JP2002071961A - 光学装置 - Google Patents
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Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材による回折格子の温度補償特性が不充分
のため反射中心波長が温度により変化するのを抑制する
ことが可能な光学装置を提供すること。 【解決手段】 光学装置１０は回折格子部６が形成され
た光ファイバ４を備え、この光ファイバ４は第２接着剤
５により基材部１に接着固定される。基材部１は、二つ
の第１基材１ａと、各第１基材１ａの間に位置して光フ
ァイバ４が接着固定される第２基材１ｂとを含んでい
る。回折格子部６の周囲には、リコート層７が設けられ
ている。リコート層７の熱膨張係数は、基材部１の光フ
ァイバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨
張係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨
張係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数）
よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃
〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度範
囲における熱膨張係数よりも低下するようになってい
る。
のため反射中心波長が温度により変化するのを抑制する
ことが可能な光学装置を提供すること。 【解決手段】 光学装置１０は回折格子部６が形成され
た光ファイバ４を備え、この光ファイバ４は第２接着剤
５により基材部１に接着固定される。基材部１は、二つ
の第１基材１ａと、各第１基材１ａの間に位置して光フ
ァイバ４が接着固定される第２基材１ｂとを含んでい
る。回折格子部６の周囲には、リコート層７が設けられ
ている。リコート層７の熱膨張係数は、基材部１の光フ
ァイバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨
張係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨
張係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数）
よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃
〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度範
囲における熱膨張係数よりも低下するようになってい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくともコア部
の屈折率を光軸に沿って周期的に変化させた回折格子が
形成されている光ファイバを有する光学装置に関するも
のである。
の屈折率を光軸に沿って周期的に変化させた回折格子が
形成されている光ファイバを有する光学装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバ回折格子では、一般に、クラ
ッド部の周囲に設けられ樹脂からなる被覆層を軸方向の
所定長さにわたって除去し、クラッド部を露出させた状
態で紫外線を照射することにより、露出したクラッド部
の内側に位置するコア部の光軸方向に沿った所定領域に
回折格子を形成している。このように構成した光ファイ
バ回折格子は、使用温度範囲では光ファイバが正の熱膨
張係数を有しているため、周囲温度が変化すると、光フ
ァイバが伸縮し格子間隔が変化する。また、温度により
光ファイバガラス部の屈折率が変化するため、回折格子
での反射中心波長が変化することになる。この回折格子
による反射中心波長の温度依存性を無くすためには、回
折格子が形成された光ファイバに加わる張力を低温時に
は増加させ、高温時には低下させる必要がある。
ッド部の周囲に設けられ樹脂からなる被覆層を軸方向の
所定長さにわたって除去し、クラッド部を露出させた状
態で紫外線を照射することにより、露出したクラッド部
の内側に位置するコア部の光軸方向に沿った所定領域に
回折格子を形成している。このように構成した光ファイ
バ回折格子は、使用温度範囲では光ファイバが正の熱膨
張係数を有しているため、周囲温度が変化すると、光フ
ァイバが伸縮し格子間隔が変化する。また、温度により
光ファイバガラス部の屈折率が変化するため、回折格子
での反射中心波長が変化することになる。この回折格子
による反射中心波長の温度依存性を無くすためには、回
折格子が形成された光ファイバに加わる張力を低温時に
は増加させ、高温時には低下させる必要がある。
【０００３】このため、温度補償用部材に回折格子が形
成された光ファイバを固定し温度補償することが行われ
ている。例えば、熱膨張係数の小さいアンバーから成る
基材の両端にそれぞれ熱膨張係数の比較的大きいアルミ
ニウムブラケットを内側に向けて取り付け、このアルミ
ニウムブラケットに回折格子が形成された光ファイバを
所定の張力を付与した状態で固定した構造のものが提案
されている。この構造では、ブラケット上の２つの固定
部の間の距離が高温時には収縮し、低温時には拡大する
ので、回折格子が形成された光ファイバに加わる張力を
低温時には増加させ、高温時には低下させることができ
る。このようにして、反射中心波長の温度依存性を実質
的に無くすことができる。
成された光ファイバを固定し温度補償することが行われ
ている。例えば、熱膨張係数の小さいアンバーから成る
基材の両端にそれぞれ熱膨張係数の比較的大きいアルミ
ニウムブラケットを内側に向けて取り付け、このアルミ
ニウムブラケットに回折格子が形成された光ファイバを
所定の張力を付与した状態で固定した構造のものが提案
されている。この構造では、ブラケット上の２つの固定
部の間の距離が高温時には収縮し、低温時には拡大する
ので、回折格子が形成された光ファイバに加わる張力を
低温時には増加させ、高温時には低下させることができ
る。このようにして、反射中心波長の温度依存性を実質
的に無くすことができる。
【０００４】また、回折格子が形成された光ファイバを
負の熱膨張係数を有する基材に固定することで、反射中
心波長がほぼ温度に依存しなくなるようにし、上述した
光ファイバ回折格子における温度変化に対する反射波長
の不安定性に関する問題を解決した構造のものも提案さ
れている。（特開平１０−９６８２７号公報参照）。
負の熱膨張係数を有する基材に固定することで、反射中
心波長がほぼ温度に依存しなくなるようにし、上述した
光ファイバ回折格子における温度変化に対する反射波長
の不安定性に関する問題を解決した構造のものも提案さ
れている。（特開平１０−９６８２７号公報参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た構成の光学装置には、以下のような問題があった。光
ファイバが固定される基材における熱膨張係数、弾性係
数が温度依存性を有している。これにより、基材による
回折格子の温度補償特性が温度依存性を有することにな
り、回折格子での反射中心波長が温度依存性を有するこ
とになる。
た構成の光学装置には、以下のような問題があった。光
ファイバが固定される基材における熱膨張係数、弾性係
数が温度依存性を有している。これにより、基材による
回折格子の温度補償特性が温度依存性を有することにな
り、回折格子での反射中心波長が温度依存性を有するこ
とになる。
【０００６】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、基材による回折格子の温度補償特性が不充分なため
反射中心波長が温度により変化するのを抑制することが
可能な光学装置を提供することを目的とする。
で、基材による回折格子の温度補償特性が不充分なため
反射中心波長が温度により変化するのを抑制することが
可能な光学装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光学装置
は、光軸方向に沿って回折格子が形成された光ファイバ
と、光ファイバが固定される基材と、を備え、基材の温
度変化に伴う伸縮によって光ファイバの光軸方向に生じ
る変位を光ファイバに印加するようにした光学装置であ
って、回折格子が形成された光ファイバ部分の周囲に
は、被覆層が設けられており、被覆層は、基材の光ファ
イバが固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子を温度補償するための所定の熱膨張係数よ
りも大きくなる温度範囲では、熱膨張係数が低下し、基
材の光ファイバが固定される固定部間における見かけ上
の熱膨張係数が回折格子を温度補償するための所定の熱
膨張係数よりも小さくなる温度範囲では、熱膨張係数が
上昇することにより、回折格子が所定の温度範囲にわた
って一様な光学特性を示すように、熱膨張係数が温度依
存性を有していることを特徴としている。
は、光軸方向に沿って回折格子が形成された光ファイバ
と、光ファイバが固定される基材と、を備え、基材の温
度変化に伴う伸縮によって光ファイバの光軸方向に生じ
る変位を光ファイバに印加するようにした光学装置であ
って、回折格子が形成された光ファイバ部分の周囲に
は、被覆層が設けられており、被覆層は、基材の光ファ
イバが固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子を温度補償するための所定の熱膨張係数よ
りも大きくなる温度範囲では、熱膨張係数が低下し、基
材の光ファイバが固定される固定部間における見かけ上
の熱膨張係数が回折格子を温度補償するための所定の熱
膨張係数よりも小さくなる温度範囲では、熱膨張係数が
上昇することにより、回折格子が所定の温度範囲にわた
って一様な光学特性を示すように、熱膨張係数が温度依
存性を有していることを特徴としている。
【０００８】本発明に係る光学装置では、被覆層の熱膨
張係数は上述したような温度依存性を有しているので、
基材における熱膨張係数が温度依存性を有している場合
においても、回折格子が形成された光ファイバ部分の周
囲に被覆層を設けることにより、基材による回折格子の
温度補償特性が温度により変化するのを抑制することが
できる。
張係数は上述したような温度依存性を有しているので、
基材における熱膨張係数が温度依存性を有している場合
においても、回折格子が形成された光ファイバ部分の周
囲に被覆層を設けることにより、基材による回折格子の
温度補償特性が温度により変化するのを抑制することが
できる。
【０００９】また、被覆層には、被覆層の熱膨張係数を
調節するための無機材料からなる微粒子あるいはウィス
カーが充填されていることが好ましい。このように構成
した場合には、被覆層の熱膨張係数を簡易且つ適切に調
節することができる。
調節するための無機材料からなる微粒子あるいはウィス
カーが充填されていることが好ましい。このように構成
した場合には、被覆層の熱膨張係数を簡易且つ適切に調
節することができる。
【００１０】本発明に係る光学装置は、光軸方向に沿っ
て回折格子が形成された光ファイバと、光ファイバが固
定される基材と、を備え、基材の温度変化に伴う伸縮に
よって光ファイバの光軸方向に生じる変位を光ファイバ
に印加するようにした光学装置であって、回折格子が形
成された光ファイバ部分の周囲には、被覆層が設けられ
ており、被覆層は、基材の光ファイバが固定される固定
部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子を温度補
償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる温度範
囲では、弾性係数が低下し、基材の光ファイバが固定さ
れる固定部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子
を温度補償するための所定の熱膨張係数よりも小さくな
る温度範囲では、弾性係数が増加することにより、回折
格子が所定の温度範囲にわたって一様な光学特性を示す
ように、弾性係数が温度依存性を有していることを特徴
としている。
て回折格子が形成された光ファイバと、光ファイバが固
定される基材と、を備え、基材の温度変化に伴う伸縮に
よって光ファイバの光軸方向に生じる変位を光ファイバ
に印加するようにした光学装置であって、回折格子が形
成された光ファイバ部分の周囲には、被覆層が設けられ
ており、被覆層は、基材の光ファイバが固定される固定
部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子を温度補
償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる温度範
囲では、弾性係数が低下し、基材の光ファイバが固定さ
れる固定部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子
を温度補償するための所定の熱膨張係数よりも小さくな
る温度範囲では、弾性係数が増加することにより、回折
格子が所定の温度範囲にわたって一様な光学特性を示す
ように、弾性係数が温度依存性を有していることを特徴
としている。
【００１１】本発明に係る光学装置では、被覆層の弾性
係数は上述したような温度依存性を有しているので、基
材における熱膨張係数が温度依存性を有している場合に
おいても、回折格子が形成された光ファイバ部分の周囲
に被覆層を設けることにより、基材による回折格子の温
度補償特性が温度により変化するのを抑制することがで
きる。
係数は上述したような温度依存性を有しているので、基
材における熱膨張係数が温度依存性を有している場合に
おいても、回折格子が形成された光ファイバ部分の周囲
に被覆層を設けることにより、基材による回折格子の温
度補償特性が温度により変化するのを抑制することがで
きる。
【００１２】また、被覆層には、被覆層の弾性係数を調
節するための無機材料からなる微粒子あるいはウィスカ
ーが充填されていることが好ましい。このように構成し
た場合には、被覆層の弾性係数を簡易且つ適切に調節す
ることができる。
節するための無機材料からなる微粒子あるいはウィスカ
ーが充填されていることが好ましい。このように構成し
た場合には、被覆層の弾性係数を簡易且つ適切に調節す
ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
による光学装置の好適な実施形態について詳細に説明す
る。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符
号を付しており、重複する説明は省略する。
による光学装置の好適な実施形態について詳細に説明す
る。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符
号を付しており、重複する説明は省略する。
【００１４】（第１実施形態）まず、図１に基づいて、
本発明の第１実施形態に係る光学装置を説明する。光学
装置１０は、回折格子部６が形成された光ファイバ４を
備えており、この光ファイバ４は、基材部１に接着固定
されている。
本発明の第１実施形態に係る光学装置を説明する。光学
装置１０は、回折格子部６が形成された光ファイバ４を
備えており、この光ファイバ４は、基材部１に接着固定
されている。
【００１５】光ファイバ４の回折格子部６は、光ファイ
バ４の光軸方向に沿って、且つ、少なくともコア部の屈
折率が変化するように形成されている。また、回折格子
部６は、例えばクラッド部の周囲に設けられた被覆層を
所定の長さだけ除去してクラッド部を露出させ、この露
出部分のコア部に対して紫外線を照射することで形成さ
れる。また、クラッド層の周囲の被膜を除去することな
く回折格子部６を形成することも可能である。なお、紫
外線の照射は、公知のホログラフィック法や位相格子法
等によって行われる。回折格子部６の周囲には、被覆層
としてのリコート層７が設けられている。
バ４の光軸方向に沿って、且つ、少なくともコア部の屈
折率が変化するように形成されている。また、回折格子
部６は、例えばクラッド部の周囲に設けられた被覆層を
所定の長さだけ除去してクラッド部を露出させ、この露
出部分のコア部に対して紫外線を照射することで形成さ
れる。また、クラッド層の周囲の被膜を除去することな
く回折格子部６を形成することも可能である。なお、紫
外線の照射は、公知のホログラフィック法や位相格子法
等によって行われる。回折格子部６の周囲には、被覆層
としてのリコート層７が設けられている。
【００１６】基材部１は、いわゆる温度補償用部材とし
ての機能を有しており、二つの第１基材１ａと、各第１
基材１ａの間に位置する第２基材１ｂと、によって構成
されている。第１基材１ａは、第２基材１ｂよりも大き
な熱膨張係数を有する材料によって形成されている。本
実施形態では、具体的には、第１基材１ａはアルミニウ
ム合金によって形成され、第２基材１ｂは、低熱膨張結
晶化ガラス（たとえば、日本電気硝子（株）ネオセラム
Ｎ−１１）によって形成されている。
ての機能を有しており、二つの第１基材１ａと、各第１
基材１ａの間に位置する第２基材１ｂと、によって構成
されている。第１基材１ａは、第２基材１ｂよりも大き
な熱膨張係数を有する材料によって形成されている。本
実施形態では、具体的には、第１基材１ａはアルミニウ
ム合金によって形成され、第２基材１ｂは、低熱膨張結
晶化ガラス（たとえば、日本電気硝子（株）ネオセラム
Ｎ−１１）によって形成されている。
【００１７】第１基材１ａは、ほぼ直角に屈曲されたア
ングル形状をなしており、第１基材１ａの一片が第２基
材１ｂの端部と第１接着剤２によって接着固定されてい
る。第１基材１ａの他片は、第１基材１ａが第２基材１
ｂに接着された状態において、第２基材１ｂに対してほ
ぼ平行となるようにされている。
ングル形状をなしており、第１基材１ａの一片が第２基
材１ｂの端部と第１接着剤２によって接着固定されてい
る。第１基材１ａの他片は、第１基材１ａが第２基材１
ｂに接着された状態において、第２基材１ｂに対してほ
ぼ平行となるようにされている。
【００１８】また、第１基材１ａには、光ファイバ４を
収容する切り欠き状の溝９が形成されている。溝９に光
ファイバ４、詳しくは光ファイバ４の被覆部分を収容す
ることで、光ファイバ４がその延在方向と直交する方向
に動くことを防止できる。また、第１基材１ａの端部
（溝９が形成された側）には被覆部分が当接するので、
端部の角で光ファイバ４の裸ファイバ部が傷付くことも
防止することができる。
収容する切り欠き状の溝９が形成されている。溝９に光
ファイバ４、詳しくは光ファイバ４の被覆部分を収容す
ることで、光ファイバ４がその延在方向と直交する方向
に動くことを防止できる。また、第１基材１ａの端部
（溝９が形成された側）には被覆部分が当接するので、
端部の角で光ファイバ４の裸ファイバ部が傷付くことも
防止することができる。
【００１９】上述のように、基材部１においては、低熱
膨張結晶化ガラス製の第２基材１ｂよりもアルミニウム
合金製の第１基材１ａの方が熱膨張係数が大きいため、
温度上昇時に第２基材１ｂの膨張量（図１中矢印Ａ参
照）よりも第１基材１ａの膨張量（図１中矢印Ｂ参照）
が大きくなる。この結果、基材部１は、第２接着剤５が
塗布された２点間において負の熱膨張係数を有すること
になり、温度変化に伴って光ファイバに加えられる張力
を低下することができる。
膨張結晶化ガラス製の第２基材１ｂよりもアルミニウム
合金製の第１基材１ａの方が熱膨張係数が大きいため、
温度上昇時に第２基材１ｂの膨張量（図１中矢印Ａ参
照）よりも第１基材１ａの膨張量（図１中矢印Ｂ参照）
が大きくなる。この結果、基材部１は、第２接着剤５が
塗布された２点間において負の熱膨張係数を有すること
になり、温度変化に伴って光ファイバに加えられる張力
を低下することができる。
【００２０】第１基材１ａには、光ファイバ４が第２接
着剤５によって接着されている。詳しくは、光ファイバ
４は、回折格子部６の中心波長をモニタしながら回折格
子部６に所定の張力が与えられた状態で、回折格子部６
の両側部において第２接着剤５により第１基材１ａに固
定される。光ファイバ４を固定する際は、基材部１及び
光ファイバ４の回折格子部６は所定の温度に加熱されて
いる。この加熱温度は、接着剤が熱硬化型樹脂の場合は
硬化温度であり、紫外線硬化型樹脂の場合は樹脂の濡れ
性がよくなるまで樹脂の粘度が低くなる温度である。こ
のようにして光ファイバ４を基材部１に取り付けること
により、光ファイバ４の使用温度範囲（−４５℃〜８５
℃）において、光ファイバ４にかかる張力を適切な値に
保つことになり、回折格子部６での温度変化に対する反
射中心波長の安定性を保つことができる。
着剤５によって接着されている。詳しくは、光ファイバ
４は、回折格子部６の中心波長をモニタしながら回折格
子部６に所定の張力が与えられた状態で、回折格子部６
の両側部において第２接着剤５により第１基材１ａに固
定される。光ファイバ４を固定する際は、基材部１及び
光ファイバ４の回折格子部６は所定の温度に加熱されて
いる。この加熱温度は、接着剤が熱硬化型樹脂の場合は
硬化温度であり、紫外線硬化型樹脂の場合は樹脂の濡れ
性がよくなるまで樹脂の粘度が低くなる温度である。こ
のようにして光ファイバ４を基材部１に取り付けること
により、光ファイバ４の使用温度範囲（−４５℃〜８５
℃）において、光ファイバ４にかかる張力を適切な値に
保つことになり、回折格子部６での温度変化に対する反
射中心波長の安定性を保つことができる。
【００２１】ところで、第１基材１ａに用いられている
アルミニウム合金の平均熱膨張係数、及び、第２基材１
ｂに用いられている低熱膨張結晶化ガラスの平均熱膨張
係数は、図３に示されるように、温度依存性を有してい
る。また、第１基材１ａ及び第２基材１ｂの平均熱膨張
係数が温度依存性を有することから、基材部１の光ファ
イバ４が固定される固定部間（第２接着剤５が塗布され
た２点間）における見かけ上の熱膨張係数も、図３に示
されるように、温度依存性を有することになる。
アルミニウム合金の平均熱膨張係数、及び、第２基材１
ｂに用いられている低熱膨張結晶化ガラスの平均熱膨張
係数は、図３に示されるように、温度依存性を有してい
る。また、第１基材１ａ及び第２基材１ｂの平均熱膨張
係数が温度依存性を有することから、基材部１の光ファ
イバ４が固定される固定部間（第２接着剤５が塗布され
た２点間）における見かけ上の熱膨張係数も、図３に示
されるように、温度依存性を有することになる。
【００２２】基材部１の光ファイバ４が固定される固定
部間（第２接着剤５が塗布された２点間）における見か
け上の熱膨張係数が図３に示されるような温度依存性を
有することから、リコート層７が設けられていない場合
には、回折格子部６における反射中心波長は、基材部１
の光ファイバ４が固定される固定部間における見かけ上
の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための所定
の熱膨張係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張
係数）よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び
５０℃〜１００℃の温度範囲では、補償不足の状態とな
る。このため、−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃〜
１００℃の温度範囲における反射中心波長が、図４に示
されるように、所望の反射中心波長（０℃〜５０℃の温
度範囲における反射中心波長）からずれることになる。
部間（第２接着剤５が塗布された２点間）における見か
け上の熱膨張係数が図３に示されるような温度依存性を
有することから、リコート層７が設けられていない場合
には、回折格子部６における反射中心波長は、基材部１
の光ファイバ４が固定される固定部間における見かけ上
の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための所定
の熱膨張係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張
係数）よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び
５０℃〜１００℃の温度範囲では、補償不足の状態とな
る。このため、−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃〜
１００℃の温度範囲における反射中心波長が、図４に示
されるように、所望の反射中心波長（０℃〜５０℃の温
度範囲における反射中心波長）からずれることになる。
【００２３】しかしながら、本第１実施形態において
は、回折格子部６の周囲に設けられるリコート層７の熱
膨張係数を、図５に示されるように、基材部１の光ファ
イバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張
係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張
係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数）よ
りも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃〜
１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度範囲
における熱膨張係数よりも低下させるようにしている。
は、回折格子部６の周囲に設けられるリコート層７の熱
膨張係数を、図５に示されるように、基材部１の光ファ
イバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張
係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張
係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数）よ
りも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃〜
１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度範囲
における熱膨張係数よりも低下させるようにしている。
【００２４】また、リコート層７の熱膨張係数を低下さ
せる代わりに、リコート層７の弾性係数、たとえばヤン
グ係数を、図６に示されるように、基材部１の光ファイ
バ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張係
数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数）より
も大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃〜１
００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度範囲に
おけるヤング係数よりも低下させるようにしてもよい。
せる代わりに、リコート層７の弾性係数、たとえばヤン
グ係数を、図６に示されるように、基材部１の光ファイ
バ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張係
数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数）より
も大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃〜１
００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度範囲に
おけるヤング係数よりも低下させるようにしてもよい。
【００２５】本第１実施形態においては、回折格子部６
の周囲に設けられるリコート層７の熱膨張係数、あるい
は、ヤング係数を−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃
〜１００℃の温度範囲において低下させるために、リコ
ート層７を構成するウレタン・アクリレートプレポリマ
ー系のＵＶ硬化樹脂Ｒに対して、図２に示されるよう
に、リコート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数
を調整するための調整材料としてセラミックス系の微粒
子Ｐ1を充填している。充填されるセラミックス系の微
粒子Ｐ1の量は、微粒子の体積分率として１％〜９０％
程度に設定されている。なお、調整材料としてセラミッ
クス系の微粒子の代わりに、炭酸カルシウム、シリカ、
マイカ、珪酸性無機材、ジルコニア、アルミナ等の無機
材料の微粒子を用いるようにしてもよく、また、微粒子
の代わりにウィスカーを用いるようにしてもよい。
の周囲に設けられるリコート層７の熱膨張係数、あるい
は、ヤング係数を−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０℃
〜１００℃の温度範囲において低下させるために、リコ
ート層７を構成するウレタン・アクリレートプレポリマ
ー系のＵＶ硬化樹脂Ｒに対して、図２に示されるよう
に、リコート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数
を調整するための調整材料としてセラミックス系の微粒
子Ｐ1を充填している。充填されるセラミックス系の微
粒子Ｐ1の量は、微粒子の体積分率として１％〜９０％
程度に設定されている。なお、調整材料としてセラミッ
クス系の微粒子の代わりに、炭酸カルシウム、シリカ、
マイカ、珪酸性無機材、ジルコニア、アルミナ等の無機
材料の微粒子を用いるようにしてもよく、また、微粒子
の代わりにウィスカーを用いるようにしてもよい。
【００２６】以上のことから、本第１実施形態において
は、リコート層７の熱膨張係数を、基材部１の光ファイ
バ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張係
数よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０
℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度
範囲における熱膨張係数よりも低下させることにより、
図７に示されるように、回折格子部６が所定の温度範囲
（−５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性（回
折格子部６における反射中心波長が略一定）を示すよう
になる。
は、リコート層７の熱膨張係数を、基材部１の光ファイ
バ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張係
数よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温度範囲及び５０
℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度
範囲における熱膨張係数よりも低下させることにより、
図７に示されるように、回折格子部６が所定の温度範囲
（−５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性（回
折格子部６における反射中心波長が略一定）を示すよう
になる。
【００２７】また、リコート層７のヤング係数を、基材
部１の光ファイバ４が固定される固定部間における見か
け上の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための
所定の熱膨張係数よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温
度範囲及び５０℃〜１００℃の温度範囲において、０℃
〜５０℃の温度範囲におけるヤング係数よりも低下させ
ることによっても、図７に示されるように、回折格子部
６が所定の温度範囲（−５０℃〜１００℃）にわたって
一様な光学特性（回折格子部６における反射中心波長が
略一定）を示すようになる。
部１の光ファイバ４が固定される固定部間における見か
け上の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための
所定の熱膨張係数よりも大きくなる−５０℃〜０℃の温
度範囲及び５０℃〜１００℃の温度範囲において、０℃
〜５０℃の温度範囲におけるヤング係数よりも低下させ
ることによっても、図７に示されるように、回折格子部
６が所定の温度範囲（−５０℃〜１００℃）にわたって
一様な光学特性（回折格子部６における反射中心波長が
略一定）を示すようになる。
【００２８】このように、本第１実施形態に係る光学装
置１０においては、リコート層７の熱膨張係数、あるい
は、ヤング係数が、回折格子部６が所定の温度範囲（−
５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性（回折格
子部６における反射中心波長が略一定）を示すように、
温度依存性を有していることから、基材部１における熱
膨張係数が温度依存性を有している場合においても、回
折格子部６が形成された光ファイバ部分の周囲にリコー
ト層７を設けることにより、基材部１による回折格子部
６の温度補償特性が温度により変化するのを抑制するこ
とができる。
置１０においては、リコート層７の熱膨張係数、あるい
は、ヤング係数が、回折格子部６が所定の温度範囲（−
５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性（回折格
子部６における反射中心波長が略一定）を示すように、
温度依存性を有していることから、基材部１における熱
膨張係数が温度依存性を有している場合においても、回
折格子部６が形成された光ファイバ部分の周囲にリコー
ト層７を設けることにより、基材部１による回折格子部
６の温度補償特性が温度により変化するのを抑制するこ
とができる。
【００２９】また、リコート層７には、リコート層７の
熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調節するための無
機材料からなる微粒子あるいはウィスカーが充填されて
いることから、リコート層７の熱膨張係数、あるいは、
ヤング係数を簡易且つ適切に調節することができる。
熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調節するための無
機材料からなる微粒子あるいはウィスカーが充填されて
いることから、リコート層７の熱膨張係数、あるいは、
ヤング係数を簡易且つ適切に調節することができる。
【００３０】（第２実施形態）次に、図８に基づいて、
本発明の第２実施形態に係る光学装置を説明する。光学
装置３０は、温度補償用部材として、負の熱膨張係数を
有する１つの基材２１を有している。基材２１には、光
ファイバ４を収容する切り欠き状の溝９が形成されてい
る。回折格子部６の周囲には、第１実施形態と同様に、
被覆層としてのリコート層７が設けられている。基材２
１は、たとえばＬｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶
化ガラスからなる。
本発明の第２実施形態に係る光学装置を説明する。光学
装置３０は、温度補償用部材として、負の熱膨張係数を
有する１つの基材２１を有している。基材２１には、光
ファイバ４を収容する切り欠き状の溝９が形成されてい
る。回折格子部６の周囲には、第１実施形態と同様に、
被覆層としてのリコート層７が設けられている。基材２
１は、たとえばＬｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶
化ガラスからなる。
【００３１】光ファイバ４は、回折格子部６の中心波長
をモニターしながら回折格子部６に所定の張力が与えら
れた状態で、回折格子部６の両側において接着剤２５
（たとえば、エポキシ系接着剤等の熱硬化性接着剤、ハ
ンダ、低融点ガラス等）により基材２１に固定される。
光ファイバ４を固定する際には、基材２１及び光ファイ
バ４の回折格子部６は所定の温度に加熱されている。こ
のようにして光ファイバ４を取り付けることにより、光
ファイバ４の使用温度範囲において、基材２１の熱変位
が光ファイバ４に適切に伝えられることになり、回折格
子部６での温度変化に対する反射中心波長の安定性を保
つことが可能となる。
をモニターしながら回折格子部６に所定の張力が与えら
れた状態で、回折格子部６の両側において接着剤２５
（たとえば、エポキシ系接着剤等の熱硬化性接着剤、ハ
ンダ、低融点ガラス等）により基材２１に固定される。
光ファイバ４を固定する際には、基材２１及び光ファイ
バ４の回折格子部６は所定の温度に加熱されている。こ
のようにして光ファイバ４を取り付けることにより、光
ファイバ４の使用温度範囲において、基材２１の熱変位
が光ファイバ４に適切に伝えられることになり、回折格
子部６での温度変化に対する反射中心波長の安定性を保
つことが可能となる。
【００３２】ところで、基材２１に用いられている結晶
化ガラス（ＬｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶化ガ
ラス）の平均熱膨張係数は、図１０に示されるように、
温度依存性を有している。基材２１の光ファイバ４が固
定される固定部間（接着剤２５が塗布された２点間）に
おける見かけ上の熱膨張係数が図１０に示されるような
温度依存性を有することから、リコート層７が設けられ
ていない場合には、回折格子部６における反射中心波長
は、基材部１の光ファイバ４が固定される固定部間にお
ける見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償す
るための所定の熱膨張係数（０℃〜５０℃の温度範囲に
おける熱膨張係数）よりも小さくなる−５０℃〜０℃の
温度範囲では、過補償の状態となる。また、基材部１の
光ファイバ４が固定される固定部間における見かけ上の
熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための所定の
熱膨張係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係
数）よりも大きくなる５０℃〜１００℃の温度範囲で
は、補償不足の状態となる。この結果、−５０℃〜０℃
の温度範囲及び５０℃〜１００℃の温度範囲における反
射中心波長が、図１１に示されるように、所望の反射中
心波長（０℃〜５０℃の温度範囲における反射中心波
長）からずれることになる。
化ガラス（ＬｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶化ガ
ラス）の平均熱膨張係数は、図１０に示されるように、
温度依存性を有している。基材２１の光ファイバ４が固
定される固定部間（接着剤２５が塗布された２点間）に
おける見かけ上の熱膨張係数が図１０に示されるような
温度依存性を有することから、リコート層７が設けられ
ていない場合には、回折格子部６における反射中心波長
は、基材部１の光ファイバ４が固定される固定部間にお
ける見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償す
るための所定の熱膨張係数（０℃〜５０℃の温度範囲に
おける熱膨張係数）よりも小さくなる−５０℃〜０℃の
温度範囲では、過補償の状態となる。また、基材部１の
光ファイバ４が固定される固定部間における見かけ上の
熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための所定の
熱膨張係数（０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係
数）よりも大きくなる５０℃〜１００℃の温度範囲で
は、補償不足の状態となる。この結果、−５０℃〜０℃
の温度範囲及び５０℃〜１００℃の温度範囲における反
射中心波長が、図１１に示されるように、所望の反射中
心波長（０℃〜５０℃の温度範囲における反射中心波
長）からずれることになる。
【００３３】しかしながら、本第１実施形態において
は、回折格子部６の周囲に設けられるリコート層７の熱
膨張係数を、図１２に示されるように、基材部１の光フ
ァイバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨
張係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨
張係数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温度範囲にお
いて、０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数より
も上昇させ、基材部１の光ファイバ４が固定される固定
部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温
度補償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる５
０℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温
度範囲における熱膨張係数よりも低下させるようにして
いる。
は、回折格子部６の周囲に設けられるリコート層７の熱
膨張係数を、図１２に示されるように、基材部１の光フ
ァイバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨
張係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨
張係数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温度範囲にお
いて、０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数より
も上昇させ、基材部１の光ファイバ４が固定される固定
部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温
度補償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる５
０℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温
度範囲における熱膨張係数よりも低下させるようにして
いる。
【００３４】また、リコート層７の熱膨張係数を低下さ
せる代わりに、リコート層７の弾性係数、たとえばヤン
グ係数を、図１３に示されるように、基材部１の光ファ
イバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張
係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張
係数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温度範囲におい
て、０℃〜５０℃の温度範囲におけるヤング係数よりも
増加させ、基材部１の光ファイバ４が固定される固定部
間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温度
補償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる５０
℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度
範囲におけるヤング係数よりも低下させるようにしても
よい。
せる代わりに、リコート層７の弾性係数、たとえばヤン
グ係数を、図１３に示されるように、基材部１の光ファ
イバ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張
係数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張
係数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温度範囲におい
て、０℃〜５０℃の温度範囲におけるヤング係数よりも
増加させ、基材部１の光ファイバ４が固定される固定部
間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温度
補償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる５０
℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度
範囲におけるヤング係数よりも低下させるようにしても
よい。
【００３５】本第１実施形態においては、リコート層７
の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を５０℃〜１００
℃の温度範囲において低下させるために、リコート層７
を構成するウレタン・アクリレートプレポリマー系のＵ
Ｖ硬化樹脂Ｒに対して、図１０に示されるように、リコ
ート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調整す
るための調整材料としてセラミックス系の微粒子Ｐ2を
充填している。また、リコート層７の熱膨張係数、ある
いは、ヤング係数を−５０℃〜０℃の温度範囲において
上昇（増加）させるために、図１０に示されるように、
リコート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調
整するための調整材料としてセラミックス系の微粒子Ｐ
3を充填している。充填されるセラミックス系の微粒子
Ｐ2，Ｐ3の量は、微粒子の体積分率として１％〜９０％
程度に設定されている。なお、調整材料としてセラミッ
クス系の微粒子の代わりに、炭酸カルシウム、シリカ、
マイカ、珪酸性無機材、ジルコニア、アルミナ等の無機
材料の微粒子を用いるようにしてもよく、また、微粒子
の代わりにウィスカーを用いるようにしてもよい。
の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を５０℃〜１００
℃の温度範囲において低下させるために、リコート層７
を構成するウレタン・アクリレートプレポリマー系のＵ
Ｖ硬化樹脂Ｒに対して、図１０に示されるように、リコ
ート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調整す
るための調整材料としてセラミックス系の微粒子Ｐ2を
充填している。また、リコート層７の熱膨張係数、ある
いは、ヤング係数を−５０℃〜０℃の温度範囲において
上昇（増加）させるために、図１０に示されるように、
リコート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調
整するための調整材料としてセラミックス系の微粒子Ｐ
3を充填している。充填されるセラミックス系の微粒子
Ｐ2，Ｐ3の量は、微粒子の体積分率として１％〜９０％
程度に設定されている。なお、調整材料としてセラミッ
クス系の微粒子の代わりに、炭酸カルシウム、シリカ、
マイカ、珪酸性無機材、ジルコニア、アルミナ等の無機
材料の微粒子を用いるようにしてもよく、また、微粒子
の代わりにウィスカーを用いるようにしてもよい。
【００３６】以上のことから、本第２実施形態において
は、リコート層７の熱膨張係数を、基材２１の光ファイ
バ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張係
数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温度範囲におい
て、０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数よりも
上昇させ、基材２１の光ファイバ４が固定される固定部
間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温度
補償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる５０
℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度
範囲における熱膨張係数よりも低下させることにより、
図１４に示されるように、回折格子部６が所定の温度範
囲（−５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性
（回折格子部６における反射中心波長が略一定）を示す
ようになる。
は、リコート層７の熱膨張係数を、基材２１の光ファイ
バ４が固定される固定部間における見かけ上の熱膨張係
数が回折格子部６を温度補償するための所定の熱膨張係
数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温度範囲におい
て、０℃〜５０℃の温度範囲における熱膨張係数よりも
上昇させ、基材２１の光ファイバ４が固定される固定部
間における見かけ上の熱膨張係数が回折格子部６を温度
補償するための所定の熱膨張係数よりも大きくなる５０
℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜５０℃の温度
範囲における熱膨張係数よりも低下させることにより、
図１４に示されるように、回折格子部６が所定の温度範
囲（−５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性
（回折格子部６における反射中心波長が略一定）を示す
ようになる。
【００３７】また、リコート層７のヤング係数を、基材
２１の光ファイバ４が固定される固定部間における見か
け上の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための
所定の熱膨張係数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温
度範囲において、０℃〜５０℃の温度範囲におけるヤン
グ係数よりも増加させ、基材２１の光ファイバ４が固定
される固定部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格
子部６を温度補償するための所定の熱膨張係数よりも大
きくなる５０℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜
５０℃の温度範囲におけるヤング係数よりも低下させる
ことによっても、図１４に示されるように、回折格子部
６が所定の温度範囲（−５０℃〜１００℃）にわたって
一様な光学特性（回折格子部６における反射中心波長が
略一定）を示すようになる。
２１の光ファイバ４が固定される固定部間における見か
け上の熱膨張係数が回折格子部６を温度補償するための
所定の熱膨張係数よりも小さくなる−５０℃〜０℃の温
度範囲において、０℃〜５０℃の温度範囲におけるヤン
グ係数よりも増加させ、基材２１の光ファイバ４が固定
される固定部間における見かけ上の熱膨張係数が回折格
子部６を温度補償するための所定の熱膨張係数よりも大
きくなる５０℃〜１００℃の温度範囲において、０℃〜
５０℃の温度範囲におけるヤング係数よりも低下させる
ことによっても、図１４に示されるように、回折格子部
６が所定の温度範囲（−５０℃〜１００℃）にわたって
一様な光学特性（回折格子部６における反射中心波長が
略一定）を示すようになる。
【００３８】このように、本第２実施形態に係る光学装
置３０においては、リコート層７の熱膨張係数、あるい
は、ヤング係数が、回折格子部６が所定の温度範囲（−
５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性（回折格
子部６における反射中心波長が略一定）を示すように、
温度依存性を有していることから、基材２１における熱
膨張係数が温度依存性を有している場合においても、回
折格子部６が形成された光ファイバ部分の周囲にリコー
ト層７を設けることにより、基材２１による回折格子部
６の温度補償特性が不充分で反射中心波長が温度により
変化するのを抑制することができる。
置３０においては、リコート層７の熱膨張係数、あるい
は、ヤング係数が、回折格子部６が所定の温度範囲（−
５０℃〜１００℃）にわたって一様な光学特性（回折格
子部６における反射中心波長が略一定）を示すように、
温度依存性を有していることから、基材２１における熱
膨張係数が温度依存性を有している場合においても、回
折格子部６が形成された光ファイバ部分の周囲にリコー
ト層７を設けることにより、基材２１による回折格子部
６の温度補償特性が不充分で反射中心波長が温度により
変化するのを抑制することができる。
【００３９】また、リコート層７には、リコート層７の
熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調節するための無
機材料からなる微粒子あるいはウィスカーが充填されて
いることから、第１実施形態と同様に、リコート層７の
熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を簡易且つ適切に調
節することができる。
熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を調節するための無
機材料からなる微粒子あるいはウィスカーが充填されて
いることから、第１実施形態と同様に、リコート層７の
熱膨張係数、あるいは、ヤング係数を簡易且つ適切に調
節することができる。
【００４０】以上、本発明者によってなされた発明を実
施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施
形態に限定されるものではない。たとえば、第１実施形
態においては、基材部１を、第２基材１ｂと、この第２
基材１ｂの両端に固定される第１基材１ａとで構成した
ものに本発明を適用しているが、基材部１の構成はこれ
に限られることない。たとえば、一方の第１基材１ａに
相当する部分と第２基材１ｂに相当する部分とを同じ材
料（たとえば結晶化ガラス）にて一体に形成した基材部
分に、異なる材料（たとえばアルミニウム合金）からな
る他方の第１基材１ａに相当する基材部分を固定するよ
うにした構成のものにも、本発明を適用することができ
る。
施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施
形態に限定されるものではない。たとえば、第１実施形
態においては、基材部１を、第２基材１ｂと、この第２
基材１ｂの両端に固定される第１基材１ａとで構成した
ものに本発明を適用しているが、基材部１の構成はこれ
に限られることない。たとえば、一方の第１基材１ａに
相当する部分と第２基材１ｂに相当する部分とを同じ材
料（たとえば結晶化ガラス）にて一体に形成した基材部
分に、異なる材料（たとえばアルミニウム合金）からな
る他方の第１基材１ａに相当する基材部分を固定するよ
うにした構成のものにも、本発明を適用することができ
る。
【００４１】また、第１実施形態及び第２実施形態にお
いては、回折格子部６における反射中心波長が略一定と
なるように、リコート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤ
ング係数が温度依存性を有しているが、これに限られる
ことなく、回折格子部６における反射中心波長が所定の
変動幅の範囲内に納まるように、リコート層７の熱膨張
係数、あるいは、ヤング係数の温度依存性を調節するよ
うにしてもよい。
いては、回折格子部６における反射中心波長が略一定と
なるように、リコート層７の熱膨張係数、あるいは、ヤ
ング係数が温度依存性を有しているが、これに限られる
ことなく、回折格子部６における反射中心波長が所定の
変動幅の範囲内に納まるように、リコート層７の熱膨張
係数、あるいは、ヤング係数の温度依存性を調節するよ
うにしてもよい。
【００４２】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、基材による回折格子の温度補償特性が不充分で
反射中心波長が温度により変化するのを抑制することが
可能な光学装置を提供することができる。
よれば、基材による回折格子の温度補償特性が不充分で
反射中心波長が温度により変化するのを抑制することが
可能な光学装置を提供することができる。
【図１】本発明の第１実施形態に係る光学装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る光学装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る光学装置に含まれ
る、基材部１における平均熱膨張係数の温度依存性を示
す図表である。
る、基材部１における平均熱膨張係数の温度依存性を示
す図表である。
【図４】リコート層が設けられていない場合における、
回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す線図
である。
回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す線図
である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る光学装置に含まれ
る、リコート層の熱膨張係数の温度依存性を示す線図で
ある。
る、リコート層の熱膨張係数の温度依存性を示す線図で
ある。
【図６】本発明の第１実施形態に係る光学装置に含まれ
る、リコート層のヤング係数の温度依存性を示す線図で
ある。
る、リコート層のヤング係数の温度依存性を示す線図で
ある。
【図７】本発明の第１実施形態に係る光学装置におけ
る、回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す
線図である。
る、回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す
線図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る光学装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る光学装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る光学装置に含ま
れる、基材部１における平均熱膨張係数の温度依存性を
示す図表である。
れる、基材部１における平均熱膨張係数の温度依存性を
示す図表である。
【図１１】リコート層が設けられていない場合におけ
る、回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す
線図である。
る、回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す
線図である。
【図１２】本発明の第２実施形態に係る光学装置に含ま
れる、リコート層の熱膨張係数の温度依存性を示す線図
である。
れる、リコート層の熱膨張係数の温度依存性を示す線図
である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る光学装置に含ま
れる、リコート層のヤング係数の温度依存性を示す線図
である。
れる、リコート層のヤング係数の温度依存性を示す線図
である。
【図１４】本発明の第２実施形態に係る光学装置におけ
る、回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す
線図である。
る、回折格子部での反射中心波長と温度との関係を示す
線図である。
１…基材部、１ａ…第１基材、１ｂ…第２基材、２…第
１接着剤、４…光ファイバ、５…第２接着剤、６…回折
格子部、７…リコート層、１０…光学装置、２１…基
材、２５…接着剤、３０…光学装置、Ｐ1，Ｐ2，Ｐ3…
セラミックス系の微粒子。
１接着剤、４…光ファイバ、５…第２接着剤、６…回折
格子部、７…リコート層、１０…光学装置、２１…基
材、２５…接着剤、３０…光学装置、Ｐ1，Ｐ2，Ｐ3…
セラミックス系の微粒子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 達也 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 2H038 BA25 2H049 AA02 AA25 AA33 AA34 AA44 AA59 AA62 2H050 AC82 AC84 AD00 BB19W BB31W BD00
Claims (4)
- 【請求項１】 光軸方向に沿って回折格子が形成された
光ファイバと、前記光ファイバが固定される基材と、を
備え、前記基材の温度変化に伴う伸縮によって前記光フ
ァイバの光軸方向に生じる変位を前記光ファイバに印加
するようにした光学装置であって、 前記回折格子が形成された光ファイバ部分の周囲には、
被覆層が設けられており、 前記被覆層は、 前記基材の前記光ファイバが固定される固定部間におけ
る見かけ上の熱膨張係数が前記回折格子を温度補償する
ための所定の熱膨張係数よりも大きくなる温度範囲で
は、熱膨張係数が低下し、 前記基材の前記光ファイバが固定される前記固定部間に
おける見かけ上の熱膨張係数が前記回折格子を温度補償
するための所定の熱膨張係数よりも小さくなる温度範囲
では、前記熱膨張係数が上昇することにより、 前記回折格子が所定の温度範囲にわたって一様な光学特
性を示すように、前記熱膨張係数が温度依存性を有して
いることを特徴とする光学装置。 - 【請求項２】 前記被覆層には、前記被覆層の前記熱膨
張係数を調節するための無機材料からなる微粒子あるい
はウィスカーが充填されていることを特徴とする請求項
１に記載の光学装置。 - 【請求項３】 光軸方向に沿って回折格子が形成された
光ファイバと、前記光ファイバが固定される基材と、を
備え、前記基材の温度変化に伴う伸縮によって前記光フ
ァイバの光軸方向に生じる変位を前記光ファイバに印加
するようにした光学装置であって、 前記回折格子が形成された光ファイバ部分の周囲には、
被覆層が設けられており、 前記被覆層は、 前記基材の前記光ファイバが固定される固定部間におけ
る見かけ上の熱膨張係数が前記回折格子を温度補償する
ための所定の熱膨張係数よりも大きくなる温度範囲で
は、弾性係数が低下し、 前記基材の前記光ファイバが固定される前記固定部間に
おける見かけ上の熱膨張係数が前記回折格子を温度補償
するための所定の熱膨張係数よりも小さくなる温度範囲
では、前記弾性係数が増加することにより、 前記回折格子が所定の温度範囲にわたって一様な光学特
性を示すように、前記弾性係数が温度依存性を有してい
ることを特徴とする光学装置。 - 【請求項４】 前記被覆層には、前記被覆層の前記弾性
係数を調節するための無機材料からなる微粒子あるいは
ウィスカーが充填されていることを特徴とする請求項３
に記載の光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000257868A JP4114309B2 (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000257868A JP4114309B2 (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | 光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002071961A true JP2002071961A (ja) | 2002-03-12 |
| JP4114309B2 JP4114309B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=18746263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000257868A Expired - Fee Related JP4114309B2 (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | 光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4114309B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102722013A (zh) * | 2011-03-31 | 2012-10-10 | 北京蔚蓝仕科技有限公司 | 光纤光栅粘接方法 |
-
2000
- 2000-08-28 JP JP2000257868A patent/JP4114309B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4114309B2 (ja) | 2008-07-09 |
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