JP2002107724A - 半透過型液晶表示装置 - Google Patents
半透過型液晶表示装置Info
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Abstract
過型液晶表示装置において、高品位な反射表示と高品位
な透過表示の双方を得られるようにし、かつそのような
液晶表示装置を簡易な製造プロセスで実現できるように
する。 【解決手段】 表示領域に反射表示領域Rと透過表示領
域Tを有する半透過型液晶表示装置100Aにおいて、
反射層16と液晶層12との間にλ/4複屈折層15を
設け、反射表示領域Rと透過表示領域Tで液晶層12の
層厚を等しくする。
Description
過表示領域を有する半透過型液晶表示装置であって、反
射表示領域と透過表示領域とで液晶層の厚みを等しくし
た液晶表示装置に関する。
に、低消費電力であるという特徴を有し、携帯用情報端
末(PDA)用表示装置等として使用されている。
用するためには、軽量、薄型、低消費電力であると共
に、あらゆる環境下で高い視認性を有する表示性能が要
求される。
バックライトを有しているために周囲が暗い場合には非
常に見やすいが、一方で、太陽光等の非常に強い外光下
では、ほとんど見えなくなってしまうという欠点があ
る。逆に、反射型液晶表示装置では、周囲が明るい場合
には見やすいが、周囲が暗い場合には、ほとんど見えな
くなってしまうという欠点がある。
液晶表示装置の問題点を解消するために、特開平7−3
33598号公報等には、バックライト光の一部を透過
させると共に、周囲光の一部を反射させる半透過膜を用
いることにより、透過型表示と反射型表示の両方を一つ
の液晶表示装置で実現する技術が開示されている。
は、表示画素内に反射率の高い領域と透過効率の高い領
域を設けることで、透過型表示と反射型表示の両方を高
品位に表示する技術が開示されている。図8は、このよ
うな液晶表示装置の液晶パネルの層構成図である。図示
したように、この液晶パネルの駆動基板10は、スイッ
チング素子が形成された透明基板1上に透明電極2a及
び配向膜3aが順次積層されている透過表示領域Tと、
この透過表示領域Tに形成されている透明電極2aの延
設領域上に、層間絶縁膜4、反射電極5、及び配向膜3
aが順次積層されている反射表示領域Rとからなり、反
射表示領域Rと透過表示領域Tの境界には段差が形成さ
れている。一方、対向基板11は、透明基板6上にカラ
ーフィルタ7、透明電極2b、配向膜3bが順次積層さ
れたものからなり、駆動基板10と対向基板11の間に
液晶層12が挟持され、液晶セルが構成されている。ま
た、駆動基板10の液晶セルと反対側の面には偏光板1
4aが設けられており、対向基板11の液晶セルと反対
側の面には、λ/4位相差板13及び偏光板14bが順
次積層されている。
8号公報のような構造の場合、半透過膜で入射光の内部
吸収や散乱が生じるので、光の利用効率が悪いという問
題がある。また、構造上、透過表示領域と反射表示領域
の各々のリタデーション設計ができないので、透過、反
射の表示品位を両立させることは困難である。
は、画素内に反射率の高い反射表示領域Rと透過率の高
い透過表示領域Tを独立的に設けているので、各領域の
光の利用効率は高く、リタデーション設計も各々行うこ
とができる。しかしながら、この構造では、反射表示領
域Rの最適なリタデーションはλ/4、透過表示領域T
の最適なリタデーションはλ/2となるので、これを実
現するために、反射表示領域Rの液晶層の厚さと、反射
表示領域Rと透過表示領域Tとの段差の高さを等しくす
ることが必要となり、結果的に液晶セルに数μ厚の大き
な段差構造が必要とされる。そのため、電極のコンタク
ト等の製造プロセスが複雑となり、また、段差部位で配
向欠陥、光洩れ、表示の均一性の低下等の問題が生じ
る。
ーションがλ/2であるのに対し、上述のいずれの技術
においても、反射表示を行う場合の最適なリタデーショ
ンはλ/4であり、液晶セルの厚さを透過型液晶表示装
置の1/2にしなくてはならない。しかしながら、液晶
セルの厚さを薄くすると、液晶層を挟持する上下の基板
間でショートが起こりやすく、また、セル厚の均一性を
保つのが困難である等の問題が生じる。反対に液晶セル
の厚さを大きくすると、特開平11−316382号公
報のような構造では、液晶セル内での段差が高くなり、
前述のような問題が生じる。
うな構造でも、特開平11−316382号公報のよう
な構造でも、液晶セルの上部にλ/4の位相差板13を
設ける必要があり、広い波長領域でλ/4の条件を達成
するためには、複数枚の位相差板が積層される。このた
め、表示に視差が生じる、視野角が狭くなる、製造工程
が長くなり、コストが高くなる等の問題が生じる。
は、一つの液晶表示装置で高品位な反射表示と高品位な
透過表示の双方を得られるようにし、かつそのような液
晶表示装置を簡易な製造プロセスで実現できるようにす
ることを目的とする。
に、反射表示領域と透過表示領域を設けた半透過型液晶
表示装置において、従来、液晶セルの外側上部に設けら
れていたλ/4位相差板に代えて、液晶セル内にλ/4
複屈折層を設けると、反射表示領域と透過表示領域の液
晶層の最適リタデーションを互いに等しくすることがで
き、よって、液晶セル内に段差を形成することが不要に
なることを見出した。
と透過表示領域を有する半透過型液晶表示装置であっ
て、反射表示領域に反射層を有する第1の基板、第1の
基板に対向する第2の基板、双方の基板間に挟持された
液晶層、反射層と第2の基板との間に設けられたλ/4
(λは可視光の波長)のリタデーションを示すλ/4複
屈折層からなり、反射表示領域の液晶層の層厚と透過表
示領域の液晶層の層厚が等しい半透過型液晶表示装置を
提供する。
域に反射層を形成し、第1の基板と第2の基板とを対向
させ、双方の基板間に液晶を挟持させることにより、表
示領域に反射表示領域と透過表示領域を有する半透過型
液晶表示装置を製造する方法であって、反射層の形成
後、第1の基板上にλ/4(λは可視光の波長)のリタ
デーションを示すλ/4複屈折層を液晶ポリマーの塗布
により形成し、反射表示領域の液晶層の層厚と透過表示
領域の液晶層の層厚を等しくする半透過型液晶表示装置
の製造方法を提供する。
を詳細に説明する。なお、各図中、同一符号は、同一又
は同等の構成要素を表している。
画素の模式的断面図である。
は、スイッチング素子の形成された透明基板1(第1の
基板)上に反射層16が設けられている反射表示領域R
と、反射層16が無い透過表示領域Tからなっている。
反射層16上(透過表示領域Tでは透明基板1上)に
は、λ/4複屈折層15、透明電極2a、配向膜3aが
順次積層されている。
1は、透明基板(第2の基板)6上に、カラーフィルタ
7、透明電極2b、光散乱膜17、配向膜3bが順次積
層されたものからなっており、駆動基板10と対向基板
11との間に液晶層12が挟持され、液晶セルが構成さ
れている。また、液晶セルの外側の駆動基板10、対向
基板11の上にはそれぞれ偏光板14a、14bが設け
られている。
射層16の有無によって反射表示領域Rと透過表示領域
Tが区分されるにもかかわらず、液晶層12の厚さが、
反射表示領域R、透過表示領域Tのいずれにおいても等
しいことが特徴的となっている。
視光の波長)のリタデーションをもたせることが好まし
い。これは、一般に、透過表示においては、透過率と液
晶層の厚さとの関係式(1)
からである。
のように反射表示領域Rの液晶層12の層厚と透過表示
領域Tとの液晶層12の層厚とが等しく形成されている
のは、反射層16と透明電極2aとの間にλ/4複屈折
層15が設けられていることによる。即ち、液晶層12
が図2に示すような配向状態にあるとき、反射表示領域
Rでは、偏光板14bを透過した直線偏光は液晶層12
を透過することで、元の偏光軸に対して2θ回転する。
次に、この直線偏光は、λ/4複屈折層15に入射して
円偏光となり、それが反射層16で反射されて逆回りの
円偏光となり、再び直線偏光となってλ/4複屈折層1
5を出射する。このとき、λ/4複屈折層15の光学軸
と偏光板14bの偏光軸とのなす角度Θについて、 Θ=2θ+nπ(但し、n=0,1,2,…) の関係をもたせると、λ/4複屈折層15を出射した直
線偏光の軸は入射時と等しくなる。その後、直線偏光は
再び液晶層12を透過することで−2θだけ軸が回転す
る。よって、液晶層12を透過した直線偏光の軸は、偏
光板12bの軸に一致することになり、光は偏光板14
bを透過し、明表示となる。
λ/4複屈折層15を透過した後、円偏光となって下に
出射するが、偏光板14aとの間にλ/4複屈折層を設
けることにより直線偏光に変換することができ、この直
線偏光の軸と偏光板14aの偏光軸とを一致させること
により明表示となる。
領域Tの液晶層のリタデーションを共にλ/2にするこ
と、即ち、双方の液晶層の層厚を等しくすることが可能
となる。
界が印加されない状態で、Θ=π/4、θ=π/8、n
=0 とすると、最明状態となる。一方、液晶層12に
電界が印加されて液晶がスイッチし、液晶が基板界面に
垂直になった場合には最暗状態となる。したがって、ノ
ーマリーホワイトモードで高コントラストの表示を行う
ことができる。
い状態で液晶が基板界面に垂直に配向するようにしても
よい。この場合は、液晶層12に電圧が印加された時に
Θ=π/4、θ=π/8が満たされるようにすればよ
く、これによりノーマリーブラックモードで高コントラ
ストの表示を行うことが可能となる。
うにすると、上述のように反射表示領域R及び透過表示
領域Tの液晶層のリタデーションを共にλ/2にするこ
とができ、高いコントラストの表示を得ることができる
が、 Θ=2θ+nπ が厳密に満たされない場合で
も、相当のコントラストの表示を得ることができる。
では、反射表示領域Rと透過表示領域Tの液晶層の厚さ
が等しいので、従来の半透過型液晶装置のような反射表
示領域Rと透過表示領域Tとの段差に伴う問題が生じな
い。また、反射層16と透明電極2aの間にλ/4複屈
折層15を設けることにより、液晶セルの上部にはλ/
4の位相差板を設けないので、λ/4の位相差板13が
液晶セルの上部に設けられていた従来の液晶表示装置
(図8)が抱えるような視差や視野角の問題は生じな
い。また、液晶セル上にλ/4の位相差板としてフィル
ムを貼付する工程を省略でき、製造コストも削減でき
る。さらに、この液晶表示装置100Aでは、λ/4複
屈折層15を基板1上の全面に設けるので、簡便に作製
することができる。
屈折層15は、光又は熱硬化性の液晶ポリマーを用いて
形成することができる。即ち、ラビング法又は光配向法
で配向処理した基板上に、溶媒に溶解した光硬化性又は
熱硬化性の液晶ポリマーを塗布し、溶媒を蒸発させる。
これにより配向処理した基板上で液晶は一軸配向する。
この状態で紫外線等の光照射又は加熱処理をすることに
より液晶ポリマーは硬化し、複屈折層となる。この複屈
折層のリタデーションをλ/4に制御するためには、液
晶ポリマーの塗布厚を適宜調整する。より具体的には、
例えば、Merk社製RMM34(Δn=0.145、
λ=589nm)を用いる場合、溶媒としてトルエンを
用いて液晶ポリマーを希釈し、配向処理した基板上に塗
布する。その後、波長360nm、強度10mW/cm
2の紫外光を照射し、100℃で1時間加熱することに
より複屈折層を形成する。この複屈折層では、塗布厚を
1μmとすることにより、λ/4のリタデーションを得
る(λ=589nm)。
ョンの波長特性の異なる複数のλ/4複屈折層から形成
することが好ましい。一般に、λ/4複屈折層の複屈折
値には波長依存性があるため、特定の波長付近でしかλ
/4のリタデーションが得られないが、リタデーション
の波長特性の異なる複数層を積層することにより、幅広
い波長領域においてλ/4のリタデーションを得ること
が可能となる。なお、従来、液晶セルの上部に設けられ
ていたλ/4位相差板の層厚は、フィルム型のもので1
層0.1mm程度あるため、これを複数層積層すると視
差や視野角に大きな影響がでるが、本発明で使用するλ
/4複屈折層15は、1層の厚さが1μm程度であるた
め、複数層を積層しても数μmにしかならず、視差や視
野角に影響を与えることはない。また、積層に要するコ
ストも、フィルムを複数枚貼り重ねるのに対して、液晶
ポリマーの塗布を複数回重ねる方が安価となる。
/4複屈折層15の形成以外は、表示領域に透過表示領
域と反射表示領域を有する公知の半透過型液晶表示装置
の製造方法に準じて製造することができる。例えば、液
晶層12としては、水平配向、垂直配向のいずれの液晶
も使用することができる。また、ネマティック液晶、ス
メクチック液晶のいずれも使用することができる。スメ
クチック液晶の場合、スイッチング角(図2の角度θ)
が、π/8が好ましい。
向基板11を形成する透明基板6としては、ガラス基板
又はプラスチック基板を使用することができる。
電膜から形成することができる。
ミド等を配向膜材料とし、ラビング法、光配向法等で配
向処理したものを使用することができる。
しては、まず、透明基板1にAl、Ag、Al合金、A
g合金等の反射率の高い金属をスパッタ法などにより成
膜し、それを反射表示領域Rの形状に合わせてパターニ
ングすることにより反射層16を形成し、次に、反射表
示領域R及び透過表示領域Tの双方に、上述のように液
晶ポリマーを用いてλ/4複屈折層15を形成し、さら
にITOをスパッタ法により成膜し、画素電極の形状に
パターニングすることにより透明電極2aを形成し、そ
の上に配向膜3aをラビング法又は光配向法で形成し、
駆動基板10を得る。
ルタ7、透明電極2b、光散乱膜17、配向膜3bを順
次形成することにより対向基板11を得る。
ルギャップがλ/2となるようにスペーサを用いて対向
させ、双方の基板間に液晶層12を挟持させることによ
り液晶セルを形成し、駆動基板10の外側及び対向基板
11の外側にそれぞれ偏光板14a、14bを設けるこ
とにより製造する。このとき、偏光板14bの透過軸、
λ/4複屈折層15の光学軸、液晶層12の光学軸に
は、前述の関係を持たせることが好ましく、反射表示領
域Rと透過表示領域Tとで液晶層12の厚さは等しくす
る。
れば、PVA、ポリカーボネート等からなる従来のλ/
4位相差フィルムや位相差板の貼付に代えて、λ/4複
屈折層15を液晶ポリマーの塗布により形成するので、
液晶セルの作製時になされるITOの蒸着等の高温プロ
セスに耐える複屈折層を、容易に形成することができ
る。
に種々の態様をとることができる。例えば、図1の液晶
表示装置100Aでは反射表示時の視認性を良くするた
めに、光散乱膜17を対向基板11に設けているが、図
3の液晶表示装置100Bのように、反射層16とし
て、表面凹凸が形成された光拡散性反射層16xを設
け、光散乱膜17を省略してもよい。また、反射層16
には、反射板としての機能の他に、画素電極としての機
能を持たせてもよい。
複屈折層15の形成位置は、反射層16と液晶層12と
の間にある限り、反射表示領域Rと透過表示領域Tの液
晶層12の厚さの最適値を等しくすることができる。し
たがって、図6に示すように、液晶セルの外側(即ち、
透明基板1の液晶層12と反対側の面上)にλ/4複屈
折層15を設けてもよい。ただし、この場合、反射層1
6も液晶セルの外側に設けなくてはならないので、反射
率の低下や視差の発生を防止する点からは、図1のよう
に液晶セル内に設けることが好ましい。
透明電極2aとの間にλ/4複屈折層15を設けてもよ
い。ただし、画素電極から液晶層12に印加される電界
強度の低下を防止し、スイッチングを良好に行うために
は、図1の態様のように、画素電極となる透明電極2a
上にはλ/4複屈折層15を設けない方が好ましい。
示領域Rの駆動基板10の層構成に準じて、透明基板1
上に透明電極2a、反射層16、配向膜3aを順次積層
する場合、λ/4複屈折層15は、図5に示すように、
反射層16と配向膜3aとの間に設けることが好まし
い。
複屈折層15の形成位置は、図1の液晶表示装置100
Aのように透明基板1上の全面に形成すると液晶セルの
製造プロセスを簡便にする点で好ましいが、透過表示領
域Tに設けることなく、反射表示領域Rのみに設けても
よい。この場合、反射表示領域Rと透過表示領域Tの液
晶層12の厚さが等しくなるように、駆動基板10を平
坦化することが好ましい。またこの場合には、透過表示
領域Tのリタデーションが、液晶層12のリタデーショ
ンのみから定まるので、上下の偏光板14a、14bの
透過軸を直交させることで、透過表示時に良好なコント
ラストの明暗表示をすることが可能となる。
ても特に制限はなく、駆動基板10側に形成してもよ
い。その場合、反射層16上に形成することが好まし
い。
クティブマトリクス型のいずれの液晶表示装置にも適用
することができる。
を作製した。この場合、上下の基板1、6にそれぞれ水
平配向処理を行い、セルギャップ4μmの液晶セルを構
成し、ネマチック液晶(Δn=0.07)を注入した。
λ/4複屈折層15のリタデーションは、Δnd=13
7nmとした。偏光板14bの透過軸と液晶層12の光
学軸のなす角θをπ/8、偏光板14bの透過軸とλ/
4複屈折層15の光軸とのなす角Θをλ/4とした。
同図から、液晶層12のリタデーション(Δnd)をλ
/2の条件で用いたこの実施例の液晶表示装置は、明表
示と暗表示を高コントラストで表示できることがわか
る。
示領域を有する半透過型液晶表示装置において、反射表
示領域と透過表示領域の液晶層の厚さを等しくするの
で、従来の半透過型液晶表示装置において反射表示領域
と透過表示領域との間にあった段差が不要となる。した
がって、段差に起因する、段差周囲の配向不良が生じ
ず、表示品位が向上する。また、段差の形状を形成する
ためのプロセスや、画素電極の端子や配線を、コンタク
トホールを用いて段差上に形成するための工程が不要と
なるので、装置全体としての製造プロセスを簡略化で
き、信頼性を向上し、製造コストを削減することが可能
となる。
表示領域Tのセル厚を、共にλ/2のリタデーションを
持つように設計できるので、λ/4のリタデーションを
持つように設計されていた従来の反射表示領域Rのセル
厚に比して、反射表示領域Rの液晶層12のセル厚をほ
ぼ2倍に厚くすることができる。したがって、上下の基
板間でのショートが起こりにくくなる。また、これによ
り、液晶層に使用する液晶の材料選択の幅を広げること
ができる。
られていたλ/4位相差板が不要となるので、λ/4位
相差板による視差が発生せず、視野角の低下もなく、表
示品位が向上する。また、λ/4位相差板の貼付作業も
不要となり、プロセスを簡略化することができる。
明図である。
ある。
ある。
ある。
る波長と反射光強度との関係図である。
…配向膜、 4…層間絶縁膜、 5…反射電極、 6…
透明基板、 7…カラーフィルタ、 10…駆動基板、
11…対向基板、 12…液晶層、 13…位相差
板、 14…偏光板、 15…λ/4複屈折層、 16
…反射層、 16x…光拡散性反射層、17…光散乱
膜、 100A、100B…本発明の液晶表示装置
Claims (15)
- 【請求項1】 表示領域に反射表示領域と透過表示領域
を有する半透過型液晶表示装置であって、反射表示領域
に反射層を有する第1の基板、第1の基板に対向する第
2の基板、双方の基板間に挟持された液晶層、反射層と
第2の基板との間に設けられたλ/4(λは可視光の波
長)のリタデーションを示すλ/4複屈折層からなり、
反射表示領域の液晶層の層厚と透過表示領域の液晶層の
層厚が等しい半透過型液晶表示装置。 - 【請求項2】 液晶セルの外側で第2の基板上に偏光板
を有し、反射表示時の最明表示時における前記偏光板の
透過軸と液晶層の光学軸とのなす角をθ、偏光板の透過
軸とλ/4複屈折層の光学軸とのなす角をΘとした場合
に、 Θ=2θ+nπ(但し、n=0,1,2,…) が満たされる請求項1記載の半透過型液晶表示装置。 - 【請求項3】 液晶層がλ/2のリタデーションを有す
る請求項1又は2記載の半透過型液晶表示装置。 - 【請求項4】 λ/4複屈折層が、反射層と液晶層との
間に設けられている請求項1〜3のいずれかに記載の半
透過型液晶表示装置。 - 【請求項5】 λ/4複屈折層が、第1の基板上で反射
層と透明電極との間に設けられている請求項4記載の半
透過型液晶表示装置。 - 【請求項6】 λ/4複屈折層が、第1の基板上の全面
に設けられている請求項1〜5のいずれかに記載の半透
過型液晶表示装置。 - 【請求項7】 λ/4複屈折層が、第1の基板上の透過
表示領域に設けられることなく反射表示領域に設けられ
ている請求項1〜5のいずれかに記載の半透過型液晶表
示装置。 - 【請求項8】 λ/4複屈折層が複数の複屈折層からな
る請求項1〜7のいずれかに記載の半透過型液晶表示装
置。 - 【請求項9】 第1の基板の反射表示領域に反射層を形
成し、第1の基板と第2の基板とを対向させ、双方の基
板間に液晶を挟持させることにより、表示領域に反射表
示領域と透過表示領域を有する半透過型液晶表示装置を
製造する方法であって、反射層の形成後、第1の基板上
にλ/4(λは可視光の波長)のリタデーションを示す
λ/4複屈折層を液晶ポリマーの塗布により形成し、反
射表示領域の液晶層の層厚と透過表示領域の液晶層の層
厚を等しくする半透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項10】 液晶セルの外側で第2の基板上に偏光
板を設け、反射表示時の最明表示時における前記偏光板
の透過軸と液晶層の光学軸とのなす角をθ、偏光板の透
過軸とλ/4複屈折層の光学軸とのなす角をΘとした場
合に、 Θ=2θ+nπ(但し、n=0,1,2…) が満たされるように、偏光板、液晶層及びλ/4複屈折
層を配置する請求項9記載の半透過型液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項11】 液晶層のリタデーションをλ/2とす
る請求項9又は10記載の半透過型液晶表示装置の製造
方法。 - 【請求項12】 第1の基板上に、反射層、λ/4複屈
折層、透明電極を順次形成する請求項9〜11のいずれ
かに記載の半透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項13】 λ/4複屈折層を、第1の基板上の全
面に形成する請求項9〜12のいずれかに記載の半透過
型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項14】 λ/4複屈折層を、第1の基板の透過
表示領域に設けることなく反射表示領域に形成する請求
項9〜12のいずれかに記載の半透過型液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項15】 λ/4複屈折層として、複数の複屈折
層を形成する請求項9〜14のいずれかに記載の半透過
型液晶表示装置の製造方法。
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002107724A true JP2002107724A (ja) | 2002-04-10 |
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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