JP2002155355A - 圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法 - Google Patents
圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法Info
- Publication number
- JP2002155355A JP2002155355A JP2000350912A JP2000350912A JP2002155355A JP 2002155355 A JP2002155355 A JP 2002155355A JP 2000350912 A JP2000350912 A JP 2000350912A JP 2000350912 A JP2000350912 A JP 2000350912A JP 2002155355 A JP2002155355 A JP 2002155355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure gradient
- plasma generator
- type plasma
- gradient type
- magnetic field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 集束コイルの磁場による異常放電の発生を防
止することを可能とした圧力勾配型プラズマ発生装置の
始動方法を提供する。 【解決手段】 圧力勾配型プラズマガン１１とこの圧力
勾配型プラズマガン１１を取付け用短管部１２を包囲す
る集束コイル１３とを備えた圧力勾配型プラズマ発生装
置１の始動方法において、圧力勾配型プラズマガン１１
に放電補助用気体を導入して小電流放電させた後、集束
コイル１３による磁場を発生させるようにした。
止することを可能とした圧力勾配型プラズマ発生装置の
始動方法を提供する。 【解決手段】 圧力勾配型プラズマガン１１とこの圧力
勾配型プラズマガン１１を取付け用短管部１２を包囲す
る集束コイル１３とを備えた圧力勾配型プラズマ発生装
置１の始動方法において、圧力勾配型プラズマガン１１
に放電補助用気体を導入して小電流放電させた後、集束
コイル１３による磁場を発生させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イオンプレーティ
ング、プラズマスパッタリング或いはプラズマＣＶＤ等
の真空成膜装置に適用される圧力勾配型プラズマ発生装
置の始動方法に関するものである。
ング、プラズマスパッタリング或いはプラズマＣＶＤ等
の真空成膜装置に適用される圧力勾配型プラズマ発生装
置の始動方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、図３に示す圧力勾配型プラズマ発
生装置２が公知であり、この圧力勾配型プラズマ発生装
置２は、圧力勾配型プラズマガン１１とこの圧力勾配型
プラズマガン１１を取付けるための短管部１２を包囲す
る集束コイル１３とを備え、短管部１２は真空チャンバ
１４内に向かって開口している。なお、集束コイル１３
は図３に示すように、圧力勾配型プラズマガン１１から
アノード方向の磁場を形成し、プラズマの集束状態およ
び方向を制御する。
生装置２が公知であり、この圧力勾配型プラズマ発生装
置２は、圧力勾配型プラズマガン１１とこの圧力勾配型
プラズマガン１１を取付けるための短管部１２を包囲す
る集束コイル１３とを備え、短管部１２は真空チャンバ
１４内に向かって開口している。なお、集束コイル１３
は図３に示すように、圧力勾配型プラズマガン１１から
アノード方向の磁場を形成し、プラズマの集束状態およ
び方向を制御する。
【０００３】圧力勾配型プラズマガン１１は、カソード
２１と真空チャンバ１４内の図示しないアノードとの間
の電位状態にされる環状の中間電極部２２と、カソード
２１を保持するとともに、中心部に放電補助用ガス
（例：Ａｒガス）の流入口２３を有するカソード装着部
２４と、カソード２１と導通状態にあるカソード装着部
２４と中間電極部２２とを電気的に絶縁させる、例えば
ガラス製或いはセラミック製の絶縁管２５とからなって
いる。また、カソード２１は前記放電補助用ガスの流路
を形成する管状Ｔａ製の補助電極２６とこの補助電極２
６の先端部外周を包囲する円板状ＬａＢ6製の主電極２
７とこの主電極２７を保持するＭｏ製等の導電性材質の
カソードケーシング２８とを備えている。
２１と真空チャンバ１４内の図示しないアノードとの間
の電位状態にされる環状の中間電極部２２と、カソード
２１を保持するとともに、中心部に放電補助用ガス
（例：Ａｒガス）の流入口２３を有するカソード装着部
２４と、カソード２１と導通状態にあるカソード装着部
２４と中間電極部２２とを電気的に絶縁させる、例えば
ガラス製或いはセラミック製の絶縁管２５とからなって
いる。また、カソード２１は前記放電補助用ガスの流路
を形成する管状Ｔａ製の補助電極２６とこの補助電極２
６の先端部外周を包囲する円板状ＬａＢ6製の主電極２
７とこの主電極２７を保持するＭｏ製等の導電性材質の
カソードケーシング２８とを備えている。
【０００４】そして、この圧力勾配型プラズマ発生装置
２を始動させる場合、まず、カソード装着部２４の流入
口２３から所定流量（例：１０〜３０sccm）で放電補助
用ガスの導入を開始した後、中間電極部２２および集束
コイル１３に電流を流すことにより磁場を発生させる。
続いて、補助電極２６と前記アノードとの間で５〜３０
Ａ程度の小電流放電させて間接的に主電極２７を加熱
し、主電極２７と前記アノードとの間で５０〜２００Ａ
程度の大電流放電に移行させる。
２を始動させる場合、まず、カソード装着部２４の流入
口２３から所定流量（例：１０〜３０sccm）で放電補助
用ガスの導入を開始した後、中間電極部２２および集束
コイル１３に電流を流すことにより磁場を発生させる。
続いて、補助電極２６と前記アノードとの間で５〜３０
Ａ程度の小電流放電させて間接的に主電極２７を加熱
し、主電極２７と前記アノードとの間で５０〜２００Ａ
程度の大電流放電に移行させる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述した、圧力勾配型
プラズマ発生装置２の始動方法によれば、小電流放電で
ある初期放電時には、既に集束コイル１３による磁場が
カソード２１および中間電極部２２に形成されており、
初期放電により発生したプラズマがこの磁場にトラップ
され易くなる。このため、Ｍｏ製等の導電性材質のカソ
ードケーシング２８の外周部で図３中Ａで示すように放
電が誘発され、カソード２１へのエネルギ供給の効率が
低下する。この結果、主電極２７を十分に熱電子放出さ
せる温度にまで加熱することが困難になるという問題が
生じる。また、この誘発された放電により、Ｍｏ製等の
導電性材質のカソードケーシング２８から蒸発或いはス
パッタされた物質が絶縁管２５の内面に付着し、絶縁管
２５の熱吸収が大きくなり、カソードケーシング２８の
外周部の異常昇温が生じ絶縁管２５の両端部に配設され
た図示しないＯリングを焼損させるという問題があっ
た。本発明は、斯る従来の問題をなくすことを課題とし
てなされたもので、初期放電時の集束コイルの磁場によ
る異常放電の発生を防止することを可能とした圧力勾配
型プラズマ発生装置の始動方法を提供しようとするもの
である。
プラズマ発生装置２の始動方法によれば、小電流放電で
ある初期放電時には、既に集束コイル１３による磁場が
カソード２１および中間電極部２２に形成されており、
初期放電により発生したプラズマがこの磁場にトラップ
され易くなる。このため、Ｍｏ製等の導電性材質のカソ
ードケーシング２８の外周部で図３中Ａで示すように放
電が誘発され、カソード２１へのエネルギ供給の効率が
低下する。この結果、主電極２７を十分に熱電子放出さ
せる温度にまで加熱することが困難になるという問題が
生じる。また、この誘発された放電により、Ｍｏ製等の
導電性材質のカソードケーシング２８から蒸発或いはス
パッタされた物質が絶縁管２５の内面に付着し、絶縁管
２５の熱吸収が大きくなり、カソードケーシング２８の
外周部の異常昇温が生じ絶縁管２５の両端部に配設され
た図示しないＯリングを焼損させるという問題があっ
た。本発明は、斯る従来の問題をなくすことを課題とし
てなされたもので、初期放電時の集束コイルの磁場によ
る異常放電の発生を防止することを可能とした圧力勾配
型プラズマ発生装置の始動方法を提供しようとするもの
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第一発明は、圧力勾配型プラズマガンとこの圧力勾
配型プラズマガンの取付け用短管部を包囲する集束コイ
ルとを備えた圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法に
おいて、前記圧力勾配型プラズマガンに放電補助用気体
を導入して小電流放電させた後、前記集束コイルによる
磁場を発生させるようにした。
に、第一発明は、圧力勾配型プラズマガンとこの圧力勾
配型プラズマガンの取付け用短管部を包囲する集束コイ
ルとを備えた圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法に
おいて、前記圧力勾配型プラズマガンに放電補助用気体
を導入して小電流放電させた後、前記集束コイルによる
磁場を発生させるようにした。
【０００７】また、第二発明は、第一発明の構成に加え
て、前記磁場を前記小電流放電の開始後２〜３分経過し
て発生させるようにした。
て、前記磁場を前記小電流放電の開始後２〜３分経過し
て発生させるようにした。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面に
したがって説明する。図１および図２は、本発明に係る
方法が適用される圧力勾配型プラズマ発生装置１を示
し、図３に示す圧力勾配型プラズマ発生装置２と構造
上、実質的に同一であり、互いに対応する部分について
は、同一番号を付して説明を省略する。図示するよう
に、カソード装着部２４は放電用電源３１の−極に接続
され、この放電用電源３１の＋極は真空チャンバ１４内
の下部に配置された蒸着原料３２を入れるためのハース
３３に接続され、このハース３３が前述したアノードを
形成している。また、中間電極部２２は第一中間電極３
４と第二中間電極３５とからなり、それぞれ抵抗３６，
３７を介して放電用電源３１の＋極に接続されている。
さらに、真空チャンバ１４内の上部には、基板３８が配
置されている。そして、圧力勾配型プラズマガン１１か
らハース３３上の蒸発原料３２に向けてプラズマ３９が
形成され、これにより蒸着原料３２が蒸発させられ、基
板３８に蒸着し、薄膜が形成される。
したがって説明する。図１および図２は、本発明に係る
方法が適用される圧力勾配型プラズマ発生装置１を示
し、図３に示す圧力勾配型プラズマ発生装置２と構造
上、実質的に同一であり、互いに対応する部分について
は、同一番号を付して説明を省略する。図示するよう
に、カソード装着部２４は放電用電源３１の−極に接続
され、この放電用電源３１の＋極は真空チャンバ１４内
の下部に配置された蒸着原料３２を入れるためのハース
３３に接続され、このハース３３が前述したアノードを
形成している。また、中間電極部２２は第一中間電極３
４と第二中間電極３５とからなり、それぞれ抵抗３６，
３７を介して放電用電源３１の＋極に接続されている。
さらに、真空チャンバ１４内の上部には、基板３８が配
置されている。そして、圧力勾配型プラズマガン１１か
らハース３３上の蒸発原料３２に向けてプラズマ３９が
形成され、これにより蒸着原料３２が蒸発させられ、基
板３８に蒸着し、薄膜が形成される。
【０００９】次に、圧力勾配型プラズマ発生装置１に適
用される本発明に係る圧力勾配型プラズマ発生装置１の
始動方法について説明する。圧力勾配型プラズマ発生装
置の始動に際し、まず、前記同様、カソード装着部２４
の流入口２３から所定流量（例：１０〜３０sccm）で放
電補助用ガスの導入を開始した後、中間電極部２２に電
流を流すことにより磁場を発生させる。その後、補助電
極２６と前記アノードとの間で例えば１０Ａ程度の小電
流放電させて間接的に主電極２７を加熱する。そして、
小電流放電が開始すると、集束コイル１３に電流を流
し、集束コイル１３の断面の周囲に、図２において二点
鎖線で示す磁力線で表される磁場を発生させる。その
後、主電極２７は十分に熱電子放出する温度に加熱さ
れ、主電極２７による例えば１００Ａ程度の大電流放電
に移行する。
用される本発明に係る圧力勾配型プラズマ発生装置１の
始動方法について説明する。圧力勾配型プラズマ発生装
置の始動に際し、まず、前記同様、カソード装着部２４
の流入口２３から所定流量（例：１０〜３０sccm）で放
電補助用ガスの導入を開始した後、中間電極部２２に電
流を流すことにより磁場を発生させる。その後、補助電
極２６と前記アノードとの間で例えば１０Ａ程度の小電
流放電させて間接的に主電極２７を加熱する。そして、
小電流放電が開始すると、集束コイル１３に電流を流
し、集束コイル１３の断面の周囲に、図２において二点
鎖線で示す磁力線で表される磁場を発生させる。その
後、主電極２７は十分に熱電子放出する温度に加熱さ
れ、主電極２７による例えば１００Ａ程度の大電流放電
に移行する。
【００１０】この結果、カソードケーシング２８の外周
部での放電が回避され、カソードケーシング２８からの
蒸発やスパッタリングもなく、またカソードケーシング
２８の外周部での異常昇温を防止でき、絶縁管２５の両
端部に配設されたＯリングが焼損することもなく、この
外周部の近くの構成部品の耐久性を向上させることが可
能となる。さらに、Ｔａ−ＬａＢ6複合カソード２１の
先端部にプラズマが集中する結果、主電極２７が短時間
のうちに熱電子放出が可能な温度にまで加熱され、早期
に安定したプラズマを確保することが可能になる。
部での放電が回避され、カソードケーシング２８からの
蒸発やスパッタリングもなく、またカソードケーシング
２８の外周部での異常昇温を防止でき、絶縁管２５の両
端部に配設されたＯリングが焼損することもなく、この
外周部の近くの構成部品の耐久性を向上させることが可
能となる。さらに、Ｔａ−ＬａＢ6複合カソード２１の
先端部にプラズマが集中する結果、主電極２７が短時間
のうちに熱電子放出が可能な温度にまで加熱され、早期
に安定したプラズマを確保することが可能になる。
【００１１】なお、前記小電流放電の後に集束コイル１
３により磁場を発生させるタイミングは、遅らせる程、
カソードケーシング２８の先端部の温度が上昇し、主電
極２７の加熱を促進する一方、集束コイル１３により磁
場を形成しない状態で長時間、プラズマを真空チャンバ
内にて散乱させるのは装置を良好な状態に保つうえで好
ましくない。したがって、好ましくは小電流放電開始
後、２〜３分経過後に集束コイル１３により磁場を発生
させるのがよい。
３により磁場を発生させるタイミングは、遅らせる程、
カソードケーシング２８の先端部の温度が上昇し、主電
極２７の加熱を促進する一方、集束コイル１３により磁
場を形成しない状態で長時間、プラズマを真空チャンバ
内にて散乱させるのは装置を良好な状態に保つうえで好
ましくない。したがって、好ましくは小電流放電開始
後、２〜３分経過後に集束コイル１３により磁場を発生
させるのがよい。
【００１２】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
によれば、圧力勾配型プラズマガンに放電補助用気体を
導入し、小電流放電させた後、集束コイルによる磁場を
発生させるため、圧力勾配型プラズマガンのカソードケ
ーシングの外周部での放電が回避され、この外周部の異
常昇温が阻止できる結果、このカソードの周囲を真空状
態に保つためのシール部材の焼損を防止でき、また、こ
のカソード周囲の構成部品の耐久性を向上させることが
可能となる他、前記カソードの先端部にプラズマが集中
するため、その加熱が促進され、早期に安定したプラズ
マを確保することが可能になるという効果を奏する。さ
らに、本発明によれば、前記磁場を前記小電流放電の開
始後２〜３分経過して発生させるため、前述した効果に
加えて、さらに圧力勾配型プラズマ発生装置内部がプラ
ズマにより損なわれるのを抑制することが可能になると
いう効果を奏する。
によれば、圧力勾配型プラズマガンに放電補助用気体を
導入し、小電流放電させた後、集束コイルによる磁場を
発生させるため、圧力勾配型プラズマガンのカソードケ
ーシングの外周部での放電が回避され、この外周部の異
常昇温が阻止できる結果、このカソードの周囲を真空状
態に保つためのシール部材の焼損を防止でき、また、こ
のカソード周囲の構成部品の耐久性を向上させることが
可能となる他、前記カソードの先端部にプラズマが集中
するため、その加熱が促進され、早期に安定したプラズ
マを確保することが可能になるという効果を奏する。さ
らに、本発明によれば、前記磁場を前記小電流放電の開
始後２〜３分経過して発生させるため、前述した効果に
加えて、さらに圧力勾配型プラズマ発生装置内部がプラ
ズマにより損なわれるのを抑制することが可能になると
いう効果を奏する。
【図１】 本発明に係る始動方法が適用される圧力勾配
型プラズマ発生装置の概略を示す図である。
型プラズマ発生装置の概略を示す図である。
【図２】 図１に示す圧力勾配型プラズマ発生装置の集
束コイルによる磁場およびこの磁場の下で形成されたプ
ラズマを示す図である。
束コイルによる磁場およびこの磁場の下で形成されたプ
ラズマを示す図である。
【図３】 従来の圧力勾配型プラズマ発生装置の集束コ
イルによる磁場およびこの磁場の下で誘発された放電を
示す図である。
イルによる磁場およびこの磁場の下で誘発された放電を
示す図である。
１ 圧力勾配型プラズマ発生装置 １１ 圧力勾配型プラズマガン １２ 短管部 １３ 集束コイル １４ 真空チャンバ ２１ カソード ２２ 中間電極部 ２３ 流入口 ２４ カソード装着
部 ２５ 絶縁管 ２６ 補助電極 ２７ 主電極 ２８ カソードケー
シング ３１ 放電用電源 ３２ 蒸着原料 ３３ ハース ３４ 第一中間電極 ３５ 第二中間電極
部 ２５ 絶縁管 ２６ 補助電極 ２７ 主電極 ２８ カソードケー
シング ３１ 放電用電源 ３２ 蒸着原料 ３３ ハース ３４ 第一中間電極 ３５ 第二中間電極
Claims (2)
- 【請求項１】 圧力勾配型プラズマガンとこの圧力勾配
型プラズマガンの取付け用短管部を包囲する集束コイル
とを備えた圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法にお
いて、前記圧力勾配型プラズマガンに放電補助用気体を
導入して小電流放電させた後、前記集束コイルによる磁
場を発生させることを特徴とする圧力勾配型プラズマ発
生装置の始動方法。 - 【請求項２】 前記磁場を前記小電流放電の開始後２〜
３分経過して発生させることを特徴とする請求項１に記
載の圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000350912A JP4627365B2 (ja) | 2000-11-17 | 2000-11-17 | 圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000350912A JP4627365B2 (ja) | 2000-11-17 | 2000-11-17 | 圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002155355A true JP2002155355A (ja) | 2002-05-31 |
| JP4627365B2 JP4627365B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=18824060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000350912A Expired - Fee Related JP4627365B2 (ja) | 2000-11-17 | 2000-11-17 | 圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4627365B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013218881A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Chugai Ro Co Ltd | プラズマ発生装置並びに蒸着装置および蒸着方法 |
| CN106802271A (zh) * | 2017-02-08 | 2017-06-06 | 中海石油(中国)有限公司 | 一种聚驱油藏流体渗流启动压力梯度的测量装置和方法 |
| CN116075032A (zh) * | 2023-02-27 | 2023-05-05 | 重庆大学 | 一种具有轴向气流调控的等离子体电弧发生装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0250577B2 (ja) * | 1979-05-10 | 1990-11-02 | Joshin Uramoto | |
| JPH0790559A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-04-04 | Nikon Corp | 光学薄膜の製造方法 |
| JPH11224797A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Jeol Ltd | プラズマ発生装置及び薄膜形成装置 |
-
2000
- 2000-11-17 JP JP2000350912A patent/JP4627365B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0250577B2 (ja) * | 1979-05-10 | 1990-11-02 | Joshin Uramoto | |
| JPH0790559A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-04-04 | Nikon Corp | 光学薄膜の製造方法 |
| JPH11224797A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Jeol Ltd | プラズマ発生装置及び薄膜形成装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013218881A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Chugai Ro Co Ltd | プラズマ発生装置並びに蒸着装置および蒸着方法 |
| CN106802271A (zh) * | 2017-02-08 | 2017-06-06 | 中海石油(中国)有限公司 | 一种聚驱油藏流体渗流启动压力梯度的测量装置和方法 |
| CN116075032A (zh) * | 2023-02-27 | 2023-05-05 | 重庆大学 | 一种具有轴向气流调控的等离子体电弧发生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4627365B2 (ja) | 2011-02-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4627365B2 (ja) | 圧力勾配型プラズマ発生装置の始動方法 | |
| CN210030866U (zh) | 一种气体弧光放电装置以及与真空腔体的耦合系统 | |
| JP2862478B2 (ja) | 表面生成形負イオン源 | |
| KR100674031B1 (ko) | 박막 증착용 플라즈마 건 및 박막 증착 장치 | |
| JPH06128730A (ja) | 金属薄膜の製造方法 | |
| US6030510A (en) | Hot reflow sputtering method and apparatus | |
| JP2916972B2 (ja) | プラズマ発生方法及びその装置 | |
| JP3942343B2 (ja) | プラズマ発生装置及び薄膜形成装置 | |
| JP2000017431A (ja) | ＭｇＯ膜形成方法およびパネル | |
| JP3727519B2 (ja) | 熱陰極構体用スリーブ及びその製造方法 | |
| JP2002313600A (ja) | 圧力勾配型プラズマガン | |
| JP2003218096A (ja) | 酸素イオン発生用真空処理装置 | |
| JP2599158Y2 (ja) | プラズマ銃 | |
| JP2913666B2 (ja) | 試料保持装置 | |
| JPH06158301A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPH07118852A (ja) | ダイヤモンド状被膜形成方法及び装置 | |
| CN117693084A (zh) | 一种空心阴极用辉光放电加热器 | |
| JPH0729888A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH07142198A (ja) | プラズマ源 | |
| JP2001127055A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| RU1356874C (ru) | Источник ионов | |
| CN100576422C (zh) | 双电极荧光灯管 | |
| JPH10188869A (ja) | イオン源装置 | |
| JPH01307145A (ja) | イオン源 | |
| JPS6393858A (ja) | イオンプレーティング装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070712 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090908 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101105 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |