の場合も第5の実施の形態と同様、画素電極79が光
反射層を兼ねる反射電極であり、アルミニウム等の光反
射率の高い金属薄膜から形成されている。もしくは、第
4の実施の形態のように、画素電極79をITO等の透
明性導電膜で形成し、画素電極79の下方に反射層を別
個に形成してもよい。一方、対向基板75側の共通電極
80は、ITO等の透明性導電膜で形成されている。As shown in FIG. 23B, the TFT element 78 includes a gate electrode 81 extending from the gate line 77, an insulating film (not shown) covering the gate electrode 81, and a polycrystalline film formed on the insulating film. A semiconductor layer 82 made of silicon, amorphous silicon, or the like; a source electrode 83 extending from a source line 76 connected to a source region in the semiconductor layer 82; and a drain electrode 8 connected to a drain region in the semiconductor layer 82
And 4. The drain electrode 84 of the TFT element 78 is connected to the pixel electrode 79. In the present embodiment, as in the fifth embodiment, the pixel electrode 79 is a reflection electrode also serving as a light reflection layer, and is formed of a metal thin film having a high light reflectance such as aluminum. Alternatively, as in the fourth embodiment, the pixel electrode 79 may be formed of a transparent conductive film such as ITO, and the reflection layer may be separately formed below the pixel electrode 79. On the other hand, the common electrode 80 on the counter substrate 75 side is formed of a transparent conductive film such as ITO.
【0128】そして、本実施の形態の液晶表示装置73
の場合、素子基板74の内面の各ソース線76の一端が
矩形状に形成され、この部分に素子基板74の内面側と
外面側を貫通するスルーホール85が形成されている。
同様に、各ゲート線77の一端も矩形状に形成され、こ
の部分に素子基板74の内面側と外面側を貫通するスル
ーホール86が形成されている。スルーホール85,8
6の部分の断面構造は、第1の実施の形態の図7および
図8において、信号電極6を本実施の形態のソース線7
6もしくはゲート線77に置き換えたものと同様にな
る。The liquid crystal display device 73 of the present embodiment
In the case of (1), one end of each source line 76 on the inner surface of the element substrate 74 is formed in a rectangular shape, and a through hole 85 penetrating through the inner surface and the outer surface of the element substrate 74 is formed in this portion.
Similarly, one end of each gate line 77 is also formed in a rectangular shape, and a through hole 86 penetrating through the inner side and the outer side of the element substrate 74 is formed in this portion. Through holes 85, 8
The cross-sectional structure of the portion 6 is similar to that of the first embodiment shown in FIGS. 7 and 8 except that the signal electrode 6 is connected to the source line 7 of the present embodiment.
6 or a gate line 77.
【0129】すなわち、素子基板74の内面上にソース
線76が形成される一方、素子基板74の外面上にはソ
ース線用接続配線が形成され、双方の配線の先端には基
板を貫通するスルーホール85が形成されている。スル
ーホール85の内部には銀ペースト等の導電性材料が充
填されており、この導電性材料が内面側のソース線76
と外面側のソース線用接続配線を接続することで孔内接
続部を構成する。そして、ソース線用接続配線の他端に
は駆動用ICが接続されている。以上のような配線構造
を採ることにより、駆動用ICから出力された画像信号
は、素子基板74の外面上のソース線用接続配線、孔内
接続部を経由して各ソース線76に供給される。よっ
て、これら素子基板74の外面上のソース線用接続配
線、孔内接続部がソース線用引き廻し配線を構成するこ
とになる。That is, the source lines 76 are formed on the inner surface of the element substrate 74, while the connection lines for source lines are formed on the outer surface of the element substrate 74, and the through-holes penetrating the substrate are formed at the ends of both lines. A hole 85 is formed. The inside of the through hole 85 is filled with a conductive material such as a silver paste, and the conductive material is filled with the source line 76 on the inner surface side.
And a connection line for a source line on the outer surface side to form a connection portion in the hole. A driving IC is connected to the other end of the source line connection wiring. With the above-described wiring structure, the image signal output from the driving IC is supplied to each source line 76 via the connection wiring for the source line on the outer surface of the element substrate 74 and the connection portion in the hole. You. Therefore, the connection wiring for the source line and the connection part in the hole on the outer surface of the element substrate 74 constitute the wiring for the source line.
【0130】ゲート線側も同様の配線構造を採ってお
り、駆動用ICから出力された走査信号は、素子基板7
4の外面上のゲート線用接続配線、孔内接続部を経由し
て各ゲート線77に供給される。よって、これら素子基
板74の外面上のゲート線用接続配線、孔内接続部がゲ
ート線用引き廻し配線を構成することになる。The gate line side has the same wiring structure, and the scanning signal output from the driving IC is applied to the element substrate 7.
4 is supplied to each gate line 77 via the gate line connection wiring on the outer surface and the connection portion in the hole. Therefore, the connection wiring for the gate line and the connection portion in the hole on the outer surface of the element substrate 74 constitute the wiring for the gate line.
【0131】一方、対向基板75の共通電極80につい
ては、共通電極80の一部がシール材の上面と接触する
ように形成されている。シール材中には金属粒子等の導
電材が混入されており、シール材の上面および下面が電
気的に接続されて上下導通部を構成する。素子基板74
の上下導通部の下部にあたる部分はランドおよびスルー
ホールが形成されており、スルーホールの内部に銀ペー
スト等の導電性材料が充填され、この導電性材料が孔内
接続部を構成し、内面側、外面側の共通電極用接続配線
を電気的に接続している。共通電極用接続配線は素子基
板74の外面側の任意の箇所で接地されている。On the other hand, the common electrode 80 of the counter substrate 75 is formed so that a part of the common electrode 80 contacts the upper surface of the sealing material. A conductive material such as metal particles is mixed in the seal material, and the upper and lower surfaces of the seal material are electrically connected to form a vertical conductive portion. Element substrate 74
A land and a through hole are formed in a portion corresponding to a lower portion of the upper and lower conductive portions of the conductive material, such as a silver paste, and the inside of the through hole is filled with the conductive material. The connection wiring for the common electrode on the outer surface side is electrically connected. The connection wiring for the common electrode is grounded at an arbitrary position on the outer surface side of the element substrate 74.
【0132】本実施の形態はTFT素子を用いたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置の例であるが、この場合
も上記第5の実施の形態のアクティブマトリクス型液晶
表示装置の例と同様の効果を得ることができる。すなわ
ち、素子基板74の内面の表示領域外部に引き廻し配線
を配置するスペースが要らなくなり、しかもTFTアク
ティブマトリクス型液晶表示装置に必要なソース線駆動
回路、ゲート線駆動回路等の駆動回路形成領域を素子基
板74の外面側に配置できるので、大幅な狭額縁化を図
ることができる。また、素子基板74の外面側全域を引
き廻し配線のためのスペースとできるので、充分な配線
ピッチを確保することができ、引き廻し抵抗の増大を招
くこともない。This embodiment is an example of an active matrix type liquid crystal display device using TFT elements. In this case, the same effects as those of the active matrix type liquid crystal display device of the fifth embodiment can be obtained. be able to. In other words, there is no need for a space for laying out the wiring outside the display area on the inner surface of the element substrate 74, and the drive circuit formation areas such as the source line drive circuit and the gate line drive circuit required for the TFT active matrix type liquid crystal display device are eliminated. Since it can be arranged on the outer surface side of the element substrate 74, the frame can be significantly narrowed. Further, since the entire area on the outer surface side of the element substrate 74 can be used as a space for wiring, a sufficient wiring pitch can be secured, and the wiring resistance does not increase.
【0133】[電子機器]上記実施の形態の液晶表示装
置を備えた電子機器の例について説明する。図24は、
携帯電話の一例を示した斜視図である。図24におい
て、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001
は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示してい
る。[Electronic Apparatus] An example of an electronic apparatus including the liquid crystal display device of the above embodiment will be described. FIG.
It is the perspective view which showed an example of the mobile telephone. In FIG. 24, reference numeral 1000 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 1001
Denotes a liquid crystal display unit using the above liquid crystal display device.
【0134】図25は、腕時計型電子機器の一例を示し
た斜視図である。図25において、符号1100は時計
本体を示し、符号1101は上記の液晶表示装置を用い
た液晶表示部を示している。FIG. 25 is a perspective view showing an example of a wristwatch-type electronic device. In FIG. 25, reference numeral 1100 denotes a watch main body, and reference numeral 1101 denotes a liquid crystal display unit using the above liquid crystal display device.
【0135】図26は、ワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図26に
おいて、符号1200は情報処理装置、符号1202は
キーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置
本体、符号1206は上記の液晶表示装置を用いた液晶
表示部を示している。FIG. 26 is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor or a personal computer. 26, reference numeral 1200 denotes an information processing device, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing device main body, and reference numeral 1206 denotes a liquid crystal display unit using the above liquid crystal display device.
【0136】図24〜図26に示す電子機器は、上記実
施の形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えてい
るので、狭額縁化による小型の液晶パネルを備えたこと
により装置全体が小型である割に表示領域が広く、携帯
性に優れた電子機器を実現することができる。Since the electronic apparatus shown in FIGS. 24 to 26 includes the liquid crystal display portion using the liquid crystal display device of the above embodiment, the entire device is provided with a small liquid crystal panel with a narrow frame. An electronic device with a wide display area and excellent portability can be realized in spite of its small size.
【0137】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば第1、第2の実施の形態では反射電極を有するパッ
シブマトリクス型液晶表示装置においてスルーホールの
形成位置が異なる例、第3の実施の形態ではカラーフィ
ルターを備えた液晶表示装置の例、第4の実施の形態で
は反射層と表示電極を別個に有する液晶表示装置の例、
第5の実施の形態ではTFDアクティブマトリクス型液
晶表示装置の例、第6の実施の形態ではTFTアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置の例をそれぞれ説明した
が、これら実施の形態の特徴点を適宜組み合わせたもの
であってもよい。The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the first and second embodiments, examples in which the positions of the through holes are different in a passive matrix type liquid crystal display device having a reflective electrode, and in the third embodiment, examples of a liquid crystal display device having a color filter, In the fourth embodiment, an example of a liquid crystal display device having a reflective layer and a display electrode separately,
In the fifth embodiment, an example of a TFD active matrix type liquid crystal display device is described, and in the sixth embodiment, an example of a TFT active matrix type liquid crystal display device is described. The features of these embodiments are appropriately combined. It may be something.
【0138】また、上記実施の形態で例示した各液晶表
示装置の構成材料、形状、製造方法等の具体的な記載に
関しては、適宜変更が可能なことは勿論である。また、
本発明の液晶装置は、直視型のみならず、投射型液晶装
置(プロジェクタ)の液晶ライトバルブに適用すること
もできる。Further, it is needless to say that specific descriptions such as constituent materials, shapes, and manufacturing methods of the respective liquid crystal display devices exemplified in the above embodiments can be appropriately changed. Also,
The liquid crystal device of the present invention can be applied to a liquid crystal light valve of a projection type liquid crystal device (projector) as well as a direct view type.
【0139】[0139]
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
液晶装置の構成によれば、従来、基板内面の表示領域外
側に設けていた引き廻し領域やFPC、電子部品等の実
装領域が不要となるので、従来に比べて大幅に額縁部分
を狭くすることができる。また、表示領域内を含めて第
1の基板の外面側全域に引き廻し導電部をレイアウトす
ることができ、引き廻し導電部間のピッチを余裕を持っ
て設計することができ、引き廻し抵抗が増大するという
問題が生じることもない。さらに、基板材料の選択の自
由度が向上すると同時に、一方の基板が駆動回路の搭載
基板としても機能するため、接続用部品の削減を図るこ
ともできる。このように、狭額縁による小型の液晶装置
を備えたことにより、装置全体が小型である割に表示領
域が広く、携帯性に優れた電子機器を実現することがで
きる。As described above in detail, according to the structure of the liquid crystal device of the present invention, the wiring area and the mounting area for FPCs, electronic components, etc., which have conventionally been provided outside the display area on the inner surface of the substrate, are reduced. Since it becomes unnecessary, the frame portion can be made much narrower than before. In addition, the conductive portions can be laid out over the entire outer surface side of the first substrate including the display region, and the pitch between the conductive portions can be designed with a margin, and the resistance of the wiring can be reduced. The problem of increase does not occur. Further, the degree of freedom in selecting a substrate material is improved, and at the same time, one of the substrates also functions as a mounting substrate for a driving circuit, so that the number of connection components can be reduced. As described above, by providing a small liquid crystal device with a narrow frame, an electronic device with a wide display area and excellent portability can be realized despite the small size of the entire device.
【図1】 本発明の第1の実施の形態の液晶表示装置全
体を上面側から見た斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an entire liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention as viewed from above.
【図2】 同、液晶表示装置を下面側から見た斜視図で
ある。FIG. 2 is a perspective view of the same liquid crystal display device as viewed from below.
【図3】 同、液晶表示装置を構成する下側基板の上面
(電極形成面)図である。FIG. 3 is a top view (electrode formation surface) of a lower substrate constituting the liquid crystal display device.
【図4】 同、下側基板の下面図である。FIG. 4 is a bottom view of the lower substrate.
【図5】 同、液晶表示装置を構成する上側基板の下面
(電極形成面)図である。FIG. 5 is a bottom view (electrode formation surface) of the upper substrate constituting the liquid crystal display device.
【図6】 同、上側基板と下側基板とを重ね合わせた状
態を示す透視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a state where the upper substrate and the lower substrate are overlapped with each other.
【図7】 同、液晶表示装置の断面構造を示す図であっ
て、図6のA−A’線に沿う断面図である。FIG. 7 is a diagram showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display device, which is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 6;
【図8】 同、図6のB−B’線に沿う断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along the line B-B ′ of FIG. 6;
【図9】 同、液晶表示装置の上下導通部の他の例を示
す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing another example of the upper and lower conductive portion of the liquid crystal display device.
【図10】 同、液晶表示装置の駆動用ICの実装形態
の他の例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing another example of the mounting form of the driving IC of the liquid crystal display device.
【図11】 同、下側基板の孔内接続部の例を示す図で
ある。FIG. 11 is a view showing an example of a connection portion in a hole of the lower substrate.
【図12】 同、孔内接続部の他の例を示す図である。FIG. 12 is a view showing another example of the in-hole connecting portion.
【図13】 同、孔内接続部のさらに他の例を示す図で
ある。FIG. 13 is a view showing still another example of the in-hole connecting portion.
【図14】 本発明の第2の実施の形態の液晶表示装置
において、上側基板と下側基板とを重ね合わせた状態を
示す透視図である。FIG. 14 is a perspective view showing a state in which an upper substrate and a lower substrate are overlapped in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention.
【図15】 同、液晶表示装置の断面構造を示す図であ
って、図14のA−A’線に沿う断面図である。15 is a diagram showing a cross-sectional structure of the same liquid crystal display device, which is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 14;
【図16】 同、図14のB−B’線に沿う断面図であ
る。FIG. 16 is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 14;
【図17】 本発明の第3の実施の形態の液晶表示装置
の断面構造を示す図であって、図6のA−A’線に相当
する断面図である。FIG. 17 is a view showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view corresponding to line AA ′ of FIG.
【図18】 同、液晶表示装置の断面構造を示す図であ
って、図6のB−B’線に相当する断面図である。18 is a view showing a cross-sectional structure of the same liquid crystal display device, and is a cross-sectional view corresponding to line BB ′ of FIG. 6;
【図19】 本発明の第4の実施の形態の液晶表示装置
の断面構造を示す図であって、図6のA−A’線に相当
する断面図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a cross-sectional structure of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view corresponding to line AA ′ in FIG.
【図20】 同、液晶表示装置の断面構造を示す図であ
って、図6のB−B’線に相当する断面図である。20 is a diagram showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display device, which is a cross-sectional view corresponding to line BB ′ of FIG. 6;
【図21】 同実施の形態において、信号電極と信号電
極用接続配線との接続構造の他の例を示す、図6のA−
A’線に相当する断面図である。21 shows another example of the connection structure between the signal electrode and the connection wiring for the signal electrode in the embodiment,
It is sectional drawing corresponding to A 'line.
【図22】 本発明の第5の実施の形態の液晶表示装置
を示す図であって、(a)全体を上面側から見た斜視
図、(b)一画素の拡大図である。FIGS. 22A and 22B are diagrams illustrating a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention, in which FIG. 22A is a perspective view of the whole when viewed from the top, and FIG.
【図23】 本発明の第6の実施の形態の液晶表示装置
を示す図であって、(a)全体を上面側から見た斜視
図、(b)一画素の拡大図である。FIGS. 23A and 23B are views showing a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention, wherein FIG. 23A is a perspective view of the whole as viewed from the top, and FIG. 23B is an enlarged view of one pixel.
【図24】 本発明の電子機器の一例を示す斜視図であ
る。FIG. 24 is a perspective view illustrating an example of an electronic apparatus of the invention.
【図25】 本発明の電子機器の他の例を示す斜視図で
ある。FIG. 25 is a perspective view illustrating another example of the electronic apparatus of the invention.
【図26】 本発明の電子機器のさらに他の例を示す斜
視図である。FIG. 26 is a perspective view showing still another example of the electronic apparatus of the invention.
【図27】 COF実装を適用した従来の液晶装置の一
例を示す斜視図である。FIG. 27 is a perspective view showing an example of a conventional liquid crystal device to which COF mounting is applied.
【図28】 COG実装を適用した従来の液晶装置の一
例を示す斜視図である。FIG. 28 is a perspective view showing an example of a conventional liquid crystal device to which COG mounting is applied.
【図29】 従来のパッシブマトリクス型液晶装置にお
ける上側基板の構成を示す平面図である。FIG. 29 is a plan view showing a configuration of an upper substrate in a conventional passive matrix liquid crystal device.
【図30】 同、下側基板の構成を示す平面図である。FIG. 30 is a plan view showing the configuration of the lower substrate.
1,50,52,58,61,73 液晶表示装置(液
晶装置) 2 下側基板(第1の基板) 3 上側基板(第2の基板) 5 偏光板(偏光手段) 6 信号電極(第1の導電部) 7 走査電極(第2の導電部) 10,32 駆動用IC(電子部品) 11 信号電極用引き廻し配線(第1の引き廻し導電
部) 12 信号電極用接続配線(第1の外面上接続部) 13 走査電極用引き廻し配線(第2の引き廻し導電
部) 14 走査電極用接続配線(第2の外面上接続部) 15,30,44,46 孔内接続部(第1の孔内接続
部) 17,38 スルーホール 18 信号電極用接続配線 19,40 上下導通部(基板間接続部) 20 孔内接続部(第2の孔内接続部) 21 走査電極用接続配線(第2の内面上接続部) 26 外部接続端子 27 シール材 28 液晶層 42 内部導電層 43,45 ビアホール 54 カラーフィルター 59 反射層 62,74 素子基板(第1の基板) 63,75 対向基板(第2の基板) 64 データ線(第1の導電部) 66 TFD素子 67 走査線(第2の導電部) 76 ソース線(データ線、第1の導電部) 77 ゲート線(走査線、第1の導電部) 78 TFT素子 80 共通電極(第2の導電部)1, 50, 52, 58, 61, 73 Liquid crystal display device (liquid crystal device) 2 Lower substrate (first substrate) 3 Upper substrate (second substrate) 5 Polarizing plate (polarizing means) 6 Signal electrode (first 7 Scanning electrode (second conductive part) 10, 32 Driving IC (electronic component) 11 Signal electrode wiring (first wiring conductive part) 12 Signal electrode connection wiring (first Connection portion on outer surface 13 Leading wiring for scanning electrode (second leading conductive portion) 14 Connection wiring for scanning electrode (second connecting portion on outer surface) 15, 30, 44, 46 Connection portion in hole (first) 17, 38 Through hole 18 Connection wiring for signal electrode 19, 40 Upper and lower conduction part (connection part between substrates) 20 Connection part in hole (second connection part in hole) 21 Connection wiring for scanning electrode ( (Second inner surface connection part) 26 External connection terminal 27 Sealing material 28 Liquid Layer 42 Internal conductive layer 43, 45 Via hole 54 Color filter 59 Reflective layer 62, 74 Element substrate (first substrate) 63, 75 Counter substrate (second substrate) 64 Data line (first conductive part) 66 TFD element 67 scanning line (second conductive part) 76 source line (data line, first conductive part) 77 gate line (scanning line, first conductive part) 78 TFT element 80 common electrode (second conductive part)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 百瀬 洋一 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 田中 孝昭 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 本田 賢一 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H090 JA05 LA01 LA02 LA04 LA06 LA09 LA15 LA20 2H091 FA02Y FA07X FA07Z FA11X FA11Z FA14Z FC06 GA01 GA02 GA08 GA11 GA13 LA11 LA30 2H092 GA05 GA32 GA33 GA39 GA48 GA49 GA50 GA60 JA01 JA24 JA46 JB22 MA15 MA17 MA30 NA25 PA01 PA03 PA06 PA08 PA10 PA11 PA12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yoichi Momose 3-5-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Inside Seiko Epson Corporation (72) Inventor Takaaki Tanaka 3-5-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko-Epson (72) Inventor Kenichi Honda 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture Seiko Epson Corporation F-term (reference) 2H090 JA05 LA01 LA02 LA04 LA06 LA09 LA15 LA20 2H091 FA02Y FA07X FA07Z FA11X FA11Z FA14Z FC06 GA01 GA02 GA08 GA11 GA13 LA11 LA30 2H092 GA05 GA32 GA33 GA39 GA48 GA49 GA50 GA60 JA01 JA24 JA46 JB22 MA15 MA17 MA30 NA25 PA01 PA03 PA06 PA08 PA10 PA11 PA12
Claims (19)
晶層が挟持された液晶装置であって、 前記一対の基板のうち、第1の基板においては前記液晶
層に面する内面上に第1の導電部が設けられるととも
に、該第1の導電部と電気的に接続された第1の引き廻
し導電部が前記内面から基板内部を通り前記内面と反対
側の外面にわたって設けられ、透光性を有する第2の基
板においては前記液晶層に面する内面上に第2の導電部
が設けられるとともに、該第2の導電部と電気的に接続
された第2の引き廻し導電部が前記第2の基板の内面か
ら前記第1の基板の内面へ、さらに第1の基板の内面か
ら基板内部を通り第1の基板の外面にわたって設けら
れ、前記第1の基板の内面側に光反射部が設けられると
ともに前記第2の基板の外面側には偏光手段が設けら
れ、前記第1の基板の外面側には前記第1の引き廻し導
電部および前記第2の引き廻し導電部と電気的に接続さ
れた電子部品が実装されたことを特徴とする液晶装置。1. A liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates disposed to face each other, wherein a first substrate of the pair of substrates has a first surface on an inner surface facing the liquid crystal layer. A first conductive portion electrically connected to the first conductive portion, and a first conductive portion electrically connected to the first conductive portion is provided from the inner surface through the inside of the substrate to an outer surface opposite to the inner surface, and In the second substrate having the property, a second conductive portion is provided on an inner surface facing the liquid crystal layer, and a second routing conductive portion electrically connected to the second conductive portion is provided with the second conductive portion. A light reflecting portion is provided from the inner surface of the second substrate to the inner surface of the first substrate, further from the inner surface of the first substrate to the inner surface of the first substrate through the inside of the substrate, and to the inner surface of the first substrate. And a polarized light on the outer surface side of the second substrate. A step is provided, and electronic components electrically connected to the first routing conductive portion and the second routing conductive portion are mounted on an outer surface side of the first substrate. Liquid crystal devices.
子部品の入力端子と電気的に接続された外部接続端子が
設けられたことを特徴とする請求項1に記載の液晶装
置。2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein an external connection terminal electrically connected to an input terminal of the electronic component is provided on an outer peripheral edge of the first substrate.
導電部が、前記第1の基板の内面側と外面側との間に設
けられた孔の内部に設けられ前記第1の導電部と電気的
に接続された第1の孔内接続部と、前記第1の基板の外
面上において前記第1の孔内接続部と前記電子部品とを
電気的に接続する第1の外面上接続部とを有することを
特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。3. The first conductive portion provided in the first substrate is provided inside a hole provided between an inner surface side and an outer surface side of the first substrate. A first in-hole connection portion electrically connected to the first substrate, and a first on-outside connection for electrically connecting the first in-hole connection portion and the electronic component on an outer surface of the first substrate. The liquid crystal device according to claim 1, further comprising a unit.
面側とを貫通するスルーホールであることを特徴とする
請求項3に記載の液晶装置。4. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the hole is a through hole penetrating through the inner surface and the outer surface of the first substrate.
の内部導電層を有する基板で構成されたことを特徴とす
る請求項1ないし3のいずれか一項に記載の液晶装置。5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first substrate is a substrate having one or more internal conductive layers inside the substrate.
内部導電層との間、前記第1の基板の外面と前記内部導
電層との間、もしくは相互の内部導電層の間に設けられ
た複数のビアホールからなることを特徴とする請求項5
に記載の液晶装置。6. The hole is formed between an inner surface of the first substrate and the inner conductive layer, between an outer surface of the first substrate and the inner conductive layer, or between mutual inner conductive layers. 6. The semiconductor device according to claim 5, comprising a plurality of via holes provided.
3. The liquid crystal device according to claim 1.
第1の導電部と外面側の前記第1の外面上接続部とが同
じ導電性材料からなることを特徴とする請求項3ないし
6のいずれか一項に記載の液晶装置。7. The first substrate according to claim 3, wherein the first conductive portion on the inner surface and the first connection portion on the outer surface on the outer surface are made of the same conductive material. 7. The liquid crystal device according to claim 6.
第1の導電部と外面側の前記第1の外面上接続部とが異
なる導電性材料からなることを特徴とする請求項3ない
し6のいずれか一項に記載の液晶装置。8. The first substrate according to claim 3, wherein the first conductive portion on the inner surface and the first connection portion on the outer surface on the outer surface are made of different conductive materials. 7. The liquid crystal device according to claim 6.
前記第2の引き廻し導電部が、前記第1の基板と前記第
2の基板との間に設けられ前記第2の導電部と電気的に
接続された基板間接続部と、前記第1の基板の内面側と
外面側との間に設けられた孔の内部に設けられ前記基板
間接続部と電気的に接続された第2の孔内接続部と、前
記第1の基板の外面上において前記第2の孔内接続部と
前記電子部品とを電気的に接続する第2の外面上接続部
とを有することを特徴とする請求項1ないし8のいずれ
か一項に記載の液晶装置。9. The second routing conductive part extending from the second substrate to the first substrate is provided between the first substrate and the second substrate, and the second conductive part is provided between the first substrate and the second substrate. An electrically connected inter-substrate connection portion, and a second inter-substrate connection portion provided inside a hole provided between an inner surface side and an outer surface side of the first substrate and electrically connected to the inter-substrate connection portion. And a second external connection portion for electrically connecting the second internal connection portion and the electronic component on the outer surface of the first substrate. The liquid crystal device according to claim 1.
前記液晶層を封止するシール材の内部に混入させた導電
材からなることを特徴とする請求項9に記載の液晶装
置。10. The liquid crystal device according to claim 9, wherein the inter-substrate connecting portion is made of a conductive material mixed in a sealing material for sealing the liquid crystal layer between the two substrates.
間接続部と前記第2の孔内接続部との間を電気的に接続
する第2の内面上接続部が設けられたことを特徴とする
請求項9または10に記載の液晶装置。11. A second on-inner connection portion for electrically connecting between the inter-substrate connection portion and the second in-hole connection portion is provided on an inner surface of the first substrate. The liquid crystal device according to claim 9, wherein:
内面上接続部と前記第1の導電部とが同じ導電性材料か
らなることを特徴とする請求項11に記載の液晶装置。12. The liquid crystal device according to claim 11, wherein, in the first substrate, the second connection portion on the inner surface and the first conductive portion are made of the same conductive material.
2の基板が可撓性を有する基板で構成されたことを特徴
とする請求項1ないし12のいずれか一項に記載の液晶
装置。13. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first substrate and / or the second substrate is formed of a flexible substrate.
トライプ状に形成された複数の電極であり、前記第2の
基板上の第2の導電部が前記電極と交差する方向に延在
するようストライプ状に形成された複数の電極であり、
パッシブマトリクス型液晶装置を構成することを特徴と
する請求項1ないし13のいずれか一項に記載の液晶装
置。14. The first conductive portion on the first substrate is a plurality of electrodes formed in a stripe shape, and the second conductive portion on the second substrate is arranged in a direction crossing the electrodes. A plurality of electrodes formed in a stripe shape so as to extend,
14. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device constitutes a passive matrix type liquid crystal device.
数のデータ線もしくは走査線であり、前記第2の基板上
の第2の導電部が前記データ線もしくは走査線と交差す
る方向に延在するようストライプ状に形成された複数の
走査線もしくはデータ線であり、スイッチング素子に薄
膜ダイオードを用いたアクティブマトリクス型液晶装置
を構成することを特徴とする請求項1ないし13のいず
れか一項に記載の液晶装置。15. A first conductive portion on the first substrate is a plurality of data lines or scanning lines, and a second conductive portion on the second substrate crosses the data lines or scanning lines. 14. An active matrix type liquid crystal device comprising a plurality of scanning lines or data lines formed in a stripe shape so as to extend in a direction, and using a thin film diode as a switching element. The liquid crystal device according to claim 1.
数のデータ線もしくは走査線の少なくともいずれか一方
であり、前記第2の基板上の第2の導電部が一つの共通
電極であり、スイッチング素子に薄膜トランジスタを用
いたアクティブマトリクス型液晶装置を構成することを
特徴とする請求項1ないし13のいずれか一項に記載の
液晶装置。16. The first conductive portion on the first substrate is at least one of a plurality of data lines or scanning lines, and the second conductive portion on the second substrate is a single common electrode. 14. The liquid crystal device according to claim 1, wherein an active matrix type liquid crystal device using a thin film transistor as a switching element is configured.
反射性を有する材料で形成され、該第1の導電部が前記
光反射部を兼ねる反射電極とされたことを特徴とする請
求項14ないし16のいずれか一項に記載の液晶装置。17. The light-emitting device according to claim 17, wherein the first conductive portion on the first substrate is formed of a material having light reflectivity, and the first conductive portion is a reflection electrode also serving as the light reflection portion. The liquid crystal device according to claim 14.
の内面上にカラーフィルターが設けられたことを特徴と
する請求項1ないし17のいずれか一項に記載の液晶装
置。18. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a color filter is provided on an inner surface of the first substrate or the second substrate.
記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。19. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1. Description:
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| JP2002040468A true JP2002040468A (en) | 2002-02-06 |
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Cited By (6)
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|---|---|
| JP3937701B2 (en) | 2007-06-27 |
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| JP2003098543A (en) | Electro-optical panel, method for manufacturing the same, and electronic device |
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| A977 | Report on retrieval |
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