JP2002169247A - 熱現像記録材料 - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱現像にて特に画像ムラが発生しにくく、か
つカブリが抑制され、感度、最高濃度が優れた硬調な熱
現像記録材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、非感光性有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層を
有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣接
する層から選ばれる少なくとも1層に、下記一般式
(1)または(2)で表される硬調化剤と、下記一般式
(7)または(8)で表されるシラン化合物を含有する
ことを特徴とする熱現像記録材料。 【化1】 【化2】 【化3】
つカブリが抑制され、感度、最高濃度が優れた硬調な熱
現像記録材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、非感光性有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層を
有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣接
する層から選ばれる少なくとも1層に、下記一般式
(1)または(2)で表される硬調化剤と、下記一般式
(7)または(8)で表されるシラン化合物を含有する
ことを特徴とする熱現像記録材料。 【化1】 【化2】 【化3】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像記録材料に関
し、詳しくは硬調な熱現像銀塩感光材料に関する。
し、詳しくは硬調な熱現像銀塩感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】熱現像記録材料(熱現像銀塩感光材料)
を印刷版への焼付原稿として用いる際には、網点写真原
稿の再現性を高める為に、硬調な感光材料が求められて
いる。熱現像記録材料(熱現像銀塩感光材料)に硬調性
を付与する為に、特表平11−511571号、特開平
11−119372号、同11−231459号、同1
1−327077号に記載されているような置換アルケ
ン化合物や、特表平10−512061号に記載されて
いるようなヒドラジン化合物を硬調化剤として用いるこ
とが知られているが、熱現像にて画像ムラが発生する問
題点があった。
を印刷版への焼付原稿として用いる際には、網点写真原
稿の再現性を高める為に、硬調な感光材料が求められて
いる。熱現像記録材料(熱現像銀塩感光材料)に硬調性
を付与する為に、特表平11−511571号、特開平
11−119372号、同11−231459号、同1
1−327077号に記載されているような置換アルケ
ン化合物や、特表平10−512061号に記載されて
いるようなヒドラジン化合物を硬調化剤として用いるこ
とが知られているが、熱現像にて画像ムラが発生する問
題点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は、熱現像にて特に
画像ムラが発生しにくく、かつカブリが抑制され、感
度、最高濃度が優れた硬調な熱現像記録材料を提供する
ことにある。
みてなされたものであり、その目的は、熱現像にて特に
画像ムラが発生しにくく、かつカブリが抑制され、感
度、最高濃度が優れた硬調な熱現像記録材料を提供する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。
記構成により達成される。
【0005】1.支持体上に、非感光性有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層
を有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣
接する層から選ばれる少なくとも1層に、前記一般式
(1)または(2)で表される硬調化剤と、前記一般式
(7)または(8)で表されるシラン化合物を含有する
ことを特徴とする熱現像記録材料。
性ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層
を有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣
接する層から選ばれる少なくとも1層に、前記一般式
(1)または(2)で表される硬調化剤と、前記一般式
(7)または(8)で表されるシラン化合物を含有する
ことを特徴とする熱現像記録材料。
【0006】2.支持体上に、非感光性有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層
を有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣
接する層から選ばれる少なくとも1層に、前記一般式
(3)、(4)、(5)または(6)で表される硬調化
剤と、前記一般式(7)または(8)で表されるシラン
化合物を含有することを特徴とする熱現像記録材料。
性ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層
を有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣
接する層から選ばれる少なくとも1層に、前記一般式
(3)、(4)、(5)または(6)で表される硬調化
剤と、前記一般式(7)または(8)で表されるシラン
化合物を含有することを特徴とする熱現像記録材料。
【0007】3.記録層に隣接する保護層の乾燥膜厚が
前記記録層の膜厚の1/2〜1/10であることを特徴
とする1または2に記載の熱現像記録材料。
前記記録層の膜厚の1/2〜1/10であることを特徴
とする1または2に記載の熱現像記録材料。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
熱現像記録材料は、非感光性有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀、熱作用性還元剤を含有する記録層および/または
該層に隣接する層に、一般式(1)または(2)で表さ
れる硬調化剤、もしくは、一般式(3)、(4)、
(5)または(6)で表される硬調化剤を含有する。
熱現像記録材料は、非感光性有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀、熱作用性還元剤を含有する記録層および/または
該層に隣接する層に、一般式(1)または(2)で表さ
れる硬調化剤、もしくは、一般式(3)、(4)、
(5)または(6)で表される硬調化剤を含有する。
【0009】本発明の一般式(1)、(2)、(3)、
(4)、(5)および(6)で表される硬調化剤につい
て述べる。
(4)、(5)および(6)で表される硬調化剤につい
て述べる。
【0010】一般式(1)で表される硬調化剤として、
具体的には、例えば下記V301〜V315、V401
〜V403およびそれらのアルカリ金属塩の他、特開平
11−231459号に記載されている化合物1〜6
4、71、73、74、78〜81、84、86〜9
2、94〜110、特開2000−35630号に記載
されている化合物C−33〜C−50、C−52、C−
55、C−60、C−61等が挙げられる。
具体的には、例えば下記V301〜V315、V401
〜V403およびそれらのアルカリ金属塩の他、特開平
11−231459号に記載されている化合物1〜6
4、71、73、74、78〜81、84、86〜9
2、94〜110、特開2000−35630号に記載
されている化合物C−33〜C−50、C−52、C−
55、C−60、C−61等が挙げられる。
【0011】一般式(3)で表される硬調化剤として、
具体的には、例えば下記V301〜V315、およびそ
れらのアルカリ金属塩等が挙げられる。
具体的には、例えば下記V301〜V315、およびそ
れらのアルカリ金属塩等が挙げられる。
【0012】一般式(4)で表される硬調化剤として、
具体的には、例えば下記V401〜V403、およびそ
れらのアルカリ金属塩等が挙げられる。
具体的には、例えば下記V401〜V403、およびそ
れらのアルカリ金属塩等が挙げられる。
【0013】
【化8】
【0014】これらの化合物のうち、V301〜V31
5、およびそれらのアルカリ金属塩、V401〜V40
3、およびそれらのアルカリ金属塩、特開平11−23
1459号に記載されている化合物1、2、21、2
3、25、28、33、61、71、90、特開200
0−35630号に記載されている化合物C−44が好
ましく、V301〜V315、およびそれらのアルカリ
金属塩が特に好ましい。
5、およびそれらのアルカリ金属塩、V401〜V40
3、およびそれらのアルカリ金属塩、特開平11−23
1459号に記載されている化合物1、2、21、2
3、25、28、33、61、71、90、特開200
0−35630号に記載されている化合物C−44が好
ましく、V301〜V315、およびそれらのアルカリ
金属塩が特に好ましい。
【0015】一般式(2)で表される硬調化剤として、
具体的には、例えば下記化合物Hz501〜Hz52
9、Hz601〜Hz606の他、特開平11−231
459号に記載されている化合物H−1、H−3、H−
8、H−9、H−10、H−12、H−14、H−1
5、H−16、H−17、H−18、H−19、H−2
2、H−25、H−27、特開2000−35630号
に記載されているヒドラジン誘導体54a等が挙げられ
る。
具体的には、例えば下記化合物Hz501〜Hz52
9、Hz601〜Hz606の他、特開平11−231
459号に記載されている化合物H−1、H−3、H−
8、H−9、H−10、H−12、H−14、H−1
5、H−16、H−17、H−18、H−19、H−2
2、H−25、H−27、特開2000−35630号
に記載されているヒドラジン誘導体54a等が挙げられ
る。
【0016】一般式(5)で表される硬調化剤として、
具体的には、例えばHz501〜Hz529等が挙げら
れる。
具体的には、例えばHz501〜Hz529等が挙げら
れる。
【0017】一般式(6)で表される硬調化剤として、
具体的には、例えばHz601〜Hz606等が挙げら
れる。
具体的には、例えばHz601〜Hz606等が挙げら
れる。
【0018】
【化9】
【0019】
【化10】
【0020】
【化11】
【0021】これらの化合物のうち、Hz501〜Hz
529、Hz601〜Hz606、特表平11−231
459号に記載されている化合物H−8、H−9、H−
10、H−14、H−15、H−16、H−17、H−
19、H−25、特開2000−35630号に記載さ
れているヒドラジン誘導体54a等が好ましく、Hz5
01〜Hz529、Hz601〜Hz606が特に好ま
しい。
529、Hz601〜Hz606、特表平11−231
459号に記載されている化合物H−8、H−9、H−
10、H−14、H−15、H−16、H−17、H−
19、H−25、特開2000−35630号に記載さ
れているヒドラジン誘導体54a等が好ましく、Hz5
01〜Hz529、Hz601〜Hz606が特に好ま
しい。
【0022】これらの硬調化剤の使用量は銀1モル当り
1×10-5〜1モルであることが好ましく、1×10-3
〜0.5モルであることが特に好ましい。
1×10-5〜1モルであることが好ましく、1×10-3
〜0.5モルであることが特に好ましい。
【0023】本発明の一般式(7)および一般式(8)
で表されるシラン化合は架橋剤として機能する。
で表されるシラン化合は架橋剤として機能する。
【0024】本発明の一般式(7)および一般式(8)
で表されるシラン化合について説明する。
で表されるシラン化合について説明する。
【0025】前記一般式(7)、(8)において、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ
置換されてもよい直鎖、分岐又は環状の炭素数1〜30
のアルキル基(メチル基、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケニル
基(プロペニル基、ブテニル基、ノネニル基等)、アル
キニル基(アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニル
アセチレン基等)、アリール基又はヘテロ環基(フェニ
ル基、ナフチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジル
基、フリル基、チオフェニル基、イミダゾール基、チア
ゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等)
を表し、置換基としては電子吸引性の置換基又は電子供
与性の置換基いずれをも有することができる。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ
置換されてもよい直鎖、分岐又は環状の炭素数1〜30
のアルキル基(メチル基、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケニル
基(プロペニル基、ブテニル基、ノネニル基等)、アル
キニル基(アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニル
アセチレン基等)、アリール基又はヘテロ環基(フェニ
ル基、ナフチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジル
基、フリル基、チオフェニル基、イミダゾール基、チア
ゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等)
を表し、置換基としては電子吸引性の置換基又は電子供
与性の置換基いずれをも有することができる。
【0026】置換基の例としては、炭素数1〜25アル
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフ
ルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロ
アルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基
等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル
基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基
(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル
基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロ
リル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル
基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル
基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子
(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、
アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキ
シ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリー
ルオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル
基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニ
ル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシ
カルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スル
ホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホ
ンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホ
ンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノス
ルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミ
ノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシル
アミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル
基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノ
スルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エ
チルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシル
ウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイ
ド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブ
タノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、
ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基
(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジ
メチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル
基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミ
ノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピ
リジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミ
ド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサン
アミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル
基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル
基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ
基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジ
ルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等から選
択することができる。又これらの基は更にこれらの基で
置換されていてもよい。
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフ
ルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロ
アルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基
等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル
基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基
(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル
基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロ
リル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル
基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル
基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子
(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、
アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキ
シ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリー
ルオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル
基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニ
ル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシ
カルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スル
ホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホ
ンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホ
ンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノス
ルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミ
ノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシル
アミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル
基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノ
スルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エ
チルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシル
ウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイ
ド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブ
タノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、
ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基
(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジ
メチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル
基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミ
ノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピ
リジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミ
ド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサン
アミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル
基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル
基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ
基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジ
ルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等から選
択することができる。又これらの基は更にこれらの基で
置換されていてもよい。
【0027】L1、L2、L3及びL4は2価の連結基を表
し、アルキレン基(エチレン基、プロピレン基、ブチレ
ン基、ヘキサメチレン基等)、オキシアルキレン基(オ
キシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン
基、オキシヘキサメチレン基又はこれらの複数の繰り返
し単位からなる基等)、アミノアルキレン基(アミノエ
チレン基、アミノプロピレン基、アミノブチレン基、ア
ミノヘキサメチレン基、これらの複数の繰り返し単位を
有する基等)、カルボキシアルキレン基(カルボキシエ
チレン基、カルボキシプロピレン基、カルボキシブチレ
ン基、チオエーテル基、オキシエーテル基、スルホンア
ミド基、カルバミド基等)等が挙げられる。
し、アルキレン基(エチレン基、プロピレン基、ブチレ
ン基、ヘキサメチレン基等)、オキシアルキレン基(オ
キシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン
基、オキシヘキサメチレン基又はこれらの複数の繰り返
し単位からなる基等)、アミノアルキレン基(アミノエ
チレン基、アミノプロピレン基、アミノブチレン基、ア
ミノヘキサメチレン基、これらの複数の繰り返し単位を
有する基等)、カルボキシアルキレン基(カルボキシエ
チレン基、カルボキシプロピレン基、カルボキシブチレ
ン基、チオエーテル基、オキシエーテル基、スルホンア
ミド基、カルバミド基等)等が挙げられる。
【0028】R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及び
R8から選ばれる置換基の少なくとも1つが耐拡散性基
又は吸着性基であることが好ましく、特にR2が耐拡散
性基又は吸着性基であることが好ましい。
R8から選ばれる置換基の少なくとも1つが耐拡散性基
又は吸着性基であることが好ましく、特にR2が耐拡散
性基又は吸着性基であることが好ましい。
【0029】耐拡散性基は、バラスト基とも呼ばれ炭素
数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が
導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散性は、
バインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、耐拡散
性の基を導入することにより、室温状態の分子内の移動
距離が抑制され経時での反応を抑制できる。
数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が
導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散性は、
バインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、耐拡散
性の基を導入することにより、室温状態の分子内の移動
距離が抑制され経時での反応を抑制できる。
【0030】耐拡散性を評価する方法は、両端が開口し
ているキャピラリー内にバインダーを入れ架橋し、キャ
ピラリーの1開口面に被検化合物を接触存在させて、一
定温度、一定時間経過後、移動した量を赤外分光法、質
量分析法、アイソトープ法、NMR法等により調べて行
う。拡散の程度は温度や時間を変化させて調べることが
でき、拡散を1%〜1億倍まで遅くすることが分子量や
固定化基の導入により可能であるが、拡散性を過度に抑
えようとすると分子量の増大や固体化基の溶解性等の問
題が生じるので、室温下での拡散が10%〜100万倍
まで遅くなるような基の導入が適当である。
ているキャピラリー内にバインダーを入れ架橋し、キャ
ピラリーの1開口面に被検化合物を接触存在させて、一
定温度、一定時間経過後、移動した量を赤外分光法、質
量分析法、アイソトープ法、NMR法等により調べて行
う。拡散の程度は温度や時間を変化させて調べることが
でき、拡散を1%〜1億倍まで遅くすることが分子量や
固定化基の導入により可能であるが、拡散性を過度に抑
えようとすると分子量の増大や固体化基の溶解性等の問
題が生じるので、室温下での拡散が10%〜100万倍
まで遅くなるような基の導入が適当である。
【0031】吸着性基もハロゲン化銀に対しての吸着量
を調べることにより評価できる。吸着量の測定は、被検
物質をハロゲン化銀を含む溶液に添加し、ハロゲン化銀
を濾別したあとの溶液の濃度を測定することによりハロ
ゲン化銀に吸着した量を算出することができる。吸着量
は、ハロゲン化銀溶液の銀イオン濃度、ハロゲン化銀の
粒子形状、粒子径によって異なるが、ここでは有機銀に
添加するハロゲン化銀の形状、粒子径、電位等の条件で
測定するのが望ましい。好ましい例は、沃素を0.1〜
10モル%含む平均粒子径10〜300nmの立方晶、
八面体又は平板粒子の沃臭化銀をpAgが6〜8の条件
で25℃±5℃、1時間〜48時間放置した後のハロゲ
ン化銀粒子の吸着量を測定することである。沃素を含ま
ない臭化銀粒子や塩化銀粒子で測定してもよい。ハロゲ
ン化銀粒子の表面積の3%〜100%範囲で被覆すると
算出された場合は吸着性と判定することができる。吸着
性の試験は、色素、染料、安定化剤、カブリ抑制剤等を
添加しないハロゲン化銀乳剤で調べることが好ましい
が、実際の系に近い色素、安定化剤、カブリ抑制剤等の
添加されたハロゲン化銀乳剤で測定してもよい。
を調べることにより評価できる。吸着量の測定は、被検
物質をハロゲン化銀を含む溶液に添加し、ハロゲン化銀
を濾別したあとの溶液の濃度を測定することによりハロ
ゲン化銀に吸着した量を算出することができる。吸着量
は、ハロゲン化銀溶液の銀イオン濃度、ハロゲン化銀の
粒子形状、粒子径によって異なるが、ここでは有機銀に
添加するハロゲン化銀の形状、粒子径、電位等の条件で
測定するのが望ましい。好ましい例は、沃素を0.1〜
10モル%含む平均粒子径10〜300nmの立方晶、
八面体又は平板粒子の沃臭化銀をpAgが6〜8の条件
で25℃±5℃、1時間〜48時間放置した後のハロゲ
ン化銀粒子の吸着量を測定することである。沃素を含ま
ない臭化銀粒子や塩化銀粒子で測定してもよい。ハロゲ
ン化銀粒子の表面積の3%〜100%範囲で被覆すると
算出された場合は吸着性と判定することができる。吸着
性の試験は、色素、染料、安定化剤、カブリ抑制剤等を
添加しないハロゲン化銀乳剤で調べることが好ましい
が、実際の系に近い色素、安定化剤、カブリ抑制剤等の
添加されたハロゲン化銀乳剤で測定してもよい。
【0032】吸着性基は、硫黄や窒素原子を少なくとも
1つ含む基やアルキレンオキサイド基やカルボキシル基
のようなヘテロ原子のないハロゲン化銀吸着基でもよ
い。好ましい吸着性基としては窒素原子を含む1級〜3
級のアミノ基やイミダゾール基、トリアゾール基、オキ
サゾール基、チアゾール基、テトラゾール基等である。
1つ含む基やアルキレンオキサイド基やカルボキシル基
のようなヘテロ原子のないハロゲン化銀吸着基でもよ
い。好ましい吸着性基としては窒素原子を含む1級〜3
級のアミノ基やイミダゾール基、トリアゾール基、オキ
サゾール基、チアゾール基、テトラゾール基等である。
【0033】L1、L2、L3及びL4は2価の連結基を示
し、例えば、−CH2−基、−CF2−基、=CF−基、
−O−基、−S−基、−NH−基、−OCO−基、−C
ONH−基、−SO2NH−基、ポリオキシアルキレン
基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の
組み合わせたもの等を表す。この様な化合物の具体的な
例を以下に示すが、これにより本発明は限定されるもの
ではない。
し、例えば、−CH2−基、−CF2−基、=CF−基、
−O−基、−S−基、−NH−基、−OCO−基、−C
ONH−基、−SO2NH−基、ポリオキシアルキレン
基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の
組み合わせたもの等を表す。この様な化合物の具体的な
例を以下に示すが、これにより本発明は限定されるもの
ではない。
【0034】
【化12】
【0035】
【化13】
【0036】
【化14】
【0037】
【化15】
【0038】これらの化合物は、アルコキシシラン化合
物やハロゲン化珪素を出発原料として連結基と結合させ
る方法を用いて製造することができる。耐拡散性基と結
合したシラン化合物は耐拡散性基とシラン基を有する化
合物とを結合させることにより合成することができる。
物やハロゲン化珪素を出発原料として連結基と結合させ
る方法を用いて製造することができる。耐拡散性基と結
合したシラン化合物は耐拡散性基とシラン基を有する化
合物とを結合させることにより合成することができる。
【0039】本発明の一般式(7)または(8)で表さ
れる化合物を添加する方法は公知の添加法に従って添加
することができる。即ち、メタノールやエタノール等の
アルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケト
ン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等
の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サ
ンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジ
ナイザー分散により1μm以下の微粒子にして水や有機
溶媒に分散して添加することもできる。更にガラスビー
ズやジルコニア微粒子メディアを使用するサンドミル分
散、細管から溶液を高速に噴出させて硬い板状で砕いた
り、2方向からの細管の液体を衝突させて分散させる方
法いずれでもよい。微粒子分散は、水溶液中に平均粒子
径1nm以上10μm以下の大きさが好ましく、粒子分
布が狭いことが好ましい。水溶液中に分散するには、攪
拌により泡が発生しにくいものがよい。微粒子分散技術
については多くの技術が開示されているが、これらに準
じて分散することができる。
れる化合物を添加する方法は公知の添加法に従って添加
することができる。即ち、メタノールやエタノール等の
アルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケト
ン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等
の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サ
ンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジ
ナイザー分散により1μm以下の微粒子にして水や有機
溶媒に分散して添加することもできる。更にガラスビー
ズやジルコニア微粒子メディアを使用するサンドミル分
散、細管から溶液を高速に噴出させて硬い板状で砕いた
り、2方向からの細管の液体を衝突させて分散させる方
法いずれでもよい。微粒子分散は、水溶液中に平均粒子
径1nm以上10μm以下の大きさが好ましく、粒子分
布が狭いことが好ましい。水溶液中に分散するには、攪
拌により泡が発生しにくいものがよい。微粒子分散技術
については多くの技術が開示されているが、これらに準
じて分散することができる。
【0040】本発明のシラン化合物は、ハロゲン化銀、
有機銀塩、還元剤等の添加剤の存在する層に添加されて
バインダーと反応するのが好ましいが、これら添加剤を
含む層の隣接層に添加されてもよいし、中間層を介して
添加されてもよい。即ち感光層や感光層に隣接する層に
添加することが好ましいが、中間層や下塗り層中に添加
することもできる。本発明の化合物の添加量は好ましく
は銀1モル当たり1×10-8〜1×10-1モル、特に1
×10-5〜1×10-2モルである。銀のない感光層以外
に添加する場合も単位面積に換算して添加量を決めるこ
とができる。添加量が多いと感度低下、コントラスト低
下、最高濃度低下等を引き起こす場合があり、添加量が
不足すると本発明の効果を充分得られないことがある。
有機銀塩、還元剤等の添加剤の存在する層に添加されて
バインダーと反応するのが好ましいが、これら添加剤を
含む層の隣接層に添加されてもよいし、中間層を介して
添加されてもよい。即ち感光層や感光層に隣接する層に
添加することが好ましいが、中間層や下塗り層中に添加
することもできる。本発明の化合物の添加量は好ましく
は銀1モル当たり1×10-8〜1×10-1モル、特に1
×10-5〜1×10-2モルである。銀のない感光層以外
に添加する場合も単位面積に換算して添加量を決めるこ
とができる。添加量が多いと感度低下、コントラスト低
下、最高濃度低下等を引き起こす場合があり、添加量が
不足すると本発明の効果を充分得られないことがある。
【0041】(非感光性有機銀塩)本発明の非感光性有
機銀塩は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源
を含有する有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖
(10〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の
脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を有する複素環式カ
ルボン酸の銀塩等が好ましく用いられる。また、配位子
が、4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を
有する有機または無機の銀塩錯体も有用である。
機銀塩は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源
を含有する有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖
(10〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の
脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を有する複素環式カ
ルボン酸の銀塩等が好ましく用いられる。また、配位子
が、4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を
有する有機または無機の銀塩錯体も有用である。
【0042】本発明の非感光性有機銀塩として好ましく
用いられる非感光性有機銀塩の例としては、Resea
rch Disclosure第17029及び299
63に記載されており、次のものがある:脂肪酸の銀塩
(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン
酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀
塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1
−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カ
ルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等の銀
塩);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸と
の重合反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド
等)とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸類(例えば、サ
リチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、
5,5−チオジサリチル酸等)との重合反応生成物の銀
錯体等);チオン類の銀塩または錯体(例えば、3−
(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4
−チアゾリン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル
−4−チアゾリン−2−チオン等の銀塩または錯体);
イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−
チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−
ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾト
リアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体または
塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の
銀塩;及びメルカプタン誘導体の銀塩。上記記載の有機
銀塩の中でも、脂肪酸の銀塩が好ましく用いられ、更に
好ましく用いられるのは、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀
および/またはステアリン酸銀である。
用いられる非感光性有機銀塩の例としては、Resea
rch Disclosure第17029及び299
63に記載されており、次のものがある:脂肪酸の銀塩
(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン
酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀
塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1
−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カ
ルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等の銀
塩);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸と
の重合反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド
等)とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸類(例えば、サ
リチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、
5,5−チオジサリチル酸等)との重合反応生成物の銀
錯体等);チオン類の銀塩または錯体(例えば、3−
(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4
−チアゾリン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル
−4−チアゾリン−2−チオン等の銀塩または錯体);
イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−
チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−
ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾト
リアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体または
塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の
銀塩;及びメルカプタン誘導体の銀塩。上記記載の有機
銀塩の中でも、脂肪酸の銀塩が好ましく用いられ、更に
好ましく用いられるのは、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀
および/またはステアリン酸銀である。
【0043】非感光性有機銀塩は、水溶性銀化合物と銀
と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、
正混合法、逆混合法、同時混合法等が好ましく用いられ
る。また、特開平9−127643号に記載されている
様なコントロールドダブルジェット法を用いることも可
能である。
と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、
正混合法、逆混合法、同時混合法等が好ましく用いられ
る。また、特開平9−127643号に記載されている
様なコントロールドダブルジェット法を用いることも可
能である。
【0044】具体的には、有機酸にアルカリ金属塩(例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)を加えて
有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸ナトリ
ウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した後に、
前記ソープに硝酸銀を添加して非感光性有機銀塩の結晶
を作製する。その際にハロゲン化銀を混在させてもよい
が、上記一連の反応工程は、適当な攪拌部材を用いて反
応槽内が均一になるように十分に攪拌しながら行う必要
がある。
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)を加えて
有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸ナトリ
ウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した後に、
前記ソープに硝酸銀を添加して非感光性有機銀塩の結晶
を作製する。その際にハロゲン化銀を混在させてもよい
が、上記一連の反応工程は、適当な攪拌部材を用いて反
応槽内が均一になるように十分に攪拌しながら行う必要
がある。
【0045】通常、熱現像感光材料に含有されている非
感光性有機銀塩は、水系の母液中で形成され、多くの場
合予め形成されたハロゲン化銀とここで混合される。最
も一般的な製造過程の概略としては、この後遠心脱水等
により母液を除きスラリー及び/またはウエットケーキ
を得る。次いで乾燥過程を経てドライ粉末を形成し、有
機溶媒及び/またはバインダー中で分散され、調液の
後、支持体に塗布される。また、これまでに知られてい
る熱現像感光材料の非感光性有機銀塩の製造は、大気雰
囲気下で行うことができる。
感光性有機銀塩は、水系の母液中で形成され、多くの場
合予め形成されたハロゲン化銀とここで混合される。最
も一般的な製造過程の概略としては、この後遠心脱水等
により母液を除きスラリー及び/またはウエットケーキ
を得る。次いで乾燥過程を経てドライ粉末を形成し、有
機溶媒及び/またはバインダー中で分散され、調液の
後、支持体に塗布される。また、これまでに知られてい
る熱現像感光材料の非感光性有機銀塩の製造は、大気雰
囲気下で行うことができる。
【0046】低カブリ及び高感度の他に保存性、特に熱
現像後の保存性改良の観点から,調液工程を高窒素濃度
雰囲気下で行うことも好ましい。乾燥装置としては、真
空乾燥機、凍結乾燥機、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式
乾燥機、噴霧乾燥機等があるが、特に気流式乾燥機が本
発明では好ましく用いられる。気流式乾燥機としては、
直管タイプ、滞留時間増加の為に中胴を拡大したタイ
プ、旋回流タイプ等があるが、旋回流タイプが好ましく
用いられる。
現像後の保存性改良の観点から,調液工程を高窒素濃度
雰囲気下で行うことも好ましい。乾燥装置としては、真
空乾燥機、凍結乾燥機、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式
乾燥機、噴霧乾燥機等があるが、特に気流式乾燥機が本
発明では好ましく用いられる。気流式乾燥機としては、
直管タイプ、滞留時間増加の為に中胴を拡大したタイ
プ、旋回流タイプ等があるが、旋回流タイプが好ましく
用いられる。
【0047】(感光性ハロゲン化銀)本発明の感光性ハ
ロゲン化銀(以下単に、ハロゲン化銀ともいう)は光セ
ンサーとして機能する。
ロゲン化銀(以下単に、ハロゲン化銀ともいう)は光セ
ンサーとして機能する。
【0048】本発明においては、画像形成後の白濁を低
く抑えるため、及び良好な画質を得るために感光性ハロ
ゲン化銀の平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均
粒子サイズが好ましくは0.1μm以下、より好ましく
は0.01μm〜0.1μm、特にこのましくは0.0
2μm〜0.08μmである。ここでいう粒子サイズと
は、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積
を有する円の直径(円相当径)を指す。またハロゲン化
銀は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散と
は、下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。
更に好ましくは30%以下であり、特に好ましくは20
%以下であることである。
く抑えるため、及び良好な画質を得るために感光性ハロ
ゲン化銀の平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均
粒子サイズが好ましくは0.1μm以下、より好ましく
は0.01μm〜0.1μm、特にこのましくは0.0
2μm〜0.08μmである。ここでいう粒子サイズと
は、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積
を有する円の直径(円相当径)を指す。またハロゲン化
銀は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散と
は、下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。
更に好ましくは30%以下であり、特に好ましくは20
%以下であることである。
【0049】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 ハロゲン化銀の形状については、特に制限はないが、ミ
ラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが好まし
く、この割合が50%以上、更には70%以上、特に8
0%以上であることが好ましい。ミラー指数〔100〕
面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔1
00〕面との吸着依存性を利用したT.Tani、J.
Imaging Sci. 29 165(1985)
により求めることができる。
平均値)×100 ハロゲン化銀の形状については、特に制限はないが、ミ
ラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが好まし
く、この割合が50%以上、更には70%以上、特に8
0%以上であることが好ましい。ミラー指数〔100〕
面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔1
00〕面との吸着依存性を利用したT.Tani、J.
Imaging Sci. 29 165(1985)
により求めることができる。
【0050】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みをhμ
mとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のものを
いう。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50
以下のものである。また粒径は0.1μm以下であるこ
とが好ましく、0.01μm〜0.08μmであること
がより好ましい。これらは米国特許第5,264,33
7号、同第5,314,798号、同第5,320,9
58号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を
得ることができる。
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みをhμ
mとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のものを
いう。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50
以下のものである。また粒径は0.1μm以下であるこ
とが好ましく、0.01μm〜0.08μmであること
がより好ましい。これらは米国特許第5,264,33
7号、同第5,314,798号、同第5,320,9
58号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を
得ることができる。
【0051】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著 Chimie et
Physique Photographique
(Paul Montel社刊 1967年)、G.
F.Duffin著 Photographic Em
ulsion Chemistry(The Foca
l Press刊 1966年)、V.L.Zelik
man et al著 Making and Coa
ting Photographic Emulsio
n(The Focal Press刊 1964年)
等に記載された方法を用いて調製することができる。即
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよ
く、また、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる
形成法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
合せ等のいずれを用いてもよい。
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著 Chimie et
Physique Photographique
(Paul Montel社刊 1967年)、G.
F.Duffin著 Photographic Em
ulsion Chemistry(The Foca
l Press刊 1966年)、V.L.Zelik
man et al著 Making and Coa
ting Photographic Emulsio
n(The Focal Press刊 1964年)
等に記載された方法を用いて調製することができる。即
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよ
く、また、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる
形成法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
合せ等のいずれを用いてもよい。
【0052】本発明に用いられるハロゲン化銀には、周
期表の6族から11族に属する金属イオンを含有するこ
とが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、
Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、P
t、Au等が好ましい。
期表の6族から11族に属する金属イオンを含有するこ
とが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、
Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、P
t、Au等が好ましい。
【0053】これらの金属イオンは金属錯体または金属
錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの
金属錯体または金属錯体イオンとしては、下記一般式で
表される6配位金属錯体が好ましい。
錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの
金属錯体または金属錯体イオンとしては、下記一般式で
表される6配位金属錯体が好ましい。
【0054】一般式 〔ML6〕m 式中、Mは周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移
金属、Lは配位子、mは−、2−、3−または4−を表
す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲン化
物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化
物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、
テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロ
シル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、
ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が
存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めるこ
とが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていても
よい。
金属、Lは配位子、mは−、2−、3−または4−を表
す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲン化
物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化
物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、
テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロ
シル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、
ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が
存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めるこ
とが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていても
よい。
【0055】Mとして特に好ましい具体例は、ロジウム
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
【0056】以下に、遷移金属錯体イオンの具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されない。
すが、本発明はこれらに限定されない。
【0057】1:〔RhCl6〕3- 2:〔RuCl6〕3- 3:〔ReCl6〕3- 4:〔RuBr6〕3- 5:〔OsCl6〕3- 6:〔IrCl6〕4- 7:〔Ru(NO)Cl5〕2- 8:〔RuBr4(H2O)〕2- 9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4〕- 10:〔RhCl5(H2O)〕2- 11:〔Re(NO)Cl5〕2- 12:〔Re(NO)(CN)5〕2- 13:〔Re(NO)Cl(CN)4〕2- 14:〔Rh(NO)2Cl4〕- 15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4〕- 16:〔Ru(NO)(CN)5〕2- 17:〔Fe(CN)6〕3- 18:〔Rh(NS)Cl5〕2- 19:〔Os(NO)Cl5〕2- 20:〔Cr(NO)Cl5〕2- 21:〔Re(NO)Cl5〕- 22:〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2- 23:〔Ru(NS)Cl5〕2- 24:〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2- 25:〔Os(NS)Cl(SCN)4〕2- 26:〔Ir(NO)Cl5〕2- 27:〔Ir(NS)Cl5〕2- これらの金属イオン、金属錯体または金属錯体イオンは
一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以
上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体また
は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当
であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルであ
る。
一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以
上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体また
は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当
であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルであ
る。
【0058】これらの金属を提供する化合物は、ハロゲ
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。
【0059】添加に際しては、数回に渡って分割して添
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、同6−110146号、同5−273683
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、同6−110146号、同5−273683
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。
【0060】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水
溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶
液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液
として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子
を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水
溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調
製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープして
ある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等
がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属
化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を
水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水
溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶
液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液
として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子
を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水
溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調
製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープして
ある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等
がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属
化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を
水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。
【0061】粒子表面に添加する時には、粒子形成直後
または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時
に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時
に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
【0062】本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒
子は粒子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を
施す場合、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業
界で知られている方法の水洗により脱塩することができ
る。
子は粒子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を
施す場合、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業
界で知られている方法の水洗により脱塩することができ
る。
【0063】本発明の感光性ハロゲン化銀は化学増感さ
れていることが好ましい。好ましい化学増感法としては
当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増
感法、テルル増感法を用いることができる。また金化合
物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増
感法や還元増感法が適用できる。
れていることが好ましい。好ましい化学増感法としては
当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増
感法、テルル増感法を用いることができる。また金化合
物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増
感法や還元増感法が適用できる。
【0064】硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法
に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物を用
いることができるが、特開平7−128768号等に記
載の化合物を使用することができる。テルル増感剤とし
ては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニ
ル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジ
アシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリ
ド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結
合を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オル
ガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリ
ド類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール
類、テルロスルホナート類、P−Te結合を有する化合
物、含Teヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機
テルル化合物、コロイド状テルルなどを用いることがで
きる。
に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物を用
いることができるが、特開平7−128768号等に記
載の化合物を使用することができる。テルル増感剤とし
ては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニ
ル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジ
アシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリ
ド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結
合を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オル
ガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリ
ド類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール
類、テルロスルホナート類、P−Te結合を有する化合
物、含Teヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機
テルル化合物、コロイド状テルルなどを用いることがで
きる。
【0065】貴金属増感法に好ましく用いられる化合物
としては例えば塩化金酸、カリウムクロロオーレート、
カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイ
ド、あるいは米国特許第2,448,060号、英国特
許第618,061号などに記載されている化合物を好
ましく用いることができる。
としては例えば塩化金酸、カリウムクロロオーレート、
カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイ
ド、あるいは米国特許第2,448,060号、英国特
許第618,061号などに記載されている化合物を好
ましく用いることができる。
【0066】還元増感法に用いられる具体的な化合物と
してはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、
塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒド
ラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミ
ン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを
7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成するこ
とにより還元増感することができる。また、ハロゲン化
銀粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を
導入することにより還元増感することができる。
してはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、
塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒド
ラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミ
ン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを
7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成するこ
とにより還元増感することができる。また、ハロゲン化
銀粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を
導入することにより還元増感することができる。
【0067】(熱作用性還元剤)本発明の熱作用性還元
剤について説明する。
剤について説明する。
【0068】本発明の熱作用性還元剤の好適な例は、米
国特許第3,770,448号、同第3,773,51
2号、同第3,593,863号、及びResearc
hDisclosure第17029及び29963に
記載されており、次のものがある。アミノヒドロキシシ
クロアルケノン化合物(例えば、2−ヒドロキシピペリ
ジノ−2−シクロヘキセノン);還元剤の前駆体として
アミノリダクトン類(reductones)エステル
(例えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテ
ート);N−ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−
メチルフェニル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒドま
たはケトンのヒドラゾン類(例えば、アントラセンアル
デヒドフェニルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノ
ール類;ホスファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシ
ベンゼン類(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒド
ロキノン、イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジ
ヒドロキシ−フェニル)メチルスルホン);スルフヒド
ロキサム酸類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム
酸);スルホンアミドアニリン類(例えば、4−(N−
メタンスルホンアミド)アニリン);2−テトラゾリル
チオヒドロキノン類(例えば、2−メチル−5−(1−
フェニル−5−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テ
トラヒドロキノキサリン類(例えば、1,2,3,4−
テトラヒドロキノキサリン);アミドキシム類;アジン
類(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラジド類と
アスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼ
ンとヒドロキシルアミンの組み合わせ;リダクトン;ヒ
ドラジン;ヒドロキサム酸類;アジン類とスルホンアミ
ドフェノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸
誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシ
ベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;スル
ホンアミドフェノール還元剤;2−フェニルインダン−
1,3−ジオン類;クロマン;1,4−ジヒドロピリジ
ン類(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボ
エトキシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェノー
ル類(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、4,5−エ
チリデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチル)フェノ
ール)、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体及び3−ピ
ラゾリドン類。中でも、特に好ましい還元剤はヒンダー
ドフェノール類である。ヒンダードフェノール類として
は下記一般式(A)で表される化合物が挙げられる。
国特許第3,770,448号、同第3,773,51
2号、同第3,593,863号、及びResearc
hDisclosure第17029及び29963に
記載されており、次のものがある。アミノヒドロキシシ
クロアルケノン化合物(例えば、2−ヒドロキシピペリ
ジノ−2−シクロヘキセノン);還元剤の前駆体として
アミノリダクトン類(reductones)エステル
(例えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテ
ート);N−ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−
メチルフェニル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒドま
たはケトンのヒドラゾン類(例えば、アントラセンアル
デヒドフェニルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノ
ール類;ホスファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシ
ベンゼン類(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒド
ロキノン、イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジ
ヒドロキシ−フェニル)メチルスルホン);スルフヒド
ロキサム酸類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム
酸);スルホンアミドアニリン類(例えば、4−(N−
メタンスルホンアミド)アニリン);2−テトラゾリル
チオヒドロキノン類(例えば、2−メチル−5−(1−
フェニル−5−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テ
トラヒドロキノキサリン類(例えば、1,2,3,4−
テトラヒドロキノキサリン);アミドキシム類;アジン
類(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラジド類と
アスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼ
ンとヒドロキシルアミンの組み合わせ;リダクトン;ヒ
ドラジン;ヒドロキサム酸類;アジン類とスルホンアミ
ドフェノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸
誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシ
ベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;スル
ホンアミドフェノール還元剤;2−フェニルインダン−
1,3−ジオン類;クロマン;1,4−ジヒドロピリジ
ン類(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボ
エトキシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェノー
ル類(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、4,5−エ
チリデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチル)フェノ
ール)、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体及び3−ピ
ラゾリドン類。中でも、特に好ましい還元剤はヒンダー
ドフェノール類である。ヒンダードフェノール類として
は下記一般式(A)で表される化合物が挙げられる。
【0069】
【化16】
【0070】一般式(A)中、Rは水素原子または炭素
原子数1〜10のアルキル基(例えば、ブチル基、2,
4,4−トリメチルペンチル基等)を表し、R′及び
R″は、各々、炭素原子数1〜5のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、t−ブチル基等)を表す。
原子数1〜10のアルキル基(例えば、ブチル基、2,
4,4−トリメチルペンチル基等)を表し、R′及び
R″は、各々、炭素原子数1〜5のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、t−ブチル基等)を表す。
【0071】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されな
い。
以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されな
い。
【0072】
【化17】
【0073】
【化18】
【0074】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モ
ルである。
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モ
ルである。
【0075】(カブリ防止剤)本発明の熱現像記録材料
には、酸無水物やスルホニウム塩化合物とともに、必要
に応じて従来知られているカブリ防止剤類を少量併用す
ることもできる。併用することができるカブリ防止剤の
好ましい例としてハロゲン化カブリ防止化合物が挙げら
れる。ハロゲン化カブリ防止化合物を併用することによ
り、特に画像記録後の材料の画像安定性に効果がある
他、通常のカブリ防止機能と、貯蔵安定性に効果があ
る。特に好ましいハロゲン化カブリ防止化合物は、以下
の一般式(C)で示され得る。
には、酸無水物やスルホニウム塩化合物とともに、必要
に応じて従来知られているカブリ防止剤類を少量併用す
ることもできる。併用することができるカブリ防止剤の
好ましい例としてハロゲン化カブリ防止化合物が挙げら
れる。ハロゲン化カブリ防止化合物を併用することによ
り、特に画像記録後の材料の画像安定性に効果がある
他、通常のカブリ防止機能と、貯蔵安定性に効果があ
る。特に好ましいハロゲン化カブリ防止化合物は、以下
の一般式(C)で示され得る。
【0076】一般式(C) Ar−(SO2)y−CH3-n(X)n 式中、yは0または1であり、Xはハロゲン原子であ
り、nは1、2又は3であり、そしてArは芳香族もし
くは複素芳香族基である。
り、nは1、2又は3であり、そしてArは芳香族もし
くは複素芳香族基である。
【0077】一般式式(C)に含まれる化合物の詳細な
列挙は、米国特許第4,546,075号、同第4,7
56,999号、同第4,452,885号、同第3,
874,946号および同第3,955,982号に記
載されている。本発明に有用であると考えられる他のハ
ロゲン化化合物には、特開昭59−57234号に記載
されているようなジハロゲン化化合物が含まれる。
列挙は、米国特許第4,546,075号、同第4,7
56,999号、同第4,452,885号、同第3,
874,946号および同第3,955,982号に記
載されている。本発明に有用であると考えられる他のハ
ロゲン化化合物には、特開昭59−57234号に記載
されているようなジハロゲン化化合物が含まれる。
【0078】本発明に用いられるハロゲン化カブリ防止
化合物は、感光層もしくは最上層中に合計銀1モルに対
して通常5×10-4〜0.5モル、好ましくは5×10
-3〜5×10-2モルの含有量で含有される。
化合物は、感光層もしくは最上層中に合計銀1モルに対
して通常5×10-4〜0.5モル、好ましくは5×10
-3〜5×10-2モルの含有量で含有される。
【0079】(増感色素)本発明の熱現像記録材料には
例えば特開昭63−159841号、同60−1403
35号、同63−231437号、同63−25965
1号、同63−304242号、同63−15245
号、米国特許第4,639,414号、同第4,74
0,455号、同第4,741,966号、同第4,7
51,175号、同第4,835,096号に記載され
る増感色素が使用できる。本発明に使用される有用な増
感色素は例えばResearch Disclosur
e 第17643 IV−A項(1978年12月p.2
3)に記載若しくは引用された文献に記載されている。
特に、各種光源の分光特性に適した分光感度を有する増
感色素を有利に選択することができる。例えばアルゴン
イオンレーザー光源に対しは、特開昭60−16224
7号、特開平2−48635号、米国特許第2,16
1,331号、西独特許第936,071号、特開平5
−11389号等に記載のシンプルメロシアニン類、ヘ
リウムネオンレーザー光源に対しては、特開昭50−6
2425号、同54−18726号、同59−1022
29号に示された三核シアニン色素類、特開平7−28
7338号に記載されたメロシアニン類、LED光源及
び赤外半導体レーザー光源に対しては特公昭48−42
172号、同51−9609号、同55−39818
号、特開昭62−284343号、特開平2−1051
35号に記載されたチアカルボシアニン類、赤外半導体
レーザー光源に対しては特開昭59−191032号、
特開昭60−80841号に記載されたトリカルボシア
ニン類、特開昭59−192242号、特開平3−67
242号の一般式(IIIa)、(IIIb)に記載された4
−キノリン核を含有するジカルボシアニン類等が有利に
選択される。更に赤外レーザー光源の波長が750nm
以上更に好ましくは800nm以上である場合このよう
な波長域のレーザーに対応する為には、特開平4−18
2639号、同5−341432号、特公平6−523
87号、同3−10931号、米国特許第5,441,
866号、特開平7−13295号等に記載されている
増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色素は単
独で用いてもよく、増感色素の組み合わせは特に、強色
増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、
それ自身分光増感作用を持たない色素或いは可視光を実
質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を
乳剤中に含んでいてもよい。
例えば特開昭63−159841号、同60−1403
35号、同63−231437号、同63−25965
1号、同63−304242号、同63−15245
号、米国特許第4,639,414号、同第4,74
0,455号、同第4,741,966号、同第4,7
51,175号、同第4,835,096号に記載され
る増感色素が使用できる。本発明に使用される有用な増
感色素は例えばResearch Disclosur
e 第17643 IV−A項(1978年12月p.2
3)に記載若しくは引用された文献に記載されている。
特に、各種光源の分光特性に適した分光感度を有する増
感色素を有利に選択することができる。例えばアルゴン
イオンレーザー光源に対しは、特開昭60−16224
7号、特開平2−48635号、米国特許第2,16
1,331号、西独特許第936,071号、特開平5
−11389号等に記載のシンプルメロシアニン類、ヘ
リウムネオンレーザー光源に対しては、特開昭50−6
2425号、同54−18726号、同59−1022
29号に示された三核シアニン色素類、特開平7−28
7338号に記載されたメロシアニン類、LED光源及
び赤外半導体レーザー光源に対しては特公昭48−42
172号、同51−9609号、同55−39818
号、特開昭62−284343号、特開平2−1051
35号に記載されたチアカルボシアニン類、赤外半導体
レーザー光源に対しては特開昭59−191032号、
特開昭60−80841号に記載されたトリカルボシア
ニン類、特開昭59−192242号、特開平3−67
242号の一般式(IIIa)、(IIIb)に記載された4
−キノリン核を含有するジカルボシアニン類等が有利に
選択される。更に赤外レーザー光源の波長が750nm
以上更に好ましくは800nm以上である場合このよう
な波長域のレーザーに対応する為には、特開平4−18
2639号、同5−341432号、特公平6−523
87号、同3−10931号、米国特許第5,441,
866号、特開平7−13295号等に記載されている
増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色素は単
独で用いてもよく、増感色素の組み合わせは特に、強色
増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、
それ自身分光増感作用を持たない色素或いは可視光を実
質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を
乳剤中に含んでいてもよい。
【0080】(硫黄化合物)本発明には現像を抑制ある
いは促進させ、現像を制御するため、現像前後の保存性
を向上させるため、また、前述の強式増感のように分光
増感効率を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジ
スルフィド化合物、チオン化合物を含有させることがで
きる。本発明にメルカプト化合物を使用する場合、いか
なる構造のものでもよいが、Ar−SM、Ar−S−S
−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは水素原子
またはアルカリ金属原子を表し、Arは1個以上の窒
素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム原子を
有する芳香環または縮合芳香環である複素芳香環を表
す。好ましくは、複素芳香環はベンゾイミダゾール、ナ
フスイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾー
ル、ベンゾオキサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾ
セレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オ
キサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、テトラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナ
ゾリノンである。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン
(例えば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カ
ルボキシ、アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好
ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアル
コキシ(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜
4個の炭素原子を有するもの)からなる置換基群から選
択されるものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香
族化合物としては、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプト−5−メチルベン
ゾチアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾ
ール、2−メルカプトキノリン、8−メルカプトプリ
ン、2,3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオ
ール、4−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン、2
−メルカプト−4−フェニルオキサゾール等が挙げられ
るが、本発明はこれらに限定されない。
いは促進させ、現像を制御するため、現像前後の保存性
を向上させるため、また、前述の強式増感のように分光
増感効率を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジ
スルフィド化合物、チオン化合物を含有させることがで
きる。本発明にメルカプト化合物を使用する場合、いか
なる構造のものでもよいが、Ar−SM、Ar−S−S
−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは水素原子
またはアルカリ金属原子を表し、Arは1個以上の窒
素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム原子を
有する芳香環または縮合芳香環である複素芳香環を表
す。好ましくは、複素芳香環はベンゾイミダゾール、ナ
フスイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾー
ル、ベンゾオキサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾ
セレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オ
キサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、テトラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナ
ゾリノンである。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン
(例えば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カ
ルボキシ、アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好
ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアル
コキシ(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜
4個の炭素原子を有するもの)からなる置換基群から選
択されるものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香
族化合物としては、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプト−5−メチルベン
ゾチアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾ
ール、2−メルカプトキノリン、8−メルカプトプリ
ン、2,3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオ
ール、4−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン、2
−メルカプト−4−フェニルオキサゾール等が挙げられ
るが、本発明はこれらに限定されない。
【0081】(バインダー)本発明の熱現像記録材料に
用いられる好適なバインダーは透明または半透明で、一
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール)等)、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレ
タン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、
ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類等がある。親水性でも非親水性でもよい。
用いられる好適なバインダーは透明または半透明で、一
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール)等)、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレ
タン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、
ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類等がある。親水性でも非親水性でもよい。
【0082】また感光材料の表面を保護したり擦り傷を
防止するために、感光性層の外側に非感光性層を有する
ことができる。これらの非感光性層に用いられるバイン
ダーは感光性層に用いられるバインダーと同じ種類でも
異なった種類でもよい。
防止するために、感光性層の外側に非感光性層を有する
ことができる。これらの非感光性層に用いられるバイン
ダーは感光性層に用いられるバインダーと同じ種類でも
異なった種類でもよい。
【0083】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
ために感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【0084】(色調剤)本発明の熱現像記録材料におい
て、上述した各成分と共に色調剤、色調付与剤若しくは
付活剤トーナーと称せられる添加剤(以下色調剤と呼
ぶ)が使用されることが望ましい。色調剤は有機銀塩と
還元剤の酸化還元反応に関与して、生ずる銀画像を濃
色、特に黒色にする機能を有する。本発明に用いられる
好適な色調剤の例はResearch Disclos
ure第17029号に開示されており、次のものがあ
る。
て、上述した各成分と共に色調剤、色調付与剤若しくは
付活剤トーナーと称せられる添加剤(以下色調剤と呼
ぶ)が使用されることが望ましい。色調剤は有機銀塩と
還元剤の酸化還元反応に関与して、生ずる銀画像を濃
色、特に黒色にする機能を有する。本発明に用いられる
好適な色調剤の例はResearch Disclos
ure第17029号に開示されており、次のものがあ
る。
【0085】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウ
ム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジン
(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、及
びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−
フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナフトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジ
ン);及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,
6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−
2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好まし
い色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
イミド類、ピラゾリン−5−オン類及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウ
ム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジン
(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、及
びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−
フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナフトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジ
ン);及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,
6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−
2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好まし
い色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
【0086】(ハレーション防止染料)本発明において
は、感光層と支持体間及び/または感光層と反対面に染
料含有層を有することができる。該染料層に含有せしめ
る染料は露光光源波長に吸収を持つことが必要である
が、その吸収波形、化学構造は任意である。近赤外レー
ザーを光源に用いる場合、該染料層の透過吸収スペクト
ルは、750nmから830nmの間に吸収極大を有す
ることが好ましい。また、可視領域、近紫外領域の吸収
は少ない物が好ましい。
は、感光層と支持体間及び/または感光層と反対面に染
料含有層を有することができる。該染料層に含有せしめ
る染料は露光光源波長に吸収を持つことが必要である
が、その吸収波形、化学構造は任意である。近赤外レー
ザーを光源に用いる場合、該染料層の透過吸収スペクト
ルは、750nmから830nmの間に吸収極大を有す
ることが好ましい。また、可視領域、近紫外領域の吸収
は少ない物が好ましい。
【0087】上記の通り、本発明に使用可能な染料の構
造は、任意であるが、好ましく使用できる染料の例とし
て、特開平7−13295号に記載される染料化合物、
特開平8−278592号、特開平9−230531
号、特開平11−223898号に記載される染料、特
開平11−231464号に記載の色素、特表平9−5
09503号に記載のジヒドロペリミジンスクエア酸錯
体染料、特開平10−36695号、特開平10−10
4785号、特開平10−204310号に記載のジヒ
ドロペリミジンスクアリリウム染料、特開平10−10
4779号、特開平10−207002号に記載のスク
アリリウム染料、特開平7−102179号に記載のオ
キソノール化合物等が挙げられる。
造は、任意であるが、好ましく使用できる染料の例とし
て、特開平7−13295号に記載される染料化合物、
特開平8−278592号、特開平9−230531
号、特開平11−223898号に記載される染料、特
開平11−231464号に記載の色素、特表平9−5
09503号に記載のジヒドロペリミジンスクエア酸錯
体染料、特開平10−36695号、特開平10−10
4785号、特開平10−204310号に記載のジヒ
ドロペリミジンスクアリリウム染料、特開平10−10
4779号、特開平10−207002号に記載のスク
アリリウム染料、特開平7−102179号に記載のオ
キソノール化合物等が挙げられる。
【0088】また、本発明では2種以上の染料を併用す
ることも可能である。2種以上の染料を使用する際に
は、同一の染料層に含有せしめてもよく、また、別個の
染料層を設けても構わない。
ることも可能である。2種以上の染料を使用する際に
は、同一の染料層に含有せしめてもよく、また、別個の
染料層を設けても構わない。
【0089】これらの染料は、支持体を挟んで感光層と
反対側に設置した染料層に用いる場合、露光波長におけ
る染料層の吸収が0.3以上となる様な添加量で使用す
ることが好ましい。より好ましくは、同吸収が0.5以
上2未満、特に好ましくは同吸収が0.7以上1.5未
満となる様な添加量で使用する。また、これらの染料
を、支持体と感光層の間に設置した染料層に用いる場合
も、上記と同様の添加量で使用することが好ましい。
反対側に設置した染料層に用いる場合、露光波長におけ
る染料層の吸収が0.3以上となる様な添加量で使用す
ることが好ましい。より好ましくは、同吸収が0.5以
上2未満、特に好ましくは同吸収が0.7以上1.5未
満となる様な添加量で使用する。また、これらの染料
を、支持体と感光層の間に設置した染料層に用いる場合
も、上記と同様の添加量で使用することが好ましい。
【0090】また、これらの染料は、感光層に添加する
ことも可能である。感光層にこれらの染料を添加する際
には、露光波長における感光層の吸収が0.6未満とな
る様な添加量で使用することが好ましい。より好ましく
は、同吸収が0.5未満、特に好ましくは同吸収が0.
01以上0.4未満となる様な添加量で使用する。
ことも可能である。感光層にこれらの染料を添加する際
には、露光波長における感光層の吸収が0.6未満とな
る様な添加量で使用することが好ましい。より好ましく
は、同吸収が0.5未満、特に好ましくは同吸収が0.
01以上0.4未満となる様な添加量で使用する。
【0091】また、これらの染料の用法に関しては、好
ましく使用できる染料の例で挙げた特許群に記載されて
いる方法も利用できる。
ましく使用できる染料の例で挙げた特許群に記載されて
いる方法も利用できる。
【0092】(マット剤)本発明の熱現像記録材料に
は、必要に応じて、感光性層側またはその反対側にマッ
ト剤を含有することができる。本発明において用いられ
るマット剤の材質は、有機物及び無機物のいずれでもよ
い。例えば、無機物としては、スイス特許330,15
8号等に記載のシリカ、仏国特許1,296,995号
等に記載のガラス粉、英国特許1,173,181号等
に記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭
酸塩、等をマット剤として用いることができる。有機物
としては、米国特許2,322,037号等に記載の澱
粉、ベルギー特許625,451号や英国特許981,
198号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−36
43号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許3
30,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタ
アクリレート、米国特許3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許3,022,169
号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤
を用いることができる。
は、必要に応じて、感光性層側またはその反対側にマッ
ト剤を含有することができる。本発明において用いられ
るマット剤の材質は、有機物及び無機物のいずれでもよ
い。例えば、無機物としては、スイス特許330,15
8号等に記載のシリカ、仏国特許1,296,995号
等に記載のガラス粉、英国特許1,173,181号等
に記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭
酸塩、等をマット剤として用いることができる。有機物
としては、米国特許2,322,037号等に記載の澱
粉、ベルギー特許625,451号や英国特許981,
198号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−36
43号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許3
30,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタ
アクリレート、米国特許3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許3,022,169
号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤
を用いることができる。
【0093】本発明に用いられるマット剤は任意の構成
層中に含むことができるが、好ましくは感光性層以外の
構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最も外側
の層である。
層中に含むことができるが、好ましくは感光性層以外の
構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最も外側
の層である。
【0094】マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分
散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布
した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法
を用いてもよい。また複数の種類のマット剤を添加する
場合は、両方の方法を併用してもよい。
散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布
した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法
を用いてもよい。また複数の種類のマット剤を添加する
場合は、両方の方法を併用してもよい。
【0095】(帯電防止剤)本発明においては帯電性を
改良するために金属酸化物および/または導電性ポリマ
ーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができ
る。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好まし
くは下引層、バッキング層、感光性層と下引の間の層な
どに含有させる。本発明においては米国特許5,24
4,773号カラム14〜20に記載された導電性化合
物が好ましく用いられる。
改良するために金属酸化物および/または導電性ポリマ
ーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができ
る。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好まし
くは下引層、バッキング層、感光性層と下引の間の層な
どに含有させる。本発明においては米国特許5,24
4,773号カラム14〜20に記載された導電性化合
物が好ましく用いられる。
【0096】本発明の熱現像感光材料の塗布に用いられ
るすべての塗布液は、塗布前に濾過することが好まし
い。その濾過では、絶対濾過精度または準絶対濾過精度
が5〜50μmの濾材を少なくとも1回は通過させるこ
とが好ましい。
るすべての塗布液は、塗布前に濾過することが好まし
い。その濾過では、絶対濾過精度または準絶対濾過精度
が5〜50μmの濾材を少なくとも1回は通過させるこ
とが好ましい。
【0097】(層構成)本発明において、記録層(以
下、感光層ともいう)に隣接する保護層の乾燥膜厚が前
記記録層の膜厚の1/10〜1/2であることが好まし
く、1/5〜1/2であることがより好ましい。1/1
0未満ではカブリや現像ムラが劣化することがあり、ま
た1/2を越えると感度や画像の最高濃度が劣化するこ
とがある。
下、感光層ともいう)に隣接する保護層の乾燥膜厚が前
記記録層の膜厚の1/10〜1/2であることが好まし
く、1/5〜1/2であることがより好ましい。1/1
0未満ではカブリや現像ムラが劣化することがあり、ま
た1/2を越えると感度や画像の最高濃度が劣化するこ
とがある。
【0098】感光層、保護層及びバックコート層等本発
明の熱現像記録材料上に必要な各層を塗設する方法に特
に制限はなく、従来知られている、エアナイフコーティ
ング、ディップコーティング、バーコーティング、カー
テンコーティング、ホッパーコーティングなどの方法を
用いることができる。又、これらの層を2層以上同時に
塗布してもよい。塗布液の溶媒としてはメチルエチルケ
トン(MEK)、酢酸エチル、トルエンの様な有機溶媒
が好ましく用いられる。
明の熱現像記録材料上に必要な各層を塗設する方法に特
に制限はなく、従来知られている、エアナイフコーティ
ング、ディップコーティング、バーコーティング、カー
テンコーティング、ホッパーコーティングなどの方法を
用いることができる。又、これらの層を2層以上同時に
塗布してもよい。塗布液の溶媒としてはメチルエチルケ
トン(MEK)、酢酸エチル、トルエンの様な有機溶媒
が好ましく用いられる。
【0099】(塗布方法)本発明の熱現像記録材料の塗
布には、各層の塗布、乾燥を繰り返す逐次重層塗布方式
が挙げられ、リバースロールコーティング、グラビアロ
ールコーティング等のロール塗布方式、ブレードコーテ
ィング、ワイヤーバーコーティング、ダイコーティング
等が用いられる。また複数のコーターを用いて既塗布層
の乾燥前に次の層を塗布して複数層を同時に乾燥させた
り、スライドコーティング、カーテンコーティングや複
数のスリットを有するエクストルージョン型ダイコータ
ーを用いて、複数の塗布液を積層させて塗布する同時重
層塗布方式も用いられる。このうち後者が、外部より持
ち込まれる異物による塗布故障の発生を防止できる点で
より好ましい。さらに、同時重層塗布方式を用いる場合
は、層間での混合を生じさせないために、最上層の塗布
液の塗布時の粘度を0.1Pa・s以上とし、他の層の
塗布液の塗布時の粘度を0.03Pa・s以上とするこ
とが好ましい。また各層の塗布液で溶解していた固形分
が隣接する層と液体状で積層されると、隣接層の有機溶
媒に難溶又は不溶の場合、境界面で析出して塗膜の乱れ
や濁りを引き起こすので、各層の塗布液に最も多く含ま
れる有機溶剤が同種(各塗布液に共通に含有される有機
溶媒の各液における含有量が、他の有機溶媒よりも多
い)であることが好ましい。
布には、各層の塗布、乾燥を繰り返す逐次重層塗布方式
が挙げられ、リバースロールコーティング、グラビアロ
ールコーティング等のロール塗布方式、ブレードコーテ
ィング、ワイヤーバーコーティング、ダイコーティング
等が用いられる。また複数のコーターを用いて既塗布層
の乾燥前に次の層を塗布して複数層を同時に乾燥させた
り、スライドコーティング、カーテンコーティングや複
数のスリットを有するエクストルージョン型ダイコータ
ーを用いて、複数の塗布液を積層させて塗布する同時重
層塗布方式も用いられる。このうち後者が、外部より持
ち込まれる異物による塗布故障の発生を防止できる点で
より好ましい。さらに、同時重層塗布方式を用いる場合
は、層間での混合を生じさせないために、最上層の塗布
液の塗布時の粘度を0.1Pa・s以上とし、他の層の
塗布液の塗布時の粘度を0.03Pa・s以上とするこ
とが好ましい。また各層の塗布液で溶解していた固形分
が隣接する層と液体状で積層されると、隣接層の有機溶
媒に難溶又は不溶の場合、境界面で析出して塗膜の乱れ
や濁りを引き起こすので、各層の塗布液に最も多く含ま
れる有機溶剤が同種(各塗布液に共通に含有される有機
溶媒の各液における含有量が、他の有機溶媒よりも多
い)であることが好ましい。
【0100】重層塗布後はできるだけ早く乾燥されるこ
とが好ましく、流動、拡散、密度差等に起因する層間混
合を避けるため10秒以内で乾燥工程に至るのが望まし
い。乾燥方式については、熱風乾燥方式、赤外線乾燥方
式などが用いられ、特に熱風乾燥方式が好ましい。その
時の乾燥温度は30〜100℃が好ましい。
とが好ましく、流動、拡散、密度差等に起因する層間混
合を避けるため10秒以内で乾燥工程に至るのが望まし
い。乾燥方式については、熱風乾燥方式、赤外線乾燥方
式などが用いられ、特に熱風乾燥方式が好ましい。その
時の乾燥温度は30〜100℃が好ましい。
【0101】本発明の熱現像感光材料は、塗布乾燥直後
に目的のサイズに断裁後、包装されてもよいし、ロール
状に巻き取り、断裁・包装する前に一時保管してもよ
い。巻き取り方式は特に限定されないが、張力制御によ
る巻き取りが一般的に用いられる。
に目的のサイズに断裁後、包装されてもよいし、ロール
状に巻き取り、断裁・包装する前に一時保管してもよ
い。巻き取り方式は特に限定されないが、張力制御によ
る巻き取りが一般的に用いられる。
【0102】(支持体)本発明の熱現像記録材料に用い
られる支持体は現像処理後の画像の変形を防ぐためにプ
ラスチックフィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セル
ローストリアセテート、ポリエチレンナフタレート)で
あることが好ましい。
られる支持体は現像処理後の画像の変形を防ぐためにプ
ラスチックフィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セル
ローストリアセテート、ポリエチレンナフタレート)で
あることが好ましい。
【0103】中でも好ましい支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート(以下PETと略す)及びシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラス
チック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられる。支
持体の厚みとしては通常50〜300μmであり、好ま
しくは70〜180μmである。また熱処理したプラス
チック支持体を用いることもできる。採用するプラスチ
ックとしては、前記のプラスチックが挙げられる。支持
体の熱処理とはこれらの支持体を製膜後、感光性層が塗
布されるまでの間に、支持体のガラス転移点より通常3
0℃以上高い温度で、好ましくは35℃以上高い温度
で、より好ましくは40℃以上高い温度で加熱すること
がよい。
レンテレフタレート(以下PETと略す)及びシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラス
チック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられる。支
持体の厚みとしては通常50〜300μmであり、好ま
しくは70〜180μmである。また熱処理したプラス
チック支持体を用いることもできる。採用するプラスチ
ックとしては、前記のプラスチックが挙げられる。支持
体の熱処理とはこれらの支持体を製膜後、感光性層が塗
布されるまでの間に、支持体のガラス転移点より通常3
0℃以上高い温度で、好ましくは35℃以上高い温度
で、より好ましくは40℃以上高い温度で加熱すること
がよい。
【0104】次に、支持体に用いられるプラスチックに
ついて説明する。PETはポリエステルの成分が全てポ
リエチレンテレフタレートからなるものであるが、ポリ
エチレンテレフタレート以外に、酸成分としてテレフタ
ル酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸、イソフタル
酸、ブチレンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、アジピン酸等、グリコール成分としてエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール等の変性ポリエステル
成分が、全ポリエステルの10モル%以下含まれたポリ
エステルであってもよい。
ついて説明する。PETはポリエステルの成分が全てポ
リエチレンテレフタレートからなるものであるが、ポリ
エチレンテレフタレート以外に、酸成分としてテレフタ
ル酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸、イソフタル
酸、ブチレンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、アジピン酸等、グリコール成分としてエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール等の変性ポリエステル
成分が、全ポリエステルの10モル%以下含まれたポリ
エステルであってもよい。
【0105】SPSは通常のポリスチレン(アタクチッ
クポリスチレン)と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。SPSの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、2連鎖、3連鎖、5連鎖、あるい
はそれ以上の規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で85%以
上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上、それ以
上の連鎖で30%以上であることが好ましい。SPSの
重合は特開平3−131843号に記載の方法に準じて
行うことができる。
クポリスチレン)と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。SPSの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、2連鎖、3連鎖、5連鎖、あるい
はそれ以上の規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で85%以
上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上、それ以
上の連鎖で30%以上であることが好ましい。SPSの
重合は特開平3−131843号に記載の方法に準じて
行うことができる。
【0106】本発明に用いられる支持体の製膜方法及び
下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好
ましくは、特開平9−50094号の段落〔0030〕
〜〔0070〕に記載された方法を用いることである。
下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好
ましくは、特開平9−50094号の段落〔0030〕
〜〔0070〕に記載された方法を用いることである。
【0107】
【実施例】以下に、本発明を実施例を挙げて具体的に説
明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもの
ではない。
明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもの
ではない。
【0108】〈下引済みPET支持体の作製〉市販の2
軸延伸熱固定済みの厚さ125μmのPETフィルムの
両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、一方の
面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになる
ように塗設し乾燥させて下引層A−1とし、また反対側
の面に下記帯電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜
厚0.8μmになるように塗設し乾燥させて帯電防止加
工下引層B−1とした。
軸延伸熱固定済みの厚さ125μmのPETフィルムの
両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、一方の
面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになる
ように塗設し乾燥させて下引層A−1とし、また反対側
の面に下記帯電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜
厚0.8μmになるように塗設し乾燥させて帯電防止加
工下引層B−1とした。
【0109】 下引塗布液a−1 ブチルアクリレート(30質量%),t−ブチルアクリレート(20質量%) ,スチレン(25質量%),2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1lに仕上げる 下引塗布液b−1 SnO2/Sb(9/1質量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30質量%)スチレン(20質量%)グリシジルアクリ レート(40質量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる (支持体の熱処理)上記の下引済み支持体の下引乾燥工
程において、支持体を140℃で加熱し、その後徐々に
冷却した。
程において、支持体を140℃で加熱し、その後徐々に
冷却した。
【0110】(染料含有層の塗布)支持体の下引き層B
−1の上に下記組成の染料含有層塗布液1を乾燥質量が
4.2g/m2になるよう塗布し、55℃で30分乾燥
しバックコート層とした。
−1の上に下記組成の染料含有層塗布液1を乾燥質量が
4.2g/m2になるよう塗布し、55℃で30分乾燥
しバックコート層とした。
【0111】 (染料含有層塗布液1) 2−ブタノン 40g CAB381−20 (イーストマンケミカル社製セルロースアセテートブチレート) 1.7g CAB553−0.4 (イーストマンケミカル社製セルロースアセテートプロピレート)1.7g マルカリンカーPHMC (丸善石油化学社製ポリヒドロキシスチレン) 0.3g 染料D−1 32mg ポリエステル樹脂バイテル2200B 200mg マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 45mg C8F17(CH2CH2O)12C8F17 200mg C9F19−C6H4−SO3Na 75mg
【0112】
【化19】
【0113】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900m
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩
を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を
銀1モル当たり1×10-6モルを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを0.3g添加し、NaOHでpHを
8、pAg6.5に調整することで還元増感を行い平均
粒子サイズ0.06μm、単分散度10%の投影直径面
積の変動係数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃
臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて
凝集沈降させ脱塩処理を行ってハロゲン化銀乳剤Aを得
た。
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩
を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を
銀1モル当たり1×10-6モルを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを0.3g添加し、NaOHでpHを
8、pAg6.5に調整することで還元増感を行い平均
粒子サイズ0.06μm、単分散度10%の投影直径面
積の変動係数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃
臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて
凝集沈降させ脱塩処理を行ってハロゲン化銀乳剤Aを得
た。
【0114】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液9
8mlを添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた
後、55℃に冷却して30分攪拌させてベヘン酸Na溶
液を得た。
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液9
8mlを添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた
後、55℃に冷却して30分攪拌させてベヘン酸Na溶
液を得た。
【0115】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aからの
プレフォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前
記ハロゲン化銀乳剤Aを1.51g(銀量として)添加
し水酸化ナトリウム溶液でpH8.1に調整した後に1
モル/Lの硝酸銀溶液147mlを7分間かけて加え、
さらに20分攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去し
た。できたベヘン酸銀は平均粒子サイズ0.8μm、単
分散度8%の粒子であった。分散物のフロックを形成
後、水を取り除き、更に6回の水洗と水の除去を行った
後乾燥させ、プレフォーム乳剤とした。
プレフォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前
記ハロゲン化銀乳剤Aを1.51g(銀量として)添加
し水酸化ナトリウム溶液でpH8.1に調整した後に1
モル/Lの硝酸銀溶液147mlを7分間かけて加え、
さらに20分攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去し
た。できたベヘン酸銀は平均粒子サイズ0.8μm、単
分散度8%の粒子であった。分散物のフロックを形成
後、水を取り除き、更に6回の水洗と水の除去を行った
後乾燥させ、プレフォーム乳剤とした。
【0116】(感光性乳剤1の調製)できあがったプレ
フォーム乳剤に、ポリビニルブチラール(平均分子量3
000)のメチルエチルケトン溶液(17質量%)54
4gとトルエン107gを徐々に添加して混合した後
に、0.5mmサイズのZrO2のビーズミルを用いた
メディア分散機で4000psiで分散し感光性乳剤1
を調製した。
フォーム乳剤に、ポリビニルブチラール(平均分子量3
000)のメチルエチルケトン溶液(17質量%)54
4gとトルエン107gを徐々に添加して混合した後
に、0.5mmサイズのZrO2のビーズミルを用いた
メディア分散機で4000psiで分散し感光性乳剤1
を調製した。
【0117】前記支持体上に下記の各層を両面同時塗布
し、熱現像記録材料試料を作製した。
し、熱現像記録材料試料を作製した。
【0118】(感光層面側塗布)支持体の下引き層A−
1の上に以下の組成の感光層塗布液と保護層塗布液を,
表面保護層が最上層となるよう同時重層塗布した。その
際、感光層塗布液は塗布銀量が1.5g/m2になる様
に塗布した。尚、乾燥は60℃、15分間で行った。
1の上に以下の組成の感光層塗布液と保護層塗布液を,
表面保護層が最上層となるよう同時重層塗布した。その
際、感光層塗布液は塗布銀量が1.5g/m2になる様
に塗布した。尚、乾燥は60℃、15分間で行った。
【0119】 (感光層塗布液組成) 感光性乳剤1 240g 増感色素1(0.1%メタノール溶液) 1.7ml かぶり防止剤1(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液) 9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml フタラジン 0.6g 硬調化剤(表1記載の化合物) 表1記載の量 シラン化合物(表1記載の化合物) 表1記載の量 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 安定剤1 0.2g 熱作用性還元剤A−4(20%メタノール溶液) 29.5ml イソシアネート化合物(モーベイ社製、Desmodur N3300) 0.5g
【0120】
【化20】
【0121】 (保護層塗布液組成) アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 CAB−381−20 (イーストマンケミカル社製 セルロースアセテートブチレート) 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 ビニルスルホン化合物HD−1 38mg/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 70mg/m2 C8F17(CH2CH2O)12C8F17 20mg/m2 C9F19−C6H4−SO3Na 10mg/m2
【0122】
【化21】
【0123】(露光、熱現像)上記で作製した熱現像記
録材料を5cm×15cmに切断して23℃、50%R
Hの条件で12時間調湿した後、酸素と水分を透過しな
いバリア袋に入れて、経時代用サーモとして40℃3日
間加温した。その後、780nmの半導体レーザーを搭
載したイメージセッター機であるサイテックス社製Do
lev 2dryを用いて露光を行った。露光パターン
は、露光エネルギーを0.1logEずつ変化させるス
テップ露光とし、各サンプルの現像後最高濃度が飽和す
るエネルギー量までをカバーするように行った。熱現像
は120℃で25秒行った。
録材料を5cm×15cmに切断して23℃、50%R
Hの条件で12時間調湿した後、酸素と水分を透過しな
いバリア袋に入れて、経時代用サーモとして40℃3日
間加温した。その後、780nmの半導体レーザーを搭
載したイメージセッター機であるサイテックス社製Do
lev 2dryを用いて露光を行った。露光パターン
は、露光エネルギーを0.1logEずつ変化させるス
テップ露光とし、各サンプルの現像後最高濃度が飽和す
るエネルギー量までをカバーするように行った。熱現像
は120℃で25秒行った。
【0124】(評価方法) (カブリ(Dmin)、最高濃度(Dmax)、感度)
上記で露光及び熱現像処理した熱現像記録材料試料の未
露光部分の濃度(カブリ、Dmin)と、露光部分の最
高濃度(Dmax)を透過型濃度計で測定した。また、
透過濃度3.0を与える露光エネルギー量を感度とし、
熱現像記録材料試料1のエネルギー量を100とした時
の相対感度で比較した。
上記で露光及び熱現像処理した熱現像記録材料試料の未
露光部分の濃度(カブリ、Dmin)と、露光部分の最
高濃度(Dmax)を透過型濃度計で測定した。また、
透過濃度3.0を与える露光エネルギー量を感度とし、
熱現像記録材料試料1のエネルギー量を100とした時
の相対感度で比較した。
【0125】(画像ムラ)上記で露光及び熱現像処理し
た熱現像記録材料試料の濃度1になるところの画像ムラ
を目視で5段階評価した。
た熱現像記録材料試料の濃度1になるところの画像ムラ
を目視で5段階評価した。
【0126】 5:画像ムラが全く認められない 4:画像ムラが僅かに認められる 3:画像ムラが若干認められるが実用可 2:画像ムラが目立ち実用不可 1:画像ムラが明らかに目立つ 以上の経過および結果を1に示す。
【0127】
【表1】
【0128】*1:試料21は、硬調化剤Hz601、
0.02モル/モルAg、およびシラン化合物38、
0.002モル/モルAgを感光層の保護層に更に添加
した他は試料15と同じにして作製した試料である。
0.02モル/モルAg、およびシラン化合物38、
0.002モル/モルAgを感光層の保護層に更に添加
した他は試料15と同じにして作製した試料である。
【0129】表1から明らかなように、本発明の試料は
画像ムラが発生せず、かつカブリが抑制され、感度、最
高濃度が優れた硬調な画像を与えることがわかる。
画像ムラが発生せず、かつカブリが抑制され、感度、最
高濃度が優れた硬調な画像を与えることがわかる。
【0130】
【発明の効果】本発明により、熱現像にて特に画像ムラ
が発生しにくく、かつカブリが抑制され、感度、最高濃
度が優れた硬調な熱現像記録材料を提供できる。
が発生しにくく、かつカブリが抑制され、感度、最高濃
度が優れた硬調な熱現像記録材料を提供できる。
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体上に、非感光性有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層を
有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣接
する層から選ばれる少なくとも1層に、下記一般式
(1)または(2)で表される硬調化剤と、下記一般式
(7)または(8)で表されるシラン化合物を含有する
ことを特徴とする熱現像記録材料。 【化1】 〔式中、R11およびR12のうち、いずれかがヒドロキシ
基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、−OM(Mは金属原子を表す)、−SM(Mは
金属原子)、−SH、−SR13(R13は一価の置換基を
表す)、−NH2、−NHR14(R14は一価の置換基を
表す)または−NR15R16(R15、R16はそれぞれ一価
の置換基を表し、これらが連結して環を形成してもよ
い)を表し、残る他方が水素原子を表す。L11は−(C
=O)−または−(SO2)−を表し、L12は5員環を
形成するのに必要な連結基を表す。〕 【化2】 〔式中、R21は一価の置換基を表し、R22は水素原子、
アルキル基、ヘテロ環基またはアルケニル基を表す。n
21およびn22はそれぞれ0または1を表す。〕 【化3】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は
各々置換されてもよいアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、L 1、
L2、L3及びL4は2価の連結基を表し、m及びnは1
〜3の整数を表し、m+nは4であり、p1及びp2は
1〜3の整数であり、q1及びq2は0、1又は2であ
り、p1+q1及びp2+q2は3であり、r1及びt
は0又は1〜1000の整数を表す。〕 - 【請求項2】 支持体上に、非感光性有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀および熱作用性還元剤を含有する記録層を
有する熱現像記録材料において、該層および該層に隣接
する層から選ばれる少なくとも1層に、下記一般式
(3)、(4)、(5)または(6)で表される硬調化
剤と、前記一般式(7)または(8)で表されるシラン
化合物を含有することを特徴とする熱現像記録材料。 【化4】 〔式中、R31およびR32のうち、いずれかがヒドロキシ
基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基または−OM(Mはアルカリ金属を表す)を表
し、残る他方が、水素原子またはアルキル基を表す。R
33〜36は一価の置換基を表し、R33〜36はそれぞれ隣り
合う置換基と結合して環を形成してもよい。L31は−
(C=O)−または−(SO2)−を表し、L32は−O
−、−S−、−NR37−(R37は水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す)または−CR 38R39−(R38
およびR39はそれぞれ水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表す)を表す。〕 【化5】 〔式中、R41およびR42のうち、いずれかがヒドロキシ
基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基または−OM(Mはアルカリ金属を表す)を表
し、残る他方が水素原子またはアルキル基を表す。R43
〜46は一価の置換基を表し、R43〜46はそれぞれ隣り合
う置換基と結合して環を形成してもよい。L 41は−(C
=O)−または−(SO2)−を表し、L42は−O−、
−S−、−NR47−(R47は水素原子、アルキル基また
はアリール基を表す)または−CR48R49−(R48、R
49はそれぞれ水素原子、アルキル基またはアリール基を
表す)を表す。〕 【化6】 〔式中、R51は一価の置換基を表す。〕 【化7】 〔式中、R61はアルキル基を表し、R62はアルケニル基
またはヘテロ環基を表す。〕 - 【請求項3】 記録層に隣接する保護層の乾燥膜厚が前
記記録層の膜厚の1/2〜1/10であることを特徴と
する請求項1または2に記載の熱現像記録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000364849A JP2002169247A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 熱現像記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000364849A JP2002169247A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 熱現像記録材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002169247A true JP2002169247A (ja) | 2002-06-14 |
Family
ID=18835714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000364849A Pending JP2002169247A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 熱現像記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002169247A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115160644A (zh) * | 2022-07-08 | 2022-10-11 | 福建汇得新材料有限公司 | 一种成核润滑剂及其制备方法和应用 |
-
2000
- 2000-11-30 JP JP2000364849A patent/JP2002169247A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115160644A (zh) * | 2022-07-08 | 2022-10-11 | 福建汇得新材料有限公司 | 一种成核润滑剂及其制备方法和应用 |
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