JP2002062402A

JP2002062402A - 光吸収性反射防止体及び表示装置

Info

Publication number: JP2002062402A
Application number: JP2000245823A
Authority: JP
Inventors: Kosei Sumida; 孝生隅田; Yoko Funahashi; 容子舟橋; Muneya Araki; 宗也荒木
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-08-14
Filing date: 2000-08-14
Publication date: 2002-02-28

Abstract

(57)【要約】【課題】高いコントラストと導電性反射防止膜を安価
な製造プロセスで実現可能な光吸収性反射防止体及びこ
の光吸収性反射防止体を用いた表示装置を提供する。【解決手段】基材１１上に形成された顔料微粒子及び
高屈折率の微粒子を含む光吸収膜１２と、この光吸収膜
１２上に多層構造１４，１５で形成され、かつその少な
くとも１つの層１４が導電性薄膜から成り、光干渉によ
って入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜
１３とから成る光吸収性反射防止体１０を構成する。ま
た、この光吸収性反射防止体１０を、パネルの外表面に
反射防止膜として形成した表示装置を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光吸収性反射防止
体及びこれを用いた表示装置に関し、特にフラットパネ
ルガラスを使用した陰極線管等の表示装置に対応したコ
ントラスト増強のための光吸収性反射防止体及びこれを
パネル、例えばフラットパネルガラスの外表面に反射防
止膜として形成した表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、表示装置、例えば陰極線管のフェ
ースパネル外装面の形状のフラット化が進められてい
る。陰極線管において、そのフェースパネル外表面の形
状がフラット化されることにより、外気圧に対抗するた
めに中央部とコーナー部のパネルガラスの肉厚の差が大
きくならざるを得ない。

【０００３】ところで、陰極線管のコントラストは、従
来、パネルガラスの光吸収と蛍光面反射率の低減効果に
よって決定されていた。しかし、フェースパネル外表面
のフラット化に伴ってパネルガラスの肉厚の差の分だけ
透過率に差が生じると、これに由来して、輝度の均一さ
が悪化し、パネルの中央部とコーナー部で共に最適なコ
ントラストを得ることが困難となる。

【０００４】従って、ガラス透過率を高くし、かつパネ
ルガラス表面に形成される反射防止体に光吸収性を付与
することにより、総合透過率を等価とし、良好なコント
ラストを得るようにしている。

【０００５】この種の反射防止体として、従来、２層構
造で、反射防止・光吸収性・導電性の各機能を合わせ持
つ光吸収性反射防止体（特開平９−１５６９６４号公報
参照）や、ガラス／ＳｎＯ₂（酸化スズ）／ＴｉＮ（窒
化チタン）／ＳｎＯ₂／Ｔｉｎ／ＳｉＯ₂（二酸化珪
素）構造を持つ導電性光減衰型反射防止被膜（特表平６
−５１０３８２号公報参照）等が知られている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】この特開平９−１５６
９６４号公報に開示された光吸収性反射防止体では、パ
ネルガラスの透過率を５０％から８０％と高くして、膜
の透過率を８０％から５０％と低くすることにより、等
価なコントラストを得ることは可能である。

【０００７】しかしながら、等価なコントラストを得る
ためには、光吸収膜の膜厚を厚くしなければならず、パ
ネルガラスと膜の屈折率の差が大きな場合は、ガラス側
から入射する光（陰極線管では蛍光面からの発光）がガ
ラス・光吸収膜界面で反射し、反射光が再び蛍光体に当
たって発光させるため、陰極線管では像が２重に見えて
しまうという不具合が生じていた。

【０００８】一方、特表平６−５１０３８２号公報に開
示の導電性光減衰型反射防止被膜では、ガラス側から第
１層目の透明膜の屈折率・膜厚を最適化することによ
り、ガラス面側からの入射光を減衰させることは可能で
あるが、膜構成が増えることによるデメリットが多い。
また、光吸収性を有する薄膜材料として、光学定数の波
長分散を考慮して最適なものを得るのは非常に困難であ
る、例えば、陰極線管のＲ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の発
光スペクトル比を考慮した材料設計をするには不向きで
ある。

【０００９】その他にも、陰極線管の表示品質を向上す
るために、パネルガラス表面に形成される構造物には、
光反射防止、光透過率調整、透過する光の波長分布を調
整することによりコントラストの向上、不要輻射を防ぐ
表面抵抗値の機能を有する構成がいろいろ提案されてい
る。しかしながら、いずれの機能をも同時に高いレベル
で満足できるものではなかった。

【００１０】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、高いコントラストと導電性反射防止膜を安価な
製造プロセスで実現可能な光吸収性反射防止体及びこれ
を用いた表示装置を提供するものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の光吸収性反射防
止体は、基材上に形成された、顔料微粒子及び高屈折率
の微粒子を含む光吸収膜と、この光吸収膜上に多層構造
で形成され、かつその少なくとも１つの層が導電性薄膜
から成り、光干渉によって入射光に対する反射光を減衰
させる反射防止多層膜とから成るものである。

【００１２】上述の本発明の光吸収性反射防止体の構成
によれば、光吸収膜が顔料微粒子を含むことにより、顔
料を選択することによってより自由な透過率分布をする
ことが可能になる。さらに、光吸収膜が高屈折率の微粒
子を含むことにより、光吸収膜の屈折率を調整すること
が可能になる。また、反射防止多層膜は、光干渉によっ
て入射光に対する反射光を減衰させると共に、その少な
くとも１つの層が導電性薄膜からなることにより不要輻
射の漏洩を防止することができる。

【００１３】本発明の光吸収性反射防止体は、高屈折率
の微粒子と酸化珪素のみを含む厚さ５ｎｍ以上の第１の
層と、顔料微粒子及び高屈折率の微粒子、並びに酸化珪
素からなる第２の層との２層構造からなる光吸収膜と、
この光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少なく
とも１つの層が導電性薄膜からなり、光干渉によって入
射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜とから
成るものである。

【００１４】上述の本発明の光吸収性反射防止体の構成
によれば、光吸収膜が顔料微粒子及び高屈折率の微粒子
を含むため、光吸収膜の透過率や屈折率を調整すること
が可能になる。さらに、光吸収膜が、顔料を含まない第
１の層と顔料を含む第２の層とを有することにより、第
１の層には顔料がないため下の基材との接着強度を強く
することができ、第２の層には顔料を含むため透過率を
調整することができる。

【００１５】本発明の表示装置は、パネルの外表面に反
射防止膜が形成され、この反射防止膜が、基材上に形成
された顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を含む光吸収膜
と、この光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少
なくとも１つの層が導電性薄膜から成り、光干渉によっ
て入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜と
から成るものである。

【００１６】上述の本発明の表示装置の構成によれば、
パネルの外表面に、前述の光吸収性反射防止体と同様の
構成の反射防止膜が設けられたことにより、光吸収膜に
より選択吸収フィルタを構成することができる。また、
光吸収膜が高屈折率の微粒子を含むため、光吸収膜の屈
折率を調整して例えば基材の屈折率と同等とすることが
可能である。従って、この光吸収膜と反射防止多層膜を
有することにより、裏側入射による光（外光）の反射が
抑制されると共に、その導電性薄膜により不要輻射の漏
洩が防止される。

【００１７】本発明の表示装置は、パネルの外表面に反
射防止膜が形成され、反射防止膜が、高屈折率の微粒子
及び酸化珪素のみを含む第１の層と、顔料微粒子及び高
屈折率の微粒子、並びに酸化珪素からなる第２の層との
２層構造からなる光吸収膜と、この光吸収膜上に多層構
造で形成されかつその少なくとも１つの層が導電性薄膜
から成り光干渉によって入射光に対する反射光を減衰さ
せる反射防止多層膜とから成るものである。

【００１８】上述の本発明の表示装置の構成によれば、
パネルの外表面に、前述の光吸収性反射防止体と同様の
構成の反射防止膜が設けられたことにより、光吸収膜に
よって選択吸収フィルタを構成することができる。また
光吸収膜の第１の層により反射防止膜のパネルへの接着
強度も強くなる。また、光吸収膜が高屈折率の微粒子を
含むため、光吸収膜の屈折率を調整して例えば基材の屈
折率と同等とすることが可能である。従って、この光吸
収膜と反射防止多層膜を有することにより、裏側入射に
よる光（外光）の反射が抑制されると共に、その導電性
薄膜により不要輻射の漏洩が防止される。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明は、基材上に形成された、
顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を含む光吸収膜と、光
吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少なくとも１
つの層が導電性薄膜から成り、光干渉によって入射光に
対する反射光を減衰させる反射防止多層膜とから成る光
吸収性反射防止体である。

【００２０】また本発明は、上記光吸収性反射防止体に
おいて、光吸収膜の物理膜厚が、１０ｎｍ以上１０００
ｎｍ以下である構成とする。

【００２１】また本発明は、上記光吸収性反射防止体に
おいて、光吸収膜が、有機溶剤に固形分比にして１．５
ｗｔ％以上４．５ｗｔ％以下の酸化珪素を分散させたゾ
ルゲル膜の塗布によって形成されて成る構成とする。

【００２２】また本発明は、上記光吸収性反射防止体に
おいて、光吸収膜は、高屈折率の微粒子を主材料である
酸化珪素の２０ｗｔ％以上４０ｗｔ％以下の重量比で含
有し、屈折率が１．４０以上１．６５以下とされた構成
とする。

【００２３】また本発明は、上記光吸収性反射防止体に
おいて、光吸収膜は、酸化珪素に対する顔料微粒子の割
合が５ｗｔ％以下である構成とする。

【００２４】本発明は、高屈折率の微粒子と酸化珪素の
みを含む厚さ５ｎｍ以上の第１の層と、顔料微粒子及び
高屈折率の微粒子、並びに酸化珪素からなる第２の層と
の２層構造からなる光吸収膜と、光吸収膜上に多層構造
で形成され、かつその少なくとも１つの層が導電性薄膜
からなり、光干渉によって入射光に対する反射光を減衰
させる反射防止多層膜とから成る光吸収性反射防止体で
ある。

【００２５】本発明は、パネルの外表面に反射防止膜が
形成された表示装置であって、反射防止膜が、基材上に
形成された顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を含む光吸
収膜と、光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少
なくとも１つの層が導電性薄膜から成り、光干渉によっ
て入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜と
から成る表示装置である。

【００２６】本発明は、パネルの外表面に反射防止膜が
形成された表示装置であって、反射防止膜が、高屈折率
の微粒子及び酸化珪素のみを含む第１の層と、顔料微粒
子及び高屈折率の微粒子、並びに酸化珪素からなる第２
の層との２層構造からなる光吸収膜と、光吸収膜上に多
層構造で形成されかつその少なくとも１つの層が導電性
薄膜から成り光干渉によって入射光に対する反射光を減
衰させる反射防止多層膜とから成る表示装置である。

【００２７】図１は本発明の一実施の形態に係る光吸収
性反射防止体の構造を示す断面図を示す。

【００２８】この光吸収性反射防止膜１０は、ガラス基
材１１上に形成された顔料微粒子を含む１０ｎｍ以上１
０００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以上８００ｎｍ
以下の物理膜厚を有する光吸収膜１２と、この光吸収膜
１２上に形成され、光干渉によって入射光に対する反射
光を減衰させる反射防止多層膜１３とを有する構成とな
っている。

【００２９】図１の光吸収性反射防止膜１０の光吸収膜
１２の構造を図２に示す。この光吸収膜１２は、酸化珪
素（ＳｉＯ₂）を主成分とし、この酸化珪素の微粒子が
バインダー１となって、膜が形成されている。そして、
光吸収膜１２の内部には、所望の屈折率分布が得られる
ように、顔料微粒子２と、高屈折率の微粒子３とを含有
している。

【００３０】顔料微粒子２としては、カーボン微粒子
（カーボンブラック）や、鉄、コバルト、マンガン、ス
ズ、ルテニウム等の化合物による無機顔料微粒子や、有
機物質からなる有機顔料微粒子を用いることができる。
このような顔料微粒子２を含有することにより、光吸収
膜１２の透過率を調整することができる。

【００３１】高屈折率の微粒子３としては、酸化スズ
（屈折率：約２．０）や酸化チタン（屈折率：約２．
６）等の高屈折材料の微粒子を用いることができる。こ
のような高屈折率の微粒子３を含有することにより、光
吸収膜１２の屈折率を調整することができる。

【００３２】上述の構成の光吸収膜１２は、バインダー
１となる酸化珪素と、顔料微粒子２と、高屈折率の微粒
子３とを、エタノールなどの有機溶媒中に調合して、均
一に分散させたシリコンアルコキシド溶剤を作製し、こ
のシリコンアルコキシド溶剤をガラス基材１１の表面に
塗布した後、所定の温度で焼成することによって形成さ
れる。

【００３３】尚、顔料微粒子２の有機溶媒中での粒径は
最小でも１０ｎｍとなるため、均一な光吸収膜１２を形
成するためには１０ｎｍ以上の膜厚Ｄ１が必要である。
また、顔料として有機顔料を使用する場合は、二次粒径
が５０ｎｍ以上になる場合もあるため、より安定な光吸
収膜１２の形成には１００ｎｍ以上の膜厚Ｄ１が必要で
ある。一方、光吸収膜１２の膜厚Ｄ１を１０００ｎｍ以
上とすると、成膜や乾燥後に表面にひび割れが発生する
可能性があるため、好ましくない。光吸収膜１２の膜厚
Ｄ１が８００ｎｍ以下であれば、その上の反射防止多層
膜の構造、成膜方法、保存方法に係わらず、長期の安定
性が確認されている。

【００３４】また、ガラス基材１１との充分な接着強度
を持つ、均質な光吸収膜１２をガラス基材１１上に形成
するためには、バインダー１の酸化珪素に対する顔料微
粒子２の重量比率が低い方が望ましい。具体的には、酸
化珪素に対する顔料微粒子２の重量割合を３ｗｔ％以下
にする必要がある。顔料微粒子２の重量割合が３ｗｔ％
を超えると、膜のガラス基材１１に対する接着強度が不
十分になり、長期の信頼性が劣る場合がある。

【００３５】尚、透過率の調整のために顔料微粒子２を
３％以上使用したい場合には、後述するように２層構造
の光吸収膜１２（図４参照）を形成し、ガラス基材１１
側の第１層には顔料微粒子を含まないようにすることも
可能である。

【００３６】また、光吸収膜１２の屈折率は、ガラス基
材１１の屈折率に近い１．４０以上１．６５以下、望ま
しくは、１．４５〜１．５５の屈折率となるように、酸
化スズ、酸化チタン等の高屈折率の微粒子３を含有させ
る。この高屈折率の微粒子３のバインダー１の酸化珪素
に対する固形分比を２０ｗｔ％から４０ｗｔ％まで変化
させることにより、容易に屈折率を調整することができ
る。

【００３７】そして、光吸収膜１２の屈折率が１．４０
以上１．６５以下であれば、ガラス基材１１の屈折率を
最適化することで、像が２重に見える現象を回避するこ
とができる。近年のフラットガラスパネルに用いられる
高透過率のガラスは、その屈折率が１．４５以上１．５
５以下であるため、本実施の形態の光吸収性反射防止体
１０をフラットガラスパネルに適用する場合の光吸収膜
１２の屈折率は１．４５以上１．５５以下であることが
好ましい。

【００３８】上述の高屈折率の微粒子３は、その粒径が
無機顔料の一次粒径とほぼ同じとなる。このため、高屈
折率の微粒子３を含有することによっても、光吸収膜１
２の最適な膜厚に影響することはない。また、高屈折率
の微粒子３により、光吸収膜１２の上層の反射防止多層
膜１３の反射防止機能を劣化させることはない。

【００３９】塗膜である光吸収膜１２の形成方法として
は、ゾルゲル法を採用する。このゾルゲル法では、スピ
ンコート法が均一な膜厚を得るためには最も適してい
る。このスピンコート法の他にも、ロールコート法、デ
ィップコート法、スプレー法等を用いることができる。
ただし、本発明は、これらの形成方法に限定されるもの
ではない。

【００４０】しかし、いずれの方法を採る場合でも、好
ましい粘度が得られる固形分比率は、有機溶剤に対する
固形分比にして１．５ｗｔ％以上４．５ｗｔ％以下、好
ましくは２．５ｗｔ％〜３．５ｗｔ％である。この固形
分比となるように、酸化珪素を分散させたシリコンアル
コキシド溶剤を調整する。固形分比が１．５ｗｔ％より
少ない場合には、液の粘度が低くなり、既に述べた好ま
しい膜厚（１００ｎｍ以上）で塗布された場合でも、有
機顔料の粒が露出してしまうため、光吸収膜１２の硬度
が低下する。また、固形分比が４．５ｗｔ％を超える
と、粘性が上がりすぎて、ガラス基材１１の広い面積に
塗布した場合に膜厚が均一でなくなる。

【００４１】光吸収膜１２を形成する具体的な例として
は、例えば以下のようにすることができる。バインダー
１となる酸化珪素の液中の固形分比を３．０ｗｔ％と
し、顔料微粒子２として有機顔料を酸化珪素に対する重
量比で３．０ｗｔ％混合し、高屈折率の微粒子３として
酸化スズの微粒子を酸化珪素に対する重量比で３５．０
ｗｔ％混合し、アルコキシド溶剤を調整する。そして、
このアルコキシド溶剤を、ガラス基材１１上にスピンコ
ート法にて２００ｎｍの厚さに塗布する。これを所定の
温度で焼成することによって光吸収膜１２が形成され
る。

【００４２】光吸収膜１２の上には、多層構造の反射防
止膜（反射防止多層膜）１３が形成される。尚、図１で
は反射防止多層膜１３が最も単純な２層である構造を有
している。反射防止多層膜１３の少なくとも１つの層
は、表面抵抗が１０Ω／□以上１０００Ω／□以下の導
電性薄膜１４によって構成されている。この導電性薄膜
１４の材料としては、透明なＩＴＯ（インジウムスズ酸
化物）、ＳｎＯ₂（酸化スズ）、ＺｎＯ_X（酸化亜
鉛）、または光吸収性を有するＴｉＮ（窒化チタン）
膜、ＮｂＮ（窒化ニオブ）膜に代表される窒化遷移金属
膜、さらにはＡｇ（銀）膜やＮｉ−Ｆｅ（ニッケル・鉄
合金）のような金属薄膜が用いられる。

【００４３】反射防止多層膜１３に導電性のない層を設
ける場合には、例えばＳｉＯ₂膜１５を形成することが
できる。

【００４４】この反射防止多層膜１３の形成方法として
は、例えばＤＣアクティブスパッタリング法を採用す
る。例えばＴｉＮ膜１４とＳｉＯ₂膜１５から成る反射
防止多層膜１３を形成する場合には、スパッタリング装
置は以下の構成とする。金属チタンターゲットを配置し
て窒素・アルゴンの混合ガスを反応ガスに用いる第１成
膜室と、ガス置換機能を持つ隔離室と、金属シリコンタ
ーゲットを配置して酸素・アルゴンの混合ガスを反応ガ
スに用いる第２成膜室からスパッタリング装置を構成す
る。この構成のスパッタリング装置により、第１成膜室
でＴｉＮ膜１４が成膜され、第２成膜室でＴｉＮ膜１４
上にＳｉＯ₂膜１５が成膜される。

【００４５】ここで、本実施の形態の光吸収反射防止体
１０の製造工程のフローチャートを図３に示す。まず、
ガラス基材１１の表面を洗浄する（工程１）。続いて、
ガラス基材１１上に光吸収膜１２をロールコート等によ
って塗布する（工程２）。次に、所定の温度ｔ（１２０
℃＜ｔ＜２００℃）でベーキング処理を行う（工程
３）。そして、スパッタリング法により、まず第２層目
のＴｉＮ膜１４を成膜し（工程４）、次に第３層目のＳ
ｉＯ₂膜１５を成膜する（工程５）。これにより、２層
構造の反射防止多層膜１３が形成される。

【００４６】上述の本実施の形態の光吸収性反射防止体
１０によれば、光吸収膜１２が高屈折率の微粒子３を含
有することにより、光吸収膜１２の屈折率を調整するこ
とが可能になる。これにより、例えばガラス基材１１の
屈折率と同等になるように、光吸収膜１２の屈折率を調
整することができる。

【００４７】また、光吸収膜１２が顔料を含有すること
により、顔料の選択により光吸収膜１２の光透過性を調
整することが可能になる。これにより、例えば表示装置
のフェースパネルの反射防止膜として光吸収性反射防止
体１０を用いた場合に、ＲＧＢ輝度を考慮した選択吸収
フィルタを実現することができる。

【００４８】また、反射防止多層膜１３が導電性薄膜１
４を有するため、不要輻射の漏洩が防止される。

【００４９】そして、本実施の形態の光吸収性反射防止
体１０によれば、第１層目の光吸収膜１２、第２層目の
ＴｉＮ膜（導電性薄膜）１４及び第３層目のＳｉＯ₂膜
１５からなる３層構造の膜構成としたことにより、いず
れの屈折率も１．４５〜１．５５の範囲内とすることが
できる。これにより、裏側入射による光の反射を抑える
ことができる。

【００５０】次に、本発明の他の実施の形態の光吸収性
反射防止体概略断面図を図４に示す。この光吸収性反射
防止体２０は、光吸収膜１２の構成が２層構造となって
いて、顔料を含まない第１の光吸収膜１６と、顔料を含
む第２の光吸収膜１７とから成る。即ちガラス基材１１
側の第１の光吸収膜１６はバインダー１となる酸化珪素
と高屈折率の微粒子３とを含有し、その上の第２の光吸
収膜１７はバインダー１となる酸化珪素と顔料微粒子２
及び高屈折率の微粒子３とを含有する。その他の構成
は、図１の光吸収性反射防止体１０と同様であるため、
重複説明を省略する。

【００５１】本実施の形態の光吸収性反射防止体２０で
は、ガラス基材１１側の第１の光吸収膜１６が顔料を含
まないので、この第１の光吸収膜１６とガラス基材１１
との接着強度が強くなる。尚、第１の光吸収膜１６の膜
厚Ｄ２は、接着強度を充分確保するためにも５ｎｍ以上
とすることが望ましい。

【００５２】そして、透過率の調整のために顔料微粒子
２を３％以上使用したい場合には、顔料微粒子２を含む
第２の光吸収膜１２における顔料微粒子２の重量比を図
１の場合の１層の光吸収膜１２よりやや多め、例えば５
％以下の重量比になるように混合する。

【００５３】図４の光吸収性反射防止体２０は、例えば
次のようにして形成することができる。まず、ガラス基
材１１上に顔料を含まない第１の光吸収膜１６用のゾル
ゲル液を塗布する。即ち、バインダー１となる酸化珪素
のゾルゲル液中の固形分比を例えば３．０ｗｔ％とし、
高屈折率の微粒子３として酸化スズの微粒子を酸化珪素
に対する重量比で例えば３５．０ｗｔ％混合して、アル
コキシド溶剤を調整する。続いて、このアルコキシド溶
剤を、スピンコート法にて例えば５ｎｍの厚さＤ２に塗
布する。

【００５４】次に、顔料微粒子２を含む第２の光吸収膜
１７用のゾルゲル液を塗布する。即ち、バインダー１と
なる酸化珪素のゾルゲル液中の固形分比を例えば３．０
ｗｔ％とし、高屈折率の微粒子３として酸化スズの微粒
子を酸化珪素に対する重量比で例えば３５．０ｗｔ％混
合し、顔料微粒子２として有機顔料を酸化珪素に対する
重量比で例えば３．５ｗｔ％混合して、アルコキシド溶
剤を調整する。続いて、このアルコキシド溶剤を、スピ
ンコート法にて例えば２００ｎｍの厚さＤ３に塗布す
る。

【００５５】このようにして形成した光吸収性反射防止
体２０の膜の接着強度は、顔料が先の実施の形態の具体
例（３．０ｗｔ％）より多いにも係わらず同じであっ
た。

【００５６】そして、上述の各実施の形態の光吸収性反
射防止体１０，２０をパネルガラスの外表面に形成する
ことにより、パネルガラスに反射防止膜が形成された表
示装置を構成することができる。

【００５７】図５は、この本発明の表示装置の実施の形
態として、陰極線管の概略断面図を示す。この陰極線管
３０は、パネル部２１ａとファンネル部２１ｂとネック
部２１ｃとを有するガラス製の陰極線管体２１により形
成される。そして、陰極線管体２１のパネル部２１ａと
して、外表面がフラット形状のパネルガラス２２が、封
止部２１ｄによりファンネル部２１ｂのガラスと接合さ
れている。このパネルガラス２２は、外気圧に対抗する
ために中央部より周辺部（特にコーナー部）が厚くなっ
ている。

【００５８】陰極線管体２１のネック部２１ｃには、電
子ビームを出射する電子銃２３が封入されている。ま
た、ネック部２１ｃからファンネル部２１ｂにかけて、
電子銃２３から出射された電子ビームを偏向する偏向ヨ
ーク２４が取り付けられている。

【００５９】そして、パネルガラス２２の外表面には、
コントラストの増強を目的として、反射防止膜２５が形
成されている。この反射防止膜２５として、前述の実施
の形態の光吸収性反射防止体１０または２０を用いるこ
とができる。

【００６０】パネルガラス２２の外表面に反射防止膜２
５を形成するには、前述した光吸収性反射防止体１０の
形成方法と同様の方法を用いることができる。

【００６１】上述の本実施の形態の陰極線管３０によれ
ば、フラット形状のパネルガラス２２を使用した陰極線
管３０において、コントラスト増強のための反射防止膜
２５として、光吸収膜１２及び反射防止多層膜１３から
なる光吸収性反射防止体１０または２０を用いたことに
より、光吸収膜１２の光吸収性作用により陰極線管２０
のパネルガラス２２のフラット化に伴うパネルガラス２
２の肉厚の影響を排除することができる。

【００６２】また、反射防止多層膜１３の光干渉による
反射防止によって、従来にない高いコントラストが得ら
れると共に、反射防止多層膜１３に設けられた導電性薄
膜１４によって不要輻射の漏洩を防止することができ
る。

【００６３】また、光吸収性反射防止体１０または２０
の光吸収膜１２の顔料の選択により、より自由な透過率
分布を得ることができるため、カラー陰極線管の３色
（赤、緑、青）の輝度の比率に応じた反射防止膜２５の
設計が可能であり、３色の電子ビームの電流量の比を最
適化することによって、フォーカス性能の向上を図るこ
とができる。

【００６４】尚、本発明を適用することが可能な表示装
置としては、上述の陰極線管に限られるものではなく、
液晶ディスプレイや、ＦＥＤ（Field Emission Displa
y）等の表示装置にも同様に適用することができる。そ
して、これら表示装置のパネルの外表面に、反射防止膜
として本発明の光吸収性反射防止体を形成することによ
り、高いコントラストと、導電性反射防止とを実現する
ことができる。

【００６５】本発明は、上述の実施の形態に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。

【００６６】

【発明の効果】上述の本発明によれば、光吸収性反射防
止体及びこれをフラットパネルガラスの反射防止膜とし
て用いた表示装置において、光吸収性反射防止体の光吸
収膜に顔料と高屈折率素材を添加した構成としたことに
より、表示装置のＲＧＢ輝度を考慮した選択吸収フィル
タを実現することができる。従って、従来にない高コン
トラストと導電性反射防止を安価な製造プロセスで実現
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態の光吸収性反射防止体の
構造を示す断面図である。

【図２】図１の光吸収性反射防止体の光吸収膜の構成を
示す断面図である。

【図３】図１の光吸収性反射防止体の製造工程の流れを
示すフローチャートである。

【図４】本発明の他の実施の形態の光吸収性反射防止体
の構造を示す断面図である。

【図５】本発明の表示装置の実施の形態の陰極線管の概
略断面図である。

【符号の説明】

１バインダー、２顔料微粒子、３高屈折率の微粒
子、１０，２０光吸収性反射防止体、１１ガラス基
材、１２光吸収膜、１３反射防止多層膜、１４導
電性薄膜（ＴｉＮ膜）、１５ＳｉＯ₂膜、１６第１
の光吸収膜、１７第２の光吸収膜、２１陰極線管体、
２２パネルガラス、２３電子銃、２４偏向ヨー
ク、２５反射防止膜、３０陰極線管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者荒木宗也愛知県稲沢市大矢町茨島30番地ソニー稲沢株式会社内Ｆターム(参考） 2K009 AA05 BB02 CC02 CC03 CC09 CC14 DD04 EE01 EE03 4F100 AA20B AG00A AT00A BA04 BA07 BA10A CA13B CA13H DE01B DE01H EG00D GB41 JD06 JD06B JG01C JN06 JN06D JN18B JN18H 4G059 AA07 AB11 AC04 AC11 GA02 GA04 GA12 5C032 AA02 DD02 DE01 DE03 DF01 DF03 DG01 DG02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材上に形成された、顔料微粒子及び高
屈折率の微粒子を含む光吸収膜と、上記光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少なく
とも１つの層が導電性薄膜から成り、光干渉によって入
射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜とから
成ることを特徴とする光吸収性反射防止体。
【請求項２】上記光吸収膜の物理膜厚が、１０ｎｍ以
上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に
記載の光吸収性反射防止体。
【請求項３】上記光吸収膜が、有機溶剤に固形分比に
して１．５ｗｔ％以上４．５ｗｔ％以下の酸化珪素を分
散させたゾルゲル膜の塗布によって形成されて成ること
を特徴とする請求項１に記載の光吸収性反射防止体。
【請求項４】上記光吸収膜は、上記高屈折率の微粒子
を、主材料である酸化珪素の２０ｗｔ％以上４０ｗｔ％
以下の重量比で含有し、屈折率が１．４０以上１．６５
以下とされたことを特徴とする請求項１に記載の光吸収
性反射防止体。
【請求項５】上記光吸収膜は、上記酸化珪素に対する
上記顔料微粒子の割合が５ｗｔ％以下であることを特徴
とする請求項１に記載の光吸収性反射防止体。
【請求項６】高屈折率の微粒子と酸化珪素のみを含む
厚さ５ｎｍ以上の第１の層と、顔料微粒子及び高屈折率
の微粒子、並びに酸化珪素からなる第２の層との２層構
造からなる光吸収膜と、上記光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少なく
とも１つの層が導電性薄膜からなり、光干渉によって入
射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜とから
成ることを特徴とする光吸収性反射防止体。
【請求項７】パネルの外表面に反射防止膜が形成され
た表示装置であって、上記反射防止膜が、基材上に形成された顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を
含む光吸収膜と、上記光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少なく
とも１つの層が導電性薄膜から成り、光干渉によって入
射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜とから
成ることを特徴とする表示装置。
【請求項８】パネルの外表面に反射防止膜が形成され
た表示装置であって、上記反射防止膜が、高屈折率の微粒子及び酸化珪素のみを含む第１の層と、
顔料微粒子及び高屈折率の微粒子、並びに酸化珪素から
なる第２の層との２層構造からなる光吸収膜と、上記光吸収膜上に多層構造で形成され、かつその少なく
とも１つの層が導電性薄膜から成り、光干渉によって入
射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜とから
成ることを特徴とする表示装置。