JP2003120529A - 真空ポンプにおけるガス供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】不活性ガスの供給による安定した希釈効果の確
保を図る。 【解決手段】不活性ガスの供給経路である基管６０と分
岐管５４〜５９との接続部５４１〜５９１よりも上流に
おける基管６０には電磁式の流量調整弁６７が取り付け
られている。流量調整弁６７は、基管６０を流れる不活
性ガスの流量を調整する。流量調整弁６７は、流量制御
装置６８の指令制御を受ける。流量制御装置６８には圧
力検出器６２が信号接続されており、圧力検出器６２に
よって得られた導入管６１内の圧力検出情報が流量制御
装置６８に送られる。流量制御装置６８は、圧力検出器
６２から得られる圧力検出情報に基づいて流量調整弁６
７の弁開度、即ちガス供給流量調整状態を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回転軸の回転に基
づいてポンプ室内のガス移送体を動かし、前記ガス移送
体の動作によってガスを移送して吸引作用をもたらし、
前記ガスの存在領域に不活性ガスを供給するガス供給装
置を備えた真空ポンプにおけるガス供給装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】特開平５−１１８２８６号公報に開示さ
れる真空ポンプでは、一対で組をなすロータが噛合した
状態で回転される。噛合しながら回転する複数のロータ
の回転動作は、ガスを移送する。このポンプでは、ガス
の経路内に窒素ガスのような不活性ガスを供給して、反
応生成物を含むガスの希釈が行われる。反応生成物の中
には、圧力が上昇し、温度が低下すると固化しやすくな
るものが多く、特に半導体製造装置の一種であるドライ
エッチング装置から排気されるガスには、そのような物
質が含まれていることがある。このような物質であって
も、不活性ガスで希釈されると、固化する温度が低くな
り、固化しにくくなる。

【０００３】特開平５−１１８２８６号公報では、不活
性ガスの供給経路上にニードルバルブあるいは固定絞り
を介在した構成が開示されている。ニードルバルブは、
不活性ガスの供給流量を調整できる。固定絞りを用いた
装置における不活性ガスの供給流量は、必要供給能力を
持った固定絞りの選択によって調整される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】不活性ガスの供給によ
る安定した希釈効果の確保は、ガスの固化の問題を解消
する上で重要である。しかし、不活性ガスを常に一定量
供給する方式では、真空ポンプの排気の多少に応じた不
活性ガスによるガスの適正な希釈を得ることができな
い。

【０００５】本発明は、不活性ガスの供給によるガスの
適正な希釈の確保を図ることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】そのために本発明は、回
転軸の回転に基づいてポンプ室内のガス移送体を動か
し、前記ガス移送体の動作によってガスを移送して吸引
作用をもたらし、前記ガスの存在領域に不活性ガスを供
給するガス供給装置を備えた真空ポンプを対象とし、請
求項１の発明では、前記不活性ガスの供給流量を調整す
るガス供給流量調整手段と、前記ガスの移送量を検出す
る移送量検出手段と、前記移送量検出手段によって検出
された移送量に応じて前記ガス供給流量調整手段におけ
るガス供給流量調整状態を制御する制御手段とを備えた
ガス供給装置を構成した。

【０００７】ガスの適正な希釈の確保は、検出されたガ
ス移送量が多いときには前記不活性ガスの供給流量を多
くし、検出されたガス移送量が少ないときには前記不活
性ガスの供給流量を少なくすることによって達成され
る。

【０００８】請求項２の発明では、請求項１において、
前記移送量検出手段は、前記ガスの存在領域における圧
力を検出する圧力検出手段とした。検出された圧力は、
ガスの移送量を精度良く反映する。

【０００９】請求項３の発明では、請求項２において、
前記圧力検出手段の検出対象領域は、前記ガスの存在領
域において前記不活性ガスの供給口よりも上流とした。
前記不活性ガスの供給口よりも上流のガス存在領域は、
不活性ガスの存在しない領域である。従って、前記不活
性ガスの供給口よりも上流のガス存在領域は、ガス移送
量の検出精度を高める上で、圧力検出手段の検出対象領
域として適正である。

【００１０】請求項４の発明では、請求項１乃至請求項
３のいずれか１項において、前記不活性ガスの供給経路
は、基管と複数の分岐管とからなり、単一の前記ガス供
給流量調整手段は、前記基管と複数の分岐管との接続部
よりも上流における前記基管に配設されているようにし
た。

【００１１】基管と複数の分岐管との接続部よりも上流
における基管は、単一のガス供給流量調整手段の設置箇
所として最適である。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明を多段ルーツポンプ
に具体化した第１の実施の形態を図１〜図５に基づいて
説明する。

【００１３】図１に示すように、多段ルーツポンプ１１
のロータハウジング１２の前端にはフロントハウジング
１３が接合されており、フロントハウジング１３には封
鎖体１０が接合されている。ロータハウジング１２の後
端にはリヤハウジング１４が接合されている。ロータハ
ウジング１２は、シリンダブロック１５と複数の室形成
壁１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄとからなる。図３に
示すように、シリンダブロック１５は、一対のブロック
片１７，１８からなり、各室形成壁１６Ａ，１６Ｂ，１
６Ｃ，１６Ｄは一対の壁片１６１，１６２からなる。図
１に示すように、フロントハウジング１３と室形成壁１
６Ａとの間の空間、隣合う室形成壁１６Ａ，１６Ｂ，１
６Ｃ，１６Ｄの間の空間、及びリヤハウジング１４と室
形成壁１６Ｄとの間の空間は、それぞれポンプ室３９，
４０，４１，４２，４３となっている。

【００１４】フロントハウジング１３とリヤハウジング
１４とには一対の回転軸１９，２０がラジアルベアリン
グ２１，２１Ａ，２２，２２Ａを介して回転可能に支持
されている。両回転軸１９，２０は互いに平行に配置さ
れている。回転軸１９，２０は室形成壁１６Ａ，１６
Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄに通されている回転軸１９には複数
のロータ２３，２４，２５，２６，２７が一体形成され
ており、回転軸２０には同数のロータ２８，２９，３
０，３１，３２が一体形成されている。ロータ２３〜３
２は、回転軸１９，２０の軸線１９１，２０１の方向に
見て同形同大の形状をしている。ロータ２３，２４，２
５，２６，２７の厚みはこの順に小さくなってゆくよう
にしてあり、ロータ２８，２９，３０，３１，３２の厚
みはこの順に小さくなってゆくようにしてある。ロータ
２３，２８は互いに噛合した状態でポンプ室３９に収容
されており、ロータ２４，２９は互いに噛合した状態で
ポンプ室４０に収容されている。ロータ２５，３０は互
いに噛合した状態でポンプ室４１に収容されており、ロ
ータ２６，３１は互いに噛合した状態でポンプ室４２に
収容されている。ロータ２７，３２は互いに噛合した状
態でポンプ室４３に収容されている。

【００１５】リヤハウジング１４にはギヤハウジング３
３が組み付けられている。回転軸１９，２０はリヤハウ
ジング１４を貫通してギヤハウジング３３内に突出して
おり、各回転軸１９，２０の突出端部には歯車３４，３
５が互いに噛合した状態で止着されている。歯車３４，
３５は、ギヤハウジング３３内に貯留された図示しない
潤滑油をかき上げる。かき上げられた潤滑油は、歯車３
４，３５及びラジアルベアリング２１Ａ，２２Ａを潤滑
する。

【００１６】ギヤハウジング３３には電動モータＭが組
み付けられている。電動モータＭの駆動力は、軸継ぎ手
６３を介して回転軸１９に伝えられ、回転軸１９は図３
〜図５の矢印Ｒ１の方向に回転される。回転軸１９の回
転は、歯車３４，３５を介して回転軸２０に伝えられ、
回転軸２０は図３〜図５の矢印Ｒ２で示すように回転軸
１９とは逆方向に回転する。

【００１７】電動モータＭにはインバータ６５が電気接
続されている。インバータ６５は、回転制御装置６４の
指令制御に基づいて交流電源６６を電源として電動モー
タＭの回転速度制御を行なう。

【００１８】図１及び図３に示すように、室形成壁１６
Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ内には通路１６３が形成さ
れている。図３に示すように、室形成壁１６Ａ，１６
Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄには通路１６３の入口１６４及び出
口１６５が形成されている。隣合うポンプ室３９，４
０，４１，４２，４３は、通路１６３を介して連通して
いる。

【００１９】図４に示すように、ブロック片１８には導
入口１８１がポンプ室３９に連通するように形成されて
いる。導入口１８１には導入管６１が接続されている。
導入管６１には圧力検出手段としての圧力検出器６２が
取り付けられている。圧力検出器６２は、導入管６１内
の圧力を検出する。

【００２０】図５に示すように、ブロック片１７には排
出口１７１がポンプ室４３に連通するように形成されて
いる。導入口１８１からポンプ室３９に導入されたガス
は、ロータ２３，２８の回転によって室形成壁１６Ａの
入口１６４から通路１６３を経由して出口１６５から隣
のポンプ室４０へ移送される。以下、同様にガスは、ポ
ンプ室の容積が小さくなる順、即ちポンプ室４０，４
１，４２，４３の順に移送される。ポンプ室４３へ移送
されたガスは、排出口１７１から外部へ排出される。ロ
ータ２３〜３２は、ガスを移送するガス移送体である。

【００２１】図１及び図３に示すように、ロータハウジ
ング１２には複数の固定絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３６
Ｃ，３６Ｄが螺着されている。図１に示すように、フロ
ントハウジング１３には固定絞り器３７が螺合されてお
り、リヤハウジング１４には固定絞り器３８が螺合され
ている。各固定絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６
Ｄ，３７，３８には分岐管５４，５５，５６，５７，５
８，５９が接続されており、分岐管５４，５５，５６，
５７，５８，５９は基管６０に接続されている。基管６
０は、図示しないガス供給源に接続されている。ガス供
給源の不活性ガス（例えば窒素ガス）は、基管６０及び
分岐管５４〜５９を介して各固定絞り器３６Ａ，３６
Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８に供給される。

【００２２】図２に示すように、固定絞り器３６Ａは、
逆止弁４４と、逆止弁４４に螺合された固定絞り４５
と、逆止弁４４に螺合された管継ぎ手４６とからなる。
逆止弁４４は固定絞り４５の上流側にある。逆止弁４４
と固定絞り４５との間にはシールリング４７が介在され
ている。固定絞り４５の先端部にはオリフィス４５１が
形成されている。

【００２３】逆止弁４４は、弁孔５１１を形成したハウ
ジング５１と、ばね座兼用のガイド４８と、ガイド４８
によって摺動案内される弁支持体４９と、弁支持体４９
に取り付けられたリング形状のゴム製の弾性弁５０と、
弁支持体４９を弁孔５１１側に付勢するばね５２とを備
えている。弁支持体４９には通過溝４９１が形成されて
いる。分岐管５４は、逆止弁４４に嵌入されている。

【００２４】管継ぎ手４６は、一対のゴム製のシールリ
ング５３Ａ，５３Ｂを備えている。逆止弁４４に対して
管継ぎ手４６を締め付けると、シールリング５３Ａが管
継ぎ手４６と分岐管５４との間で弾性変形すると共に、
シールリング５３Ｂが逆止弁４４と分岐管５４との間で
弾性変形する。分岐管５４は、シールリング５３Ａ，５
３Ｂの弾性変形によって固定絞り器３６Ａからの抜けを
阻止される。

【００２５】他の固定絞り器３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，
３７，３８も固定絞り器３６Ａと同じ構造である。固定
絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８へ
送られた不活性ガスは、ばね５２のばね力に抗して弾性
弁５０を押し退けて弁孔５１１を通過する。弁孔５１１
を通過した不活性ガスは、通過溝４９１を経由して固定
絞り４５内に入る。固定絞り４５内に入った不活性ガス
は、オリフィス４５１を通過する。

【００２６】図１に示すように、固定絞り器３７にはフ
ロントハウジング１３内の通路１３１が接続されてい
る。通路１３１は、回転軸１９，２０を通すフロントハ
ウジング１３の軸孔１３４，１３５の周面に形成された
環状の通路１３２，１３３に通じている。固定絞り器３
８にはリヤハウジング１４内の通路１４１が接続されて
いる。通路１４１は、回転軸１９，２０を通すリヤハウ
ジング１４の軸孔１４４，１４５の周面に形成された環
状の通路１４２，１４３に通じている。

【００２７】基管６０及び分岐管５４を介して固定絞り
器３６Ａに送られた不活性ガスは、室形成壁１６Ａ内の
通路１６３へ送り込まれる。基管６０及び分岐管５５を
介して固定絞り器３６Ｂに送られた不活性ガスは、室形
成壁１６Ｂ内の通路１６３へ送り込まれる。基管６０及
び分岐管５６を介して固定絞り器３６Ｃに送られた不活
性ガスは、室形成壁１６Ｃ内の通路１６３へ送り込まれ
る。基管６０及び分岐管５７を介して固定絞り器３６Ｄ
に送られた不活性ガスは、室形成壁１６Ｄ内の通路１６
３へ送り込まれる。各通路１６３内へ送り込まれた不活
性ガスは、各通路１６３内のガス〔例えばパーフルオロ
カーボン（ＰＦＣ）ガス等のガス〕を希釈する。

【００２８】基管６０及び分岐管５８を介して固定絞り
器３７に送られた不活性ガスは、通路１３１，１３２，
１３３へ送り込まれる。通路１３２，１３３へ送り込ま
れた不活性ガスは、回転軸１９，２０の周面とフロント
ハウジング１３の軸孔１３４，１３５との間の間隙から
ラジアルベアリング２１，２２へ侵入しようとするガス
を希釈する。

【００２９】基管６０及び分岐管５９を介して固定絞り
器３８に送られた不活性ガスは、通路１４１，１４２，
１４３へ送り込まれる。通路１４２，１４３へ送り込ま
れた不活性ガスは、回転軸１９，２０の周面とリヤハウ
ジング１４の軸孔１４４，１４５との間の間隙からラジ
アルベアリング２１Ａ，２２Ａへ侵入しようとするガス
を希釈する。

【００３０】不活性ガスの供給圧力、即ち基管６０及び
分岐管５４〜５９内の圧力は、各室形成壁１６Ａ，１６
Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ内の通路１６３内の予想圧力、及び
通路１３２，１３３，１４２，１４３内の予想圧力より
も高くしてある。

【００３１】基管６０と分岐管５４〜５９との接続部５
４１，５５１，５６１，５７１，５８１，５９１よりも
上流における基管６０には電磁式の流量調整弁６７が取
り付けられている。流量調整弁６７は、不活性ガスの供
給流量を調整するガス供給流量調整手段である。流量調
整弁６７は、基管６０を流れる不活性ガスの流量を調整
する。

【００３２】流量調整弁６７は、流量制御装置６８の指
令制御を受ける。流量制御装置６８には圧力検出器６２
が信号接続されており、圧力検出器６２によって得られ
た圧力検出情報が流量制御装置６８に送られる。流量制
御装置６８は、圧力検出器６２から得られる圧力検出情
報に基づいて流量調整弁６７の弁開度、即ちガス供給流
量調整状態を制御する。本実施の形態では、流量制御装
置６８は、ガスの希釈度が所望の希釈度になるように流
量調整弁６７の弁開度を制御する。圧力検出器６２によ
って検出された圧力が増大、即ちガスの移送量が多くな
ると、流量制御装置６８は、流量調整弁６７の弁開度を
増大する指令を出す。流量調整弁６７は、流量制御装置
６８からの弁開度増大指令に基づいて弁開度を増大し、
基管６０を流れる不活性ガスの供給流量が増える。圧力
検出器６２によって検出された圧力が減少すると、流量
制御装置６８は、流量調整弁６７の弁開度を減少する指
令を出す。流量調整弁６７は、流量制御装置６８からの
弁開度減少指令に基づいて弁開度を減少し、基管６０を
流れる不活性ガスの供給流量が減る。

【００３３】圧力検出器６２は、ガスの移送量を検出す
る移送量検出手段である。流量制御装置６８は、移送量
検出手段によって検出された圧力（即ち、移送量）に応
じて流量調整弁６７の弁開度（即ち、ガス供給流量調整
状態）を制御する制御手段である。

【００３４】第１の実施の形態では以下の効果が得られ
る。 （１-1）ガス移送量が多いときに不活性ガスの供給流量
が少ないと、ガスに含まれる反応生成物が固化したり、
ガス移送量が少ないときに不活性ガスの供給流量が多い
と、真空ポンプの吸引作用が低下する。

【００３５】圧力検出器６２によって検出された導入管
６１内の圧力が高いとき、即ちガスの移送量が多いとき
には、流量制御装置６８は、不活性ガスの供給流量を多
くしてガスの希釈度を所望の希釈度へ収束させる。圧力
検出器６２によって検出された導入管６１内の圧力が低
いとき、即ちガスの移送量が少ないときには、流量制御
装置６８は、不活性ガスの供給流量を少なくしてガスの
希釈度を所望の希釈度へ収束させる。ガスの移送量に応
じて不活性ガスの供給流量を調整する構成は、ガスの適
正な希釈の確保を可能にする。

【００３６】（１-2）導入管６１内の圧力は、ガスの移
送量を精度良く反映する。従って、圧力検出器６２によ
って検出された圧力は、ガスの移送量を精度良く反映
し、ガスの移送量に応じた不活性ガスの適正な供給流量
の調整が可能である。

【００３７】（１-3）固定絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３６
Ｃ，３６Ｄのオリフィス４５１は、室形成壁１６Ａ，１
６Ｂ，１６Ｃ，１６内の通路１６３というガス存在領域
に対する不活性ガスの供給口となる。固定絞り器３７の
オリフィス４５１は、回転軸１９，２０の周面とフロン
トハウジング１３の軸孔１３４，１３５との間の間隙と
いうガスの存在領域に通じる通路１３１に対する不活性
ガスの供給口となる。固定絞り器３８のオリフィス４５
１は、回転軸１９，２０の周面とリヤハウジング１４の
軸孔１４４，１４５との間の間隙というガスの存在領域
に対する不活性ガスの供給口となる。各固定絞り器３６
Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８のオリフィス
４５１よりも上流のガス移送経路は、不活性ガスの存在
しない領域である。従って、各固定絞り器３６Ａ，３６
Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８のオリフィス４５１よ
りも上流となるガス移送経路の一部である導入管６１内
は、ガス移送量の検出精度を高める上で、圧力検出器６
２の検出対象領域として適正である。

【００３８】（１-4）各室形成壁１６Ａ，１６Ｂ，１６
Ｃ，１６Ｄ内の通路１６３内の圧力、通路１３２，１３
３内の圧力、及び通路１４２，１４３内の圧力は、それ
ぞれ異なる。従って、各室形成壁１６Ａ，１６Ｂ，１６
Ｃ，１６Ｄ内の通路１６３内のガスの濃度、通路１３
２，１３３内のガスの濃度、通路１４２，１４３内のガ
スの濃度は、それぞれ異なる。従って、各室形成壁１６
Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ内の通路１６３、通路１３
２，１３３、通路１４２，１４３というガスの存在領域
に対する不活性ガスの単位時間当たりの適正な供給流量
もそれぞれ異なる。固定絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３６
Ｃ，３６Ｄ，３７，３８は、前記したガスの存在領域に
おける所望の希釈度を得るべく、前記存在領域に対する
不活性ガスの単位時間当たりの適正な供給流量をもたら
すように選択してある。即ち、固定絞り器３６Ａ，３６
Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８におけるオリフィス４
５１の径Ｄ（図２に図示）は、分岐管５４〜５９及び基
管６０という供給経路内の圧力、前記存在領域内の圧力
等を考慮して前記適正な供給流量をもたらすように設定
されている。

【００３９】このような固定絞り器３６Ａ〜３６Ｄ，３
７，３８を用いた本実施の形態では、流量調整弁６７
は、基管６０と複数の分岐管５４〜５９との接続部５４
１〜５９１よりも上流における基管６０にて不活性ガス
の供給流量の調整を行なう。即ち、接続部５４１〜５９
１よりも上流における基管６０での不活性ガスの供給流
量の調整は、各固定絞り器３６Ａ〜３６Ｄ，３７，３８
のオリフィス４５１よりも下流のガス移送経路内のガス
の希釈度の調整を可能にする。従って、基管６０と複数
の分岐管５４〜５９との接続部５４１〜５９１よりも上
流の不活性ガスの供給経路は、単一の流量調整弁６７の
設置箇所として最適である。

【００４０】（１-5）各固定絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３
６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８における所定のガス供給流量
をもたらすオリフィス４５１の径Ｄの設定は、ガス供給
圧、前記存在領域の圧力がわかっていれば容易に計算で
きる。従って、所定のガス供給流量をもたらす固定絞り
器３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８の製造
は容易であり、前記存在領域に必要なガス供給流量をも
たらす固定絞り器の選択は簡単である。

【００４１】（１-6）多段ルーツポンプ１１は、不活性
ガスの必要供給流量の異なる複数の前記存在領域（即
ち、各室形成壁１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ内の通
路１６３、環状の通路１３２，１３３，１４２，１４
３）を有する。このような多段ルーツポンプ１１は、複
数の供給経路となる分岐管５４〜５９を接続したそれぞ
れの存在領域に応じた適正なガス供給流量をもたらす固
定絞り器３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ，３７，３８
を選択して分岐管５４〜５９上に介在するという本実施
の形態の発明の適用対象として好適である。

【００４２】次に、図６の第２の実施の形態を説明す
る。第１の実施の形態と同じ構成部には同じ符号が用い
てある。インバータ６５には流量制御装置６８Ａが信号
接続されている。流量制御装置６８Ａは、インバータ６
５から電動モータＭに出力される電流の値を検出する。
流量制御装置６８Ａは、検出した電流値に基づいて流量
調整弁６７の弁開度、即ちガス供給流量調整状態を制御
する。検出した電流値は、電動モータＭに対する真空ポ
ンプの負荷トルクを反映しており、この負荷トルクは、
ガス移送量を反映している。ガス移送量が増えると検出
電流値が増大し、ガス移送量が減ると検出電流値が減少
する。

【００４３】本実施の形態では、流量制御装置６８Ａ
は、ガスの希釈度が所望の希釈度になるように流量調整
弁６７の弁開度を制御する。検出した電流値が増大する
と、流量制御装置６８Ａは、流量調整弁６７の弁開度を
増大する指令を出す。流量調整弁６７は、流量制御装置
６８Ａからの弁開度増大指令に基づいて弁開度を増大
し、基管６０を流れる不活性ガスの供給流量が増える。
検出した電流値が減少すると、流量制御装置６８Ａは、
流量調整弁６７の弁開度を減少する指令を出す。流量調
整弁６７は、流量制御装置６８Ａからの弁開度減少指令
に基づいて弁開度を減少し、基管６０を流れる不活性ガ
スの供給流量が減る。

【００４４】第２の実施の形態では、第１の実施の形態
における（１-1）項、（１-3）項及び（１-4）項と同じ
効果が得られる。又、圧力検出器が不要となり、コスト
抑制の効果が得られる。

【００４５】本発明では以下のような実施の形態も可能
である。 （１）導入管６１内のガス移送量を流量検出器によって
直接検出すること。 （２）室形成壁１６Ａ〜１６Ｄ内の通路１６３内を圧力
検出器６２の検出対象領域とすること。

【００４６】（３）感圧機構を備えた機械式の流量制御
弁をガス供給流量調整手段として用いること。この感圧
機構は、例えば導入管６１内を検出対象領域とし、流量
制御弁の弁開度は、感圧機構の感圧具合に応じて機械的
に調整される。

【００４７】（４）第１の実施の形態において、固定絞
り器３６Ａ〜３６Ｄ，３７，３８におけるオリフィス４
５１の径を同一とし、各分岐管５４〜５９に流量調整弁
６７をそれぞれ設けること。

【００４８】（５）ルーツポンプ以外の真空ポンプに本
発明を適用すること。前記した実施の形態から把握でき
る請求項記載以外の発明について以下に記載する。

【００４９】〔１〕請求項１乃至請求項４のいずれか１
項において、逆流防止機能を備えた固定絞り器を前記不
活性ガスの供給経路上に介在した真空ポンプにおけるガ
ス供給装置。

【００５０】〔２〕前記〔１〕項において、前記供給経
路は複数あり、複数の前記供給経路を接続したそれぞれ
の前記存在領域に応じた単位時間当たりの適正なガス供
給流量をもたらす固定絞り器が選択されて前記複数の供
給経路上に介在されている真空ポンプにおけるガス供給
装置。

【００５１】この場合、第１及び第２の実施の形態にお
ける複数の分岐管５４〜５９が複数の供給経路となる。 〔３〕請求項１乃至請求項４、前記〔１〕項、及び前記
〔２〕項のいずれか１項において、前記真空ポンプは、
複数の回転軸を平行に配置すると共に、前記各回転軸上
にロータを配列し、隣合う回転軸上のロータを互いに噛
み合わせ、互いに噛み合った状態の複数のロータを１組
として収容するポンプ室を前記回転軸の軸線方向へ複数
配列するようにハウジング内に形成した多段ルーツポン
プである真空ポンプにおけるガス供給装置。

【００５２】

【発明の効果】以上詳述したように本発明では、移送量
検出手段によって検出されたガス移送量に応じてガス供
給流量調整手段におけるガス供給流量調整状態を制御す
るようにしたので、不活性ガスの供給による安定した希
釈効果を確保し得るという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態を示す平断面図。

【図２】固定絞り器の断面図。

【図３】図１のＡ−Ａ線断面図。

【図４】図１のＢ−Ｂ線断面図。

【図５】図１のＣ−Ｃ線断面図。

【図６】第２の実施の形態を示す平断面図。

【符号の説明】

１１…多段ルーツポンプ。１３２，１３３，１４２，１
４３，１６３…存在領域となる通路。１９，２０…回転
軸。２３〜３２…ガス移送体となるロータ。３９〜４３
…ポンプ室。４５１…供給口となるオリフィス。５４，
５５，５６，５７，５８，５９…分岐管。５４１，５５
１，５６１，５７１，５８１，５９１…接続部。６０…
基管。６２…移送量検出手段としての圧力検出器。６７
…ガス供給流量調整手段としての流量調整弁。６８，６
８Ａ…制御手段としての流量制御装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石榑 宏行 愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地 株式会 社豊田自動織機内 Ｆターム(参考） 3H029 AA06 AA09 AA18 AB06 BB42 BB51 CC02 CC09 CC24 CC26 CC54 CC55 CC83 3H045 AA05 AA09 AA15 AA25 AA38 BA19 CA03 DA12 EA13 EA14 EA26 EA34 EA45 3H076 AA16 AA21 AA38 BB21 BB33 CC07 CC41 CC84 CC94 CC97

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】回転軸の回転に基づいてポンプ室内のガス
   移送体を動かし、前記ガス移送体の動作によってガスを
   移送して吸引作用をもたらし、前記ガスの存在領域に不
   活性ガスを供給するガス供給装置を備えた真空ポンプに
   おいて、 前記不活性ガスの供給流量を調整するガス供給流量調整
   手段と、 前記ガスの移送量を検出する移送量検出手段と、 前記移送量検出手段によって検出された移送量に応じて
   前記ガス供給流量調整手段におけるガス供給流量調整状
   態を制御する制御手段とを備えた真空ポンプにおけるガ
   ス供給装置。
2. 【請求項２】前記移送量検出手段は、前記ガスの存在領
   域における圧力を検出する圧力検出手段である請求項１
   に記載の真空ポンプにおけるガス供給装置。
3. 【請求項３】前記圧力検出手段の検出対象領域は、前記
   ガスの存在領域において前記不活性ガスの供給口よりも
   上流である請求項２に記載の真空ポンプにおけるガス供
   給装置。
4. 【請求項４】前記不活性ガスの供給経路は、基管と複数
   の分岐管とからなり、単一の前記ガス供給流量調整手段
   は、前記基管と複数の分岐管との接続部よりも上流にお
   ける前記基管に配設されている請求項１乃至請求項３の
   いずれか１項に記載の真空ポンプにおけるガス供給装
   置。