JP2003103690A - ガスバリアフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空蒸着法により積層体中のガスバリア層を
形成した場合であっても、当該ガスバリア層の直下の層
が蒸着時の熱により変形したり、劣化することがなく、
その結果優れたガスバリア性を有するガスバリアフィル
ムを提供することを課題とする。 【解決手段】 基材フィルムと、当該基材フィルム上に
位置しており、真空蒸着法によって形成されたガスバリ
ア層を少なくとも一層有する積層体と、からなるガスバ
リアフィルムであって、前記積層体中のガスバリア層の
直下には、ガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂に
よって形成されている耐熱層が位置していることを特徴
とするガスバリアフィルムことを特徴とするガスバリア
フィルムを提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、主に食品や医薬品
等の包装材料や電子デバイス等のパッケージ材料として
用いられるガスバリアフィルムに関する。更に詳しく
は、ガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂からなる
耐熱層が積層体中に設けられているガスバリアフィル
ム、または、ガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂
からなる基材が用いられているガスバリアフィルムに関
する。

【０００２】

【従来の技術】ガスバリアフィルムは、主に、（イ）内
容物の品質を変化させる原因となる酸素や水蒸気等の影
響を防ぐために、食品や医薬品等の包装材料として用い
られたり、（ロ）液晶表示パネルやＥＬ表示パネル等に
形成されている素子が、水蒸気に触れて性能劣化するの
避けるために、電子デバイス等のパッケージ材料として
用いられている。ガスバリアフィルムには、ガスバリア
性を有するフィルムを貼り合わせるものや、ガスバリア
性を有する層を含む積層体を湿式成層または乾式成層す
るものが従来より知られている。

【０００３】中でも、真空蒸着法は、乾式成層の一種で
あるため、湿式成層のように溶剤（主にトルエンなど）
を用いる必要がなく環境適性があるという利点を有し、
さらに、乾式成層の中でも特に成層速度が他の方法に比
べて速く、安価で大量生産することができるという利点
も有している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、真空蒸
着法によってガスバリアフィルムの積層体中のガスバリ
ア層を形成した場合においては、当該ガスバリア層を蒸
着させる部分、つまり真空蒸着法により形成されたガス
バリア層の直下の層は高温に曝されるため、当該直下の
層が熱により変形したり、層の成分が変化して劣化する
場合があり、その結果、ガスバリア性に問題が生じた
り、層同士の密着性に問題が生じることがあった。

【０００５】本発明は、上記問題に鑑みなされたもので
あり、真空蒸着法により積層体中のガスバリア層を形成
した場合であっても、当該ガスバリア層の直下の層が蒸
着時の熱により変形したり、劣化することがなく、その
結果優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを
提供することを課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、請求項１に記載するように、基材フィル
ムと、当該基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法
によって形成されたガスバリア層を少なくとも一層有す
る積層体と、からなるガスバリアフィルムであって、前
記積層体中のガスバリア層の直下には、ガラス転移温度
が９０℃以上の高分子樹脂によって形成されている耐熱
層が位置していることを特徴とするガスバリアフィルム
ことを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。

【０００７】この発明によれば、基材フィルムと、当該
基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法によって形
成されたガスバリア層を少なくとも一層有する積層体
と、からなるガスバリアフィルムであって、前記積層体
中のガスバリア層の直下の層は、ガラス転移温度が９０
℃以上の高分子樹脂によって形成されているので、ガス
バリア層の直下の層は耐熱性に優れており、その結果、
真空蒸着法によってガスバリア層を形成した場合、つま
り当該直下の層が高温に曝された場合であっても、当該
直下の層が変形したり、劣化することがない。したがっ
て、成層速度が速く比較的安価な真空蒸着法を用いて形
成したガスバリア層を有していても、積層体を構成する
層同士の密着性が低下することはなく、ガスバリア性に
優れたガスバリアフィルムとすることができる。

【０００８】また、本発明は、上記課題を解決するため
に、請求項２に記載するように、請求項１に記載のガス
バリアフィルムであって、前記高分子樹脂が、ポリエチ
レンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ア
モルファスポリオレフィン、ポリサルフォン、ポリアリ
レート、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミ
ド、ポリノルボルネン、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリフェニレンスルフィドのいずれかであることを特徴
とするガスバリアフィルムを提供する。

【０００９】この発明によれば、前記高分子樹脂が、ポ
リエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、アモルファスポリオレフィン、ポリサルフォン、ポ
リアリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテル
イミド、ポリノルボルネン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリフェニレンスルフィドのいずれかであるので、
これらの高分子樹脂は、いずれもガラス転移温度が９０
℃以上であり、その結果、上記請求項１と同様の効果を
奏するガスバリアフィルムとすることができる。

【００１０】さらに、本発明は、上記課題を解決するた
めに、請求項３に記載するように、請求項１又は請求項
２に記載のガスバリアフィルムであって、基材フィルム
が、ガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂によって
形成されており、耐熱層としても機能することを特徴と
するガスバリアフィルムを提供する。

【００１１】この発明によれば、請求項１又は請求項２
に記載のガスバリアフィルム、つまり積層体中のガスバ
リア層の直下の層が、ガラス転移温度が９０℃以上の高
分子樹脂であるガスバリアフィルムにおいて、当該直下
の層だけでなく、基材フィルムもガラス転移温度が９０
℃以上の高分子樹脂によって形成されているので、基材
フィルム上に直にガスバリア層を形成する場合であって
も、基材フィルムが耐熱層としても機能するので、熱に
より変形したり、劣化しないガスバリアフィルムとする
ことができる。

【００１２】また、本発明は、上記課題を解決するため
に、請求項４に記載するように、請求項３に記載のガス
バリアフィルムであって、前記高分子樹脂が、ポリエチ
レンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ア
モルファスポリオレフィン、ポリサルフォン、ポリアリ
レート、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミ
ド、ポリノルボルネン、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリフェニレンスルフィドのいずれかであることを特徴
とするガスバリアフィルムを提供する。

【００１３】この発明によれば、基材フィルムとして用
いられる前記高分子樹脂が、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリイミド、アモルファスポリ
オレフィン、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポリエ
ーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリノルボル
ネン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンス
ルフィドのいずれかであるので、これらの高分子樹脂
は、いずれもガラス転移温度が９０℃以上であり、その
結果、上記請求項３と同様の効果を奏するガスバリアフ
ィルムとすることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】図１は、本発明のガスバリアフィ
ルムの一例を示す概略断面図である。

【００１５】図１に示す本発明のガスバリアフィルム１
は、基材フィルム２と、当該基材フィルム２上に位置し
ており、真空蒸着法によって形成されたガスバリア層３
を少なくとも一層有する積層体５とからなり、前記積層
体５中のガスバリア層３の直下には、ガラス転移温度が
９０℃以上の高分子樹脂によって形成されている耐熱層
４が位置していることに特徴を有している。

【００１６】以下、本発明のガスバリアフィルム１を構
成する基材フィルム２、ガスバリア層３、耐熱層４およ
びガスバリア層３と耐熱層４とからなる積層体３につい
てそれぞれ説明する。

【００１７】［１］基材フィルム 本発明のガスバリアフィルム１における基材フィルム２
は、ガスバリア層３、耐熱層４、その他の薄層からなる
積層体３を保持することができるフィルムであれば特に
限定されるものではなく、いかなるフィルムをも用いる
ことができる。

【００１８】具体的には、エチレン、ポリプロピレン、
ブテン等の単独重合体または共重合体または共重合体等
のポリオレフィン（ＰＯ）樹脂や、環状ポリオレフィン
等の非晶質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）や、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂
や、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポ
リアミド系（ＰＡ）樹脂や、リビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶ
ＯＨ）等のポリビニルアルコール系樹脂や、ポリエーテ
ルイミド（ＰＥＩ）樹脂や、ポリエーテルエーテルケト
ン（ＰＥＥＫ）樹脂や、ポリビニルブチラート（ＰＶ
Ｂ）樹脂や、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂や、エチレ
ン−四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ化
塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン−パーフル
オロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フッ
化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）、
パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−パーフ
ロロビニルエーテル共重合体（ＥＰＡ）等のフッ素系樹
脂、などを用いることができる。

【００１９】前記に挙げた樹脂等を用いた本発明の基材
フィルム２は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルム
でもよい。

【００２０】本発明の基材フィルム２は、従来公知の一
般的な方法により製造することが可能である。例えば、
材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイや
Ｔダイにより押し出して急冷することにより、実質的に
無定形で配向していない未延伸の基材フィルムを製造す
ることができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テン
ター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チュー
ブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材フ
ィルムの流れ（縦軸）方向、または基材フィルムの流れ
方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸基材
フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率
は、基材フィルムの原料となる樹脂に合わせて適宜選択
することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ
２〜１０倍が好ましい。

【００２１】［２］ガスバリア層 次に、ガスバリア層３について説明する。

【００２２】本発明のガスバリアフィルム１におけるガ
スバリア層３とは、前記基材フィルム２上に位置する積
層体５中に少なくとも一層設けられる薄層であり、ガス
バリア性を付与するために真空蒸着法によって形成され
る薄層である。このガスバリア層３は、真空蒸着法によ
り形成され、ガスバリア性を有していれば特に限定され
るものはなく、透明なものであっても不透明なものであ
ってもよい。

【００２３】真空蒸着法によりガスバリア層３を形成す
る場合においては、酸化アルミニウム層、アルミニウム
層、酸化チタン層、ニッケル層、などをガスバリア層４
とすることが好ましい。これらの層は、真空蒸着法によ
り比較的容易に形成でき、かつ優れたバスバリア性を有
しているからである。なお、真空蒸着法については、従
来公知の方法すべてを用いることができ、本発明は特に
限定しない。

【００２４】ガスバリア層３の層厚については、以下で
説明する積層体５の構造や、ガスバリアフィルムの用途
により任意に設定することができ、本発明において特に
限定されることはないが、ガスバリアフィルムのフレキ
シブル性などを考慮すると、５〜５００μｍが好まし
く、５〜５０μｍが特に好ましい。また、本発明のガス
バリアフィルムは、優れたガスバリア性を有しているこ
とから、有機ＥＬディスプレイ用のガスバリアフィル
ム、または太陽電池用ガスバリアフィルムとして用いる
ことが可能であるが、これらの用途で用いる場合には、
当該ガスバリア層３の層厚は１５〜２００ｎｍとするこ
とが生産性等も考慮した場合にはより好ましい。

【００２５】［３］耐熱層 次に耐熱層４について説明する。

【００２６】本発明のガスバリアフィルム１における耐
熱層４とは、前記積層体中に少なくとも一層設けられる
ガスバリア層の直下に設けられる層であり、ガラス転移
温度が９０℃以上の高分子樹脂によって形成される層で
ある。ここで、ガスバリア層３の直下とは、図１に示す
ようにガスバリア層４の基材フィルム２側の表面に接す
る位置を意味する。つまり、本発明のガスバリアフィル
ム１において、ガスバリア層３の基材側に接している薄
層が耐熱層４である。ガスバリアフィルム１は、基材フ
ィルム２上に薄層を順次積層することにより製造される
ので、本発明のように、ガスバリア層３の直下に耐熱層
４を設けることにより、真空蒸着法によってガスバリア
層３を積層する際における被積層部分（つまり、ガスバ
リア層が形成される部分）は必ず耐熱層が位置している
ことになる。その結果、真空蒸着法によりガスバリア層
３を積層した場合に最も熱の影響を受ける部分が耐熱層
なので、当該部分が変形したり、劣化することはない。

【００２７】本発明における耐熱層４は、ガラス転移温
度が９０℃以上の高分子樹脂によって形成される薄層で
あればよく、従来公知の高分子樹脂を用いることができ
る。ガラス転移温度は、従来公知の示差走査型熱量計
（ＤＳＣ）で測定したものである。

【００２８】本発明における耐熱層４を形成する高分子
樹脂としては、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、アモルファスポリオレフィン、ポ
リサルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリエーテルイミド、ポリノルボルネン、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、のい
ずれかであることが好ましい。これらの高分子樹脂は、
いずれもガラス転移温度が９０℃以上であるから、耐熱
性に優れており、ガスバリア層を真空蒸着法によって形
成する際の熱の影響を受けることがないからである。

【００２９】この耐熱層４の層厚については、耐熱層と
しての効果を奏することができる程度の厚さであれば特
に限定されず、任意に決定することができる。しかしな
がら、上述したように、ガスバリアフィルムのフレキシ
ブル性を考慮すると、４．５〜５００μｍが好ましく、
１２〜４００μｍが特に好ましい。

【００３０】［３］積層体 次に積層体５について説明する。

【００３１】本発明のガスバリアフィルム１における積
層体５とは、基材フィルム１上に位置し、真空蒸着法に
よって形成されたガスバリア層３を少なくとも有し、さ
らに前記ガスバリア層３の直下に位置する耐熱層４を有
するものである。したがってガスバリア層３と耐熱層４
とを有していればよく、その他の薄層については特に限
定されることはなく、様々な特性を有する薄層を任意に
積層することができる。

【００３２】図１に示すガスバリアフィルム１における
積層体５は、ガスバリア層３とその直下に位置する耐熱
層４と、ガスバリア層の上に積層された撥水層６とから
構成されている。このように撥水層６を設けることによ
り、表面に吸着する水や酸素の量を低下させることがで
き、その結果、ガスバリア性を向上させることができ
る。

【００３３】本発明に用いられる撥水層６は、その表面
の撥水性が、撥水層６表面における水との接触角が測定
温度２３℃において、６０°以上、特に８０°以上とな
るような撥水性であることが好ましい。水との接触角が
この程度以上あれば、表面に水等が吸着することによる
ガスバリア性の低下を防止することができるからであ
る。ここで、この水との接触角の測定方法は、協和界面
化学社の接触角測定装置(型番ＣＡ−Ｚ)を用いて求めた
値である。すなわち、被測定対象物の表面上に、純水を
一滴(一定量)滴下させ、一定時間経過後、顕微鏡やＣＣ
Ｄカメラを用い水滴形状を観察し、物理的に接触角を求
める方法を用い、この方法により測定された水との接触
角を本発明における水との接触角とすることとする。

【００３４】このような撥水層６は、上述したような撥
水性を有する層であればどのような方法により形成され
たものであってもよい。具体的には、ガスバリア層３と
同様に真空蒸着法により形成されたものであってもよい
し、撥水層形成材料を溶媒に溶解もしくは懸濁させた撥
水層形成用塗工液を塗布することにより形成したもので
あってもよい。また熱可塑性樹脂を用い、この樹脂を溶
融させて塗布することにより形成したものや、ドライフ
ィルムを貼り合せる方法等により形成されたものであっ
てもよい。

【００３５】撥水層６としては、オレフィン系樹脂、ハ
ロゲン系樹脂、又はシリコーン系樹脂などを好適に用い
ることができ、その層厚は０．５ｎｍ〜１００μｍが好
ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍが特に好ましい。

【００３６】図２は、本発明のガスバリアフィルムの別
の実施の形態を示す概略断面図である。

【００３７】図２に示す本発明のガスバリアフィルム１
１は、上記で説明した図１に示す本発明のガスバリアフ
ィルム１と同様に、基材フィルム１２と、当該基材フィ
ルム１２上に位置しており、真空蒸着法によって形成さ
れたガスバリア層１３を少なくとも一層有する積層体１
５とからなり、前記積層体１５中のガスバリア層１３の
直下には、ガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂に
よって形成されている耐熱層１４が位置していることに
特徴を有している。

【００３８】したがって、基材フィルム１２、ガスバリ
ア層１３、及び耐熱層１４それぞれについては、上記図
１に示すガスバリアフィルム１のそれと同様であり、こ
こでの説明は省略する。

【００３９】しかしながら、図２に示すガスバリアフィ
ルム１１は、その積層体の構成が図１に示すガスバリア
フィルムと異なっている。本発明のガスバリアフィルム
１１においては、図２に示すような積層体１５を形成す
ることも可能である。

【００４０】図２に示す積層体１５は、ガスバリア層１
３とその直下に位置する耐熱層１４の組み合わせが４回
繰り返して形成した構成となっている。このように、ガ
スバリア層１３とその直下に位置する耐熱層１４とを複
数回繰り返して形成することにより、ガスバリア性を向
上することができ、さらに、本発明のガスバリアフィル
ム１１においては、ガスバリア層１３は真空蒸着法によ
り形成されるが、当該ガスバリア層１３は必ず耐熱層上
に形成されるので、熱により変形したり、劣化すること
もない。

【００４１】図３は、本発明のガスバリアフィルムのさ
らに別の実施の形態を示す概略断面図である。

【００４２】図３に示す本発明のガスバリアフィルム２
１においても、その基本的構成については、図１、２に
示すガスバリアフィルム（１、１１）と同様であるが、
基材フィルム２２が、ガラス転移温度が９０℃以上の高
分子樹脂によって形成されており、耐熱層としても機能
することに特徴を有する。このように、基材フィルム２
２自体をガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂によ
って形成することにより、図３に示すように、当該基材
フィルム２２に直にガスバリア層２３を積層することが
可能となる。この結果、ガスバリアフィルム全体の厚さ
を薄くすることができる。

【００４３】この場合であっても、ガスバリア層２３を
複数積層することは可能であり（図３に示すガスバリア
フィルム２１においては二層）、また、その最外層には
撥水層２６を設けてもよい。

【００４４】基材フィルム２２に用いられ、ガラス転移
温度が９０℃以上の高分子樹脂としては、上述した耐熱
層として用いられる高分子樹脂と同様に、ポリエチレン
ナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、アモル
ファスポリオレフィン、ポリサルフォン、ポリアリレー
ト、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、ポ
リノルボルネン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフ
ェニレンスルフィド、のいずれかであることが好まし
い。

【００４５】次に、本発明のガスバリアフィルムの製造
方法について、図１に示すガスバリアフィルム１を例と
して説明する。

【００４６】図１に示す本発明のガスバリアフィルム１
は、基材フィルム２上に、当該基材フィルム２側から耐
熱層４、ガスバリア層３、撥水層６が順次積層された構
造を有している。

【００４７】したがって、このような本発明のガスバリ
アフィルム１は、まず上記で説明したような基材フィル
ム２上に耐熱層４を積層し、次に前記積層された耐熱層
４上に真空蒸着法によりガスバリア層３を積層し、最後
にガスバリア層３上に撥水層６を積層することにより製
造される。以下にそれぞれについて説明する。

【００４８】まず、本発明のガスバリアフィルム１を製
造するためには、基材フィルム２上に耐熱層４を積層す
ることが必要であるが、本発明においてはこの方法につ
いて特に限定することはない。しかしながら、耐熱層４
は、ポリエチレンナフタレート樹脂等の高分子樹脂で形
成されるので、ウェットコーティング法により基材樹脂
２上に形成したり、または、基材フィルム２と耐熱層４
としての高分子樹脂を貼り合わせることにより、結果的
に基材フィルム２上に耐熱層４を積層してもよい。ある
いは、真空中で、耐熱性樹脂の構成成分であるモノマー
を蒸着しながら重合化する方法により、耐熱層を積層し
てもよい。

【００４９】次に、耐熱層４上に真空蒸着法によりガス
バリア層３を積層する方法について説明する。本発明に
おいて、ガスバリア層３を積層する方法については、真
空蒸着法であれば特に限定されず、従来公知の様々な真
空蒸着法（真空蒸着装置）を用いることができる。

【００５０】図４は、真空蒸着法によりガスバリア層３
を積層するための巻き取り式真空蒸着装置４０を示す概
略図である。

【００５１】図４に示すように、巻き取り式真空蒸着装
置４０は、真空チャンバー４１内に巻き出しロール４
２、ガイドロール４３,４４、冷却されたコーティング
ドラム４５、ガイドロール４６,４７、巻き取りロール
４８を備えており、コーティングドラム４５の下方に
は、マスク４９,４９を介して、金属あるいは金属酸化
物であるガスバリア層の原料Ｍを保持し加熱するための
るつぼ５０、および、酸素ガス吹出口５１が配設されて
いる。

【００５２】上記の巻き取り式真空蒸着装置４０におい
て、巻き出しロール４２から繰り出された被蒸着物Ｆ
（基材フィルム２上に耐熱層４を積層したもの）は、ガ
イドロール４３,４４に案内されてコーティングドラム
４５に送られる。一方、るつぼ５０を加熱することによ
り原料Ｍ、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化
アルミニウム等を蒸発させ、必要ならば、酸素ガス吹出
口５１から酸素ガスを噴出し、マスク４９,４９を介し
て、コーティングドラム４５上を搬送される被蒸着物Ｆ
に衝突させて成層を行い、バリア層３を形成する。

【００５３】次いで、被蒸着物Ｆは、コーティングドラ
ム４５の下流側に搬送され、ガイドロール４６，４７に
より巻き取りロール４８に巻き取られる。

【００５４】このような巻き取り式真空蒸着装置４０を
用いることにより、長尺のガスバリアフィルムを容易に
製造することができるとともに、被蒸着物Ｆの送り速度
を調節することでガスバリア層３の層厚を自由に変化さ
せることができる。

【００５５】図１に示す本発明のガスバリアフィルム１
を製造する場合には、上記巻き取り式真空蒸着装置４０
によって形成したガスバリア層３上に撥水層６を積層す
る。

【００５６】本発明においては、撥水層６の積層方法に
ついては特に限定することはなく、従来公知の方法によ
り形成することができる。

【００５７】また、ガスバリア層３を積層するための装
置（巻き取り式真空蒸着装置４０）により撥水層６を積
層することも可能である。図４に示すように、積層され
たバリア層３がガイドロール２７に接触する前に、蒸着
重合装置５２を設けることにより、撥水層６として、オ
レフィン系、若しくはフッ素系樹脂、具体的には例えば
低分子量ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を当
該装置４０を用いて積層することができる。

【００５８】具体的には、蒸着重合装置５２は、内部に
蒸発装置５３（図４においては２個）と、この近傍にハ
ロゲンランプやニクロム線等の加熱装置５４を備え、蒸
発装置５３内の蒸発源ｍを蒸発させて、開閉可能はシャ
ッター装置５５を開くことにより、搬送される被蒸着物
Ｆのバリア層３上に撥水層６を積層することができる。

【００５９】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れるものではない。上記実施の形態は、例示であり、本
発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的
に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、
いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含され
る。

【００６０】

【実施例】以下に実施例および比較例を示して、本発明
をさらに具体的に説明する。

【００６１】（実施例１）基材フィルムとして、厚さ２
５μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用
い、その上に耐熱層としてポリエチレンナフタレート樹
脂を厚さ２５μｍに形成した。そして、さらに前記耐熱
層の上にガスバリア層として酸化アルミニウムを厚さ２
５ｎｍとなるように真空蒸着法によって形成し、その上
に撥水層としてポリテトラフルオロエチレン樹脂を厚さ
５ｎｍとなるように形成し、実施例１のガスバリアフィ
ルムを形成した。

【００６２】なお、耐熱層は従来公知のドライラミネー
ト法により形成し、ガスバリア層、及び撥水層は、前記
で説明した巻き取り式真空蒸着装置４０を用いて形成し
た。

【００６３】（実施例２）基材フィルムとして、耐熱層
としても機能する、厚さ５０μｍのポリエチレンナフタ
レート樹脂フィルムを用い、その上にガスバリア層とし
て酸化アルミニウムを厚さ２５ｎｍとなるように真空蒸
着法によって形成し、さらにその上に撥水層としてポリ
テトラフルオロエチレン樹脂を厚さ５ｎｍとなるように
形成して、実施例２のガスバリアフィルムを形成した。

【００６４】なお、本実施例におけるガスバリア層、撥
水層についても、前記実施例１の場合と同様に巻き取り
式真空蒸着装置４０を用いて形成した。

【００６５】（比較例１）基材フィルムとして、厚さ５
０μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用
い、その上にガスバリア層として酸化アルミニウムを厚
さ２５ｎｍとなるように真空蒸着法によって形成し、さ
らにその上に撥水層としてポリテトラフルオロエチレン
樹脂を厚さ５ｎｍとなるように形成して、比較例１のガ
スバリアフィルムを形成した。

【００６６】なお、この比較例１におけるガスバリア
層、撥水層についても、前記実施例１の場合と同様に巻
き取り式真空蒸着装置４０を用いて形成した。

【００６７】（ガスバリアフィルムの評価）上記の方法
で形成した実施例１、２、及び比較例１のガスバリアフ
ィルムにすいて、それぞれ酸素透過率試験と水蒸気透過
率試験を調べた。結果を以下の表１に示す。

【００６８】なお、酸素透過率は、酸素ガス透過率測定
装置（ＭＯＣＯＮ社製：ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０）を
用いて、２３．０℃、９０％Ｒｈの条件で測定した値で
あり、水蒸気透過率は水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯ
Ｎ社製：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３１）を用い、
３７．８℃、１００％Ｒｈの条件で測定した値である。

【００６９】

【表１】

【００７０】通常、ガスバリアフィルムの性能の良否を
判断する場合には、酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ²／ｄ
ａｙ、水蒸気透過率が０．５ｇ／ｍ²／ｄａｙを基準と
し、これらの基準以下の場合には、ガスバリア性が優れ
ていると判断される。そうすると、上記表１からも明ら
かなように、実施例１、２のガスバリアフィルムは共に
酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下であり、水
蒸気透過率が０．５ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下であるのでい
ずれも優れたガスバリア性を有していることが分かっ
た。

【００７１】一方、比較例１のガスバリアフィルムは、
酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ²／ｄａｙより大きく、水
蒸気透過率も０．５ｇ／ｍ²／ｄａｙより大きく、本発
明の実施例に比べガスバリア性が劣っていることが分か
った。

【００７２】

【発明の効果】この発明によれば、基材フィルムと、当
該基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法によって
形成されたガスバリア層を少なくとも一層有する積層体
と、からなるガスバリアフィルムであって、前記積層体
中のガスバリア層の直下の層は、ガラス転移温度が９０
℃以上の高分子樹脂によって形成されているので、ガス
バリア層の直下の層は耐熱性に優れており、その結果、
真空蒸着法によってガスバリア層を形成した場合、つま
り当該直下の層が高温に曝された場合であっても、当該
直下の層が変形したり、劣化することがない。したがっ
て、成層速度が速く比較的安価な真空蒸着法を用いて形
成したガスバリア層を有していても、積層体を構成する
層同士の密着性が低下することはなく、ガスバリア性に
優れたガスバリアフィルムとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のガスバリアフィルムの一例を示す概略
断面図である。

【図２】本発明のガスバリアフィルムの他の一例を示す
概略断面図である。

【図３】本発明のガスバリアフィルムの他の一例を示す
概略断面図である。

【図４】巻き取り式真空蒸着装置の概略断面図である。

【符号の説明】

１，１１，２１ ガスバリアフィルム ２，１２，２２ 基材フィルム ３，１３，２３ ガスバリア層 ４，１４，２４ 耐熱層 ５，１５，２５ 積層体 ６，２６ 撥水層 ４０ イオンビームスパッタリング装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00 (72)発明者 村上 成昭 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 宮地 貴樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4F006 AA11 AA12 AA31 AA35 AA36 AA39 AA40 AB74 BA05 CA07 DA01 4F100 AA19 AA21 AB10 AK01C AK02A AK02C AK03A AK03C AK18 AK41A AK41C AK42 AK43A AK43C AK45A AK45C AK49A AK49C AK54A AK54C AK55A AK55C AK56A AK56C AK57A AK57C AK62A AK62C AK66A AK66C AT00A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C EH66 EH66B GB15 GB23 JA05A JA05C JA12A JA12C JB06 JD02B JD03 JD04 JJ03 JJ03C JL02 YY00A YY00C 4K029 AA11 AA25 BA44 BC00 BD00 CA02

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材フィルムと、 当該基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法によっ
   て形成されたガスバリア層を少なくとも一層有する積層
   体と、からなるガスバリアフィルムであって、 前記積層体中のガスバリア層の直下には、ガラス転移温
   度が９０℃以上の高分子樹脂によって形成されている耐
   熱層が位置していることを特徴とするガスバリアフィル
   ム。
2. 【請求項２】 前記高分子樹脂が、ポリエチレンナフタ
   レート、ポリカーボネート、ポリイミド、アモルファス
   ポリオレフィン、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポ
   リエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリノル
   ボルネン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレ
   ンスルフィドのいずれかであることを特徴とする請求項
   １に記載のガスバリアフィルム。
3. 【請求項３】 前記請求項１又は請求項２に記載のガス
   バリアフィルムであって、基材フィルムが、ガラス転移
   温度が９０℃以上の高分子樹脂によって形成されてお
   り、耐熱層としても機能することを特徴とするガスバリ
   アフィルム。
4. 【請求項４】 前記高分子樹脂が、ポリエチレンナフタ
   レート、ポリカーボネート、ポリイミド、アモルファス
   ポリオレフィン、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポ
   リエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリノル
   ボルネン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレ
   ンスルフィドのいずれかであることを特徴とする請求項
   ３に記載のガスバリアフィルム。