JP2003109251A - 光記録媒体及びその製造方法ならびに保護膜形成性樹脂材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 薄く、膜厚の分布にバラツキがなく、表面が
平滑な保護膜を備えた光記録媒体を提供すること。 【解決手段】 基板１と、情報記録層２とを備えた光記
録媒体において、その情報記録層２の上に、光透過性の
樹脂材料からなり、５０〜２００μｍのほぼ均一な厚さ
を有しており、かつ成膜時にその表面に被覆されていた
表面処理媒体の表面の平滑性を再現した表面を有してい
る保護膜３を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関
し、さらに詳しく述べると、基板上に形成された情報記
録層の上に保護膜を備えた光記録媒体に関する。光記録
媒体の典型例は、光ディスクである。本発明はまた、光
記録媒体の製造方法、そしてそのような方法に用いられ
る保護膜形成性樹脂材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、マルチメディアの進展に伴い、映
像や音声のデータでさえもディジタル信号で処理される
ようになっている。一般に、映像や音声は多くの情報量
を有しているため、それに合わせて大容量・高密度の記
録媒体を必要とする。かかる記録媒体としては、今後の
大容量化・高密度化にも対応することができるＤＶＤ
（Digital Versatile Disk）やＣＤ（Compact Disk）の
ような光ディスクが注目されている。

【０００３】光ディスクは、以下に図面を参照して詳細
に説明する本発明の光ディスクから容易に理解できるよ
うに、基板と、その基板の上に順次形成された情報記録
層及び保護膜とからなるのが一般的である。さらに具体
的に説明すると、例えば再生専用の光ディスクは、情報
を担持するピット又は案内溝となる凹凸を表面に有する
ディスク状の基板（例えばポリカーボネート樹脂製）の
表面に、アルミニウムなどからなる情報記録層が被着さ
れている。また、情報記録層の表面は、光ディスクを大
気中の湿気や機械的損傷などから保護するため、光透過
性の樹脂からなる保護膜で封止されている。このような
光ディスクにおいて、情報の再生は、再生ピックアップ
用の対物レンズで集光されたレーザ光を、基板の案内溝
の情報ピットに連続的に照射することによって、行うこ
とができる。

【０００４】ところで、記録媒体における最近の高密度
化、大容量化にともなって、保護膜の改善が必要となっ
ている。例えば、保護膜は、光の照射によって情報の再
生を行うので、再生光に対して高い透明度を有していな
ければならないことはもちろんのこと、保護膜の膜厚
は、できる限り薄く、しかも記録媒体の全面についてほ
ぼ均一であり、かつ表面が平滑であることが望ましい。
しかし、従来の保護膜は、このような課題を十分に満足
させることができていない。

【０００５】例えば、光ディスクの保護膜は、通常、情
報記録層の表面に紫外線硬化性樹脂をスピンコート法な
どで所定の膜厚で塗布した後、紫外線の照射によって硬
化させることによって製造されている。しかし、図１に
示すように、ポリカーボネート樹脂製の基板（説明の簡
略化のため、情報記録層は示されていない）の表面に形
成された保護膜３は、スピンコート時に基板１が回転さ
せられるため、その膜厚が、ディスクの中心側では薄
く、外側に向かうに従って厚くなり、さらに外周端では
盛り上がり部が形成される。盛り上がり部は、通常、幅
１〜２ｍｍ、高さ２０〜３０μｍである。このような膜
厚の変動は、再生特性などに悪影響を及ぼし、また、再
生手段として磁気ヘッドを使用しているような場合に
は、ヘッドクラッシュなどを引き起こすおそれもある。
また、スピンコート法を使用した場合、この成膜法に特
徴的なことであるが、放射状の欠陥が発生しやすい。

【０００６】スピンコート法は大変に有用な成膜法であ
るので、上述のような問題点を解決するため、特開平７
−５７２９７号公報には、盛り上がり部の形成を予め予
測して、その分だけ基板の外周端部に切り欠かれ傾斜面
を形成することが提案されている。しかし、この方法で
は、基板を切り欠く作業が煩雑で、コストがかかるばか
りでなく、その都度、最適な切り欠かれ傾斜面及びスピ
ンコート条件を設計しなければならず、一般的に有効な
解決手段ではない。

【０００７】別法として、保護膜シートの貼付がある。
この方法は、約７０〜９０μｍの厚さをもった保護膜シ
ート（例えば、ポリカーボネートシート）から円盤状の
シートを打ち抜き、接着剤又は粘着剤シートを介して光
ディスクの情報記録層の表面に貼付するものであるが、
保護膜シートの原反が高価である、打ち抜いて使用する
ので原反の利用効率が悪い、ゴミの付着、傷つき、折れ
曲がり等が発生しやすいのでシートの取り扱いに細心の
注意が必要である、などの問題点をかかえている。ま
た、ここで使用する接着剤は通常紫外線硬化型の接着剤
であるが、この接着剤に特有の問題点として、接着剤層
の厚みにおけるバラツキの発生がある。また、粘着剤シ
ートの使用の場合には、シートの特殊性により高価であ
るという問題点のほかに、剥離ライナーの廃棄の問題な
どがある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
したような従来の技術の問題点を克服して、薄く、膜厚
の分布にバラツキがなく、かつ表面が平滑な保護膜を備
え、よって大容量化、高密度化に対応可能な高品質の光
記録媒体を提供することにある。

【０００９】また、本発明の目的は、薄く、膜厚の分布
にバラツキがなく、かつ表面が平滑な保護膜を備えた高
品質の光記録媒体を簡単にかつ低コストで製造可能な方
法を提供することにある。

【００１０】さらに、本発明の目的は、保護膜にゴミが
付着したり、傷がついたり、折れ曲がりや放射状の欠陥
が生じないような光記録媒体の製造方法を提供すること
にある。

【００１１】本発明のこれらの目的やその他の目的は、
以下の詳細な説明から容易に理解できるであろう。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、その１つの面
において、基板と、該基板の上に形成された情報記録層
とを備えた光記録媒体において、前記情報記録層が、光
透過性の樹脂材料からなる保護膜をその表面に有すると
ともに、前記保護膜が、５０〜２００μｍのほぼ均一な
厚さを有しており、かつ該保護膜の形成時にその表面に
被覆されていた表面処理媒体の表面の平滑性を再現した
表面を有していることを特徴とする光記録媒体にある。

【００１３】また、本発明は、そのもう１つの面におい
て、基板と、該基板の上に順次形成された情報記録層及
び保護膜とを備えた光記録媒体を製造する方法におい
て、下記の工程：前記情報記録層の表面に光透過性の保
護膜形成性樹脂材料を、得られる前記保護膜の膜厚が５
０〜２００μｍとなるのに十分な量で適用し、前記保護
膜形成性樹脂材料の層の表面に、前記保護膜において所
望とする平滑度に対応する平滑度を表面において有する
表面処理媒体を被覆し、前記基板と前記表面処理媒体を
積層した状態の下で前記保護膜形成性樹脂材料を硬化さ
せて前記保護膜を形成し、よって、前記表面処理媒体の
表面の平滑性を前記保護膜に転写し、必要に応じて、前
記表面処理媒体を取り除くことを含んでなることを特徴
とする光記録媒体の製造方法にある。

【００１４】さらに、本発明は、そのもう１つの面にお
いて、光硬化性の樹脂材料であり、隣接する媒体を透過
した光により硬化せしめられて保護膜を形成可能である
ことを特徴とする光記録媒体用保護膜形成性樹脂材料に
ある。

【００１５】本発明の光記録媒体では、平行に配置され
た媒体基板と表面処理媒体の間に保護膜形成性樹脂材料
を充填して硬化させているので、製造工程を簡略化する
とともに、保護膜の薄膜化が容易に可能であり、かつ膜
厚をほぼ均一にすることができる。また、優れた平面
性、平滑性を備えた表面処理媒体を使用することによ
り、その表面の平面性、平滑性を保護膜の表面に正確に
転写することができ、また、従来のスピンコート法で発
生したような放射状の欠陥なども防止できる。さらに、
保護膜形成性樹脂材料は安価であり、商業的に容易に入
手可能であるので、製造コストを従来品に比較して格段
に低く抑えることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明による光記録媒体は、採用
されている情報の記録及び再生方式に応じていろいろな
形態を有することができるが、基本的に、（１）基板、
（２）基板上に形成された情報記録層、及び（３）情報
記録層の表面を被覆した保護膜、を少なくとも含むよう
に構成される。かかる光記録媒体の典型例は、ＣＤ、Ｄ
ＶＤ等に代表される光ディスクである。また、本発明の
光記録媒体の保護膜は、その優れた品質などを利用し
て、必要に応じて、光記録媒体以外の分野で利用しても
よい。

【００１７】図２は、本発明の再生専用光ディスク（Ｄ
ＶＤ）の一実施形態を示した斜視図である。光ディスク
１０は、１枚の透明な樹脂（例えばポリカーボネート樹
脂）からなる基板１から構成されて、その透明な基板１
の表面には情報に応じたピットパターン（図示せず）が
形成されている。光ディスク１０の中央部には、円形の
中空部分（開口部）を有している。光ディスク１０は、
それを光ディスク装置に搭載する場合、装置のシャフト
にこの光ディスクの開口部を嵌合する。透明基板１上に
は、アルミニウムのような金属からなる情報記録層２が
配置されており、９０％前後の反射率を有している。さ
らに、情報記録層２の表面には、それを大気中の水分や
機械的ショックなどから保護するため、光透過性の樹脂
材料からなる保護膜３が設けられている。光ディスク１
０に光学ヘッド（図示せず）からのレーザ光Ｌを対物レ
ンズで集光して照射すると、情報記録層２からの情報ピ
ットに応じた反射により、情報の読み取り、再生を行な
うことができる。

【００１８】なお、図示の例では、再生専用の光ディス
クについて説明されているが、本発明の光ディスクはこ
の実施形態に限定されるものではない。すなわち、本発
明の光ディスクは、情報の記録と再生が可能な光ディス
クであってもよく、また、情報記録層とその上の保護膜
が基板の両面にある光ディスクであってもよい。さら
に、本発明の光ディスクは、記録・読み取り方式が光磁
気もしくは相変化による光ディスクであってもよい。

【００１９】本発明の光記録媒体において、情報記録層
を担持する基板は、特に限定されるものではなく、ま
た、採用されている情報の記録・再生方式に応じて、透
明でも、半透明でも、あるいは不透明でもよい。基板
は、この技術分野で一般的に行われているように、射出
成形法などの常用の成形法によってアクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂などのプラスチック材料から形成する
ことができる。場合によっては、プラスチック材料に代
えて、他の材料、例えばガラスなどを基板として使用し
てもよい。基板のサイズは、所望とする光記録媒体のサ
イズに応じて広く変更することができる。例えば、市販
のＤＶＤのような光ディスクの場合、基板の直径は１２
cmであり、厚さは０．６mmである。なお、光記録媒体
は、必要に応じて、ディスク以外の形態をとってもよ
い。

【００２０】基板の表面のうち、情報記録層が形成され
るべき表面には、光記録媒体に記録されるべき映像、音
声等の情報信号に対応した凹凸パターン、凹凸ピットな
どが設けられる。この凹凸パターン等の形成には、マス
タスタンパを使用したり、フォトリソグラフィを使用し
たりすることができる。また、情報の記録・再生方式に
よっては、基板の表面にかかる凹凸パターン等が設けら
れていなくてもよい。

【００２１】基板と同様に、基板の上に形成される情報
記録層も、特に限定されるものではない。情報記録層
は、通常、反射型又は半透明型記録層の形成に適した金
属材料、セラミック材料等から薄膜で形成される。反射
型記録層の形成に適当な記録層形成材料としては、成膜
後の反射率が９０％前後である材料、例えば、アルミニ
ウムなどを挙げることができる。また、半透明型記録層
の形成に適当な記録層形成材料としては、成膜後の反射
率が５０％前後である材料、例えば、金、珪素系誘電体
（例えば式ＳｉＮｘにより一般的に表されるシリコン窒
化物、ＳｉＣ等）などを挙げることができる。これらの
記録層形成材料は、常用の薄膜形成技術、例えばスパッ
タ法、真空蒸着法などによって成膜することができる。
情報記録層の膜厚は、広い範囲で変更することができる
というものの、通常、約１０〜５００nmの範囲である。

【００２２】光記録媒体の最上層に設けられる保護膜
は、光硬化性の、すなわち、光の照射により硬化可能な
樹脂材料から形成される。ここで、「光」とは、可視
光、紫外線等の放射線や電子線などの各種の光を意味
し、したがって、保護膜の形成に適当な光硬化性の樹脂
材料は、例えば、紫外線（ＵＶ）硬化性の樹脂材料、電
子線（ＥＢ）硬化性の樹脂材料などである。適当な光硬
化性の樹脂材料としては、以下に列挙するものに限定さ
れるわけではないけれども、イソオクチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）ア
クリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソス
テアリル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル
酸エステル、そしてウレタンアクリレート、エポキシア
クリレート、ポリエステルアクリレートなどのようなア
クリル系化合物からなる樹脂材料を挙げることができ
る。かかる光硬化性の樹脂材料には、通常、光重合開始
剤が併用される。特に適当なＵＶ硬化性の樹脂材料は、
ウレタンアクリレートとジメチロールトリシクロデカン
アクリレートの混合物又はウレタンアクリレートと１，
６−ヘキサンジオールジアクリレートの混合物に光重合
開始剤を加えたものである。なお、かかる樹脂材料に
は、必要に応じて、この技術分野で一般的に使用されて
いる各種の添加剤を配合してもよい。適当な添加剤の例
として、例えば、増粘剤、可塑剤、分散剤、重合禁止剤
などを挙げることができる。

【００２３】上述のような保護膜形成性の樹脂材料は、
通常、基板上に形成された情報記録層の表面に塗布し、
硬化せしめられる。また、別法によれば、保護膜形成性
の樹脂材料は、情報記録層の表面とは別に、表面処理媒
体の表面にも塗布し、硬化させてもよい。このような両
面塗布法を採用することによって、例えば、保護膜の厚
みのコントロールが容易に可能になる。また、このよう
な両面塗布法の場合には、情報記録層の表面と表面処理
媒体の表面に同一の樹脂材料を塗布してもよく、あるい
は、組成、特性等を異にする樹脂材料を塗布してもよ
い。例えば、被着体に対する接着強度が異なる樹脂材料
を使用すると、表面処理媒体を媒体から剥離する作業を
改善することができる。保護膜形成性の樹脂材料は、必
要に応じてその他の塗布法あるいは薄膜形成法を使用で
きるけれども、スピンコート法によって、その樹脂材料
を情報記録層などの上に塗布するのが有利である。スピ
ンコート法は、市販のスピンコータ及び一般的な塗布条
件を使用して実施することができる。

【００２４】ここで、保護膜形成性の樹脂材料は、通
常、１，０００cps 以上の粘度を有しており、好ましく
は２，０００〜１００，０００cps の粘度、さらに好ま
しくは５，０００〜１００，０００cps の粘度を有して
いる。これは、本発明の光記録媒体の場合、選ばれた樹
脂材料を予め厚みが均一になるように媒体基板上及び必
要に応じて表面処理媒体上にスピンコート法などにより
塗布しておき、その後で表面処理媒体を重ね合わせる
際、樹脂材料の層の厚みが変わらないようにするため、
粘度は十分に高いことが望ましいが、他方で、樹脂材料
の塗布を所望の厚みで実用的に行える範囲でなければな
らないからである。さらに、樹脂材料の粘度が低すぎる
と、それを塗布した後であって光硬化を行う前に、その
溶液が基板周縁部で滴り落ちたりするおそれがある。実
際、樹脂材料の粘度が１，０００cpsを下回ると、保護
膜の厚さの分布にムラが生じ、反対に１００，０００cp
s を上回ると、塗布がしにくくなる。なお、本願明細書
において参照する、保護膜形成性の樹脂材料の粘度は、
ＪＩＳ Ｋ ７１１７−１−１９９９に記載の指針に従
いブルックフィールド粘度計（スピンドル＃２，１２rp
m ）を用いて２５℃で測定したものである。

【００２５】所定量の保護膜形成性の樹脂材料を情報記
録層の上に塗布した後、未硬化の樹脂材料の層を、所望
とする保護膜の膜厚に対応する等間隔で挟むようにし
て、基板の上に表面処理媒体を重ね合わせ、樹脂材料を
硬化させる。また、必要に応じて表面処理媒体の上に追
加的に保護膜形成性の樹脂材料を塗布する両面塗布法の
場合には、樹脂材料の合計量が、保護膜の形成に必要な
所定量となる。ここで樹脂材料が紫外線硬化性の樹脂材
料である場合には、紫外線の透過性に優れた薄くて表面
が平滑なガラス板（円板）を表面処理媒体として使用
し、高圧水銀ランプからの紫外線をガラス板を介して樹
脂材料に照射し、硬化させる。なお、プラスチックシー
トなどを表面処理媒体として使用してもよい。両面塗布
法は、いろいろな形態で有利に実施できる。例えば、保
護膜形成性の樹脂材料は、上記したように、情報記録層
上及び表面処理媒体上で同一の樹脂材料を使用してもよ
く、さもなければ、異なる樹脂材料を使い分けてもよ
い。また、塗布後の樹脂材料の硬化は、基板と表面処理
媒体を積層した後に行ってもよく、あるいは、情報記録
層上の樹脂材料と表面処理媒体の樹脂材料のいずれか一
方をまず硬化させ、その後に基板と表面処理媒体を積層
し、引き続いて残った樹脂材料を硬化させてもよい。さ
らに、樹脂材料の塗布の際、表面処理媒体の直径を情報
記録層を支持する基板の直径よりも大きく設定し、表面
処理媒体の全面に樹脂材料を塗布した後、情報記録層に
対応する領域のみを選択的に硬化させ、未硬化の樹脂材
料を取り除いた後に基板に積層してもよい。このような
手法を採用することによって、保護膜の膜厚分布のコン
トロールが容易になり、積層体のズレが防止でき、作業
性も向上する。

【００２６】光記録媒体の保護膜において、その膜厚
は、通常、約５０〜２００μｍであり、好ましくは約６
０〜１５０μｍである。この保護膜は、その全面にわた
ってほぼ均一な膜厚を有している。すなわち、保護膜の
膜厚が１００μｍであるとき、その膜厚の分布は、通
常、１００±３μｍ程度である。

【００２７】また、この保護膜は、好ましいことに、優
れて良好な平面性、平滑性を有している。これは、媒体
基板と表面処理媒体の間に保護膜形成性樹脂材料をサン
ドイッチして保護膜を形成した時、樹脂材料の層に被覆
されていた表面処理媒体の表面の優れた平滑性が、その
まま保護膜の表面に転写されたからである。保護膜の平
滑性は、それを平均表面粗さＲａで表した場合、通常、
０．０２〜０．０８μｍである。

【００２８】表面処理媒体は、その平滑な表面が広範な
表面エネルギーを示してもよい。硬化した保護膜形成性
樹脂材料と密着した表面処理媒体の表面エネルギーが最
大であると、後続の工程で表面処理媒体を取り除く場合
に、その表面処理媒体の表面によって硬化した樹脂材料
の表面が分離せしめられ、光記録媒体の所期の使用が否
定されるようなことがなく、また、未硬化の保護膜形成
性樹脂材料と密着した表面処理媒体の表面エネルギーが
最小であると、その表面処理媒体の意図した表面からの
濡れが否定されたり、あるいは表面処理媒体上又は表面
処理媒体との間にある保護膜形成性樹脂材料の流動が妨
げられたりすることがない。

【００２９】本発明の光記録媒体は、基板、情報記録層
及び保護膜を備えるけれども、必要に応じて、その他の
層を追加的に有していてもよい。適当な追加の層として
は、例えば、印刷層、無反射コート層、ハードコート
層、帯電防止層などを挙げることができる。

【００３０】本発明による光記録媒体は、基板上に常法
に従って情報記録層を形成した後、次のような手順で保
護膜を形成することによって、有利に製造することがで
きる。 （１）保護膜形成性樹脂材料の塗布 基板上に形成した情報記録層の表面に光透過性の保護膜
形成性樹脂材料を塗布する。好ましくは、スピンコータ
などを使用して、基板を回転させながら、選ばれた樹脂
材料をノズルから滴下することによって、情報記録層の
表面に樹脂材料の薄膜を形成することができる。ここ
で、樹脂材料の塗布量は、通常、得られる保護膜の膜厚
が所望とする５０〜２００μｍの範囲となるのに十分な
量であるのが好ましい。

【００３１】別法によれば、保護膜形成性樹脂材料は、
情報記録層の表面とともに、表面処理媒体の表面（情報
記録層の側の表面）にも塗布してもよい。表面処理媒体
の表面に塗布する樹脂材料は、情報記録層の表面に塗布
した樹脂材料と同一であってもよく、異なっていてもよ
い。また、この場合、樹脂材料の合計塗布量が、保護膜
において所望の膜厚を得るのに必要な量となる。 （２）表面処理媒体の押し付け 特徴的な特性を有する保護膜を得るための前処理工程と
して、保護膜形成性樹脂材料の層の表面に表面処理媒体
を押し付ける。ここで使用する表面処理媒体は、平滑度
の転写の機能を有することから、「型」と呼ぶこともで
きる。詳細は限定されないけれども、この型の表面は、
保護膜において所望とする平滑度に対応する平滑度を有
することが必要である。また、使用する樹脂材料が光硬
化性である場合には、樹脂材料の硬化を達成するため、
型自体が光透過性、例えば紫外線透過性を有することが
必要である。適当な光透過性の表面処理媒体は、ガラス
ディスク、プラスチックシートなどである。このような
表面処理媒体の表面は、保護膜の形成後に媒体基板から
剥離するのを容易にするため、シリコーン樹脂の塗布な
どで離型処理が施されていてもよい。なお、この表面処
理媒体の表面は、前記したように、保護膜形成性樹脂材
料の層が予め形成されていてもよい。

【００３２】媒体基板に表面処理媒体を押し付けた後、
両者をそれぞれの表面が平行となるように重ね合わせ
る。必要に応じて、適当な冶具を使用してもよい。この
場合、両者の間隔、すなわち、サンドイッチされた樹脂
材料の薄膜の厚さは、硬化時の収縮を無視すれば、所望
とする保護膜の膜厚にほぼ同じであり、また、その薄膜
中には微細な気泡などは含まれない。さらに、余分な樹
脂材料を取り除くため、媒体基板と表面処理媒体を重ね
合わせた後に全体を回転させてもよい。 （３）保護膜の形成 保護膜形成性樹脂材料を、媒体基板と表面処理媒体の間
に挟んだままの状態で硬化させる。硬化方法や硬化条件
は、樹脂材料の種類などに応じて広く変更することがで
きる。例えば、紫外線硬化性の樹脂材料を使用している
のであるならば、表面処理媒体（ガラスディスク）を介
して紫外線を照射することによって、樹脂材料を硬化さ
せ、保護膜となすことができる。このようにして、表面
処理媒体の表面の平滑性が保護膜の表面に転写される。
ところで、保護膜形成性樹脂材料を情報記録層の表面と
ともに表面処理媒体の表面にも塗布するような場合、基
板と表面処理媒体を上述のように重ね合わせる前に、２
つの樹脂材料層のいずれか一方を予め硬化させておいて
もよい。このような場合、ここで述べる硬化工程で、他
方の未硬化の樹脂材料層を硬化させることとなる。硬化
方法や硬化条件は、任意に変更することができる。 （４）表面処理媒体の剥離除去 保護膜の形成が完了した後、平滑性の付与のために使用
した表面処理媒体を剥離し、除去する。表面が平滑な、
目的とする保護膜が得られる。剥離した表面処理媒体
は、クリーニングして再使用することができるので、経
済的である。

【００３３】

【実施例】以下、本発明をその実施例に従って説明す
る。しかし、本発明はこれらの実施例に限定されないこ
とは言うまでもない。また、下記の実施例において、
「部」は、特に断りのある場合を除いて、「重量部」を
意味する。実施例１（図３を参照） ポリカーボネート製の透明な円形基板の上に情報記録層
をアルミニウムのスパッタリングによって膜厚５０nmで
被着して光ディスク基板を形成した。次いで、図３の工
程（Ａ）に示すように、光ディスク基板（情報記録層は
図示しない）１を回転させながら、その表面のほぼ中央
部にＵＶ硬化性シロップ３をノズル１３から滴下した。
ここで使用したシロップ３は、３０部のウレタンアクリ
レート（商品名「ＵＶ６１００Ｂ」、日本合成化学工業
製）、７０部のジメチロールトリシクロデカンジアクリ
レート及び５部の光重合開始剤（商品名「ダロキュア
（Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３^TM）」、チバ・ガイギー社
製）を混合したものである。光ディスク基板１の表面
に、ＵＶ硬化性シロップ３の薄膜が形成された。

【００３４】次いで、工程（Ｂ）に示すように、光ディ
スク基板１のシロップ３の側に、その基板と同じ形状及
びサイズの円盤状ガラス板（厚さ１ｍｍ）５を重ね合わ
せた。ガラス板５の表面には、保護膜において目的とさ
れるものと同レベルの平滑性を付与するため、予め平滑
処理を施しておいた。

【００３５】工程（Ｃ）に示すように、光ディスク基板
１とガラス板５を重ね合わせた状態を維持し、ＵＶ硬化
性シロップ３が自然と全面に広がるのを待った。

【００３６】その後、工程（Ｄ）に示すように、ガラス
板５を介してＵＶ硬化性シロップ３に紫外線（波長２０
０〜４００nm）を１０秒間にわたって照射し、シロップ
を完全に硬化させた。光ディスク基板からガラス板５を
手作業で取り除いたところ、ほぼ１００μｍの保護膜を
表面に有する光ディスクが得られた。 〔評価試験〕 保護膜の厚み：光ディスクサンプルの保護膜の厚みを、
キーエンス社製の多焦点光学センサを用いた厚さ測定装
置を使用して、指定の測定条件に基づいて非破壊、非接
触で測定した。下記の第１表に示すような測定結果が得
られた。なお、第１表において、「平均厚み（μｍ）」
は、２個のサンプルの保護膜の厚みの平均値であり、ま
た、「厚みのばらつき（最大値と最小値の差、μｍ）」
は、保護膜の厚みのばらつきを測定した際の、光ディス
ク全体についての平均値と、円周半径を異にする６種類
のトラック（Ｔｒ．１〜Ｔｒ．６）のそれぞれについて
の測定値である。 保護膜の表面の平滑性：光ディスクサンプルの保護膜の
表面の平滑性を表面粗さに関して測定した。この保護膜
の表面粗さの測定のため、大阪在のキーエンス社からモ
デルＶＦ−７５００として入手可能なレーザ共焦点顕微
鏡を使用した。この測定装置には、表面粗さを平均表面
粗さＲａとしてＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に従い
算出できるソフトウェアが組み込んであった。記録され
た平均表面粗さＲａ（μｍ）が、ＪＩＳ Ｂ ０６０１
−１９９４に従い測定したいくつかの測定部位の表面粗
さとなる。下記の第１表に示すような測定結果が得られ
た。 記録再生用レーザの波長域（λ＝４００nm）での吸収：
光ディスクサンプルの保護膜において記録再生用レーザ
の波長域（λ＝４００nm）での吸収があるか否かを測定
するため、実際の保護膜に代えて、膜厚１００μｍの上
述のＵＶ硬化性樹脂のフィルムを模擬的に使用した。波
長４００nmの光の透過率（％）を日立分光光度計３５０
０形（商品名）により測定したところ、下記の第１表に
示すような測定結果が得られた。実施例２（図４を参照） ポリカーボネート製の透明な円形基板の上に情報記録層
をアルミニウムのスパッタリングによって膜厚５０nmで
被着して光ディスク基板を形成した。次いで、図４の工
程（Ａ）に示すように、光ディスク基板（情報記録層は
図示しない）１を回転させながら、その表面のほぼ中央
部にＵＶ硬化性シロップ３をノズル１３からドーナッツ
状に滴下した。ここで使用したシロップ３は、６０部の
ウレタンアクリレート（商品名「ＵＶ６１００Ｂ」、日
本合成化学工業製）、４０部の１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート及び５部の光重合開始剤（商品名「ダ
ロキュア（Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３^TM）」、チバ・ガ
イギー社製）を混合したものである。光ディスク基板１
の表面に、ＵＶ硬化性シロップ３のドーナッツ状の薄膜
が形成された。

【００３７】次いで、工程（Ｂ）に示すように、光ディ
スク基板１のシロップ３の側に、その基板と同じ形状及
びサイズの円盤状ガラス板（厚さ１ｍｍ）５を重ね合わ
せた。ガラス板５の表面には、保護膜において目的とさ
れるものと同レベルの平滑性を付与するため、予め平滑
処理を施しておいた。

【００３８】工程（Ｃ）に示すように、光ディスク基板
１とガラス板５を重ね合わせた後、矢印方向に高速で回
転させて、余分なＵＶ硬化性シロップ３を振り切った。
所定の膜厚をもったＵＶ硬化性シロップ３の薄膜が形成
された。

【００３９】その後、工程（Ｄ）に示すように、ガラス
板５を介してＵＶ硬化性シロップ３に紫外線（波長２０
０〜４００nm）を１０秒間にわたって照射し、シロップ
を完全に硬化させた。光ディスク基板からガラス板５を
手作業で取り除いたところ、ほぼ１００μｍの保護膜を
表面に有する光ディスクが得られた。 〔評価試験〕前記実施例１に記載のものと同様な手法に
従って一連の評価試験を行ったところ、下記の第１表に
記載のような測定結果が得られた。比較例１ 前記実施例１に記載の手法を繰り返したが、本例では、
比較のため、光ディスク基板の表面にＵＶ硬化性シロッ
プを膜厚１００μｍでスピンコートした後、紫外線（波
長２００〜４００nm）を１０秒間にわたって照射し、シ
ロップを完全に硬化させた。本例では、したがって、ガ
ラス板を平滑性転写用型として使用しなかった。

【００４０】前記実施例１に記載のものと同様な手法に
従って一連の評価試験を行ったところ、下記の第１表に
記載のような測定結果が得られた。比較例２ 前記実施例１に記載の手法を繰り返したが、本例では、
比較のため、光ディスク基板の表面にＵＶ硬化性シロッ
プ由来の保護膜を形成する代わりに、その基板の表面に
ポリカーボネートシート（厚さ：約７０μｍ）を感圧接
着剤層（厚さ：約３０μｍ）で接着して保護膜を形成し
た。

【００４１】前記実施例１に記載のものと同様な手法に
従って一連の評価試験を行ったところ、下記の第１表に
記載のような測定結果が得られた。

【００４２】

【表１】

【００４３】上記第１表に記載の測定結果から明らかな
ように、本発明によると、従来の光ディスクに比較して
諸特性に優れた保護膜を有する光ディスクを得ることが
できる。

【００４４】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、薄く、膜厚の分布にバラツキがなく、かつ表面が平
滑な保護膜を備え、よって大容量化、高密度化に対応可
能な高品質の光記録媒体を提供することができる。ま
た、本発明によれば、このような高品質の光記録媒体を
簡単にかつ低コストで製造することができる。さらに、
本発明によれば、光記録媒体の製造時、保護膜にゴミが
付着したり、傷がついたり、折れ曲がりや放射状の欠陥
が生じたといった問題の発生を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の光ディスクの製造方法における保護膜形
成時の問題点を示した断面図である。

【図２】本発明による光ディスクの一例とその使用を模
式的に示した断面図図である。

【図３】本発明による光ディスクの１つの好ましい製造
方法を順を追って示した断面図である。

【図４】本発明による光ディスクのもう１つの好ましい
製造方法を順を追って示した断面図である。

【符号の説明】

１…光ディスク基板 ２…情報記録層 ３…保護膜 ５…表面処理媒体 １０…光ディスク １３…ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高森 克也 神奈川県相模原市南橋本３−８−８ 住友 スリーエム株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 LB07 LB20 LC11 5D121 AA04 EE22 EE23 GG02

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、該基板の上に形成された情報記
   録層とを備えた光記録媒体において、 前記情報記録層が、光透過性の樹脂材料からなる保護膜
   をその表面に有するとともに、 前記保護膜が、５０〜２００μｍのほぼ均一な厚さを有
   しており、かつ該保護膜の形成時にその表面に被覆され
   ていた表面処理媒体の表面の平滑性を再現した表面を有
   していることを特徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】 前記保護膜が、前記情報記録層の表面に
   保護膜形成性樹脂材料を塗布し、前記表面処理媒体の被
   覆後に硬化させることによって形成されたものであるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 前記保護膜形成性樹脂材料が光硬化性の
   樹脂材料であり、前記表面処理媒体を透過した光により
   硬化せしめられて前記保護膜を形成していることを特徴
   とする請求項２に記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 前記保護膜形成性樹脂材料の粘度が２５
   ℃で１，０００〜１００，０００cps であることを特徴
   とする請求項２又は３に記載の光記録媒体。
5. 【請求項５】 前記情報記録層の表面に保護膜形成性樹
   脂材料をその液体からスピンコート法によって適用した
   ものであることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１
   項に記載の光記録媒体。
6. 【請求項６】 基板と、該基板の上に順次形成された情
   報記録層及び保護膜とを備えた光記録媒体を製造する方
   法において、下記の工程：前記情報記録層の表面に光透
   過性の保護膜形成性樹脂材料を、得られる前記保護膜の
   膜厚が５０〜２００μｍとなるのに十分な量で塗布し、 前記保護膜形成性樹脂材料の層の表面に、前記保護膜に
   おいて所望とする平滑度に対応する平滑度を表面におい
   て有する表面処理媒体を被覆し、 前記基板と前記表面処理媒体を積層した状態の下で前記
   保護膜形成性樹脂材料を硬化させて前記保護膜を形成
   し、よって、前記表面処理媒体の表面の平滑性を前記保
   護膜に転写し、 必要に応じて、前記表面処理媒体を取り除くことを含ん
   でなることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記保護膜形成性樹脂材料と同一もしく
   は異なる保護膜形成性樹脂材料を前記表面処理媒体の平
   滑な表面にもさらに適用して、前記保護膜形成性樹脂材
   料の２つの層の合計した厚さが前記保護膜の厚さとなる
   ようにすることを特徴とする請求項６に記載の光記録媒
   体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記基板と前記表面処理媒体を積層する
   前、前記保護膜形成性樹脂材料の２つの層のいずれか一
   方を予め硬化させることを特徴とする請求項７に記載の
   光記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 前記保護膜形成性樹脂材料として光硬化
   性の樹脂材料を使用し、前記表面処理媒体を透過した光
   により該樹脂材料を硬化せしめて前記保護膜を形成する
   ことを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の
   光記録媒体の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記情報記録層及び、必要に応じて、
    前記表面処理媒体の表面に保護膜形成性樹脂材料をスピ
    ンコート法によって塗布することを特徴とする請求項６
    〜９のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法。
11. 【請求項１１】 光硬化性の樹脂材料であり、隣接する
    媒体を透過した光により硬化せしめられて保護膜を形成
    可能であることを特徴とする光記録媒体用保護膜形成性
    樹脂材料。
12. 【請求項１２】 粘度が２５℃で１，０００〜１００，
    ０００cps であることを特徴とする請求項１１に記載の
    光記録媒体用保護膜形成性樹脂材料。