JP2003016821A - ランプリフレクターおよび反射体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高反射率を示す銀を反射層に使用し、かつ耐
光性、湿熱耐久性の優れた反射シートを提供し、かつ、
同反射シートを用いた輝線の発生しないランプリフレク
ターを提供する。 【解決手段】 高分子フィルム４０上に、下地層３０、
銀を主体とする金属層２０、保護層１０の少なくとも３
層を順に構成した反射シートを、高分子フィルム４０側
を接着面として、成形体と接着剤により貼り合わせるこ
とにより得られる反射体１を用い、ランプリフレクター
２に加工する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、銀を高分子フィル
ム上に積層して構成する反射体及びそれを用いたランプ
リフレクターに関する。さらに詳しくは、耐光性および
湿熱耐久性に優れた銀を主体とする多層の構成からなる
反射体及びそれを用いたランプリフレクターに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、蛍光灯または白熱灯用の反射体と
して鏡面研磨されたアルミニウム板またはアルミニウム
蒸着シートなど反射率の高いアルミニウム素材が用いら
れてきた。近年、反射層として可視光領域で特にアルミ
ニウムよりも反射率の高い銀を用いた反射体が、液晶表
示装置のバックライト部のランプリフレクターを中心
に、蛍光灯の反射傘などに用いられている。

【０００３】これらの反射体はＰＥＴ（ポリエチレンテ
レフタラート）／銀薄膜層／接着層／アルミ板からなる
いわゆる銀反射板、またはＰＥＴ／銀薄膜層／白塗装／
接着層／アルミ蒸着層／高分子フィルム／白塗装からな
るいわゆる銀反射シートを折り曲げ加工等の所定の加工
を行って用いられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら銀はアル
ミニウムに比べて大気中で硫化および酸化による変色、
ならびにこれに伴う反射率低下が起こる問題があった。
そこで、透明高分子フィルムであるＰＥＴを銀の保護層
として用いることにより、大気曝露による銀の硫化およ
び酸化を防止し、高反射率を維持する方法が開発された
（特開平５−１７７７５８号公報、特開平９−１５０４
８２号公報等）。例えば、上記銀反射板の信頼性を例に
挙げると、高温（８０℃）下でも硫化などによる黒化は
観察されず、また、反射率の低下も観察されない。しか
しながら、８０℃の高温下で、数百から数千時間で銀が
紫色に変色し、反射率が急激に低下する。また、耐湿熱
性試験（６０℃、相対湿度９０％）では、点状の白点が
多数発生し、反射率が低下するという問題がある。

【０００５】また、上記の銀反射体を液晶表示装置用の
サイドライト型バックライトのランプリフレクターに用
いると高輝度を得ることが出来るが、輝度の上昇と共に
輝線が発生しディスプレイとしての表示品位が低下する
問題があった。

【０００６】本発明の課題は、高反射率を示す銀を反射
層に使用し、かつ耐光性、湿熱耐久性に優れ、例えばバ
ックライト装置に用いた場合に輝線の発生を起こさない
反射体及びそれを用いたランプリフレクターを提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、鋭意検討した結果、驚くべきこと
に、高分子フィルム上に、下地層、銀層、透明酸化物層
の３層を順に構成した反射体を、高分子フィルム側を接
着面として、成形体と貼り合わせることにより、上記の
課題を解決出来ることを見いだした。また、本発明を完
成するに至った。

【０００８】本発明は、少なくとも基材（Ａ）に下地層
（Ｂ）と、銀を主体とする金属層（Ｃ）と、無機物から
なる保護層（Ｄ）とからなる反射層を有するランプリフ
レクターであって、温度１００℃で３００時間、照射強
度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を反射層側から照射
後の波長５５０ｎｍにおける全反射率が９０％以上であ
ることを特徴とするランプリフレクターである。

【０００９】本発明に従えば、高反射率で耐久性が高い
ランプリフレクターが得られ、このランプリフレクター
を液晶表示装置などのバックライトに備えた場合、高い
輝度で且つ輝線の発生しない高品位の画像を実現するこ
とが可能である。

【００１０】本発明は、下地層（Ｂ）が、金、銅、ニッ
ケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タン
タル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしく
は、パラジウムから選ばれた金属の単体および／または
これらの２種以上からなる合金から成り、厚さが５ｎｍ
以上５０ｎｍ以下の金属層および／または厚さが１ｎｍ
以上２０ｎｍ以下の金属塩層または金属酸化物層である
ことを特徴とする。

【００１１】本発明に従えば、十分なバリヤー効果が得
られ、銀を主体とする金属層形成時に凝集が発生せず、
また基材と反射層との密着性にも優れる。

【００１２】本発明は、銀を主体とする金属層（Ｃ）
が、銀単体或いは、銀を主体とした合金から成り、該層
の厚みが、７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることを特
徴とする。本発明に従えば、十分な厚みの金属層により
所望の反射率を実現できる。

【００１３】本発明は、無機物からなる保護層（Ｄ）
が、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、
モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガ
ン、チタンもしくは、パラジウムから選ばれた金属の単
体および／またはこれらの２種以上からなる合金から成
り、厚さが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層および／ま
たは厚さ１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の透明酸化物層であ
ることを特徴とする。

【００１４】本発明に従えば、十分なバリヤー効果が得
られ、銀を主体とする金属層形成時に凝集が発生しな
い。

【００１５】本発明は下地層（Ｂ）と保護層（Ｄ）の厚
みの和と銀を主体とする層（Ｃ）との厚みの比が０．０
０５〜０．３であることを特徴とする。

【００１６】本発明に従えば、低いコストで、成形性、
耐久性に優れたランプリフレクターを得ることが出来
る。

【００１７】本発明は、基材（Ａ）の反射層とは反対側
の面に凹凸形状を有することを特徴とする。

【００１８】本発明に従えば、反射層を支持体などと貼
合する際に操作性の改善、接着力の向上を実現出来る。

【００１９】本発明は、金属または高分子製の板または
シートから成る支持体をさらに含むことを特徴とする。

【００２０】本発明に従えば、高強度、高放熱性、高導
電性等の特性をランプリフレクターに付与することが出
来る。

【００２１】本発明は、反射層側の曲率半径が５ｍｍ以
下であることを特徴とする。本発明によれば、ランプリ
フレクターの成形性が優れ、細かい加工を行うことが可
能で、バックライトを小型化することが出来る。

【００２２】本発明は、少なくとも基材（Ａ）に下地層
（Ｂ）、銀を主体とする金属層（Ｃ）、透明酸化物を主
体とする保護層（Ｄ２）からなる反射層を有し、温度１
００℃で３００時間、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬
似太陽光を反射層側から照射後の波長５５０ｎｍにおけ
る全反射率が９０％以上であることを特徴とする反射体
である。

【００２３】本発明に従えば、高反射率で耐久性が高
く、高い輝度で且つ輝線の発生しない高品位の画像を実
現できる液晶表示装置などのバックライトが得られる。

【００２４】本発明は、下地層（Ｂ）と保護層（Ｄ２）
の厚みの和と銀を主体とする層（Ｃ）との厚みの比が
０．００５〜０．３であることを特徴とする。

【００２５】本発明に従えば、低いコストで、成形性、
耐久性に優れた反射体を得ることが出来る。

【００２６】本発明は、保護層（Ｄ２）が、酸化アルミ
ニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、ガリウム
が１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛から選ばれる厚
さ１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の層であることを特徴とす
る。

【００２７】本発明に従えば、十分なバリヤー効果が得
られ、銀を主体とする金属層形成時に凝集が発生しな
い。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下図面を参考にして本発明の好
適な実施の形態を詳細に説明する。

【００２９】図１は、本発明の実施の一形態である反射
体１を示す断面図である。尚、無機物からなる保護層
は、今後単に保護層と言うことがある。

【００３０】本発明の反射体１は、反射層１００と、基
材４０とから成る。反射層１００は、保護層１０と、銀
を主体とする金属層２０と、下地層３０とからなる。

【００３１】図２は、本発明の実施の他の形態である反
射体１ａを示す断面図である。本発明の反射体１ａは、
反射層１００と、基材４０と、マット処理層５０とから
成る。反射層１００は、保護層１０と、銀を主体とする
金属層２０と、下地層３０とからなる。マット処理層５
０は、反射層１００とは反対側の基材面に形成されてい
る。

【００３２】図３は、本発明の実施の一形態であるラン
プリフレクター２を示す断面図である。

【００３３】本発明のランプリフレクター２は、例え
ば、図１に示した反射体１の基材４０側と支持体７０と
が接着層６０を介して貼合されている。

【００３４】図４は、本発明の実施の他の形態であるラ
ンプリフレクター３の斜視図である。

【００３５】本発明のランプリフレクター３は、図３に
示した様なランプリフレクター２が折り曲げ加工等の方
法で成型されている。

【００３６】図５は、図４に示されるランプリフレクタ
ー３の軸直角断面図である。本発明のランプリフレクタ
ー３は保護層１０と、銀を主体とする金属層２０と、下
地層３０とからなる反射層１００がランプに臨む内側に
なるように加工されている。

【００３７】図６は本発明実施の他の形態であるランプ
リフレクター３を用いたサイドライト型バックライトの
斜視図である。

【００３８】本発明のランプリフレクター３はランプ９
０を包み込む形態でバックライトの側面に配置される。

【００３９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おける基材（Ａ）は、アルミニウム、真鍮、ステンレ
ス、鋼等の金属、セラミック、高分子製の板、シート、
フィルムの他、粘着剤シート、接着剤シート等が用いら
れる。

【００４０】これらの中でも形状の自由度が高く、例え
ば金属層２０を作成する際にロールツーロールプロセス
が適用できる高分子フィルムが望ましい。

【００４１】本発明の反射体１において、使用するのに
好ましい高分子フィルムは、例えばポリエチレンテレフ
タラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタラートなどの
ポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネート
などのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、環状オレフィン共重合体、エチレン-酢酸ビニル
共重合体等のポリオレフィン類、セルローストリアセテ
ートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルブチラール類などのビニル系樹脂、ポリスチ
レン類、ポリイミド類、ナイロン等のポリアミド類、ポ
リエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレ
ート系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエーテルエーテルケト
ン類、ポリウレタン類、ポリアクリル酸、ポリアクリル
酸エステル類、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エ
ステル類、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニト
リルなどのニトリル類、ポリエチレンオキシドなどのポ
リエーテル類、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール
類、ポバール等のポリアセタール類等各種プラスチック
からなるフィルムが挙げられる。しかしながら必ずしも
これらに限定されるものではなく、結晶化温度およびガ
ラス転移点が室温より高く、平滑な表面を持つものであ
れば使用できる。なかでもポリエチレンテレフタラート
等のポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリアミド
類が好ましい。

【００４２】使用される高分子フィルムの厚みは、通常
は１〜２５０μｍであり、好ましくは５〜２００μｍ、
特に好ましくは１０〜２００μｍであり、その引張弾性
率や曲げ弾性率が１００ＭＰａ以上、好ましくは５００
ＭＰａ以上、更に好ましくは８００ＭＰａ以上、特に好
ましくは１０００ＭＰａ以上である。

【００４３】本発明で基材として用いることが出来る粘
着剤シートは後述する下地層、銀を主体とする層、保護
層等を形成する際に安定なものであれば特に制限はない
が、具体的に例示すると、ゴム系粘着剤、アクリル系粘
着剤、シリコーン系粘着剤、ビニル系粘着剤等である。
中でもアクリル系粘着剤は、安価であるために広く用い
られる。

【００４４】本発明で基材として用いる事が出来る接着
剤シートは、後述する下地層、銀を主体とする層、保護
層等を形成する際に安定なものであれば特に制限はない
が、具体的には、シリコン系接着剤、ポリエステル系接
着剤、アクリル系接着剤などを用いることができる。こ
れらの接着剤は、ホットメルト型であることが好まし
い。

【００４５】上記の基材は、強度、靱性、後述する反射
層の密着性のバランスを取る等の目的で２種類以上組み
合わせて用いても良い。後述する反射層を形成する前に
組合せても、形成後に組み合わせても良い。

【００４６】また本発明の基材は、後述する下地層
（Ｂ）の形成を容易にしたり表面平滑性を高める等の目
的で表面処理を行っても良い。具体的にはコロナ放電処
理またはグロー放電処理、あるいは樹脂塗工等が挙げら
れる。塗工樹脂としては、具体的にはポリメタクリル酸
メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹
脂、ポリメタアクリロニトリル樹脂、エチルシリケート
より得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹
脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレ
フィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、エポキシ樹脂、またはこれらの混合物などが挙
げられる。

【００４７】本発明の反射体において、反射層１００は
少なくとも下地層（Ｂ）と、銀を主体とする金属層
（Ｃ）と、保護層（Ｄ）との３層からなる。この際、基
材側の第１層が下地層（Ｂ）であり、最外層が保護層
（Ｄ）であれば３層以上であっても良く、例えば（Ｂ）
（Ｃ）（Ｄ）（Ｃ）（Ｄ）、（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｃ）
（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）の様な３層以上の多層構造であって
も良い。層数が増えると生産効率が低下する傾向にある
ので、好ましくは３〜２０層より好ましくは３〜１５層
である。

【００４８】下地層（Ｂ）の好ましい例としては、銀と
は異なる金属層、金属塩層、または金属酸化物層を挙げ
ることが出来る。具体的には、金、銅、ニッケル、鉄、
コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロ
ム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ジル
コニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、セリウ
ム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、
ガリウムなどの金属単体、もしくは２種以上からなる合
金、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、ス
ズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウ
ム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の
酸化物、これら酸化物の混合物、硫化亜鉛、またはフッ
化マグネシウム等の金属化合物が例示できる。これらの
中でも金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステ
ン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マン
ガン、チタン、パラジウム単体、またはこれらの２種類
以上からなる合金、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ス
ズが好ましく、より好ましくは酸化アルミニウムが５重
量％以下でドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量
％以下でドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズとの
酸化物（ＩＴＯ）、特に好ましくは酸化アルミニウムが
５重量％以下でドープされた酸化亜鉛、またはガリウム
が１０重量％以下でドープされた酸化亜鉛を挙げること
が出来る。またこれらの２種類以上を組み合わせたり、
多層化して用いることも出来る。

【００４９】銀を主体とする金属層（Ｃ）には、銀単体
或いは、不純物として金、銅、ニッケル、鉄、コバル
ト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、イ
ンジウム、ネオジウム、マンガン、チタン、パラジウム
などを少量含有している金属、または銀を主体とした合
金が好ましく用いられる。これらの不純物の含有量は、
金属の種類によって異なるが、０．００２〜８重量％で
あり、好ましくは０．００４〜５重量％、特に好ましく
は０．００５〜４重量％である。

【００５０】保護層（Ｄ）には下地層（Ｂ）と同様の金
属、または酸化物の他、これらと銀を主体とした合金か
ら選ばれる２種類以上を組み合わせたり、多層化して用
いることが出来る。

【００５１】これらの中でも金属酸化物、好ましくは、
インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、
亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、
ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム、珪素等
の酸化物、より好ましくは透明酸化物 (Ｄ２)でありイ
ンジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、錫、アン
チモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、
トリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、亜鉛、
ガリウムなどの酸化物が挙げられる。更に好ましくは亜
鉛、インジウム、錫から選ばれる金属の酸化物である。
これらの酸化物は、本発明の目的を損なわない範囲であ
れば、他の性能を付与する目的で１０重量％以下の割合
で不純物を添加しても良い。また、２種以上を組み合わ
せて用いることもできる。特に好ましい例としては酸化
アルミニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜鉛、
ガリウムが１０重量％以下でドープされた酸化亜鉛、ま
たはインジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）が挙げられ
る。

【００５２】上記の下地層（Ｂ）、銀を主体とする金属
層（Ｃ）および保護層（Ｄ）である金属薄膜層の形成方
法としては、湿式法と乾式法とがある。湿式法とはメッ
キ法の総称であり、溶液から金属を析出させて膜を形成
する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応な
どがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であ
り、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着
法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法な
どがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロー
ルトゥロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いら
れる。

【００５３】本発明の反射体の反射層を真空蒸着法で製
造する場合、通常、スパッタ装置が３機連結された装置
が好ましく用いられるが、下地層と保護層が同一化合物
で形成される場合、ロールの回転を途中で反転させるこ
とにより、スパッタ装置が２機連結された装置でも所望
の反射体を得ることが出来る。

【００５４】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、または誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧
を上昇させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏ
ｒｒ）以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴ
ンなどのガスを１３．３ｍＰａ以上で導入し、高周波も
しくは直流のグロー放電を起こしても良い。この際、初
期の気圧は低い方が好ましく、具体的には２０ｍＰａ以
下より好ましくは７ｍＰａ〜０．１ｍＰａである。

【００５５】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、またはコンベンショナルＤＣスパッタ法などを
用いる。

【００５６】スパッタ法においては、原材料として金属
から成る板状のターゲットを用いればよく、スパッタガ
スにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセ
ノンなどを使用し、好ましくはアルゴンを用いる。ガス
の純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９
９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真
空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使
用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴ
ン、クリプトン、キセノンなどを使用し、条件によって
は酸素ガスを用いて行うこともある。

【００５７】基材上に形成する薄膜の厚みは、反射体１
を構成した際に光線透過率が１％未満になるように考慮
して決められる。

【００５８】下地層（Ｂ）の厚みは、金属層を用いた場
合、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましく
は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍ
よりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、銀
を主体とする金属層（Ｃ）に凝集を発生させる場合があ
る。また、５０ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が
無い。また、金属塩または金属酸化物を用いた場合、金
属塩または金属酸化物層の厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ
以下が好ましく、さらに好ましくは、５ｎｍ以上１０ｎ
ｍ以下である。金属塩層、または金属酸化物層の厚みが
１ｎｍよりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られ
ず、銀を主体とする金属層（Ｃ）に凝集を発生させる。
また、２０ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が無
い。

【００５９】銀を主体とする金属層（Ｃ）の厚みは、７
０ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは
１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１３
０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である。銀を主体とする金属
層（Ｃ）の厚みが７０ｎｍよりも薄い場合は、金属層の
形成が不十分であるので、所望の反射率を得ることが出
来ない場合がある。また、４００ｎｍよりも厚くしても
その効果に変化はない。

【００６０】保護層（Ｄ）の厚みは、金属層を用いた場
合、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましく
は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍ
よりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、銀
を主体とする金属層（Ｃ）に凝集を発生させる場合があ
る。また、５０ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が
無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、
１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましく
は、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。透明酸化物層の厚
みが１ｎｍよりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得
られず、銀を主体とする金属層（Ｃ）に凝集を発生させ
る。また、２０ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が
無い。

【００６１】本発明のランプリフレクターは、下地層
（Ｂ）と保護層（Ｄ）の厚みの和と銀を主体とする金属
層（Ｃ）の厚みとの比が０．００５〜０．３、好ましく
は０，０１〜０．２５、更に好ましくは０．０１〜０．
２、特に好ましくは０．０２〜０．２である。

【００６２】銀を主体とする層に比べて下地層、保護層
が厚すぎると製造コストが高くなるばかりか、その内部
応力の影響で反射層の破損による耐久性低下や剥離、反
射色の変化、後述する曲げ加工性が低下等の問題が発生
する事がある。

【００６３】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、また
は水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動
子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚
を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定
めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の
関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法
もある。

【００６４】このようにして作製された反射体の、金属
反射層側から測定される反射率は典型的には、５５０ｎ
ｍの波長の光に対して９０％以上であり、より詳しくは
９２％以上であり、さらに好ましくは９４％以上であ
る。

【００６５】本発明の反射体は耐久性が高く、例えば温
度１００℃で３００時間、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²
の擬似太陽光を反射層側から照射した後でも、波長５５
０ｎｍにおける全反射率が９０％以上の高い光熱劣化耐
性を示す。ここで擬似太陽光とは、屋外での晴天時の太
陽光と同様なスペクトルをもつ光である。具体的には、
キセノンランプに光学フィルターを組み合わせて擬似太
陽光スペクトルを得る。温度は、試料を保持したアルミ
板に設置した熱電対と板状ヒーターとを温度コントロー
ラーに接続した装置で制御される。

【００６６】本発明の耐久性を評価する他の方法とし
て、硫化水素曝露試験も採用できる。この方法は、密閉
容器中に一辺５ｃｍの正方形に切り出した反射体を入
れ、同容器内に３０ｐｐｍになる様に硫化水素を添加
し、２４時間、室温で静置する事によって行う。本発明
の反射体は、本硫化水素曝露試験後も黒変等が無く、反
射率も９０％以上を示し、硫化水素耐性も高い。

【００６７】本発明の耐久性試験法として高温高湿試験
も採用できる。この方法は、温度が６０℃、湿度が９０
％の恒温恒湿槽に一辺５ｃｍの正方形に切り出した反射
体を入れ５００時間静置する事によって行う。本発明の
反射体は、高温高湿試験後も黒変等が無く、反射率も９
０％以上を示し、反射層の碁盤目剥離テストでも全く剥
離が起こらない。

【００６８】上記の反射体には、必要に応じてベンゾト
リアゾールやアクリル系等の透明樹脂、または他の有機
物をコートしても良い。この際には主に湿式法が用いら
れ、その厚みは０．１〜１００μｍ、好ましくは０．５
〜５０μｍである。

【００６９】本発明の反射体は、ロールトゥーロールプ
ロセス、または枚葉プロセスなどの方法で得られるが、
生産性の高いロールトゥーロールプロセスで生産するこ
とが好ましい。

【００７０】本発明の反射体は、ロール形状、または枚
葉形状等の形状で得られるが、上記のプロセス上の理由
からロール形状で得られることが好ましい。

【００７１】本発明のランプリフレクターは、上記の反
射体を成形加工して得ることができるが、好ましくは、
上記反射体と支持体とからなる。

【００７２】本発明の支持体は、金属、高分子製の板ま
たはシートが用いられる。用いられる金属として具体的
にはアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、
銅亜鉛合金、または鋼等である。これらの金属にはそれ
ぞれ長所があり、次のように使い分けることができる。
アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率
が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことが
できるので、ランプ発光によって反射体が加熱されるＬ
ＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は
軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的強度
が適度にあり、また耐蝕性に優れている。銅亜鉛合金、
たとえば黄銅すなわち真鍮は、機械的強度の強いことに
加え、はんだづけが容易であるので、電気的端子を取付
け易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時
に好ましく用いられる。また形状記憶合金を用いれば加
工性に優れる等の利点がある。

【００７３】プラスチックの板やシートを用いることも
出来る。用いられる材質としては、二軸延伸ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））、ポリ
エチレンナフタラート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフ
タラート（ＰＢＴ）、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテル
エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアレリート、ポリエ
ーテルイミド、ポリイミドなどのホモポリマーまたは、
コポリマーがあげられる。特に好ましくは、ポリエチレ
ンテレフタラートフィルムであり、該高分子フィルムが
最外層である場合には外観上白色のものが好まれる。こ
れらの材料は一般的に金属板に比べて軽量化が図ること
ができるという特徴がある。支持体としての高分子フィ
ルム、またはシートの厚みは、コスト低減、及び曲げや
すさの観点からは薄い方が好ましく、反射体１とのラミ
ネートする際の取扱い（ハンドリング）性、及び形状保
持性の観点からは、厚い方が好まれる。好ましいフィル
ムの厚みは、５μｍ以上５００μｍ以下、より好ましく
は１０μｍ以上２００μｍ以下であり、さらに好ましく
は１５μｍ以上１００μｍ以下である。また、前述の反
射体の基材が上記支持体と同様の材料である場合は支持
体が不要になる場合がある。また、後述する折り曲げ加
工が困難な場合は、環状オレフィンポリマー等の形状記
憶樹脂を用いて解決することもできる。

【００７４】反射体は、好ましくは粘着剤または接着剤
によって反射体の基材側で板状成形体である支持体に固
定される。特に好ましくは接着剤が使用される。

【００７５】上記の粘着剤は、具体的に例示するとゴム
系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ビ
ニル系粘着剤等である。中でもアクリル系粘着剤は、安
価であるために広く用いられる。

【００７６】上記の接着剤は、熱または触媒の助けによ
って接着される接着剤であり、具体的には、シリコン系
接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、シ
アノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤など一般
的な接着剤を用いることができる。エポキシ系接着剤は
強度と耐熱性とに優れているので、これもまた好適に利
用できる。シアノアクリレート系接着剤は、即効性と強
度とに優れているので、効率的な反射体作製に利用でき
る。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホ
ットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ましくは
連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使
用される。どの接着剤を使用した場合でもその厚みは、
０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。

【００７７】上記の基材と支持体とはラミネーターを用
いたロールトゥロールまたはロールトゥーシートプロセ
スなどで貼り合わせ、ロール形状または枚葉形状の製品
が得られる。例えば接着剤を用いる場合、反射体の基材
側への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる板
状成形体とのラミネート、の手順により行われる。

【００７８】接着剤のコーティング方法は、基材および
接着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用さ
れているのは、グラビアコーター方式及び、リバースコ
ーター方式である。グラビアコーター方式では、接着剤
に一部浸されているグラビアロールを回転させ、バック
アップロールによって送られるフィルムを接着剤が付着
したグラビアロールに接触させることによってコーティ
ングする。コーティング量はロールの回転数、接着剤の
粘度を制御することで調整できる。リバースコーター方
式も、グラビアコーター方式に類似した方法であるが、
コーティングロールに付着する接着剤の量を、それに接
して設置されているメタリングロールによって調整す
る。

【００７９】貼り合わせる際に必要に応じて加温するこ
ともできる。また、必要な接着強度を得るために熱処理
することもできる。上記貼りあわせの際の温度は０〜２
００℃、好ましくは１０〜１５０℃、より好ましくは２
０〜１２０℃であり、熱処理の温度は３０〜２５０℃、
好ましくは５０〜２００℃である。また、ロール抱き角
は、好ましくは１０〜１８０度である。

【００８０】上記の基材と支持体との接着強度は、９０
度ピール強度で測定して１００ｇ／ｃｍ以上であること
が好ましい。この接着強度に達しない場合には、加工し
た際、板状成形体から反射体の剥がれ等により変形等を
引き起こす可能性があるため好ましくない場合がある。

【００８１】上記粘着剤または接着剤は、製造の際に溶
媒を用いることが多い。この溶媒が貼合後も残存してい
ると経時的に剥離が生じやすくなったり反射層の劣化を
起こしたり(耐久性の低下)、バックライトに組み込んで
使用する場合、他の部材の劣化を引き起こしたりするこ
とがある。

【００８２】残存溶媒量は、その種類によって異なるが
好ましくは０．５g/ｃｍ²以下、より好ましくは０．１g
/ｃｍ²である。

【００８３】また、本発明においては反射体の反射層と
は反対側に凹凸形状を有することが好ましい。凹凸の高
さは０．１μｍ以上、好ましくは０．３μｍ以上、より
好ましくは０．５〜３０μｍである。このような凹凸形
状を形成することによって操作性の改善の他、接着力を
向上出来る場合がある。

【００８４】マット処理の方法としては、高分子フィル
ム表面にエンボス加工を施し凹凸構造を形成する方法、
ＳｉＯ₂などの粒子を高分子フィルム表面に高圧空気と
ともに吹き付けるサンドブラスト法、エッチング等の化
学的方法、粒子を塗布する方法等があり、必要な形状に
応じてその方法は選択される。

【００８５】本発明の反射体およびランプリフレクター
は製品として使用するまでの間、必要に応じて保護フィ
ルムを貼合して反射層表面を傷付きや異物付着を保護す
ることが出来る。保護フィルムは通常、基材フィルムと
粘着層とからなる。基材フィルムとして具体的には低密
度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体等のオレフィン
系共重合体、ＰＥＴ等のポリエステルなど汎用のフィル
ムが使用される。本発明の反射体、ランプリフレクター
は、保護フィルムを貼合したまま後述する成形加工を行
う事が多いので、フィルムには強度、伸びに優れている
ものが好ましく、具体的には、低密度ポリエチレン、直
鎖状低密度ポリエチレンが好ましく用いられる。

【００８６】粘着剤としては、反射層の劣化、剥離、経
時的な保護フィルム剥離を起こさず、保護フィルムを除
去する際に剥離しやすいものであれば特に制限はない
が、具体的にはゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリ
コーン系粘着剤、ビニル系粘着剤等が例示できる。

【００８７】本発明の反射体の構成、及び電気特性の代
表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、接着層、
および板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型電
子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定すること
ができる。基材および支持体の高分子フィルム分析は、
赤外分光（ＩＲ）で、銀薄膜層、基材、支持体の金属な
どは蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）、オージェ電子分光（ＡＥ
Ｓ）等により可能である。さらに、Ｘ線マイクロアナラ
イザー（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より微細な部分の
元素分析が行える。また粘着剤または接着剤は、反射体
と支持体とを引き剥がして接着剤を露出させ、適当な溶
媒で溶解、剥離させた後、回収してその赤外分光（Ｉ
Ｒ）測定することで構造に関する情報が得られる。

【００８８】また、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、二
次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）によって組成分析、及
び深さプロファイルをとることで厚さも知ることができ
る。

【００８９】本発明のランプリフレクターは反射率、耐
久性、成形性に優れるので液晶表示装置に用いられるバ
ックライト用ランプリフレクターに好適であり、高輝度
で美しい画像を提供できる。本発明のランプリフレクタ
ーは上記の反射体および必要に応じて貼合される支持体
とからなるリフレクターを所定の形状に打ち抜き加工
し、例えば図４に示すような形状に曲げ加工して冷陰極
菅を覆うような形状に作製される事が好ましい。また、
上記打ち抜き加工を行う場合、事前に好適なサイズに枚
葉化しても良い。枚葉加工、打ち抜き加工、曲げ加工を
異なる設備で行う等の理由で輸送が必要となる場合、数
十枚単位のシートを重ねた後真空パック包装して輸送す
ることが好ましい。この際、包装材は平滑性の良いもの
が好ましく、エアキャップなど凹凸のあるものを用いる
とシート表面に微少な変形が起こりランプリフレクター
としての性能を低下させることがある。

【００９０】加工する際には図５に示した断面図のよう
に、下地層（Ｂ）と、銀を主体とする金属層（Ｃ）と、
保護層（Ｄ）とからなる反射層１００が最内側となるよ
うに配置する。また必要に応じて穴あけ加工等の工程を
加えても良い。

【００９１】曲げ加工後の形状は使用方法によって異な
るが、Ｕ字型、コの字型などが好ましい。その際の曲げ
加工時の曲率半径は５ｍｍ以下、好ましくは４ｍｍ以下
である。

【００９２】具体的な加工法としてはプレスを用いたＶ
字曲げ、Ｕ字曲げ、またはダンゼントベンダーを用いた
折り畳み曲げ等が挙げられる。

【００９３】本発明の反射体は成形性に優れており、上
記の様な加工を行っても反射層に皺や浮き上がりが発生
しない。このことにより本発明の反射体から得られるラ
ンプリフレクターはサイドライト型バックライト装置に
組み込むと高輝度で輝線の発生しない美しい映像を実現
できる。

【００９４】使用する光源としては、例えば、白熱電
球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセン
ス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプな
どが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられ
る。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰
極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも
熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発
光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよ
く、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も
強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力
性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いら
れる。

【００９５】蛍光ランプに電流を供給する導線としては
一般的な被覆導線が用いられるが、被覆材に硫黄が含有
されていると、経時劣化により硫化水素などの硫化物を
発生させ、反射層や他の部材を劣化させる可能性がある
ので、硫黄フリーの被覆材を用いた導線を用いることが
好ましい。

【００９６】本発明のランプリフレクターは薄膜状の反
射層が光源側最外層に位置するので透明樹脂等で保護さ
れたリフレクターの様な樹脂中に光が閉じこめられるこ
とが無い。このため、輝度を高めても輝線等が発生せ
ず、高輝度で美しい映像を実現できる。

【００９７】また、反射率が向上するため内部温度も低
くなり、耐久性が向上する効果もある。

【００９８】本発明の反射体は反射率が高く、美しい映
像を得ることが出来るので液晶表示装置の他、ＬＥＤバ
ックライト、プロジェクションテレビ、フロントライト
の他、ＰＤＡまたは携帯電話等の直下型表示装置のラン
プリフレクターにも適用できる。また、反射率が高いこ
とから、太陽電池の集光体材料として利用することもで
きる。特に本発明の反射体の反射層が導電性を有する構
成の場合、これを利用して微少球状シリコン単結晶太陽
電池等の電極としての機能を併せて持たせることも可能
である。他には、軽量、耐衝撃性を求められるストロ
ボ、信号表示、自動車のライト、蛍光灯、懐中電灯や高
品位を求められるシャンデリア照明用リフレクターの
他、カーブミラーまたはバックミラーとして用いること
もできる。

【００９９】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【０１００】実施例１ ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグ
ネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた
酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９
９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化アルミ
ニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになる
ように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ
法で、純度９９．９％の銀をターゲットとし、純度９
９．５％のアルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２０
０ｎｍになるように成形した。続いて、このシートをス
パッタ装置から取り出すことなく、２％のＡｌ₂Ｏ₃がド
ープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットと
し、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、
酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚５
ｎｍになるように形成した。できたシートを日立自記分
光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設
置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を
行ったところ、反射率９６．３％であった。続いて、こ
のシートの光熱劣化試験を行った。光源には山下電装
(株)のソーラシミュレータ型式ＹＳＳ−５０５Ｈを用
い、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光下で行っ
た。また反射シートは１００℃に加熱した。この条件下
で３００時間経過した後、反射率を測したところ、９
５．５％であった。また、この反射体としての反射シー
トをホットメルト型接着材（商品名：ＳＫダイン５２７
３）を用いて、厚さ２ｍｍの真鍮板とを、１００℃に加
熱したラミネーターロールを通すことで接着した。接着
後、１８０度ピール強度で測定したところ、接着強度は
２００ｇ／ｃｍであった。

【０１０１】更にこのように形成された板状リフレクタ
ーを、液晶ディスプレイ装置のバックライト用ランプリ
フレクターの形状（コの字型、開口部幅４ｍｍ）に成形
し該装置に組み込んだ後、装置を起動させた。ディスプ
レイの輝度は２３５０ｃｄ／ｍ²と高い上、画面上に輝
線の発生は無く、鮮明な画像が得られた。使用時間が２
０００ｈｒのときの輝度は２３２０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。使用時間が５０００ｈｒのとき
の輝度は２３００ｃｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無か
った。したがって経時的な大きな変化も見られなかっ
た。結果を表１に纏めた。

【０１０２】実施例２ 用いたＰＥＴフィルムの片面がサンドマット処理されて
いること以外は、実施例１に準じて反射シートおよびラ
ンプリフレクターを作製し、評価を行った。

【０１０３】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．４％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．５％であった。

【０１０４】該シートを実施例１と同様の接着材を用
い、サンドマット面を接着面として真鍮板と接着した。
接着後、１８０度ピール強度で測定したところ２５０ｇ
／ｃｍであった。

【０１０５】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３６０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３４０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３３０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１０６】実施例３ 下地層と保護層とが、酸化アルミニウムが２％ドープさ
れた酸化亜鉛の代わりにガリウムが５％ドープされた酸
化亜鉛を用い、下地層と保護層との厚みが７ｎｍ、銀層
の厚みが１４０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして
反射シートおよびランプリフレクターを作製し、評価を
行った。

【０１０７】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．８％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．５％であった。

【０１０８】該シートを実施例１と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２１０ｇ／ｃｍであった。

【０１０９】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３７０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３６０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１１０】実施例４ 下地層と保護層とが、酸化アルミニウムが２％ドープさ
れた酸化亜鉛の代わりにガリウムが５％ドープされた酸
化亜鉛を用い、下地層と保護層との厚みが７ｎｍ、銀層
の厚みが１４０ｎｍとした以外は実施例２と同様にして
反射シートおよびランプリフレクターを作製し、評価を
行った。

【０１１１】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
７．０％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．５％であった。

【０１１２】該シートを実施例２と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１１３】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３７０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３６０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１１４】比較例１ 反射層を銀層のみとしたこと以外は、実施例１に準じて
反射シートを作製した。

【０１１５】得られたシートの反射率を測定したとこ
ろ、９７．０％であった。続いて、実施例１と同様の光
熱劣化試験を３００時間行った後、再度、反射率を測定
したところ、４０．２％と低下しており、反射体として
十分な反射率を得ることができなくなった。

【０１１６】比較例２ 反射体の反射層側と真鍮板とを貼合した以外は全て実施
例１と同様にしてランプリフレクターの作製と評価とを
行った。

【０１１７】得られたシートの反射率を測定したとこ
ろ、９４．６％であった。続いて、実施例１と同様の光
熱劣化試験を３００時間行った後、再度、反射率を測定
したところ、５３．２％と低下しており、反射体として
十分な反射率を得ることができなくなった。またシート
の紫変色が観察された。結果を表１に示す。

【０１１８】実施例５ 下地層としてチタン薄膜を形成した以外は実施例４と同
様にして反射シートおよびランプリフレクターの作製と
評価とを行った。

【０１１９】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
７．２％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．８％であった。

【０１２０】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１２１】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２４００ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３９０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１２２】実施例６ 下地層として酸化チタン薄膜を形成した以外は実施例４
と同様にして反射シートおよびランプリフレクターの作
製と評価とを行った。

【０１２３】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．８％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．６％であった。

【０１２４】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２４０ｇ／ｃｍであった。

【０１２５】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３８０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３５０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１２６】実施例７ 下地層としてタングステン薄膜を形成した以外は実施例
４と同様にして反射シートおよびランプリフレクターの
作製と評価とを行った。

【０１２７】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．９％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．６％であった。

【０１２８】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２３０ｇ／ｃｍであった。

【０１２９】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３９０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３８０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３６０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１３０】実施例８ 下地層として銅薄膜を形成した以外は実施例４と同様に
して反射シートおよびランプリフレクターの作製と評価
とを行った。

【０１３１】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．８％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．７％であった。

【０１３２】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２４０ｇ／ｃｍであった。

【０１３３】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２４００ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３７０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１３４】実施例９ 下地層としてフッ化マグネシウム薄膜を形成した以外は
実施例４と同様にして反射シートおよびランプリフレク
ターの作製と評価とを行った。

【０１３５】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
７．０％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．７％であった。

【０１３６】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１３７】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３９０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３９０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３７０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１３８】実施例１０ 下地層として酸化インジウム・酸化スズ焼結体（ＩＴ
Ｏ、組成比Ｉｎ₂Ｏ₃ ：ＳｎＯ₂＝９０：１０ｗｔ％）を
ターゲットとした薄膜を形成した以外は実施例４と同様
にして反射シートおよびランプリフレクターの作製と評
価とを行った。

【０１３９】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
７．０％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．６％であった。

【０１４０】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２３０ｇ／ｃｍであった。

【０１４１】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３９０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３９０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３７０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１４２】実施例１１ 保護層を酸化チタンとした以外は実施例４と同様にして
反射シートおよびランプリフレクターの作製と評価とを
行った。

【０１４３】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．０％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．５％であった。

【０１４４】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２４０ｇ／ｃｍであった。

【０１４５】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２２９０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２２８０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２２８０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１４６】実施例１２ 保護層を酸化アルミニウムとした以外は実施例４と同様
にして反射シートおよびランプリフレクターの作製と評
価とを行った。

【０１４７】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
５．６％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．２％であった。

【０１４８】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２４０ｇ／ｃｍであった。

【０１４９】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３１０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３００ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２２７０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１５０】実施例１３ 保護層を酸化珪素とした以外は実施例４と同様にして反
射シートおよびランプリフレクターの作製と評価とを行
った。

【０１５１】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
５．５％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．０％であった。

【０１５２】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１５３】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２２８０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２２８０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２２６０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１５４】実施例１４ 保護層をＩＴＯ薄膜とした以外は実施例４と同様にして
反射シートおよびランプリフレクターの作製と評価とを
行った。

【０１５５】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．７％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．１％であった。

【０１５６】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１５７】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３５０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３４０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３３０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１５８】実施例１５ 支持体としてステンレス板を用いた以外は実施例４と同
様にして反射シートおよびランプリフレクターの作製と
評価とを行った。

【０１５９】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．８％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．４％であった。

【０１６０】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２６０ｇ／ｃｍであった。

【０１６１】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３９０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３８０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３５０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１６２】実施例１６ 支持体としてアルミニウム板を用いた以外は実施例４と
同様にして反射シートおよびランプリフレクターの作製
と評価とを行った。

【０１６３】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．９％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．４％であった。

【０１６４】該シートを実施例４と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２４０ｇ／ｃｍであった。

【０１６５】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３９０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３６０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３４０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１６６】実施例１７ ＰＥＴの代わりにポリカーボネート(ビスフェノールＡ
型)を用いた以外は実施例１と同様にして反射シートお
よびランプリフレクターの作製と評価とを行った。

【０１６７】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．１％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．５％であった。

【０１６８】該シートを実施例１と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１６９】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３６０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３３０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１７０】実施例１８ ＰＥＴの代わりにナイロンを用いた以外は実施例１と同
様にして反射シートおよびランプリフレクターの作製と
評価とを行った。

【０１７１】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．１％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．４％であった。

【０１７２】該シートを実施例１と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２５０ｇ／ｃｍであった。

【０１７３】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３８０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３６０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３４０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１７４】実施例１９ ＰＥＴの代わりにポリビニルアルコールを用いた以外は
実施例１と同様にして反射シートおよびランプリフレク
ターの作製と評価とを行った。

【０１７５】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．３％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９５．７％であった。

【０１７６】該シートを実施例１と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２４０ｇ／ｃｍであった。

【０１７７】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３７０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３７０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２３４０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表１に示す。

【０１７８】

【表１】

【０１７９】実施例２０ 保護層の厚みを５５ｎｍとした以外は実施例３と同様に
して反射シートおよびランプリフレクターの作製と評価
とを行った。ランプリフレクターへの成形性にやや難が
あったが、成形は可能であった。

【０１８０】光熱劣化試験前の反射シートの反射率は９
６．３％であり、光熱劣化試験後の反射シートの反射率
は９６．０％であった。

【０１８１】該シートを実施例３と同様にして真鍮板と
接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したとこ
ろ２６０ｇ／ｃｍであった。

【０１８２】このように形成された板状リフレクター
を、液晶ディスプレイ装置に組み込んだ後、装置を起動
させた。ディスプレイの輝度は２３４０ｃｄ／ｍ²と高
い上、画面上に輝線の発生は無く、鮮明な画像が得られ
た。使用時間が２０００ｈｒのときの輝度は２３２０ｃ
ｄ／ｍ²であり、輝線の発生は無かった。使用時間が５
０００ｈｒのときの輝度は２２９０ｃｄ／ｍ²であり、
輝線の発生は無かった。したがって経時的な大きな変化
も見られなかった。結果を表２に示す。

【０１８３】

【表２】

【０１８４】本発明は、その精神または主要な特徴から
逸脱することなく、他のいろいろな形態で実施できる。
従って、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過
ぎず、本発明の範囲は特許請求の範囲に示すものであっ
て、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、特許請
求の範囲に属する変形や変更は全て本発明の範囲内のも
のである。

【０１８５】

【発明の効果】本発明の反射体を用いることで、長時間
の過酷な使用時においても高輝度アルミ板よりも反射率
が高く、かつ、反射率の低下のないリフレクターを得る
ことができる。また、裏面にマット処理されたフィルム
を用いることで、接着力をさらに増すことができより安
定したリフレクターとする事が出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態である反射体１を示す断
面図である。

【図２】本発明の実施の他の形態である反射体１ａを示
す断面図である。

【図３】本発明の実施の一形態であるランプリフレクタ
ー２を示す断面図である。

【図４】本発明の実施の他の形態であるランプリフレク
ター３の斜視図である。

【図５】図４に示されるランプリフレクター３の軸直角
断面図である。

【図６】本発明の実施の他の形態であるランプリフレク
ター３を用いたサイドライト型バックライトの斜視図で
ある。

【符号の説明】

１，１ａ 反射体 ２，３ ランプリフレクター １０ 保護層 ２０ 金属層 ３０ 下地層 ４０ 基材 ５０ マット処理層 ６０ 接着層 ７０ 支持体 ９０ ランプ １００ 反射層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 浩 千葉県袖ケ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA11 DA14 DA18 DA21

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも基材（Ａ）に下地層（Ｂ）
   と、銀を主体とする金属層（Ｃ）と、無機物からなる保
   護層（Ｄ）とからなる反射層を有するランプリフレクタ
   ーであって、温度１００℃で３００時間、照射強度５０
   ０ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を反射層側から照射後の波
   長５５０ｎｍにおける全反射率が９０％以上であること
   を特徴とするランプリフレクター。
2. 【請求項２】 下地層（Ｂ）が、金、銅、ニッケル、
   鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
   クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パ
   ラジウムから選ばれた金属の単体および／またはこれら
   の２種以上からなる合金から成り、厚さが５ｎｍ以上５
   ０ｎｍ以下の金属層および／または厚さが１ｎｍ以上２
   ０ｎｍ以下の金属塩層または金属酸化物層であることを
   特徴とする請求項１に記載のランプリフレクター。
3. 【請求項３】 銀を主体とする金属層（Ｃ）が、銀単体
   或いは、銀を主体とした合金から成り、該層の厚みが、
   ７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることを特徴とする請
   求項１に記載のランプリフレクター。
4. 【請求項４】 無機物からなる保護層（Ｄ）が、金、
   銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデ
   ン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン
   もしくは、パラジウムから選ばれた金属の単体および／
   またはこれらの２種以上からなる合金から成り、厚さが
   ５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層および／または厚さ１
   ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の透明酸化物層であることを特
   徴とする請求項１に記載のランプリフレクター。
5. 【請求項５】 下地層（Ｂ）と保護層（Ｄ）との厚みの
   和と銀を主体とする層（Ｃ）の厚みとの比が０．００５
   〜０．３であることを特徴とする請求項１に記載のラン
   プリフレクター。
6. 【請求項６】 基材（Ａ）の反射層とは反対側の面に凹
   凸形状を有することを特徴とする請求項１に記載のラン
   プリフレクター。
7. 【請求項７】 金属または高分子製の板またはシートか
   ら成る支持体をさらに含むことを特徴とする請求項１に
   記載のランプリフレクター。
8. 【請求項８】 反射層側の曲率半径が５ｍｍ以下である
   ことを特徴とする請求項１に記載のランプリフレクタ
   ー。
9. 【請求項９】 少なくとも基材（Ａ）に下地層（Ｂ）
   と、銀を主体とする金属層（Ｃ）と、透明酸化物を主体
   とする保護層（Ｄ２）とからなる反射層を有し、温度１
   ００℃で３００時間、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬
   似太陽光を反射層側から照射後の波長５５０ｎｍにおけ
   る全反射率が９０％以上であることを特徴とする反射
   体。
10. 【請求項１０】 下地層（Ｂ）と保護層（Ｄ２）との厚
    みの和と銀を主体とする層（Ｃ）の厚みとの比が０．０
    ０５〜０．３であることを特徴とする請求項９に記載の
    反射体。
11. 【請求項１１】 保護層（Ｄ２）が、酸化アルミニウム
    が５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０
    重量％以下ドープされた酸化亜鉛から選ばれる厚さ１ｎ
    ｍ以上２０ｎｍ以下の層であることを特徴とする請求項
    ９に記載の反射体。