JP2003012487A - レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法 - Google Patents
レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短時間のレーザー光照射や、少ないレーザー
光の照射回数で十分な効果の得られるトリートメント方
法、及びトリートメント用美容液を提供する。 【解決手段】 本発明に係る美容液１は、精製水などの
基剤、アルコールなどの清涼成分、グリセリンなどの保
湿成分、クチナシエキス（アラントイン）などの抗炎成
分、臭化アルキルキノリニウムなどの抑毛成分、及び、
４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類から
なるレーザー吸収促進成分を含んでいる。この美容液１
を皮膚に塗布し、その上からレーザー光を照射して脱毛
等のレーザートリートメントを行う。
光の照射回数で十分な効果の得られるトリートメント方
法、及びトリートメント用美容液を提供する。 【解決手段】 本発明に係る美容液１は、精製水などの
基剤、アルコールなどの清涼成分、グリセリンなどの保
湿成分、クチナシエキス（アラントイン）などの抗炎成
分、臭化アルキルキノリニウムなどの抑毛成分、及び、
４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類から
なるレーザー吸収促進成分を含んでいる。この美容液１
を皮膚に塗布し、その上からレーザー光を照射して脱毛
等のレーザートリートメントを行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、肌のトリートメン
トに係り、更に詳細には、レーザー光を用いるトリート
メント方法及びトリートメント用美容液に関する。
トに係り、更に詳細には、レーザー光を用いるトリート
メント方法及びトリートメント用美容液に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、レ−ザ光を皮膚などの生体組
織に照射して除毛や脱毛その他を目的とする各種のトリ
ートメントを行うトリートメント方法が知られている。
これらの方法は所定の波長のレーザー光を皮膚に照射し
て各種トリートメントを行う方法である。
織に照射して除毛や脱毛その他を目的とする各種のトリ
ートメントを行うトリートメント方法が知られている。
これらの方法は所定の波長のレーザー光を皮膚に照射し
て各種トリートメントを行う方法である。
【０００３】ところで、本来レーザー光自体は高エネル
ギー波であるため、レーザーメスなど皮膚組織を破壊す
るほどのエネルギーを作用させることも可能であるが、
各種トリートメントに用いられるレーザー光は安全性を
考慮して出力の低いレーザー光を用いる場合が殆どであ
る。
ギー波であるため、レーザーメスなど皮膚組織を破壊す
るほどのエネルギーを作用させることも可能であるが、
各種トリートメントに用いられるレーザー光は安全性を
考慮して出力の低いレーザー光を用いる場合が殆どであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの低出
力のレーザー光では一回当たりに作用させるエネルギー
量が小さいため、完全に除毛や脱毛を行うためには照射
時間を長くしたり、繰り返し照射する必要がある。その
ため、レーザー光の照射に長時間を要するという問題
や、レーザー光の照射を繰り返し行わなければならな
い、という煩雑さの問題がある。
力のレーザー光では一回当たりに作用させるエネルギー
量が小さいため、完全に除毛や脱毛を行うためには照射
時間を長くしたり、繰り返し照射する必要がある。その
ため、レーザー光の照射に長時間を要するという問題
や、レーザー光の照射を繰り返し行わなければならな
い、という煩雑さの問題がある。
【０００５】更に照射時間を長くしたり、照射回数を増
やすと、皮膚に対するダメージが大きくなり、レーザー
光の照射による除毛脱毛時に痛みを伴うという問題もあ
る。
やすと、皮膚に対するダメージが大きくなり、レーザー
光の照射による除毛脱毛時に痛みを伴うという問題もあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の問題
を解決するために創作された発明である。即ち、本発明
は、短時間のレーザー光照射や、少ないレーザー光の照
射回数で十分な効果の得られるトリートメント方法、及
びトリートメント用美容液を提供することを目的とす
る。
を解決するために創作された発明である。即ち、本発明
は、短時間のレーザー光照射や、少ないレーザー光の照
射回数で十分な効果の得られるトリートメント方法、及
びトリートメント用美容液を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のレーザートリー
トメント用美容液は、基材と、清涼成分と、保湿成分
と、抗炎成分と、抑毛成分と、４００ｎｍ〜９００ｎｍ
に吸収帯域を有する生薬類から選択される１又は２以上
のレーザー吸収促進成分とを具備する。
トメント用美容液は、基材と、清涼成分と、保湿成分
と、抗炎成分と、抑毛成分と、４００ｎｍ〜９００ｎｍ
に吸収帯域を有する生薬類から選択される１又は２以上
のレーザー吸収促進成分とを具備する。
【０００８】上記レーザートリートメント用美容液にお
いて、前記レーザー吸収促進成分は、５５０ｎｍ〜８３
０ｎｍに吸収帯域を有する生薬類から選択される１又は
２以上のレーザー吸収促進成分であってもよい。
いて、前記レーザー吸収促進成分は、５５０ｎｍ〜８３
０ｎｍに吸収帯域を有する生薬類から選択される１又は
２以上のレーザー吸収促進成分であってもよい。
【０００９】また、上記レーザートリートメント用美容
液において、前記基材の例として、変性アルコール、及
び、精製水からなる群から選択される１又は２を挙げる
ことができる。
液において、前記基材の例として、変性アルコール、及
び、精製水からなる群から選択される１又は２を挙げる
ことができる。
【００１０】同様に、前記清涼成分として、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ｌ−メントール、及び、
ｄｌ−カンフルからなる群から選択される１又は２以上
を含むものを挙げることができる。
ル、イソプロピルアルコール、ｌ−メントール、及び、
ｄｌ−カンフルからなる群から選択される１又は２以上
を含むものを挙げることができる。
【００１１】同様に、前記保湿成分として、グリセリ
ン、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ヒアルロン酸、ソルビット、及び、トリメチルグ
リシンからなる群から選択される１又は２以上を含むも
のを挙げることができる。
ン、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ヒアルロン酸、ソルビット、及び、トリメチルグ
リシンからなる群から選択される１又は２以上を含むも
のを挙げることができる。
【００１２】同様に、前記抗炎成分として、オトギリ草
エキス、サボン草エキス、トウキンセンカエキス、クチ
ナシエキス（アラントイン）、ホップエキス、オウバク
エキス、ラベンダーエキス、桃葉エキス、茶エキス、及
び、エチナシエキスからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることかできる。
エキス、サボン草エキス、トウキンセンカエキス、クチ
ナシエキス（アラントイン）、ホップエキス、オウバク
エキス、ラベンダーエキス、桃葉エキス、茶エキス、及
び、エチナシエキスからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることかできる。
【００１３】同様に、前記抑毛成分として、臭化アルキ
ルキノリニウム、オウバクエキス、ホップエキス、パパ
イン酵素、及びトウセンカエキスからなる群から選択さ
れる１又は２以上を含むものを挙げることができる。
ルキノリニウム、オウバクエキス、ホップエキス、パパ
イン酵素、及びトウセンカエキスからなる群から選択さ
れる１又は２以上を含むものを挙げることができる。
【００１４】同様に、前記レーザー吸収促進成分とし
て、赤色５０４号色素、オウバクエキス、クチナシエキ
ス、及びコチニ−ルからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることができる。
て、赤色５０４号色素、オウバクエキス、クチナシエキ
ス、及びコチニ−ルからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることができる。
【００１５】本発明のレーザートリートメント方法は、
基材、清涼成分、保湿成分、抗炎成分、抑毛成分、及
び、４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類
から選択される１又は２以上のレーザー吸収促進成分を
含むトリートメント用美容液を用いて前処理する工程
と、レーザー光を用いて処理する工程とを具備する。
基材、清涼成分、保湿成分、抗炎成分、抑毛成分、及
び、４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類
から選択される１又は２以上のレーザー吸収促進成分を
含むトリートメント用美容液を用いて前処理する工程
と、レーザー光を用いて処理する工程とを具備する。
【００１６】上記レーザートリートメント方法におい
て、前記基材の例として、変性アルコール、及び、精製
水からなる群から選択される１又は２を挙げることがで
きる。
て、前記基材の例として、変性アルコール、及び、精製
水からなる群から選択される１又は２を挙げることがで
きる。
【００１７】同様に、前記清涼成分として、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ｌ−メントール、及び、
ｄｌ−カンフルからなる群から選択される１又は２以上
を含むものを挙げることができる。
ル、イソプロピルアルコール、ｌ−メントール、及び、
ｄｌ−カンフルからなる群から選択される１又は２以上
を含むものを挙げることができる。
【００１８】同様に、前記保湿成分として、グリセリ
ン、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ヒアルロン酸、ソルビット、及び、トリメチルグ
リシンからなる群から選択される１又は２以上を含むも
のを挙げることができる。
ン、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ヒアルロン酸、ソルビット、及び、トリメチルグ
リシンからなる群から選択される１又は２以上を含むも
のを挙げることができる。
【００１９】同様に、前記抗炎成分として、オトギリ草
エキス、サボン草エキス、トウキンセンカエキス、クチ
ナシエキス（アラントイン）、ホップエキス、オウバク
エキス、ラベンダーエキス、桃葉エキス、茶エキス、及
び、エチナシエキスからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることかできる。
エキス、サボン草エキス、トウキンセンカエキス、クチ
ナシエキス（アラントイン）、ホップエキス、オウバク
エキス、ラベンダーエキス、桃葉エキス、茶エキス、及
び、エチナシエキスからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることかできる。
【００２０】同様に、前記抑毛成分として、臭化アルキ
ルキノリニウム、オウバクエキス、ホップエキス、パパ
イン酵素、及びトウセンカエキスからなる群から選択さ
れる１又は２以上を含むものを挙げることができる。
ルキノリニウム、オウバクエキス、ホップエキス、パパ
イン酵素、及びトウセンカエキスからなる群から選択さ
れる１又は２以上を含むものを挙げることができる。
【００２１】同様に、前記レーザー吸収促進成分とし
て、赤色５０４号色素、オウバクエキス、クチナシエキ
ス、及びコチニ−ルからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることができる。
て、赤色５０４号色素、オウバクエキス、クチナシエキ
ス、及びコチニ−ルからなる群から選択される１又は２
以上を含むものを挙げることができる。
【００２２】本発明では、美容液の中に抑毛成分やレー
ザー吸収促進成分を含んでいるので、短時間のレーザー
光照射や、少ないレーザー光の照射回数で十分なトリー
トメント効果が得られる。
ザー吸収促進成分を含んでいるので、短時間のレーザー
光照射や、少ないレーザー光の照射回数で十分なトリー
トメント効果が得られる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１に本発明を実施したレ
ーザートリートメントの概要図を示す。レーザートリー
トメントは、トリートメントを行う皮膚面に、本発明に
係るレーザートリートメント用美容液（以下、単に「美
容液」という）１を塗ってレーザー処理装置２のレーザ
ー光を照射する。
施の形態について説明する。図１に本発明を実施したレ
ーザートリートメントの概要図を示す。レーザートリー
トメントは、トリートメントを行う皮膚面に、本発明に
係るレーザートリートメント用美容液（以下、単に「美
容液」という）１を塗ってレーザー処理装置２のレーザ
ー光を照射する。
【００２４】本発明に係る美容液１は、変性アルコール
や精製水などの基剤、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ｌ−メントール、及び、ｄｌ−カンフルなどの清
涼成分、グリセリン、１，３−ブチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ヒアルロン酸、植物性グリセリ
ン、ソルビット、トリメチルグリシンなどの保湿成分、
オトギリ草エキス、サボン草エキス、トウキンセンカエ
キス、クチナシエキス（アラントイン）、ホップエキ
ス、オウバクエキス、ラベンダーエキス、桃葉エキス、
茶エキス、エチナシエキスなどの抗炎成分、臭化アルキ
ルキノリニウム、オウバクエキス、ホップエキス、パパ
イン酵素、及び、トウセンカエキスなどの抑毛成分、及
び、生薬類からなるレーザー吸収促進成分を含んでい
る。このレーザー吸収促進成分は、４００ｎｍ〜９００
ｎｍに吸収帯域を有する生薬類が好ましく、５５０ｎｍ
〜８３０ｎｍに吸収帯域を有する生薬類が更に好まし
い。レーザー吸収促進成分としては、赤色５０４号色
素、オウバクエキス、クチナシエキス、及び、コチニ−
ルなどが挙げられる。
や精製水などの基剤、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ｌ−メントール、及び、ｄｌ−カンフルなどの清
涼成分、グリセリン、１，３−ブチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ヒアルロン酸、植物性グリセリ
ン、ソルビット、トリメチルグリシンなどの保湿成分、
オトギリ草エキス、サボン草エキス、トウキンセンカエ
キス、クチナシエキス（アラントイン）、ホップエキ
ス、オウバクエキス、ラベンダーエキス、桃葉エキス、
茶エキス、エチナシエキスなどの抗炎成分、臭化アルキ
ルキノリニウム、オウバクエキス、ホップエキス、パパ
イン酵素、及び、トウセンカエキスなどの抑毛成分、及
び、生薬類からなるレーザー吸収促進成分を含んでい
る。このレーザー吸収促進成分は、４００ｎｍ〜９００
ｎｍに吸収帯域を有する生薬類が好ましく、５５０ｎｍ
〜８３０ｎｍに吸収帯域を有する生薬類が更に好まし
い。レーザー吸収促進成分としては、赤色５０４号色
素、オウバクエキス、クチナシエキス、及び、コチニ−
ルなどが挙げられる。
【００２５】本発明の美容液１に含まれる清涼成分は、
清涼感、殺菌及び抗菌作用、冷たさ、涼しさ、心地よい
感触、穏やかな抗菌作用を与える成分である。清涼成分
の例としては、イソプロピルアルコール、ｌ−メントー
ル、及び、ｄｌ−カンフルなどが挙げられる。この清涼
成分の作用により、冷たさ、涼しさ、心地良い感触が得
られ、心地良く楽にレーザー脱毛などのトリートメント
を行うことができる。
清涼感、殺菌及び抗菌作用、冷たさ、涼しさ、心地よい
感触、穏やかな抗菌作用を与える成分である。清涼成分
の例としては、イソプロピルアルコール、ｌ−メントー
ル、及び、ｄｌ−カンフルなどが挙げられる。この清涼
成分の作用により、冷たさ、涼しさ、心地良い感触が得
られ、心地良く楽にレーザー脱毛などのトリートメント
を行うことができる。
【００２６】本発明の美容液１に含まれる保湿成分は、
爽やかでしっとりした豊かな潤いを与え、肌荒れや乾燥
を防ぎ、レーザー光照射時の刺激を緩和する成分であ
る。保湿成分の例としては、グリセリン、１，３−ブチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、ヒアルロン
酸、植物性グリセリン、ソルビット、トリメチルグリシ
ンなどが挙げられる。この保湿成分の作用により、皮膚
を傷めず、しっとりした潤いが脱毛等のトリートメント
の際に引き起こす虞れのある肌荒れや乾燥を防ぎ、皮膚
を保護する。更に皮膚をしっとりした自然な感触で潤い
を与え、キメを整え、柔軟にし、健やかに保つことがで
きる。
爽やかでしっとりした豊かな潤いを与え、肌荒れや乾燥
を防ぎ、レーザー光照射時の刺激を緩和する成分であ
る。保湿成分の例としては、グリセリン、１，３−ブチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、ヒアルロン
酸、植物性グリセリン、ソルビット、トリメチルグリシ
ンなどが挙げられる。この保湿成分の作用により、皮膚
を傷めず、しっとりした潤いが脱毛等のトリートメント
の際に引き起こす虞れのある肌荒れや乾燥を防ぎ、皮膚
を保護する。更に皮膚をしっとりした自然な感触で潤い
を与え、キメを整え、柔軟にし、健やかに保つことがで
きる。
【００２７】本発明の美容液１に含まれる抗炎成分は、
皮膚の炎症やアレルギー反応を抑え、抗酸化、抗菌（対
ニキビを含む）、抗脂漏、洗浄、鎮痒、収れん、紫外線
防御などの作用を齎す成分である。この抗炎成分の例と
しては、オトギリ草エキス、サボン草エキス、トウキン
センカエキス、クチナシエキス（アラントイン）、ホッ
プエキス、オウバクエキス、ラベンダーエキス、桃葉エ
キス、茶エキス、エチナシエキス等が挙げられる。これ
らの植物エキスは一種のエキスでも様々な効能を有する
ものが多々あり、これらを複合することによって、より
作用を増大させることができる。この抗炎成分の作用に
より、穏やかな抗菌、消炎効果が齎され、毛穴に付着し
た汚れや雑菌等によるスキントラブルを予防することが
できる。
皮膚の炎症やアレルギー反応を抑え、抗酸化、抗菌（対
ニキビを含む）、抗脂漏、洗浄、鎮痒、収れん、紫外線
防御などの作用を齎す成分である。この抗炎成分の例と
しては、オトギリ草エキス、サボン草エキス、トウキン
センカエキス、クチナシエキス（アラントイン）、ホッ
プエキス、オウバクエキス、ラベンダーエキス、桃葉エ
キス、茶エキス、エチナシエキス等が挙げられる。これ
らの植物エキスは一種のエキスでも様々な効能を有する
ものが多々あり、これらを複合することによって、より
作用を増大させることができる。この抗炎成分の作用に
より、穏やかな抗菌、消炎効果が齎され、毛穴に付着し
た汚れや雑菌等によるスキントラブルを予防することが
できる。
【００２８】本発明の美容液１に含まれる抑毛成分は、
抗菌、抗脂漏、タンパク産性阻害、収れん等による抑毛
（育毛抑制）、洗浄などの作用を齎し、綺麗な肌を保つ
ため体毛の成長を鈍化させる成分である。この抑毛成分
の例としては、臭化アルキルキノリニウム、オウバクエ
キス、ホップエキス、パパイン酵素、トウセンカエキ
ス、オドリコソウエキス、カノコソウエキス、サボンソ
ウエキス、ジュウヤク（ドクダミ）エキス、ハマメリス
エキスなどが挙げられる。この抑毛成分の作用により、
体毛の成長を鈍化させて抑毛作用を助長させることがで
きる。
抗菌、抗脂漏、タンパク産性阻害、収れん等による抑毛
（育毛抑制）、洗浄などの作用を齎し、綺麗な肌を保つ
ため体毛の成長を鈍化させる成分である。この抑毛成分
の例としては、臭化アルキルキノリニウム、オウバクエ
キス、ホップエキス、パパイン酵素、トウセンカエキ
ス、オドリコソウエキス、カノコソウエキス、サボンソ
ウエキス、ジュウヤク（ドクダミ）エキス、ハマメリス
エキスなどが挙げられる。この抑毛成分の作用により、
体毛の成長を鈍化させて抑毛作用を助長させることがで
きる。
【００２９】本発明の美容液１に含まれるレーザー吸収
促進成分は、レーザー脱毛などのレーザートリートメン
ト時に、レーザー光の照射による刺激を緩和し、レーザ
ー光の吸収を助け、脱毛などのトリートメントを容易に
する成分である。このレーザー吸収促進成分としては、
４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類が好
ましく、５５０ｎｍ〜８３０ｎｍに吸収帯域を有する生
薬類が更に好ましい。レーザー吸収促進成分の例として
は、赤色５０４号色素のような食用色素、オウバクエキ
ス、クチナシエキスのような植物色素、コチニ−ルのよ
うな天然色素などが挙げられる。
促進成分は、レーザー脱毛などのレーザートリートメン
ト時に、レーザー光の照射による刺激を緩和し、レーザ
ー光の吸収を助け、脱毛などのトリートメントを容易に
する成分である。このレーザー吸収促進成分としては、
４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類が好
ましく、５５０ｎｍ〜８３０ｎｍに吸収帯域を有する生
薬類が更に好ましい。レーザー吸収促進成分の例として
は、赤色５０４号色素のような食用色素、オウバクエキ
ス、クチナシエキスのような植物色素、コチニ−ルのよ
うな天然色素などが挙げられる。
【００３０】更に本発明の美容液１に含まれる上記以外
の成分としては、硬化ひまし油、フェノキシエタノー
ル、パラベン、ヒノキフレーバー等の添加剤を使用する
ことも可能である。
の成分としては、硬化ひまし油、フェノキシエタノー
ル、パラベン、ヒノキフレーバー等の添加剤を使用する
ことも可能である。
【００３１】本発明に係るレーザートリートメント方法
を実施するには、レーザー脱毛する場合、まず脱毛処理
する前に脱毛しようとする皮膚の体毛を剃る。次いで本
発明に係る美容液１を適量てのひらに採り、脱毛する部
位の皮膚に指先で美容液１を薄くのばして塗布する。こ
のとき、美容液１の量が足らないようであれば、上記操
作をもう一度繰り返して皮膚に美容液１を塗布してから
レーザー処理装置２にてレーザー光を照射してレーザー
トリートメントを行う。
を実施するには、レーザー脱毛する場合、まず脱毛処理
する前に脱毛しようとする皮膚の体毛を剃る。次いで本
発明に係る美容液１を適量てのひらに採り、脱毛する部
位の皮膚に指先で美容液１を薄くのばして塗布する。こ
のとき、美容液１の量が足らないようであれば、上記操
作をもう一度繰り返して皮膚に美容液１を塗布してから
レーザー処理装置２にてレーザー光を照射してレーザー
トリートメントを行う。
【００３２】レーザー処理装置２は、Ｇａ．Ａｌ．Ａｓ
半導体レーザーを使用する。Ｇａ．Ａｌ．Ａｓ半導体レ
ーザーは、ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）、
ヒ素（Ａｓ）の３つの材料を組み合わせた半導体レーザ
ーで、発振効率にすぐれ、２ボルト程度の低い電圧で発
振する特性を持ち、従来のレーザー装置に比べて小型・
軽量である。
半導体レーザーを使用する。Ｇａ．Ａｌ．Ａｓ半導体レ
ーザーは、ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）、
ヒ素（Ａｓ）の３つの材料を組み合わせた半導体レーザ
ーで、発振効率にすぐれ、２ボルト程度の低い電圧で発
振する特性を持ち、従来のレーザー装置に比べて小型・
軽量である。
【００３３】Ｇａ．Ａｌ．Ａｓ半導体レーザーの波長は
赤外線領域の８３０ｎｍで、熱作用によって皮膚血行を
高める効果があり、水分や血液に吸収されにくいため、
優れた皮膚深達性を持つ。出力は１〜２Ｗ程度で、最近
では３Ｗ以上の高出力のものもあるが、組織を損傷する
作用はまったくなく、皮膚に障害を起こす危険性はな
い。
赤外線領域の８３０ｎｍで、熱作用によって皮膚血行を
高める効果があり、水分や血液に吸収されにくいため、
優れた皮膚深達性を持つ。出力は１〜２Ｗ程度で、最近
では３Ｗ以上の高出力のものもあるが、組織を損傷する
作用はまったくなく、皮膚に障害を起こす危険性はな
い。
【００３４】レーザートリートメントの後、皮膚に残っ
た汚れは濡らしたタオル、ティッシュペーパー等で綺麗
に拭き取る。仕上げに本発明の美容液１を皮膚上に薄く
のばして塗布すると更に効果が高められる。
た汚れは濡らしたタオル、ティッシュペーパー等で綺麗
に拭き取る。仕上げに本発明の美容液１を皮膚上に薄く
のばして塗布すると更に効果が高められる。
【００３５】本発明のレーザートリートメント方法で
は、上記のような各種成分を配合した美容液１を皮膚に
塗布してからレーザー光を照射するので、心地よくレー
ザートリートメントを行うことができる。更にヒノキフ
レーバーを配合した美容液１を用いる場合には、ヒノキ
の香りにより穏やかな気分でレーザートリートメントを
行うことができる。また、本発明の美容液１には上記抑
毛成分が配合されているので、レーザー光照射によるト
リートメント後の体毛の成長を抑えて健やかな素肌を保
つことができる。
は、上記のような各種成分を配合した美容液１を皮膚に
塗布してからレーザー光を照射するので、心地よくレー
ザートリートメントを行うことができる。更にヒノキフ
レーバーを配合した美容液１を用いる場合には、ヒノキ
の香りにより穏やかな気分でレーザートリートメントを
行うことができる。また、本発明の美容液１には上記抑
毛成分が配合されているので、レーザー光照射によるト
リートメント後の体毛の成長を抑えて健やかな素肌を保
つことができる。
【００３６】更に本発明の美容液１には上記清涼成分が
配合されているので、レーザー光の照射を行う前に被ト
リートメント部位に軽く塗るだけで涼しい感触で皮膚を
傷めずにスムーズに脱毛等のレーザートリートメントを
行うことができる。また、本発明の美容液１には上記殺
菌成分や上記保湿成分が配合されているので、レーザー
光の照射によるレーザートリートメントの際、毛穴から
の雑菌によるスキントラブルやレーザー光の照射による
皮膚の乾燥、肌荒れ等の心配もなく、爽やかな潤いが皮
膚のキメを整えて保護する。更に本発明の美容液には、
上記抑毛成分が配合されているので、体毛の成長を鈍化
させ、優れた抑毛作用を得ることができる。
配合されているので、レーザー光の照射を行う前に被ト
リートメント部位に軽く塗るだけで涼しい感触で皮膚を
傷めずにスムーズに脱毛等のレーザートリートメントを
行うことができる。また、本発明の美容液１には上記殺
菌成分や上記保湿成分が配合されているので、レーザー
光の照射によるレーザートリートメントの際、毛穴から
の雑菌によるスキントラブルやレーザー光の照射による
皮膚の乾燥、肌荒れ等の心配もなく、爽やかな潤いが皮
膚のキメを整えて保護する。更に本発明の美容液には、
上記抑毛成分が配合されているので、体毛の成長を鈍化
させ、優れた抑毛作用を得ることができる。
【００３７】また本発明の美容液１は基材として変性ア
ルコールや精製水などの揮発性の基材を用いているの
で、レーザートリートメントの後に皮膚を洗浄する必要
もなく、容易にトリートメントを行うことができる。更
に肌荒れや乾燥に爽やかな心地を与える潤い美容液とし
て使用することができる。
ルコールや精製水などの揮発性の基材を用いているの
で、レーザートリートメントの後に皮膚を洗浄する必要
もなく、容易にトリートメントを行うことができる。更
に肌荒れや乾燥に爽やかな心地を与える潤い美容液とし
て使用することができる。
【００３８】更に美容液１には、脱毛用に表面麻酔を行
う麻酔剤を配合したり、アフターケア用に抗生物質入り
のステロイド剤などを配合してもよい。また、美肌や育
毛に効果のある各種の栄養成分を配合してもよい。
う麻酔剤を配合したり、アフターケア用に抗生物質入り
のステロイド剤などを配合してもよい。また、美肌や育
毛に効果のある各種の栄養成分を配合してもよい。
【００３９】なお本発明の範囲は上記実施形態に限定さ
れない。例えば、上記実施形態では本発明の美容液とレ
ーザー処理装置とを脱毛処理に使用したが、脱毛以外の
レーザートリートメントとして美肌、痩身、育毛などの
トリートメントを行うことも可能である。
れない。例えば、上記実施形態では本発明の美容液とレ
ーザー処理装置とを脱毛処理に使用したが、脱毛以外の
レーザートリートメントとして美肌、痩身、育毛などの
トリートメントを行うことも可能である。
【００４０】
【発明の効果】本発明の美容液は、美容液の中に抑毛成
分やレーザー吸収促進成分を含んでいるので、短時間の
レーザー光照射や、少ないレーザー光の照射回数で十分
なトリートメント効果が得られる。
分やレーザー吸収促進成分を含んでいるので、短時間の
レーザー光照射や、少ないレーザー光の照射回数で十分
なトリートメント効果が得られる。
【図１】本発明に係るレーザートリートメントの概要図
である。
である。
１…レーザートリートメント用美容液、２…レーザー処
理装置。
理装置。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ａ６１Ｋ 7/155 Ａ６１Ｋ 7/155
Ａ６１Ｎ 5/06 Ａ６１Ｎ 5/06 Ｅ
Ｆターム(参考） 4C082 RA01 RC09 RE22
4C083 AA111 AB051 AC101 AC121
AC491 AC581 AC791 AC851
AD041 AD331 AD471 AD531
BB51 BB53 CC04 DD23 EE10
EE12
Claims (5)
- 【請求項１】 基材と、清涼成分と、保湿成分と、抗炎
成分と、抑毛成分と、 ４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を有する生薬類から
選択される１又は２以上のレーザー吸収促進成分と、 を具備するレーザートリートメント用美容液。 - 【請求項２】 請求項１に記載のレーザートリートメン
ト用美容液であって、前記レーザー吸収促進成分が、５
５０ｎｍ〜８３０ｎｍに吸収帯域を有する生薬類から選
択される１又は２以上のレーザー吸収促進成分であるこ
とを特徴とするレーザートリートメント用美容液。 - 【請求項３】 請求項１に記載のレーザートリートメン
ト用美容液であって、 前記基材が、変性アルコール、及び、精製水からなる群
から選択される１又は２であり、 前記清涼成分が、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ｌ−メントール、及び、ｄｌ−カンフルからなる群
から選択される１又は２以上であり、 前記保湿成分が、グリセリン、１，３−ブチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、ヒアルロン酸、ソルビ
ット、及び、トリメチルグリシンからなる群から選択さ
れる１又は２以上であり、 前記抗炎成分が、オトギリ草エキス、サボン草エキス、
トウキンセンカエキス、クチナシエキス（アラントイ
ン）、ホップエキス、オウバクエキス、ラベンダーエキ
ス、桃葉エキス、茶エキス、及び、エチナシエキスから
なる群から選択される１又は２以上であり、 前記抑毛成分が、臭化アルキルキノリニウム、オウバク
エキス、ホップエキス、パパイン酵素、及びトウセンカ
エキスからなる群から選択される１又は２以上であり、 前記レーザー吸収促進成分が、赤色５０４号色素、オウ
バクエキス、クチナシエキス、及びコチニ−ルからなる
群から選択される１又は２以上であることを特徴とする
レーザートリートメント用美容液。 - 【請求項４】 基材、清涼成分、保湿成分、抗炎成分、
抑毛成分、及び、４００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収帯域を
有する生薬類から選択される１又は２以上のレーザー吸
収促進成分を含むトリートメント用美容液を用いて前処
理する工程と、 レーザー光を用いて処理する工程と、 を具備するレーザートリートメント方法。 - 【請求項５】 請求項４に記載のレーザートリートメン
ト方法であって、 前記基材が、変性アルコール、及び、精製水からなる群
から選択される１又は２であり、 前記清涼成分が、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ｌ−メントール、及び、ｄｌ−カンフルからなる群
から選択される１又は２以上であり、 前記保湿成分が、グリセリン、１，３−ブチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、ヒアルロン酸、ソルビ
ット、及び、トリメチルグリシンからなる群から選択さ
れる１又は２以上であり、 前記抗炎成分が、オトギリ草エキス、サボン草エキス、
トウキンセンカエキス、クチナシエキス（アラントイ
ン）、ホップエキス、オウバクエキス、ラベンダーエキ
ス、桃葉エキス、茶エキス、及び、エチナシエキスから
なる群から選択される１又は２以上であり、 前記抑毛
成分が、臭化アルキルキノリニウム、オウバクエキス、
ホップエキス、パパイン酵素、及びトウセンカエキスか
らなる群から選択される１又は２以上であり、 前記レーザー吸収促進成分が、赤色５０４号色素、オウ
バクエキス、クチナシエキス、及びコチニ−ルからなる
群から選択される１又は２以上であることを特徴とする
レーザートリートメント方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001199743A JP2003012487A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001199743A JP2003012487A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003012487A true JP2003012487A (ja) | 2003-01-15 |
Family
ID=19036995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001199743A Pending JP2003012487A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2003012487A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005077458A1 (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Fancl Corporation | 化学発光利用化粧・美容方法、皮膚照射美容用発光体及び化粧・美容用具 |
| WO2008129741A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-30 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | 毛成長調節方法及びその装置 |
| JP2011511049A (ja) * | 2008-02-06 | 2011-04-07 | ロレアル | 特に皮膚および／または髪の外観を改善するための、光線とチトクロームｃオキシダーゼ基質との組合せ |
| CN116585239A (zh) * | 2023-06-26 | 2023-08-15 | 广州芭妍化妆品有限公司 | 一种婴儿用金盏花液体爽身露及其制备方法 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5641668A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-18 | Toshiba Corp | Circular fluorescent lamp |
| JPH08283121A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-10-29 | Kanebo Ltd | アルコール刺激緩和剤及びアルコール水溶液 |
| JPH11322548A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-24 | Ichimaru Pharcos Co Ltd | 発毛抑制剤 |
| JP2000060980A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-02-29 | Ya Man Ltd | レーザトリートメント方法 |
| JP2000080018A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Ya Man Ltd | レーザトリートメント用パック |
| JP2000245855A (ja) * | 1999-03-04 | 2000-09-12 | Ya Man Ltd | レーザ脱毛方法 |
| JP2000299139A (ja) * | 1999-04-14 | 2000-10-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光電変換素子および光電気化学電池 |
| JP2000316996A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-21 | Ya Man Ltd | レーザ脱毛方法 |
| JP2000316997A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-21 | Ya Man Ltd | レーザ脱毛方法 |
| JP2001026522A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Kao Corp | 発毛抑制剤 |
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001199743A patent/JP2003012487A/ja active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5641668A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-18 | Toshiba Corp | Circular fluorescent lamp |
| JPH08283121A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-10-29 | Kanebo Ltd | アルコール刺激緩和剤及びアルコール水溶液 |
| JPH11322548A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-24 | Ichimaru Pharcos Co Ltd | 発毛抑制剤 |
| JP2000060980A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-02-29 | Ya Man Ltd | レーザトリートメント方法 |
| JP2000080018A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Ya Man Ltd | レーザトリートメント用パック |
| JP2000245855A (ja) * | 1999-03-04 | 2000-09-12 | Ya Man Ltd | レーザ脱毛方法 |
| JP2000299139A (ja) * | 1999-04-14 | 2000-10-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光電変換素子および光電気化学電池 |
| JP2000316996A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-21 | Ya Man Ltd | レーザ脱毛方法 |
| JP2000316997A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-21 | Ya Man Ltd | レーザ脱毛方法 |
| JP2001026522A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Kao Corp | 発毛抑制剤 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005077458A1 (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Fancl Corporation | 化学発光利用化粧・美容方法、皮膚照射美容用発光体及び化粧・美容用具 |
| JPWO2005077458A1 (ja) * | 2004-02-13 | 2007-10-18 | 株式会社ファンケル | 化学発光利用化粧・美容方法、皮膚照射美容用発光体及び化粧・美容用具 |
| WO2008129741A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-30 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | 毛成長調節方法及びその装置 |
| KR101167959B1 (ko) | 2007-03-30 | 2012-07-23 | 고쿠리쓰 다이가쿠호진 시마네다이가쿠 | 모발 성장 조절 장치 |
| US8568463B2 (en) | 2007-03-30 | 2013-10-29 | Panasonic Corporation | Hair growth modulating method and modulation device thereof |
| JP2011511049A (ja) * | 2008-02-06 | 2011-04-07 | ロレアル | 特に皮膚および／または髪の外観を改善するための、光線とチトクロームｃオキシダーゼ基質との組合せ |
| US9119798B2 (en) | 2008-02-06 | 2015-09-01 | L'oreal | Combination of a light ray with a cytochrome C oxidase substrate particularly for improving the appearance of the skin and/or hair |
| US9827311B2 (en) | 2008-02-06 | 2017-11-28 | L'oreal | Combination of a light ray with a cytochrome C oxidase substrate particularly for improving the appearance of the skin and/or hair |
| CN116585239A (zh) * | 2023-06-26 | 2023-08-15 | 广州芭妍化妆品有限公司 | 一种婴儿用金盏花液体爽身露及其制备方法 |
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