JP2002196697A - 表示パネル及び基板結合方法 - Google Patents

表示パネル及び基板結合方法

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JP2002196697A JP2000396131A JP2000396131A JP2002196697A JP 2002196697 A JP2002196697 A JP 2002196697A JP 2000396131 A JP2000396131 A JP 2000396131A JP 2000396131 A JP2000396131 A JP 2000396131A JP 2002196697 A JP2002196697 A JP 2002196697A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 素子破壊が発生しない構成を有する表示パネ
ルを提供する。 【解決手段】 画像表示部1は、TFT基板5と対向基
板6との間に封入された液晶54と、液晶54に電圧を
印加して画像を表示させるための共通電極11及び画素
電極12と、を備える。ゲートドライバ2及びドレイン
ドライバ3は、TFT基板5と対向基板6との間に形成
され、画素電極12に電圧を供給する。シール部4は、
TFT基板5と対向基板6との間隔を一定に保つギャッ
プ材42を含むシール材41から形成され、TFT基板
5と対向基板6とを接着して液晶54を封入する。ま
た、ゲートドライバ2は、多層構造を有する多層素子が
形成された多層領域と、多層素子以外の素子が形成され
た非多層領域とを有し、シール部4は、少なくとも多層
領域にかからないように、画像表示部1、ゲートドライ
バ2、及び、ドレインドライバ3の周囲に形成されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示パネルに関す
る。また、本発明は、1対の基板を結合する方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の液晶表示パネルは、図20に示す
ように、1対の基板間に封入された液晶に所定の電圧を
印加することにより画像を表示する。上記1対の基板は
画像表示領域の周りに充填されたシール材により接着
(結合)され、これにより、液晶が1対の基板間に封入
されている。
【0003】また、上記シール材は所定サイズのギャッ
プ材を含んでおり、このギャップ材により1対の基板間
の距離が一定に保たれている。このような液晶表示パネ
ルは、未硬化のシール材を塗布した一方の基板に他方の
基板を貼り合わせて押しつけながらシール材を硬化させ
ることにより基板間距離がほぼギャップ材の径にして接
合している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、画像表示用の
電圧を液晶に印加するためのTFT(Thin Film Transi
stor)及びTFT信号を供給する配線からなる駆動回路
が基板のシール材塗布領域の外側に設置されている場
合、一方の基板が駆動回路及び配線が設けられる領域の
分だけ他方の基板より大きくなり液晶表示パネル自体が
多くなってしまうといった問題があった。また、駆動回
路が外に剥き出しになるため破壊されやすい構造となっ
ていた。
【0005】これらを解消するために図21に示すよう
に液晶表示パネルを小型にするために駆動回路をシール
材内部に設けるとシール材中のギャップ材が駆動回路を
破壊してしまう場合がある。
【0006】上記駆動回路を構成する素子の中には、複
数の層(膜)から形成された多層素子(TFTや容量
等)群が存在し、多層素子と多層素子に信号を入力また
は出力するための配線が複雑に混在していた。このよう
な多層素子は一般に配線と比べても高く突出しているの
で駆動回路が設けられた基板と対向基板との間では多層
素子と対向基板との距離が最も短いため多層素子上にギ
ャップ材が乗り上げると圧着する際に多層素子が破壊さ
れてしまう場合がある。
【0007】また、多層素子の頭頂点が配線と同じ程度
の高さに位置したとしても配線は剛性のある金属で形成
されているのでギャップ材の押しつけに対して断線しに
くいが、多層素子は金属の他にシリコン窒化物等の絶縁
膜やアモルファスシリコンやポリシリコン等の半導体膜
により構成しているため、押しつぶされることにより破
壊されやすい。このように、多層素子が破壊されてしま
うと、液晶表示パネルは正常に動作することができな
い。結果として、従来の液晶表示パネルは、高い歩留ま
りを実現することができない。
【0008】従って、本発明の第1の観点は、小型化可
能な表示パネルを提供することを目的とする。また、本
発明の第2の観点は、素子破壊が発生しない構成を有す
る表示パネルを提供することを目的とする。さらに、本
発明の第3の観点は、高い歩留まりを実現する小型化可
能な基板の結合方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第1の観点にかかる表示パネルは、1対の
基板間に複数の画素を有する光学的手段と、該光学的手
段に所定の電圧を印加するために該1対の基板の一方の
基板上に形成された信号線と、を備える表示手段と、前
記一方の基板上に形成された複数の層から形成される多
層素子を有し、前記信号線に所定の電圧を供給する駆動
手段と、前記多層素子に所定の電圧を印加するための配
線が設けられる領域の少なくとも一部に重なるように充
填され、前記1対の基板を貼り合わせる結合材と、から
構成されることを特徴とする。この発明によれば、結合
材を配線領域の少なくとも一部と重ねるのでその分基板
面積を縮小できるといった効果をもたらす。
【0010】前記結合材は、前記表示手段及び前記駆動
手段の全体を囲むように、該表示手段及び該駆動手段の
周囲に充填されていてもよい。
【0011】前記配線には、クロック信号又は定電圧が
印加されてもよい。
【0012】前記多層素子は、アクティブ素子であって
もよい。
【0013】前記結合材は、前記1対の基板間を所定距
離に保持する距離保持材を含んでもよい。
【0014】本発明の第1の観点にかかる他の表示パネ
ルは、一対の基板と、前記一対の基板間に封入された液
晶と、前記一対の基板の一方に設けられた画素電極と、
前記画素電極に接続された画素用トランジスタと、前記
画素用トランジスタに出力信号を供給する駆動用トラン
ジスタと、前記駆動用トランジスタに電圧を印加するた
めに、前記一対の基板の一方に設けられた配線と、前記
一対の基板を貼り合わせ、前記配線の少なくとも一部の
上方に設けられたシール材と、から構成されることを特
徴とする。
【0015】前記配線には、クロック信号又は定電圧が
印加されてもよい。
【0016】前記シール材には、ギャップ材が混在して
いてもよい。
【0017】前記駆動用トランジスタは、前記画素用ト
ランジスタと同一工程で形成されてもよい。
【0018】前記駆動用トランジスタは、シフトレジス
タを構成していてもよい。
【0019】本発明の第2の観点にかかる表示パネル
は、一対の基板と、前記一対の基板間に封入された液晶
と、前記一対の基板の少なくとも一方に設けられた電極
と、前記液晶を囲み、前記一対の基板を貼り合わせたシ
ール材と、前記シール材に囲まれ前記電極に信号を供給
するシフトレジスタを構成するトランジスタと、から構
成されることを特徴とする表示パネル。
【0020】本発明によればシフトレジスタを構成する
トランジスタは、液晶とともにシール材により囲まれ保
護されているので破壊を防止することができる。
【0021】前記トランジスタは前記一対の基板間距離
よりも低い高さであってもよい。
【0022】前記トランジスタに信号を供給する配線
は、前記シール材の下方に配置されてもよい。
【0023】前記配線から供給される信号は、前記シフ
トレジスタの奇数段又は偶数段を構成するトランジスタ
へのクロック信号を含んでもよい。
【0024】本発明の第3の観点にかかる基板結合方法
は、液晶に所定の電圧を印加して画像を表示させるため
の信号線が形成された表示領域と、該信号線に所定の電
圧を供給する駆動回路が形成された回路領域と、を有す
る第1基板上の所定領域に結合材を充填する充填工程
と、前記結合材が充填された前記第1基板上に第2基板
を載置し、圧力を加えることにより該第1基板と該第2
基板とを結合する結合工程と、を備え、前記駆動回路
は、複数の層から形成される多層素子と、該多層素子に
接続され外部からの信号を供給するための配線と、から
形成され、前記結合材は、前記第1基板と前記第2基板
との間を所定距離に保持する距離保持材を含み、前記結
合工程は、前記結合材が、少なくとも前記配線の形成領
域の少なくとも一部に重なり且つ前記多層素子に重なら
ないように前記第1基板と前記第2基板とを結合する工
程を備える、ことを特徴とする。
【0025】本発明によれば、結合工程において、距離
保持材が多層素子に接触することがないので破壊を防止
し高い歩留まりを実現することができるとともに結合材
が配線の形成領域の少なくとも一部に重なるので重なり
分だけ基板面積を縮小できる。
【0026】
【発明の実施の形態】次に、本発明の第1の実施の形態
にかかる液晶表示パネルについて図面を参照して説明す
る。
【0027】第1の実施の形態にかかる液晶表示パネル
は、例えばアクティブマトリックス駆動型の表示パネル
であり、1対の基板間に形成された様々な回路等により
構成されている。
【0028】具体的には、図1(a)及び(b)に示す
ように、画像表示部1、ゲートドライバ2、ドレインド
ライバ3、及び、シール部4が、TFT基板5とカラー
フィルタが設けられた対向基板6との間に形成されてい
る。なお、図1(b)は、図1(a)のA−A’断面図
である。
【0029】画像表示部1は、対向基板6上に形成され
た透明な共通電極11と、TFT基板5上にマトリック
ス状に形成された複数の画素電極12と、各画素電極1
2に個別に電圧を印加するためのTFT13と、TFT
基板5と対向基板6との間に封入された液晶(光学的手
段)54と、から形成されている。
【0030】また、TFT基板5上には、TFT13の
ゲートに所定の電圧を供給するためのゲートライン(信
号線)14が行方向に形成され、TFT13のソースに
所定の電圧を供給するためのドレインライン(信号線)
15が列方向に形成されている。
【0031】ゲートドライバ2は、TFT基板5上に形
成され、画像表示部1のゲートライン14に接続されて
いる。ゲートドライバ2は、例えばシフトレジスタであ
り、トランジスタ(TFT)や容量等のように導電膜及
び絶縁膜が積層された多層構造を有する素子(多層素
子)、抵抗のように1つの層から形成された単層素子、
及び、信号や電源の供給路となる配線等から形成され、
TFT13を行毎に順次走査する。具体的には、ゲート
ドライバ2は、図示せぬ制御回路から供給される制御信
号等に従って、ゲートライン14に所定の電圧を供給
し、マトリックス状に配置されたTFT13を行毎に順
次オンする。
【0032】ドレインドライバ3は、単結晶シリコンか
らなる集積回路チップでありTFT基板5上に形成さ
れ、画像表示部1のドレインライン15に接続されてい
る。ドレインドライバ3は、図示せぬ制御回路から供給
される制御信号等に従って、ドレインライン15に所定
の電圧を供給する。これにより、行毎に順次導通状態と
なる上記画素電極12のそれぞれに所定の電圧が印加さ
れ、所定の画像が表示される。
【0033】シール部4は、図1(a)に示すように、
画像表示部1及びゲートドライバ2を囲むように形成さ
れている。シール部4は、TFT基板5と対向基板6と
を結合(接着)させるシール材41から形成され、液晶
54を基板間に封止する。また、シール材41は、所定
サイズのギャップ材42を複数含んでおり、TFT基板
5と対向基板6との間隔を一定に保つ。なお、ギャップ
材42のサイズは、TFT基板5と対向基板6との間隔
に応じて設定される。
【0034】上記構成の液晶表示パネルを製造する際、
TFT基板5と対向基板6との圧着工程で、シール材4
1に含まれるギャップ材42がゲートドライバ2の多層
素子に乗り上げないようにしなければならない。
【0035】ギャップ材42が多層素子上に乗っている
と、TFT基板5と対向基板6とを結合する際の圧力に
より、多層素子が破壊されてしまう場合がある。多層素
子の中でも、TFT等のアクティブ素子は、結合時の圧
力により層の間隔が変化し、その特性が大きく変化して
しまう。従って、多層素子、特にアクティブ素子上にギ
ャップ材42が乗り上げないようにしなければならな
い。
【0036】例えば、シール材41が充填されたTFT
基板5上に対向基板6を載置して圧着する場合、図2
(a)及び(b)に示すように、圧着工程によりシール
材41(シール部4)の領域が広がる。このため、TF
T基板5上にシール材41を充填する際には、図3に示
すように、シール材41の充填領域とゲートドライバ2
との間にマージン(例えば0.19(mm)程度)を設
ける。これにより、上記圧着工程でギャップ材42がゲ
ートドライバ2の多層素子に乗り上げて破壊してしまう
ことを防止できる。
【0037】なお、TFT基板5上にシール材41を充
填する際、上記と同様に、シール材41の充填領域と画
像表示部1及びドレインドライバ3との間にマージンを
設けてもよい。このようにすると、上記圧着工程でギャ
ップ材42が画像表示部1及びドレインドライバ3の回
路上に乗り上げてしまうことを防止できる。
【0038】以上のように、シール部4が画像表示部
1、ゲートドライバ2、及び、ドレインドライバ3に重
ならないように形成されているため、ギャップ材42が
画像表示部1、ゲートドライバ2、及び、ドレインドラ
イバ3の回路上に乗り上げてしまうことがない。即ち、
画像表示部1、ゲートドライバ2、及び、ドレインドラ
イバ3の回路を、上記圧着工程で破損してしまうことを
防止できる。これにより、液晶表示パネルの高い歩留ま
りを実現することができる。
【0039】次に、本発明の第2の実施の形態にかかる
液晶表示パネルについて図面を参照して説明する。図4
は、この実施の形態にかかる液晶表示パネルを備えたデ
ジタルスチルカメラの外観を示す斜視図である。図示す
るように、このデジタルスチルカメラは、カメラ本体部
101とレンズユニット部102とから構成されてい
る。
【0040】カメラ本体部101は、その正面に表示部
110と、モード設定キー112aとを備える。モード
設定キー112aは、画像を撮影し、後述する画像メモ
リに記録する撮影モードと、記録された画像を再生する
再生モードとの切り換えを行うためのキーである。表示
部110は、液晶表示装置によって構成され、撮影モー
ド時には撮影前にレンズで捉えている画像を表示する
(モニタリングモード)ためのビューファインダとして
機能し、再生モード時には記録された画像を表示するた
めのディスプレイとして機能する。表示部110の構成
については、詳しく後述する。
【0041】カメラ本体部101は、また、その上面に
電源キー111と、シャッターキー112bと、「+」
キー112cと、「−」キー112dと、シリアル入出
力端子113とを備える。電源キー111は、スライド
操作することによって、デジタルスチルカメラの電源を
オン/オフするためのキーである。
【0042】シャッターキー112bは、撮影モード時
に画像の記録を指示すると共に、再生モード時に選択内
容の決定を指示するためのキーである。「+」キー11
2c及び「−」キー112dは、再生モード時に画像メ
モリに記録されている画像データから表示部110に表
示するための画像データを選択したり、記録/再生時の
条件設定のために用いられる。シリアル入出力端子11
3は、外部の装置(パーソナルコンピュータ、プリンタ
など)との通信を行うためのケーブルを挿入するための
端子である。
【0043】レンズユニット部102は、撮影すべき画
像を結像するレンズを図の背面側に備える。レンズユニ
ット部102は、カメラ本体部101に結合した軸にを
中心に上下方向に360°回動可能に取り付けられてい
る。
【0044】図5は、図4のデジタルスチルカメラの回
路構成を示すブロック図である。図示するように、この
デジタルスチルカメラの回路は、表示部110と、キー
入力部112a、112b、112c、112dと、マ
トリクス状に複数の撮像画素が配列され、受光した光の
強度によって電荷を蓄積するCCD(Charge Coupled D
evice)121と、サンプルホールド回路122と、A
/D変換器123と、垂直ドライバ124と、タイミン
グジェネレータ125と、カラープロセス回路126
と、DMAコントローラ127と、DRAM128と、
記録用メモリ130と、キー入力部112a、112
b、112c、112dからのコマンドに従ってに格納
されたプログラムを実行し、デジタルスチルカメラの各
回路部を制御するCPU(Central Processing Unit)
131と、画像圧縮伸長回路132と、VRAMコント
ローラ133と、VRAM134と、デジタルビデオエ
ンコーダ135と、シリアル入出力端子113とを備え
る。
【0045】撮影モードにおける上記回路の動作状態を
説明する。撮影モードには2つの動作モードがあり、撮
影した画像を表示部110にて表示するモニタリングモ
ードと、撮影した画像を画像データとして記録する画像
記録モードと、に分けられる。
【0046】モニタリングモードでは、CPU131が
予め設定された撮像周期毎にタイミングジェネレータ1
25及びカラープロセス回路126を制御によりCCD
121を駆動し、CCD121は垂直ドライバ124か
ら出力された駆動信号Spに基づいて撮影した画像の光
量に応じて変換された電気信号Seをサンプルホールド
回路122に順次出力する。
【0047】サンプルホールド回路122は、この電気
信号Seのうちの実効部分Se’をA/D変換器123
に出力する。A/D変換器123は、実効部分Se’を
デジタルデータSdに変換してカラープロセス回路12
6に出力し、カラープロセス回路126は、デジタルデ
ータSdから輝度/色差デジタルデータであるYUVデ
ータをDMAコントローラ127に出力する。DMAコ
ントローラ127は、YUVデータをDRAM128に
記録・更新する。
【0048】CPU131は、DMAコントローラ12
7から転送された1フレーム分のYUVデータをDRA
M128から読み出し、VRAMコントローラ133を
介してVRAM134に書き込む。また、デジタルビデ
オエンコーダ135は、一定周期毎にVRAMコントロ
ーラ133を介してVRAM134より1フレーム分の
YUVデータを線順次で読み出してアナログビデオ信号
Saを生成し、表示部110に出力する。
【0049】シリアル入出力端子113は、CPU13
1が外部機器とデータのシリアル転送を行うための入出
力端子である。キー入力部112a、112b、112
c、112dは、それぞれカメラ本体部101に配され
たモード設定キー112a、シャッターキー112b、
「+」キー112c及び「−」キー112dから構成さ
れ、これらの各キーからの入力に従ったコマンドをCP
U131に投入する。
【0050】以下に、画像記録モードを説明する。まず
CCD121がサンプルホールド回路122に電気信号
Seを出力し続けている状態で操作者がデジタルスチル
カメラのシャッターキー112bを押すことにより、C
PU131がタイミングジェネレータ125及びカラー
プロセス回路126を制御して転送動作が停止される。
【0051】そして、最後に転送された1フレーム分の
電気信号Seはモニタリングモードと同様に、サンプル
ホールド回路122、 A/D変換器123、及びカラ
ープロセス回路126を介してYUVデータに変換され
る。CPU131は、このYUVデータをDMAコント
ローラ127を介して所定のフォーマットで読み出し、
画像圧縮伸長回路132に入力し圧縮させる。圧縮され
たデータは、記録用メモリ130で保存される。この保
存が終了後、CPU131は、タイミングジェネレータ
125及びカラープロセス回路126を再び起動し、モ
ニタリングモードに自動的に戻る。
【0052】再生モードでは、キー入力部112a、1
12b、112c、112dでの操作に応じて、記録用
メモリ130で保存された圧縮データを画像圧縮伸長回
路132で伸長し、この圧縮を解凍された1フレーム分
のYUVデータを画像圧縮伸長回路132から読み出
し、VRAMコントローラ133を介してVRAM13
4に書き込む。
【0053】VRAM134に書き込まれた1フレーム
分のYUVデータは、ビデオエンコーダ135で線順次
で読み出して変換され、アナログビデオ信号Saとして
表示部110に出力される。また画像記録モードで撮影
が終了直後に再生モードに切り替わり、表示部110が
撮影した1フレーム分の画像を表示するように設定して
もよい。
【0054】図6は、図4、図5の表示部110の構成
を示すブロック図である。表示部110は、液晶表示装
置によって構成されるもので、クロマ回路211と、位
相比較器212と、レベルシフタ213と、液晶コント
ローラ201と、ゲートドライバ203及びドレインド
ライバ204を有する液晶パネル202と、を備える。
【0055】モニタリングモード及び画像記録モードの
いずれにおいても、クロマ回路211はデジタルビデオ
エンコーダ135のアナログビデオ信号Saからアナロ
グRGB信号SR1,SG1,SB1を生成する。この
とき、アナログRGB信号S R1,SG1,SB1は、
液晶パネル202の視覚特性に合わせてガンマ補正が行
われている。
【0056】レベルシフタ213は、液晶を交流駆動す
るため、及び明るさを調整するためクロマ回路211で
生成されたアナログRGB信号SR1,SG1,SB1
の極性を1ラインまたは1フレーム毎に反転し、且つ振
幅の制御を行い、レベルシフト処理されたアナログRG
B信号SR2,SG2,SB2を出力する。
【0057】液晶コントローラ201は、発振回路を内
蔵し、クロマ回路211がアナログビデオ信号Saから
同期分離処理により生成した垂直同期信号VDが入力さ
れることにより垂直方向の同期をとり、水平同期信号H
Dと位相比較信号CKHによる位相比較器出力によりP
LL(Phase Locked Loop)を構成して水平方向の同期
をとる。そして、液晶コントローラ201は、極性反転
制御用信号CKFをレベルシフタ213に出力し、ドレ
インドライバ204に制御信号群DCNTを出力し、ゲ
ートドライバ203に制御信号群GCNTを出力する。
【0058】液晶パネル202は、m×n個の画素によ
って構成されるアクティブマトリクス駆動のものであ
り、図7に示すように、一対の基板221、241間に
液晶(光学的手段)228を封入することによって構成
されている。
【0059】液晶パネル202の対向基板221には、
クロマ回路211で生成され、ACレベル増幅及びDC
レベル増幅されたコモン電圧VCOM(VCOMはその
値を経時的に変位しても可)が印加されている共通電極
226が形成され、液晶パネル202の基板241に
は、画素に対応する画素電極229とアモルファスシリ
コンまたはポリシリコンからなる半導体層244を有す
る薄膜トランジスタ(TFT)202aとがマトリクス
状に配置されており、画素電極の間にはn本のゲートラ
インGL1〜GLnとm本のドレインラインDL1〜D
Lmとがそれぞれ平行に形成されている。そして、ゲー
トラインGL1〜GLnと平行してキャパシタラインC
L1〜CLnが設けられている。
【0060】対向基板221には、基板241との対向
面側に赤、緑、青色の光をそれぞれ透過するカラーフィ
ルタ223が各々画素電極229に対応してマトリクス
状に配置され、カラーフィルタ223間には、遮光膜2
24が配置されている。カラーフィルタ223上及び遮
光膜224上全面には、窒化シリコンからなる絶縁膜2
25が覆われ、さらに絶縁膜226上には、ITOから
なる1枚の共通電極226が設けられ、共通電極226
上には、ラビング処理され液晶228を所定方向に初期
配向させるポリイミドからなる配向膜227が設けられ
ている。
【0061】透明基板241は、ドレインドライバ20
4が設けられている一辺が対向基板221の対応する辺
より突出したガラス等の基板であり、画像表示部217
に、マトリクス状に配置された複数の画素電極229
と、ソース電極248が画素電極229に接続された薄
膜トランジスタ202aと、が設けられ、素子領域21
5(多層素子領域)及び配線領域216(非多層素子領
域)には、ゲートドライバ203が設けられ、シール材
41が画像表示部217及び素子領域215を囲むとと
もに、配線領域216上に設けられている。ドレインド
ライバ204は、単結晶シリコンからなる集積回路チッ
プであり液晶228より厚いためシール材41の外側の
基板241上に設けられている。そして対向基板221
と基板241の両外面にはそれぞれ偏光板222、23
3が設けられている。
【0062】液晶パネル202のTFT202aのゲー
トはゲートラインGL1〜GLnのいずれかに、ドレイ
ンはドレインラインDL1〜DLmのいずれかに、ソー
スは画素電極229にそれぞれ接続され、画素容量20
2bは、画素電極、共通電極間の液晶228で構成され
る。ドレインラインDLからの表示信号は、選択されて
いるゲートラインGLに対応するTFT202aを介し
て画素容量202bに書き込まれる。画素容量202b
に書き込まれた表示信号に従って液晶の配向状態が制御
され、液晶を透過する光の量が変化することによって画
像が表示される。
【0063】キャパシタ202cは、キャパシタライン
CL1〜CLn、それに重なるゲート絶縁膜243及び
画素電極229から構成され、キャパシタラインCL1
〜CLnには、キャパシタ電圧VCSが常時印加されて
いる。そして全ての共通電極にはライン毎に可変のコモ
ン電圧VCOMが常時印加されている。
【0064】ゲートドライバ203は、n個の段RS
(1)〜RS(n)から構成され、各段RSは図8に示
すように6個の薄膜トランジスタで構成され、液晶コン
トローラ201から供給される制御信号群GCNT中の
クロック信号CK1、CK2及びstart信号INに
従って、ゲートラインGL1〜GLnのいずれかを順次
選択して、アクティブ(オン状態)にする。ここでコン
トローラからの制御信号GCNTとして、奇数番目の段
RS(1),RS(3),・・・には、クロック信号C
K1が供給されている。偶数番目の段RS(2),RS
(4),・・・には、クロック信号CK2が供給されて
いる。各段共に、コントローラから定電圧Vssが供給
されている。信号CK1、CK2のハイレベルは+15
(V)、ローレベルは−15(V)である。また、定電
圧Vssのレベルは−15(V)である。
【0065】まず図9に示すように、1番目の段RS
(1)には、コントローラからスタート信号INが供給
される。スタート信号INのハイレベルは+15
(V)、ローレベルは−15(V)である。2番目以降
の段RS(2)〜RS(n)には、それぞれの前段RS
(1)〜RS(n−1)からの出力信号OUT1〜OU
Tn−1が供給される。さらに、各段RS(k)(k:
1〜nの整数)には、後ろの段RS(k+1)〜の出力
信号OUTk+1(但し、最終段RS(n)の場合は1
番目の段RS(1)の出力信号OUT1がリセットパル
スとして供給される。なお、各段RS(1)〜RS
(n)の出力信号OUT1〜OUTnは、ゲートライン
GL1〜GLnにそれぞれ出力される。
【0066】各段RS(1)〜RS(n)は、上記した
ように、基本構成として6つのTFT21、22、2
3、25、26、27を有している。TFT21、2
2、23、25、26、27は、いずれも基板221、
241間距離よりも高さが低いnチャネルMOS型の電
界効果トランジスタで構成され、基板241上にゲート
絶縁膜243に窒化シリコンを用い、半導体層244に
アモルファスシリコンを用いている。
【0067】各段RS(k)のTFT21のゲート電極
及びドレイン電極は互いに前段RS(k−1)のTFT
25のソース電極に接続され、TFT21のソース電極
は、TFT22のゲート電極、TFT25のゲート電極
及びTFT27のドレイン電極に接続されている。TF
T22のドレイン電極は、TFT23のソース電極及び
TFT26のゲート電極に接続され、TFT22のソー
ス電極、TFT27のソース電極及びTFT26のソー
ス電極には定電圧Vssが供給されている。
【0068】そして、TFT23のゲート電極及びドレ
イン電極には定電圧Vssより高電位の基準電圧Vdd
が供給され、奇数段のTFT25のドレイン電極にはク
ロック信号CK1が供給され、偶数段のTFT25のド
レイン電極にはクロック信号CK2が供給され、各段の
TFT25のソース電極はTFT26のドレイン電極に
接続されている。TFT27のゲート電極には、次段の
出力信号OUTk+1が配線255を介し入力される。
ここで、1段目以外の奇数番目の段RS(k)を例とし
て、各段RS(1)〜RS(n)の機能を説明する。
【0069】TFT21のゲート電極とドレイン電極と
には、前の段RS(k−1)からの出力信号OUTk−
1が供給される。TFT21は、ハイレベルの出力信号
OUTk−1が供給されたときにオンし、この出力信号
OUTk−1によりドレイン電極とソース電極との間に
電流が流れることによって、TFT21のソース電極と
TFT22、25のゲート電極との間の配線261の電
圧Vaを上昇させる。
【0070】TFT23のゲート電極とドレイン電極と
には、基準電圧Vddが供給されているので、TFT2
3は、基準電圧Vddを分圧する負荷としての機能を有
する。
【0071】TFT22は、配線261の電圧Vaがロ
ー電位のときにオフ状態となり、TFT23を介して供
給された基準電圧Vddにより配線262の電圧Vbは
上昇する。また、TFT22は、配線261に電荷がチ
ャージされているときにオン状態となり、ドレイン電極
とソース電極との間に貫通電流を流させる。ここで、T
FT22、23は、いわゆるEE型の構成となっている
ため、TFT23が完全なオフ抵抗とならないことで配
線262に蓄積された電荷が完全にディスチャージされ
ないことがあるが、TFT26の閾値電圧よりも十分に
低い電圧となる。
【0072】TFT25のドレイン電極には、信号CK
1が供給される。TFT25は、配線261の電圧Va
がハイのとき(すなわち、TFT26がオフ状態のと
き)にオン状態となり、入力された信号CK1によりゲ
ート電極とソース電極と並びにそれらの間のゲート絶縁
膜からなる寄生容量へのチャージアップや、ゲート電極
とドレイン電極と並びにそれらの間のゲート絶縁膜によ
る寄生容量がオン電流によりチャージアップされること
により配線261の電圧Vaが上昇しゲート飽和電圧に
まで達するとソース−ドレイン電流がほぼ飽和するの
で、出力信号OUTkは、迅速にクロック信号CK1と
ほぼ同電位となる。TFT25は、また、配線261の
電圧Vaがローのとき(すなわち、TFT26がオン状
態のとき)にオフ状態となり、ドレイン電極に供給され
た信号CK1の出力を遮断する。
【0073】TFT26のドレイン電極には、定電圧V
ssが供給される。TFT26は、配線262の電圧V
bがローのとき(すなわち、TFT25がオン状態のと
き)にオフ状態となり、TFT25のソース電極から出
力された信号のレベルを当該段の出力信号OUTkとし
て出力させる。TFT26は、また、配線262の電圧
Vbがハイのとき(すなわち、TFT25がオフ状態の
とき)にオン状態となり、ドレイン電極に供給された定
電圧Vssのレベルをソース電極から当該段の出力信号
OUTkとして出力させる。
【0074】TFT27のゲート電極には、後ろの段R
S(k+1)の出力信号OUTk+1が供給される。T
FT27は、ゲート電極に供給される出力信号OUTk
+1がハイレベルになったときにオンし、配線261に
蓄積された電荷をディスチャージさせる。
【0075】なお、偶数番目の段RS(k)において
は、TFT25のドレイン電極にクロック信号CK2
が、クロック信号CK1の代わりにコントローラから供
給される。また、1番目の段RS(1)においては、T
FT21のゲート電極及びドレイン電極にスタート信号
INが、前の段の出力信号の代わりにコントローラから
供給される。最後の段RS(n)においては、TFT2
7のゲート電極に1番目の段RS(1)の出力信号OU
T1が、供給される。
【0076】シフトレジスタを構成するTFT21、2
2、23、25、26、27並びに画素TFT202a
は、図10に示すように、透明基板241上に形成され
たアルミ合金又はクロム合金よりなるゲート電極242
と、ゲート電極242上に形成された窒化シリコンより
なるゲート絶縁膜243と、ゲート絶縁膜243上にゲ
ート電極242と対向して形成されたアモルファスシリ
コン又はポリシリコンからなる半導体層244と、半導
体層244上に形成された窒化シリコンからなるブロッ
キング層245と、ブロッキング層245の一端上から
半導体層244上に跨って設けられたn型不純物がドー
プされたアモルファスシリコンまたはポリシリコンから
なるn型半導体層246aと、ブロッキング層245の
他端上から半導体層244上に跨って設けられたn型不
純物がドープされたアモルファスシリコンまたはポリシ
リコンからなるn型半導体層246bと、n型半導体層
246a、246b上からゲート絶縁膜243上にわた
って形成されたアルミ合金又はクロム合金よりなるドレ
イン電極247、ソース電極248と、から構成され、
全てのTFTは同一材料を同一工程で一括してパターニ
ングされて形成される。そしてゲート絶縁膜243上及
びソース、ドレイン電極247、248上を覆うように
窒化シリコンからなる層間絶縁膜249が形成され、層
間絶縁膜249上及び画素電極229上に配向膜250
が形成されている。
【0077】画素TFT202aは、n型半導体層24
6a、246bとソース、ドレイン電極247、248
との間に画素電極229の一端が介在している点のみT
FT21〜23、25〜27と異なる。
【0078】ゲートドライバ203は、図11に示すよ
うに、素子領域215(多層素子領域)及び配線領域2
16(非多層素子領域)に跨って形成されており、素子
領域215には、TFT21、22、23、25、2
6、27から構成される段RS(1)〜RS(n)が設
けられ、それぞれゲートラインGL1〜GLnに選択信
号を供給する。段RS(n)の隣には段RS(n)のT
FT27のスイッチ用としてRS(n+1)が設けら
れ、TFT27がオン状態になると段RS(n)のTF
T21のソースとTFT25のゲートとの間の電圧をデ
ィスチャージする。
【0079】一方、配線領域216には、TFT22、
23、25、26、27に適宜、定電圧Vssを供給す
る第1配線251、クロック信号CK1を供給する第2
配線252、クロック信号CK2を供給する第3配線2
53、基準電圧Vddを供給する第4配線254が設け
られている。第1配線251、第2配線252、第3配
線253、及び第4配線254はいずれもTFT21、
22、23、25、26、27並びにTFT202aの
ソース、ドレイン電極247、248と同一の金属膜を
パターニングすることにより得られており、その上方に
は層間絶縁膜249及び配向膜250を介してギャップ
材42が内部に分散されたシール材41が設けられてい
る。ここで第1配線251、第2配線252、第3配線
253、及び第4配線254の頭頂部は、TFT21、
22、23、25、26、27並びにTFT202aの
頭頂部よりも低く且つ薄い半導体層244等がないため
に、基板221と基板241の貼付時に第1配線25
1、第2配線252、第3配線253、及び第4配線2
54に力が加わってもギャップ材42に押しつぶされて
断線することはなく、TFT21、22、23、25、
26、27が素子破壊されることもない。
【0080】このように第1配線251、第2配線25
2、第3配線253、及び第4配線254の上方にシー
ル材41を設けたので基板241のシール材41の外側
の額縁を狭くすることができ、液晶パネル202を小型
にすることができる。また、TFT21、22、23、
25、26、27は液晶228とともにシール材41と
基板221、241により囲まれて保護されているので
直接接触することによる素子破壊を防止できる。なお、
図12に示すように、素子領域215を配線領域216
の外側、すなわちシール材41の外側に設けることも可
能であるが、ゲートラインGL1〜GLnと第1配線2
51、第2配線252、第3配線253、及び第4配線
254との交差領域で寄生容量が発生してしまうこと
や、直接接触することによる素子破壊の恐れがある。
【0081】ドレインドライバ204は、シフトレジス
タと、レベルシフタと、サンプルホールドバッファと、
マルチプレクサとから構成される。ドレインドライバ2
04のシフトレジスタは、液晶パネル202の水平方向
の画素数に対応するm段構成のもので、制御信号群DC
NTのうちのクロック信号、反転クロック信号及びスタ
ート信号が入力されてアナログRGB信号のサンプリン
グを行うためのサンプリング信号を生成する。
【0082】レベルシフタは、サンプリング信号をサン
プルホールドバッファの動作レベルに変換するための回
路である。マルチプレクサは、制御信号群DCNTのう
ちの配列信号に基づいてレベルシフタ213からのアナ
ログビデオ信号SR2,S ,SB2を各ラインの画
素のRGB配列に応じた順番に整列させて出力する。サ
ンプルホールドバッファは、レベルシフタからのサンプ
リング信号に基づいてアナログビデオ信号SR2,S
G2,SB2をバッファで増幅してドレインラインDL
1〜DLmに出力する。
【0083】以下、この実施の形態にかかるデジタルス
チルカメラの動作について、説明する。モード設定キー
112aの操作により、デジタルスチルカメラのモード
が撮影モード(モニタリングモード及び画像記録モー
ド)に設定されている場合には、レンズによって結像さ
れた画像に応じてCCD121の各画素が蓄積した電荷
に対応する電気信号Seが垂直ドライバ124から供給
される駆動信号に従ってサンプルホールド回路122に
順次入力され、実効部分のアナログ電気信号Se’とし
てA/D変換器123に入力される。アナログ電気信号
Se’は、A/D変換器123によりデジタルの画像デ
ータSdに変換されてカラープロセス回路126に供給
される。
【0084】カラープロセス回路126はデジタルデー
タSdから輝度/色差デジタルデータであるYUVデー
タをDMAコントローラ127に出力し、DMAコント
ローラ127は、 YUVデータをDRAM128に記
録・更新する。
【0085】CPU131は、DMAコントローラ12
7から転送された1フレーム毎のYUVデータをDRA
M128から読み出し、VRAMコントローラ133を
介してVRAM134に書き込む。
【0086】そして、デジタルビデオエンコーダ135
は、一定周期毎にVRAMコントローラ133を介して
VRAM134より1フレーム分のYUVデータを線順
次で読み出してアナログビデオ信号Saを生成し、表示
部110に出力し、表示部110で表示される。ここ
で、シャッターキー112bが操作されると、CPU1
31からの指示に従ってCPU131がタイミングジェ
ネレータ125及びカラープロセス回路126を制御し
て転送動作が停止される。
【0087】そして、最後に転送された1フレーム分の
電気信号Seが、サンプルホールド回路122、A/D
変換器123、及びカラープロセス回路126を介して
YUVデータに変換される。YUVデータは、DMAコ
ントローラ127を介して所定のフォーマットで読み出
し、画像圧縮伸長回路132に入力し圧縮され、記録用
メモリ130で保存される。
【0088】一方、モード設定キー112aの操作によ
り、デジタルスチルカメラのモードが再生モードに設定
されている場合には、CPU131は、「+」キー11
2cまたは「−」キー112dの操作によって指示され
た圧縮画像データを記録用メモリ130から読み出し、
画像圧縮伸長回路132で伸長され、VRAMコントロ
ーラ133の制御によりVRAM134に書き込まれ
る。この書き込まれたYUVデータは、デジタルビデオ
エンコーダ135によりアナログ化され、アナログビデ
オ信号Saとして表示部110に出力される。
【0089】アナログビデオ信号Saはクロマ回路21
1に入力され、ガンマ補正されたアナログビデオ信号S
R1,SG1,SB1、垂直同期信号VD及び水平同期
信号HDに分離される。位相比較器212は、クロマ回
路211からの水平同期信号HD及び液晶コントローラ
201からの位相比較信号CKHにより水平方向のタイ
ミングを測り液晶コントローラ201に出力する。
【0090】液晶コントローラ201は、これらの信号
に応じて、ドレインドライバ204に制御信号群DCN
Tを出力するとともに、ゲートドライバ203に制御信
号群GCNTを出力する。液晶コントローラ201から
の極性反転制御用信号CKFに基づき、クロマ回路21
1から出力されたアナログビデオ信号SR1,SG1
B1は、レベルシフタ213で1ラインまたは1フレ
ーム毎に極性反転される。この適宜反転されたアナログ
ビデオ信号SR2,SG2,SB2は、制御信号群DC
NTに応じてドレインドライバ204に入力される。
【0091】液晶コントローラ201が生成した制御信
号群GCNT中のstart信号INがゲートドライバ
203に供給されることによって、ゲートドライバ20
3が動作を開始する。
【0092】液晶コントローラ201からは、クロック
信号が順次供給され、このとき、ゲートラインGL1本
毎に出力されるスタート信号により各段にサンプリング
信号が転送される。転送されたサンプリング信号は、レ
ベルシフタにより動作レベルに変換し、順次出力され
る。
【0093】アナログビデオ信号SR2,SG2,S
B2は、マルチプレクサにパラで入力され、制御信号群
DCNTのうちの配列信号に基づいて各ラインの画素の
RGB配列に応じた順番に整列させて出力される。マル
チプレクサから出力されたアナログビデオ信号SR2
G2,SB2は、レベルシフタからのサンプリング信
号に応じてサンプルホールドバッファ内で順次サンプリ
ングされ、内部のバッファーを介してドレインラインD
L1〜DLmにパラ出力される。
【0094】ドレインラインDL1〜DLmにそれぞれ
供給された表示信号は、ゲートドライバ203による選
択に従ってオンされているTFT202aを介して画素
容量202bに、1水平期間の間で書き込まれる。表示
部110は、以上のような動作を繰り返すことによっ
て、液晶パネル202の各画素の画素容量202bに表
示信号を書き込んでいく。この表示信号に応じて液晶の
配向状態が変化し、「暗」または「明」で各画素が表さ
れている画像が液晶パネル202に表示される。
【0095】上記の実施の形態では、ゲートドライバ2
03は、各段が基本構成としての6つのTFT21〜2
3、25〜27から構成されるものとしていた。しかし
ながら、ゲートドライバ203は、この構成に限られる
ものではない。ゲートドライバ203の他の構成例につ
いて、図13〜図19を参照して説明する。
【0096】図13に示す構成では、ゲートドライバ2
03の各段(k:1〜nの整数)は、基本構成としての
TFT21〜23、25〜27に加えて、付加構成とし
てのTFT24を有している。
【0097】TFT24は、ドレイン電極がTFT25
のソース電極に接続され、ソース電極には定電圧Vss
が供給されている。奇数番目の段RS(1)、RS
(3)、……におけるTFT24のゲート電極には、信
号CK1のレベルを反転した信号¬CK1(¬は、論理
否定を表す。以下、同じ)が第5配線256を介して供
給され、偶数番目の段RS(2)、RS(4)、……に
おけるTFT24のゲート電極には、信号CK2のレベ
ルを反転した信号¬CK2が第6配線257を介して供
給される。
【0098】第5配線256及び第6配線257は、配
線251〜254と同様にTFT21〜23、25〜2
7並びにTFT202aのソース、ドレイン電極24
7、248と同一の金属膜をパターニングすることによ
り得られている。奇数番目の段RS(1)、RS
(3)、……におけるTFT25のドレイン電極には、
信号CK1が供給され、偶数番目の段RS(2)、RS
(4)、……におけるTFT24のドレイン電極には、
信号CK2が供給される。
【0099】TFT24は、図14に示すように、信号
CK1がハイレベルからローレベルに変化したとき、す
なわち信号¬CK1がローレベルからハイレベルに変化
するとオンし、TFT25のソース電極と接続されてい
るゲートラインGLにチャージされた電荷を強制的に排
出させる。つまり、TFT24は、TFT25からゲー
トラインGLに出力されたハイレベルの出力信号OUT
kを迅速に定電圧Vssに下げる機能を有している。こ
のため、出力信号OUTkのハイレベルからローレベル
への立ち下がりを鋭敏にすることができる。
【0100】また図15に示すように、付加構成として
のTFT31を設けてもよい。TFT31は、ゲート電
極に基準電圧Vddが印加され、ドレイン電極が配線2
61に接続され、ソース電極に定電圧Vssが供給され
ている。これにより、TFT31は、配線262のディ
スチャージとともにオンし、配線261に蓄積される電
荷の量を調整して、配線261の電位を安定させるもの
である。
【0101】図16に示す構成では、図15のTFT3
1の替わりに抵抗素子32を設けている。抵抗素子32
は、十分な大きさの抵抗値を有しており、TFT31と
同様に、配線261に蓄積される電荷の量を調整して、
配線261の電位を安定させる機能を有している。
【0102】図17、図18に示す構成では、各段RS
(k)(k:1〜nの整数)においてそれぞれ図15、
図16に示す構成にTFT24が付加されている。この
ため、図11に示すゲートドライバ203の全体構成に
おいて、各段RS(1)〜RS(n)に信号CK1また
は信号CK2のレベルを反転した信号¬CK1または¬
CK2が適宜供給される。
【0103】ここで、TFT24がなくても動作可能な
理由について説明する。TFT25のソース電極から出
力される信号CK1(またはCK2)のレベルがローレ
ベルに変化すると、ハイレベル時にドレイン電極に接続
された配線に蓄積された電荷が強制的にディスチャージ
されることはないものの、出力信号OUTkのレベル
は、信号CK1のローレベルまで変化することができ
る。また上述した各実施の形態では、図19に示すよう
に、TFT23の替わりに抵抗素子33を設けてもよ
い。
【0104】また、上記各実施の形態では、n+1番目
の段RS(n+1)の出力信号OUTn+1をn番目の
段RS(n)のTFT27のゲート電極に供給し、これ
によってn番目の段RS(n)の配線261の電圧Va
をハイ電位からロー電位にシフトさせていた。しかしな
がら、液晶コントローラ201からの制御信号GCNT
にn番目の段RS(n)の配線261のディスチャージ
用の信号φを付加し、ハイレベルの出力信号OUTnが
出力された後、信号φによりn番目の段RS(n)のT
FT27のゲートをオンしn番目の段RS(n)の配線
261の電極Vaをディスチャージしてもよい。これに
より、n+1番目の段RS(n+1)を設けなくても正
常に動作することが可能となる。
【0105】また、上記各実施の形態では、図9のタイ
ミングチャートで示したように、1垂直期間が開始する
とコントローラからハイレベルのスタート信号INをゲ
ートドライバ203の1番目の段RS(1)に供給する
ものとしていた。しかしながら、この場合におけるスタ
ート信号INは、n番目の段RS(n)から出力される
出力信号OUTnと同じである。
【0106】従って、ゲートドライバ203を連続駆動
させる場合には、1番最初にイニシャルパルスとしてハ
イレベルのスタート信号INを供給する以外は、n番目
の段RS(n)からの出力信号OUTnを1番目の段R
S(1)のTFT21に供給するものとしてもよい。こ
の場合、一番最初のスタート信号INにより、出力信号
OUTnがハイレベルになるが、このタイミングではド
レインラインDLにプリチャージ電圧が供給されていな
いので特に問題ない。
【0107】上記各実施の形態では、ゲートドライバ2
03にクロック信号や定電圧等が供給される配線251
〜257が設けられた配線領域216にシール材41を
設けたのでゲートドライバ203のTFT21〜23、
25〜27をギャップ材42により損壊する恐れがな
く、基板面積を小さくすることができる。上記各実施の
形態では、配線251〜257上全てにシール材41を
設けたが、配線251〜257のうちの一本でもシール
材41と重なっていれば重なった分だけ、小型化するこ
とができる。
【0108】上記各実施の形態では、TFT21〜2
3、25〜27が画素TFT202aと実質的に同じ材
料、同じ構造で形成されているため、頭頂部が十分低い
のでシール材41内部に配置することができる。
【0109】上記単層素子及び配線は、通常、TFT基
板5上に形成された導電膜や絶縁膜等を所定の形状にパ
ターニングすることにより形成される。このため、単層
素子や配線上にギャップ材42が乗り上げた状態でTF
T基板5と対向基板6とを圧着しても、単層素子や配線
が破損してしまうことはない。
【0110】上記構成の液晶表示パネルを製造する際に
は、第1の実施の形態と同様に、TFT基板5と対向基
板6との圧着工程で、ギャップ材42がゲートドライバ
203の多層素子(多層素子の中でも特にアクティブ素
子)上に乗り上げないようにする。このため、シール材
41の充填領域と多層素子領域215との間にマージン
(例えば0.19(mm)程度)を設ける。これによ
り、上記圧着工程でギャップ材42がゲートドライバ2
03の多層素子上に乗り上げて破壊してしまうことを防
止できる。
【0111】また、上記と同様に、ドレインドライバ2
04を多層素子が形成される多層素子領域と、単層素子
及び配線が形成される非多層素子領域とに分け、シール
部4をドレインドライバ204の非多層素子領域に重な
るように形成してもよい。即ち、画像表示部1、ゲート
ドライバ2の多層素子領域215、及び、ドレインドラ
イバの多層素子領域の周りを囲むようにシール部4を形
成してもよい。このようにしても、上記圧着工程でギャ
ップ材42がドレインドライバ3の回路を破壊してしま
うことを防止できる。
【0112】以上のように、シール部4が画像表示部
1、ゲートドライバ203の多層素子領域215に重な
らないようにそれらの周囲に形成されているため、画像
表示部1及びゲートドライバ2の回路が、上記圧着工程
でギャップ材42により破損してしまうことを防止でき
る。これにより、液晶表示パネルの高い歩留まりを実現
することができる。
【0113】また、液晶表示パネルは、TFTの組み合
わせにより構成される駆動装置を有していれば単純マト
リックス駆動型の表示パネルでもよい。この場合も、上
記と同様に、少なくとも多層素子の形成領域を除いた領
域にギャップ材42を含むシール材41を充填すること
により、素子破壊を防止することができる。
【0114】また、上記シール材41は、例えば所定の
熱や光を加えることにより固化してTFT基板5と対向
基板6とを結合するものであってもよい。
【0115】また、本発明は、光学的手段として液晶に
限らず、1対の基板間に様々な回路が形成されている表
示パネル(例えばプラズマディスプレイパネル、FED
(Field Emission Display)等)に適用可能である。
【0116】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によって、表示パネルの高い歩留まりを実現することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態にかかる液晶表示パネルの構
成図である。
【図2】2枚の基板を接着する際の接着材の広がりを示
す図である。
【図3】図1に示す液晶表示パネルを製造する際の、シ
ール材の充填領域を示す平面図である。
【図4】液晶表示素子を備えたデジタルスチルカメラを
示す斜視図である。
【図5】図4のデジタルスチルカメラの構成を示すブロ
ック図である。
【図6】図5の表示部を示す回路図である。
【図7】第2の実施の形態にかかる液晶表示パネルの構
成を示す断面図である。
【図8】ゲートドライバのシフトレジスタの1段を示す
回路図である。
【図9】図8に示すシフトレジスタの波形チャートを示
す図である。
【図10】シフトレジスタのTFT及び画素TFTを示
す断面図である。
【図11】図8に示す液晶表示パネルを製造する際の、
シール材の充填領域を示す平面図である。
【図12】図8に示す液晶表示パネルを製造する際の、
シール材の他の充填領域を示す平面図である。
【図13】シフトレジスタの他の構成例を示す断面図で
ある。
【図14】図13に示すシフトレジスタの波形チャート
を示す図である。
【図15】シフトレジスタの他の構成例を示す断面図で
ある。
【図16】シフトレジスタの他の構成例を示す断面図で
ある。
【図17】シフトレジスタの他の構成例を示す断面図で
ある。
【図18】シフトレジスタの他の構成例を示す断面図で
ある。
【図19】シフトレジスタの他の構成例を示す断面図で
ある。
【図20】従来の液晶表示パネルの構成を示す断面図で
ある。
【図21】従来の液晶表示パネルの他の構成例を示す断
面図である。
【符号の説明】
1・・・画像表示部、2・・・ゲートドライバ、3・・・ドレイ
ンドライバ、4・・・シール部、5・・・TFT基板、6・・・
対向基板、11・・・共通電極、12・・・画素電極、13・・
・TFT(Thin Film Transistor )、14・・・ゲートラ
イン、15・・・ドレインライン、41・・・シール材、42
・・・ギャップ材、215・・・多層素子領域、216・・・非
多層素子領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 348 G09F 9/00 348C Fターム(参考) 2H089 LA15 NA48 QA02 QA12 TA09 TA12 2H092 GA59 JA24 JB51 JB56 KB24 NA29 PA04 PA06 PA08 5C094 AA15 AA42 AA43 AA47 AA48 BA03 BA43 CA19 DA09 DA12 DA13 DB01 DB04 EA04 EA07 EB02 EC02 FA01 FB12 FB14 FB15 GA10 GB10 5G435 AA17 AA18 BB12 CC09 EE37 KK05

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1対の基板間に複数の画素を有する光学的
    手段と、該光学的手段に所定の電圧を印加するために該
    1対の基板の一方の基板上に形成された信号線と、を備
    える表示手段と、 前記一方の基板上に形成された複数の層から形成される
    多層素子を有し、前記信号線に所定の電圧を供給する駆
    動手段と、 前記多層素子に所定の電圧を印加するための配線が設け
    られる領域の少なくとも一部に重なるように充填され、
    前記1対の基板を貼り合わせる結合材と、 から構成されることを特徴とする表示パネル。
  2. 【請求項2】前記結合材は、前記表示手段及び前記駆動
    手段の全体を囲むように、該表示手段及び該駆動手段の
    周囲に充填されている、ことを特徴とする請求項1に記
    載の表示パネル。
  3. 【請求項3】前記配線には、クロック信号又は定電圧が
    印加されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記
    載の表示パネル。
  4. 【請求項4】前記多層素子は、アクティブ素子である、
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に
    記載の表示パネル。
  5. 【請求項5】前記結合材は、前記1対の基板間を所定距
    離に保持する距離保持材を含むことを特徴とする請求項
    1乃至請求項4の何れか1項に記載の表示パネル。
  6. 【請求項6】一対の基板と、 前記一対の基板間に封入された液晶と、 前記一対の基板の一方に設けられた画素電極と、 前記画素電極に接続された画素用トランジスタと、 前記画素用トランジスタに出力信号を供給する駆動用ト
    ランジスタと、 前記駆動用トランジスタに電圧を印加するために、前記
    一対の基板の一方に設けられた配線と、 前記一対の基板を貼り合わせ、前記配線の少なくとも一
    部の上方に設けられたシール材と、 から構成されることを特徴とする表示パネル。
  7. 【請求項7】前記配線には、クロック信号又は定電圧が
    印加されることを特徴とする請求項6に記載の表示パネ
    ル。
  8. 【請求項8】前記シール材には、ギャップ材が混在して
    いることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の表
    示パネル。
  9. 【請求項9】前記駆動用トランジスタは、前記画素用ト
    ランジスタと同一工程で形成されることを特徴とする請
    求項6乃至請求項8の何れか1項に記載の表示パネル。
  10. 【請求項10】前記駆動用トランジスタは、シフトレジ
    スタを構成していることを特徴とする請求項6乃至請求
    項8の何れか1項に記載の表示パネル。
  11. 【請求項11】一対の基板と、 前記一対の基板間に封入された液晶と、 前記一対の基板の少なくとも一方に設けられた電極と、 前記液晶を囲み、前記一対の基板を貼り合わせたシール
    材と、 前記シール材に囲まれ前記電極に信号を供給するシフト
    レジスタを構成するトランジスタと、 から構成されることを特徴とする表示パネル。
  12. 【請求項12】前記トランジスタは前記一対の基板間距
    離よりも低い高さであることを特徴とする請求項11に
    記載の表示パネル。
  13. 【請求項13】前記トランジスタに信号を供給する配線
    は、前記シール材の下方に配置されることを特徴とする
    請求項11又は請求項12に記載の表示パネル。
  14. 【請求項14】前記配線から供給される信号は、前記シ
    フトレジスタの奇数段又は偶数段を構成するトランジス
    タへのクロック信号を含むことを特徴とする請求項11
    乃至請求項13の何れか1項に記載の表示パネル。
  15. 【請求項15】液晶に所定の電圧を印加して画像を表示
    させるための信号線が形成された表示領域と、該信号線
    に所定の電圧を供給する駆動回路が形成された回路領域
    と、を有する第1基板上の所定領域に結合材を充填する
    充填工程と、 前記結合材が充填された前記第1基板上に第2基板を載
    置し、圧力を加えることにより該第1基板と該第2基板
    とを結合する結合工程と、 を備え、 前記駆動回路は、複数の層から形成される多層素子と、
    該多層素子に接続され外部からの信号を供給するための
    配線と、から形成され、 前記結合材は、前記第1基板と前記第2基板との間を所
    定距離に保持する距離保持材を含み、 前記結合工程は、前記結合材が、少なくとも前記配線の
    形成領域の少なくとも一部に重なり且つ前記多層素子に
    重ならないように前記第1基板と前記第2基板とを結合
    する工程を備える、 ことを特徴とする基板結合方法。
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