JP2003126204A - 美容処理装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 皮膚の再生促進処理や汚れの除去処理などの
美容処理を実施する美容処理装置において、皮膚へのダ
メージを抑制した上で、皮膚表面の老化した角質や汚れ
などを均一にかつ適度に除去することを可能にする。 【解決手段】 美容処理装置は、偏心ロータ2を有する
モータ3などの振動発生手段が内蔵された装置本体1を
具備する。装置本体1の先端部分には、振動発生手段か
ら振動が伝達されるように美容処理チップ10が保持さ
れている。美容処理チップ10は振動発生手段からの振
動を皮膚表面に印加するように当接されるものであり、
粒度が#80〜#800の範囲の砥粒、例えばセラミックス
砥粒を備える。美容処理チップ10は特にアルミナ砥粒
で構成することが好ましい。
美容処理を実施する美容処理装置において、皮膚へのダ
メージを抑制した上で、皮膚表面の老化した角質や汚れ
などを均一にかつ適度に除去することを可能にする。 【解決手段】 美容処理装置は、偏心ロータ2を有する
モータ3などの振動発生手段が内蔵された装置本体1を
具備する。装置本体1の先端部分には、振動発生手段か
ら振動が伝達されるように美容処理チップ10が保持さ
れている。美容処理チップ10は振動発生手段からの振
動を皮膚表面に印加するように当接されるものであり、
粒度が#80〜#800の範囲の砥粒、例えばセラミックス
砥粒を備える。美容処理チップ10は特にアルミナ砥粒
で構成することが好ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、皮膚表面の老化し
た角質の除去などを含む各種の美容処理に用いられる美
容処理装置に関する。
た角質の除去などを含む各種の美容処理に用いられる美
容処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、身体の老化した皮膚の一部を
機械的にもしくは化学的に除去する処理、いわゆるピー
リング処理が行われている。このようなピーリング処理
は、皮膚の再生機能を促進して、シミやくすみの原因を
取り除いたり、またしわやストレッチマークなどの除去
に有効であり、主として美顔処理などの美容処理を目的
として実施されている。
機械的にもしくは化学的に除去する処理、いわゆるピー
リング処理が行われている。このようなピーリング処理
は、皮膚の再生機能を促進して、シミやくすみの原因を
取り除いたり、またしわやストレッチマークなどの除去
に有効であり、主として美顔処理などの美容処理を目的
として実施されている。
【0003】すなわち、表皮最上部に位置する角質は、
表皮最下部の基底細胞で新生された細胞が上部に押し上
げられ、この細胞が融解して内部のケラトヒアリンが角
質に転化(ケラトヒアリン代謝)することで順次生成さ
れており、次第にウロコ状となって最後には角片(あ
か)となって表皮から脱落する。このように、皮膚は本
来再生能力を有しており、表皮細胞が新生してから剥が
れ落ちるまでの周期は表皮のターンオーバーと呼ばれて
いる。
表皮最下部の基底細胞で新生された細胞が上部に押し上
げられ、この細胞が融解して内部のケラトヒアリンが角
質に転化(ケラトヒアリン代謝)することで順次生成さ
れており、次第にウロコ状となって最後には角片(あ
か)となって表皮から脱落する。このように、皮膚は本
来再生能力を有しており、表皮細胞が新生してから剥が
れ落ちるまでの周期は表皮のターンオーバーと呼ばれて
いる。
【0004】上記したターンオーバーが加齢、紫外線照
射、乾燥、ストレスなどにより正常に行われなくなる
と、シミやくすみ、またしわやストレッチマークなどが
生じやすくなり、さらにはこれらを取り除くことが困難
となる。そこで、表皮最上部の古い角質を機械的にもし
くは化学的に除去して、皮膚の再生機能(ターンオーバ
ー)を促進する処理が行われている。このような皮膚の
再生機能を促進する処理は、シミやくすみ、さらにはし
わやストレッチマークなどの除去に有効であり、さらに
皮膚の老化防止や老化予防などに対しても有効に作用す
る。
射、乾燥、ストレスなどにより正常に行われなくなる
と、シミやくすみ、またしわやストレッチマークなどが
生じやすくなり、さらにはこれらを取り除くことが困難
となる。そこで、表皮最上部の古い角質を機械的にもし
くは化学的に除去して、皮膚の再生機能(ターンオーバ
ー)を促進する処理が行われている。このような皮膚の
再生機能を促進する処理は、シミやくすみ、さらにはし
わやストレッチマークなどの除去に有効であり、さらに
皮膚の老化防止や老化予防などに対しても有効に作用す
る。
【0005】このような皮膚の再生促進処理において、
最近では化学的な処理に比べて皮膚に対するダメージが
小さいと共に、局部的に処理することが可能な機械的
(物理的)な処理が注目されている。機械的処理に使用
する装置としては、例えば登録実用新案第3000144号公
報に、偏心ロータ付きモータを内蔵した装置本体に、角
質を除去するための粗い表面を有するセラミックス材料
(剥離チップ)を固定した美容処理装置が記載されてい
る。ここでは、剥離チップにアルミナ、ジルコニア、マ
グネシアなどのセラミックス焼結体が使用されている。
最近では化学的な処理に比べて皮膚に対するダメージが
小さいと共に、局部的に処理することが可能な機械的
(物理的)な処理が注目されている。機械的処理に使用
する装置としては、例えば登録実用新案第3000144号公
報に、偏心ロータ付きモータを内蔵した装置本体に、角
質を除去するための粗い表面を有するセラミックス材料
(剥離チップ)を固定した美容処理装置が記載されてい
る。ここでは、剥離チップにアルミナ、ジルコニア、マ
グネシアなどのセラミックス焼結体が使用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した機
械的な皮膚の再生促進処理においては、剥離チップに微
振動(例えば0.01〜10μm程度の振幅)を高振動数(例
えば1000〜10000回/min)で加えることが有効であるこ
とが判明しつつある。このような条件下での機械的処理
において、従来からかかとの角質取りやつめ磨きなどに
使用されている剥離部材では皮膚を削りすぎてしまうこ
とから、均一な処理を行うことができないだけでなく、
皮膚にダメージを与えてしまうおそれが大きい。
械的な皮膚の再生促進処理においては、剥離チップに微
振動(例えば0.01〜10μm程度の振幅)を高振動数(例
えば1000〜10000回/min)で加えることが有効であるこ
とが判明しつつある。このような条件下での機械的処理
において、従来からかかとの角質取りやつめ磨きなどに
使用されている剥離部材では皮膚を削りすぎてしまうこ
とから、均一な処理を行うことができないだけでなく、
皮膚にダメージを与えてしまうおそれが大きい。
【0007】また、上記公報に記載されているセラミッ
クス焼結体からなる剥離チップでも、表面の粗さが大き
すぎたり、また硬度が高すぎる場合には、角質の除去が
不均一となることが懸念される。さらに、単に剥離チッ
プの表面を平滑にしただけでは、処理効果そのものが低
減してしまう。このようなことから、機械的な振動を利
用する美容処理装置に対しては、機械的な振動で皮膚の
再生機能を促進する処理に有効な美容処理チップ(剥離
チップ)の開発が強く求められている。
クス焼結体からなる剥離チップでも、表面の粗さが大き
すぎたり、また硬度が高すぎる場合には、角質の除去が
不均一となることが懸念される。さらに、単に剥離チッ
プの表面を平滑にしただけでは、処理効果そのものが低
減してしまう。このようなことから、機械的な振動を利
用する美容処理装置に対しては、機械的な振動で皮膚の
再生機能を促進する処理に有効な美容処理チップ(剥離
チップ)の開発が強く求められている。
【0008】なお、身体に振動を加えて美容処理を行う
装置に関しては、例えば登録実用新案第3004388号公
報、同第3041063号公報、特開平4-117965号公報などに
も記載されている。しかし、登録実用新案第3004388号
公報や同第3041063号公報に記載されている装置は、身
体に振動を加えてマッサージ効果を主として得る装置で
ある。また、特開平4-117965号公報に記載されている美
容処理装置は、皮膚に交流電圧などによる電気的な刺激
に加えると同時に、超音波振動を印加する装置であり、
皮膚の再生機能の促進処理については記載されていな
い。
装置に関しては、例えば登録実用新案第3004388号公
報、同第3041063号公報、特開平4-117965号公報などに
も記載されている。しかし、登録実用新案第3004388号
公報や同第3041063号公報に記載されている装置は、身
体に振動を加えてマッサージ効果を主として得る装置で
ある。また、特開平4-117965号公報に記載されている美
容処理装置は、皮膚に交流電圧などによる電気的な刺激
に加えると同時に、超音波振動を印加する装置であり、
皮膚の再生機能の促進処理については記載されていな
い。
【0009】本発明はこのような課題に対処するために
なされたもので、機械的な振動を加えて皮膚の再生機能
を促進する美容処理などを実施する際に、皮膚へのダメ
ージを抑制した上で、美容処理の効果を高めることを可
能にした美容処理装置を提供することを目的としてい
る。
なされたもので、機械的な振動を加えて皮膚の再生機能
を促進する美容処理などを実施する際に、皮膚へのダメ
ージを抑制した上で、美容処理の効果を高めることを可
能にした美容処理装置を提供することを目的としてい
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明における第1の美
容処理装置は、請求項1に記載したように、装置本体
と、前記装置本体に内蔵された振動発生手段と、前記振
動発生手段から振動が伝達され、かつ美容処理を施す身
体の皮膚表面に前記振動を印加するように当接される美
容処理チップとを具備する美容処理装置において、前記
美容処理チップは粒度が#80〜#800の範囲の砥粒を備
えることを特徴としている。
容処理装置は、請求項1に記載したように、装置本体
と、前記装置本体に内蔵された振動発生手段と、前記振
動発生手段から振動が伝達され、かつ美容処理を施す身
体の皮膚表面に前記振動を印加するように当接される美
容処理チップとを具備する美容処理装置において、前記
美容処理チップは粒度が#80〜#800の範囲の砥粒を備
えることを特徴としている。
【0011】本発明の美容処理装置に用いる美容処理チ
ップの具体的な構成例としては、請求項3に記載したよ
うに、上記した砥粒がチップ形状を維持するように、砥
粒間を結合剤で結合させたチップが挙げられる。また、
砥粒の具体例としては、請求項4に記載したようにセラ
ミックス砥粒が挙げられ、特に請求項5に記載したよう
に、アルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、マグネシア砥粒お
よびスピネル砥粒から選ばれる少なくとも1種を用いる
ことが好ましい。
ップの具体的な構成例としては、請求項3に記載したよ
うに、上記した砥粒がチップ形状を維持するように、砥
粒間を結合剤で結合させたチップが挙げられる。また、
砥粒の具体例としては、請求項4に記載したようにセラ
ミックス砥粒が挙げられ、特に請求項5に記載したよう
に、アルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、マグネシア砥粒お
よびスピネル砥粒から選ばれる少なくとも1種を用いる
ことが好ましい。
【0012】本発明における第2の美容処理装置は、請
求項7に記載したように、装置本体と、前記装置本体に
内蔵された振動発生手段と、前記振動発生手段から振動
が伝達され、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記
振動を印加するように当接される美容処理チップとを具
備する美容処理装置において、前記美容処理チップはア
ルミナ砥粒を備えることを特徴としている。
求項7に記載したように、装置本体と、前記装置本体に
内蔵された振動発生手段と、前記振動発生手段から振動
が伝達され、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記
振動を印加するように当接される美容処理チップとを具
備する美容処理装置において、前記美容処理チップはア
ルミナ砥粒を備えることを特徴としている。
【0013】本発明の美容処理装置は、上述したような
粒度を有する砥粒、例えばセラミックス砥粒を用いた美
容処理チップを具備するものである。このような美容処
理チップは皮膚の再生機能を促進するための処理、さら
に皮膚表面に付着した汚れの除去処理などに対して有効
に機能する。すなわち、美容処理チップに微振動を高振
動数で加えて美容処理を実施する場合に、上述した粒度
の砥粒を有する美容処理チップは、老化した角質や皮膚
表面の汚れなどに対して適度な除去性能を示す。従っ
て、このような美容処理チップを使用することによっ
て、皮膚にダメージなどを与えることなく、各種の美容
処理を均一にかつ効率よく実施することが可能となる。
特に、アルミナ砥粒は人体に対する安全性が高く、かつ
攻撃性が低いことから、例えば利用者の肌質が弱い場合
や敏感肌などの場合にも安全に美容処理を実施すること
ができる。
粒度を有する砥粒、例えばセラミックス砥粒を用いた美
容処理チップを具備するものである。このような美容処
理チップは皮膚の再生機能を促進するための処理、さら
に皮膚表面に付着した汚れの除去処理などに対して有効
に機能する。すなわち、美容処理チップに微振動を高振
動数で加えて美容処理を実施する場合に、上述した粒度
の砥粒を有する美容処理チップは、老化した角質や皮膚
表面の汚れなどに対して適度な除去性能を示す。従っ
て、このような美容処理チップを使用することによっ
て、皮膚にダメージなどを与えることなく、各種の美容
処理を均一にかつ効率よく実施することが可能となる。
特に、アルミナ砥粒は人体に対する安全性が高く、かつ
攻撃性が低いことから、例えば利用者の肌質が弱い場合
や敏感肌などの場合にも安全に美容処理を実施すること
ができる。
【0014】本発明の美容処理装置においては、例えば
請求項9に記載したように、振動発生手段により美容処
理チップに主として往復振動を加えることが好ましい。
特に、本発明は請求項10に記載したように、美容処理
チップを500〜20000回/minの範囲の振動数で振動させる
美容処理装置、さらには請求項11に記載したように、
美容処理チップを0.01〜100μmの範囲の振幅で振動させ
る美容処理装置に対して好適である。このような条件下
で動作させる美容処理装置に上述した粒度の砥粒を具備
する美容処理チップを適用することで、より良好な美容
処理効果(老化した角質や汚れの除去効果、さらにはそ
れらに基づく皮膚の再生促進効果など)を得ることが可
能となる。
請求項9に記載したように、振動発生手段により美容処
理チップに主として往復振動を加えることが好ましい。
特に、本発明は請求項10に記載したように、美容処理
チップを500〜20000回/minの範囲の振動数で振動させる
美容処理装置、さらには請求項11に記載したように、
美容処理チップを0.01〜100μmの範囲の振幅で振動させ
る美容処理装置に対して好適である。このような条件下
で動作させる美容処理装置に上述した粒度の砥粒を具備
する美容処理チップを適用することで、より良好な美容
処理効果(老化した角質や汚れの除去効果、さらにはそ
れらに基づく皮膚の再生促進効果など)を得ることが可
能となる。
【0015】本発明の美容処理装置において、美容処理
チップは1つに限られるものではなく、例えば請求項1
3に記載したように、振動発生手段から振動が伝達され
る第2の美容処理チップを具備していてもよい。このよ
うに、本発明の美容処理装置は複数の美容処理チップを
具備することができる。これによって、複数種類の美容
処理を一括して実施することが可能となる。
チップは1つに限られるものではなく、例えば請求項1
3に記載したように、振動発生手段から振動が伝達され
る第2の美容処理チップを具備していてもよい。このよ
うに、本発明の美容処理装置は複数の美容処理チップを
具備することができる。これによって、複数種類の美容
処理を一括して実施することが可能となる。
【0016】すなわち、本発明の他の美容処理装置は、
請求項17に記載したように、装置本体と、前記装置本
体に内蔵された振動発生手段と、前記振動発生手段から
の振動が伝達されように、前記装置本体に設けられた複
数のチップ接続部と、前記複数のチップ接続部にそれぞ
れ保持され、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記
振動を印加するように当接される複数の美容処理チップ
とを具備することを特徴としている。
請求項17に記載したように、装置本体と、前記装置本
体に内蔵された振動発生手段と、前記振動発生手段から
の振動が伝達されように、前記装置本体に設けられた複
数のチップ接続部と、前記複数のチップ接続部にそれぞ
れ保持され、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記
振動を印加するように当接される複数の美容処理チップ
とを具備することを特徴としている。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。図1、図2および図3は本発明の
一実施形態による美容処理装置の構成を示す図であり、
図1は美容処理装置の外観を示す正面図、図2はその側
面図、図3は美容処理装置の断面図である。これらの図
において、1はプラスチック材料などの非導電性材料か
らなる装置本体であり、この装置本体1は振動発生手段
として偏心ロータ2を有するモータ3を内蔵している。
態について説明する。図1、図2および図3は本発明の
一実施形態による美容処理装置の構成を示す図であり、
図1は美容処理装置の外観を示す正面図、図2はその側
面図、図3は美容処理装置の断面図である。これらの図
において、1はプラスチック材料などの非導電性材料か
らなる装置本体であり、この装置本体1は振動発生手段
として偏心ロータ2を有するモータ3を内蔵している。
【0018】具体的には、装置本体1の内部にはモータ
収容部4が一体的に設けられており、このモータ収容部
4に小型直流モータ3が設置されている。小型直流モー
タ3の回転軸3aには偏心ロータ2が固着されている。
さらに、装置本体1の内部には電源部5が設けられてお
り、この電源部5内に直流電源として例えば2本の電池
6、6が収納されている。これら小型直流モータ3と電
源部5とは、装置本体1の外表面に切換スイッチ7aを
設けたスイッチ部7を介して電気的に接続されている。
図中8は配線である。
収容部4が一体的に設けられており、このモータ収容部
4に小型直流モータ3が設置されている。小型直流モー
タ3の回転軸3aには偏心ロータ2が固着されている。
さらに、装置本体1の内部には電源部5が設けられてお
り、この電源部5内に直流電源として例えば2本の電池
6、6が収納されている。これら小型直流モータ3と電
源部5とは、装置本体1の外表面に切換スイッチ7aを
設けたスイッチ部7を介して電気的に接続されている。
図中8は配線である。
【0019】上述した振動発生手段としての偏心ロータ
2を有する小型直流モータ3は、このモータ3を駆動し
て偏心ロータ2を回転させることで装置本体1を振動さ
せるものである。すなわち、小型直流モータ3を駆動す
ると偏心ロータ2が回転し、この偏心ロータ16の回転
に基づいて装置本体1自体に振動が発生する。このよう
な振動発生機構に基づいて、装置本体1は所望の方向に
微振動するように構成されている。
2を有する小型直流モータ3は、このモータ3を駆動し
て偏心ロータ2を回転させることで装置本体1を振動さ
せるものである。すなわち、小型直流モータ3を駆動す
ると偏心ロータ2が回転し、この偏心ロータ16の回転
に基づいて装置本体1自体に振動が発生する。このよう
な振動発生機構に基づいて、装置本体1は所望の方向に
微振動するように構成されている。
【0020】なお、この実施形態では振動発生手段とし
て偏心ロータ2を有する小型直流モータ3を用いた美容
処理装置を示したが、本発明で用いられる振動発生手段
はこれに限定されるものではなく、例えば超音波振動子
や圧電素子などの種々の振動発生手段を適用することが
できる。このように、本発明では種々の振動発生手段を
使用することが可能である。
て偏心ロータ2を有する小型直流モータ3を用いた美容
処理装置を示したが、本発明で用いられる振動発生手段
はこれに限定されるものではなく、例えば超音波振動子
や圧電素子などの種々の振動発生手段を適用することが
できる。このように、本発明では種々の振動発生手段を
使用することが可能である。
【0021】これらのうちでも、特に偏心ロータ2を有
する小型直流モータ3は、モータ3の回転数により振動
数を、また偏心ロータ2の大きさや質量などにより振幅
を容易に制御することができ、微振動を高振動数で発生
させることが可能であるため、本発明に好適な振動発生
手段ということができる。偏心ロータ2を回転させるモ
ータ3は電池駆動方式に限られるものではなく、外部電
源から供給された交流または直流電力で駆動するモータ
を使用してもよいが、電池駆動方式の小型直流モータ3
は美容処理装置の携帯性などを高める上で有効である。
する小型直流モータ3は、モータ3の回転数により振動
数を、また偏心ロータ2の大きさや質量などにより振幅
を容易に制御することができ、微振動を高振動数で発生
させることが可能であるため、本発明に好適な振動発生
手段ということができる。偏心ロータ2を回転させるモ
ータ3は電池駆動方式に限られるものではなく、外部電
源から供給された交流または直流電力で駆動するモータ
を使用してもよいが、電池駆動方式の小型直流モータ3
は美容処理装置の携帯性などを高める上で有効である。
【0022】装置本体1の先端部分には、チップ接続部
としてチップ保持機構9が設けられている。美容処理チ
ップ10はチップ保持機構9により装置本体1に固定さ
れている。すなわち、チップ保持機構9は挟持部9a、
9bを有している。美容処理チップ10は挟持部9a、
9bの間に挿入される。そして、挟持部9a、9で美容
処理チップ10を締付けることによって、美容処理チッ
プ10は装置本体1に固定されている。また、挟持部9
a、9の締付け機構を緩めることで、美容処理チップ1
0は装置本体1から着脱可能とされている。
としてチップ保持機構9が設けられている。美容処理チ
ップ10はチップ保持機構9により装置本体1に固定さ
れている。すなわち、チップ保持機構9は挟持部9a、
9bを有している。美容処理チップ10は挟持部9a、
9bの間に挿入される。そして、挟持部9a、9で美容
処理チップ10を締付けることによって、美容処理チッ
プ10は装置本体1に固定されている。また、挟持部9
a、9の締付け機構を緩めることで、美容処理チップ1
0は装置本体1から着脱可能とされている。
【0023】ここでは直方体形状の美容処理チップ10
を示したが、チップ形状は特に限定されるものではな
く、例えば皮膚当接面を円弧状としたり、チップ全体を
円柱状や球状にするなど、各種の形状を有する美容処理
チップ10を使用することができる。さらに、美容処理
チップ10は1つに限られるものではなく、後に詳述す
るように、美容処理装置は複数個の美容処理チップ10
を有していてもよい。このような場合には、複数のチッ
プ保持機構(チップ接続部)9が使用される。
を示したが、チップ形状は特に限定されるものではな
く、例えば皮膚当接面を円弧状としたり、チップ全体を
円柱状や球状にするなど、各種の形状を有する美容処理
チップ10を使用することができる。さらに、美容処理
チップ10は1つに限られるものではなく、後に詳述す
るように、美容処理装置は複数個の美容処理チップ10
を有していてもよい。このような場合には、複数のチッ
プ保持機構(チップ接続部)9が使用される。
【0024】そして、装置本体1に固定された美容処理
チップ10には、偏心ロータ2を有する小型直流モータ
3により発生させた振動が装置本体1を介して伝達され
る。この実施形態の美容処理装置は、装置本体1を介し
た振動の伝達に基づいて、美容処理チップ10を各種の
美容処理条件などに応じた振動数や振幅で振動させるよ
うに構成されている。偏心ロータ2を有する小型直流モ
ータ3は、美容処理チップ10に主として図中矢印方向
の往復振動を印加するように設置場所や設置方向などが
設定されている。
チップ10には、偏心ロータ2を有する小型直流モータ
3により発生させた振動が装置本体1を介して伝達され
る。この実施形態の美容処理装置は、装置本体1を介し
た振動の伝達に基づいて、美容処理チップ10を各種の
美容処理条件などに応じた振動数や振幅で振動させるよ
うに構成されている。偏心ロータ2を有する小型直流モ
ータ3は、美容処理チップ10に主として図中矢印方向
の往復振動を印加するように設置場所や設置方向などが
設定されている。
【0025】このように微振動させた美容処理チップ1
0を利用者の身体の皮膚表面に密着させながら移動させ
ることによって、例えば皮膚の最表面に存在する老化し
た角質の一部や皮膚表面に付着した汚れなどを除去する
処理が実施される。このような美容処理は皮膚の再生機
能の促進などを目的として実施されるものである。すな
わち、この実施形態の美容処理装置は、例えば皮膚の再
生促進処理や汚れの除去処理などに適用され、美容処理
チップ10は老化した角質や汚れなどの除去用チップと
して用いられるものである。
0を利用者の身体の皮膚表面に密着させながら移動させ
ることによって、例えば皮膚の最表面に存在する老化し
た角質の一部や皮膚表面に付着した汚れなどを除去する
処理が実施される。このような美容処理は皮膚の再生機
能の促進などを目的として実施されるものである。すな
わち、この実施形態の美容処理装置は、例えば皮膚の再
生促進処理や汚れの除去処理などに適用され、美容処理
チップ10は老化した角質や汚れなどの除去用チップと
して用いられるものである。
【0026】美容処理チップ10は主として角部10a
が皮膚表面に当接するように、利用者の皮膚に押し当て
られ、この状態で美容処理チップ10の振動を継続しな
がら移動させることで美容処理が行われる。美容処理チ
ップ10の角部10aを皮膚表面に押し当てやすいよう
に、チップ保持機構9が設けられた装置本体1の先端部
分は、装置本体1の下部に対して傾いて設けられてい
る。この実施形態の美容処理装置においては、装置本体
1の下部の軸線に対する先端部分の軸線の傾きが約45°
となるように設定されている。
が皮膚表面に当接するように、利用者の皮膚に押し当て
られ、この状態で美容処理チップ10の振動を継続しな
がら移動させることで美容処理が行われる。美容処理チ
ップ10の角部10aを皮膚表面に押し当てやすいよう
に、チップ保持機構9が設けられた装置本体1の先端部
分は、装置本体1の下部に対して傾いて設けられてい
る。この実施形態の美容処理装置においては、装置本体
1の下部の軸線に対する先端部分の軸線の傾きが約45°
となるように設定されている。
【0027】ここで、図3は偏心ロータ2を有する小型
直流モータ3を装置本体1内に設置し、偏心ロータ2の
回転に基づく振動を装置本体1を介して美容処理チップ
10に伝達する美容処理装置を示している。美容処理チ
ップ10への振動の伝達機構は各種の機構を採用するこ
とができる。例えば、図4に示す美容処理装置は、装置
本体1の先端の空洞部内に振動伝達部材11が充填され
ており、偏心ロータ2が装着された回転軸3aの他端は
振動伝達部材11に固定された軸受12により支持され
ている。言い換えると、偏心ロータ2と美容処理チップ
10との間には振動伝達部材11が介在されている。こ
のような装置構成によれば、偏心ロータ2の回転に基づ
く振動をより有効に美容処理チップ10に伝達すること
ができる。また、偏心ロータ2を有する小型直流モータ
3で発生させた振動は、装置本体1を介さずに、直接美
容処理チップ10に伝達してもよい。
直流モータ3を装置本体1内に設置し、偏心ロータ2の
回転に基づく振動を装置本体1を介して美容処理チップ
10に伝達する美容処理装置を示している。美容処理チ
ップ10への振動の伝達機構は各種の機構を採用するこ
とができる。例えば、図4に示す美容処理装置は、装置
本体1の先端の空洞部内に振動伝達部材11が充填され
ており、偏心ロータ2が装着された回転軸3aの他端は
振動伝達部材11に固定された軸受12により支持され
ている。言い換えると、偏心ロータ2と美容処理チップ
10との間には振動伝達部材11が介在されている。こ
のような装置構成によれば、偏心ロータ2の回転に基づ
く振動をより有効に美容処理チップ10に伝達すること
ができる。また、偏心ロータ2を有する小型直流モータ
3で発生させた振動は、装置本体1を介さずに、直接美
容処理チップ10に伝達してもよい。
【0028】美容処理チップ10の振動は、上述したよ
うに往復方向、特に皮膚への当接方向に対して主に前後
方向とされており、その際の振動数は500〜20000回/min
の範囲であることが好ましい。また、美容処理チップ1
0の往復振動の振幅は0.01〜100μmの範囲であることが
好ましい。このような微振動を美容処理チップ10に加
えることによって、皮膚自体にダメージを与えることな
く、皮膚表面の老化した角質の一部や汚れを均一にかつ
有効に除去することができる。
うに往復方向、特に皮膚への当接方向に対して主に前後
方向とされており、その際の振動数は500〜20000回/min
の範囲であることが好ましい。また、美容処理チップ1
0の往復振動の振幅は0.01〜100μmの範囲であることが
好ましい。このような微振動を美容処理チップ10に加
えることによって、皮膚自体にダメージを与えることな
く、皮膚表面の老化した角質の一部や汚れを均一にかつ
有効に除去することができる。
【0029】すなわち、美容処理チップ10に回転振動
などを加えると、皮膚が局部的にかつ深く削られてしま
うため、美容処理チップ10の振動は往復振動、特に皮
膚方向に対して主に前後方向の往復振動としている。こ
のような振動は皮膚へのダメージが低く、その上で老化
した角質や汚れなどの除去性能に優れるものである。さ
らに、美容処理チップ10の振動数を高く設定すると共
に、振幅を小さくすることによって、皮膚へのダメージ
をより一層小さくすることができる。
などを加えると、皮膚が局部的にかつ深く削られてしま
うため、美容処理チップ10の振動は往復振動、特に皮
膚方向に対して主に前後方向の往復振動としている。こ
のような振動は皮膚へのダメージが低く、その上で老化
した角質や汚れなどの除去性能に優れるものである。さ
らに、美容処理チップ10の振動数を高く設定すると共
に、振幅を小さくすることによって、皮膚へのダメージ
をより一層小さくすることができる。
【0030】美容処理チップ10の振動数が500回/min
未満であったり、また美容処理チップ10の振幅が0.01
μm未満であると、皮膚表面の老化した角質や汚れなど
を有効に除去することができない。一方、振動数が2000
0回/minを超えたり、また振幅が100μmを超えると、皮
膚に対する刺激が強くなりすぎるおそれがある。美容処
理チップ10の振動数は2000〜10000回/minの範囲とす
ることがより好ましい。また、美容処理チップ10の振
幅は0.05〜10μmの範囲とすることがより好ましい。こ
のような微振動は特に老化した角質の除去に対して有効
である。
未満であったり、また美容処理チップ10の振幅が0.01
μm未満であると、皮膚表面の老化した角質や汚れなど
を有効に除去することができない。一方、振動数が2000
0回/minを超えたり、また振幅が100μmを超えると、皮
膚に対する刺激が強くなりすぎるおそれがある。美容処
理チップ10の振動数は2000〜10000回/minの範囲とす
ることがより好ましい。また、美容処理チップ10の振
幅は0.05〜10μmの範囲とすることがより好ましい。こ
のような微振動は特に老化した角質の除去に対して有効
である。
【0031】上述したような微振動が加えられる美容処
理チップ10は、粒度が#80〜#800の範囲の砥粒を備
えている。言い換えると、美容処理チップ10は粒度が
#80〜#800の範囲の砥粒を用いて構成されたものであ
る。美容処理チップ10を構成する砥粒には、硬質また
は半硬質の各種の砥粒を使用することができ、特にセラ
ミックス砥粒を使用することが好ましい。セラミックス
砥粒としては、アルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、マグネ
シア砥粒、スピネル砥粒、炭化ケイ素砥粒、窒化ホウ素
砥粒などの種々のセラミックス材料からなる砥粒が例示
される。
理チップ10は、粒度が#80〜#800の範囲の砥粒を備
えている。言い換えると、美容処理チップ10は粒度が
#80〜#800の範囲の砥粒を用いて構成されたものであ
る。美容処理チップ10を構成する砥粒には、硬質また
は半硬質の各種の砥粒を使用することができ、特にセラ
ミックス砥粒を使用することが好ましい。セラミックス
砥粒としては、アルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、マグネ
シア砥粒、スピネル砥粒、炭化ケイ素砥粒、窒化ホウ素
砥粒などの種々のセラミックス材料からなる砥粒が例示
される。
【0032】これらのセラミックス砥粒のうちでも、人
体に対する安全性が高い酸化物系セラミックス材料から
なる砥粒、すなわちアルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、マ
グネシア砥粒およびスピネル砥粒から選ばれる少なくと
も1種を用いることが好ましい。特に、アルミナ砥粒は
安全性に優れると共に、人体に対する攻撃性が低く、そ
の上で適度な角質や汚れの除去性能を有することから、
美容処理チップ10に対して好適である。アルミナ砥粒
としては、一般に褐色アルミナ(A)、白色アルミナ
(WA)、淡紅色アルミナ(PA)、単結晶(解砕型)
アルミナ(HA)、アルミナジルコニア(AZ)などが
用いられているが、特に高純度の白色アルミナ砥粒を使
用することが望ましい。
体に対する安全性が高い酸化物系セラミックス材料から
なる砥粒、すなわちアルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、マ
グネシア砥粒およびスピネル砥粒から選ばれる少なくと
も1種を用いることが好ましい。特に、アルミナ砥粒は
安全性に優れると共に、人体に対する攻撃性が低く、そ
の上で適度な角質や汚れの除去性能を有することから、
美容処理チップ10に対して好適である。アルミナ砥粒
としては、一般に褐色アルミナ(A)、白色アルミナ
(WA)、淡紅色アルミナ(PA)、単結晶(解砕型)
アルミナ(HA)、アルミナジルコニア(AZ)などが
用いられているが、特に高純度の白色アルミナ砥粒を使
用することが望ましい。
【0033】粒度が#80〜#800の範囲のセラミックス
砥粒は、上述したような少振幅・高振動数の微振動を美
容処理チップ10に加えて美容処理を実施する際に、例
えば老化した角質や汚れなどの除去処理に対して有効な
性能を示すものである。すなわち、適度な粒度を有する
セラミックス砥粒は、セラミックス焼結体などに比べて
皮膚への攻撃性が低く、その上で微振動により有効かつ
均一な除去性能、すなわち老化した角質や汚れなどの除
去性能を示すものである。
砥粒は、上述したような少振幅・高振動数の微振動を美
容処理チップ10に加えて美容処理を実施する際に、例
えば老化した角質や汚れなどの除去処理に対して有効な
性能を示すものである。すなわち、適度な粒度を有する
セラミックス砥粒は、セラミックス焼結体などに比べて
皮膚への攻撃性が低く、その上で微振動により有効かつ
均一な除去性能、すなわち老化した角質や汚れなどの除
去性能を示すものである。
【0034】セラミックス砥粒の粒度が#80より小さい
と、それを用いた美容処理チップ10の表面粗さなどが
大きくなりすぎて、微振動を加えた際の皮膚へのダメー
ジが大きくなるおそれが強い。一方、セラミックス砥粒
の粒度が#800を超えると角質や汚れの除去性能が低下
し、これらを均一かつ有効に除去することができなくな
る。セラミックス砥粒の粒度は、皮膚へのダメージをよ
り小さくすることが可能な#240〜#800の範囲とするこ
とがさらに好ましく、その上で除去性能をより一層高め
ることが可能な#240〜#400の範囲とすることが望まし
い。
と、それを用いた美容処理チップ10の表面粗さなどが
大きくなりすぎて、微振動を加えた際の皮膚へのダメー
ジが大きくなるおそれが強い。一方、セラミックス砥粒
の粒度が#800を超えると角質や汚れの除去性能が低下
し、これらを均一かつ有効に除去することができなくな
る。セラミックス砥粒の粒度は、皮膚へのダメージをよ
り小さくすることが可能な#240〜#800の範囲とするこ
とがさらに好ましく、その上で除去性能をより一層高め
ることが可能な#240〜#400の範囲とすることが望まし
い。
【0035】ここで、セラミックス砥粒を含む砥粒の粒
度はJIS R6001に基づくものである。#80〜#220の範囲
のセラミックス砥粒はJIS R6002に準拠する篩分け法に
基づく粒度を有するものであり、また#240〜#800の範
囲のセラミックス砥粒はJISR6002に準拠する電気抵抗法
や沈降試験法により測定された粒度を有するものであ
る。各粒度を有するセラミックス砥粒の粒子径は、基本
的には表1(#80〜#220)および表2(#240〜#80
0)に示す通りである。
度はJIS R6001に基づくものである。#80〜#220の範囲
のセラミックス砥粒はJIS R6002に準拠する篩分け法に
基づく粒度を有するものであり、また#240〜#800の範
囲のセラミックス砥粒はJISR6002に準拠する電気抵抗法
や沈降試験法により測定された粒度を有するものであ
る。各粒度を有するセラミックス砥粒の粒子径は、基本
的には表1(#80〜#220)および表2(#240〜#80
0)に示す通りである。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】セラミックス砥粒を用いた美容処理チップ
10の具体例としては、セラミックス砥粒をビトリファ
イド結合剤により結合した砥石、いわゆるビトリファイ
ド砥石が挙げられる。ビトリファイド砥石は、セラミッ
クス砥粒をビトリファイド結合剤と共に混合し、この混
合物を所望のチップ形状に成形した後、例えば1200〜13
50℃の温度で焼成することにより作製される。ビトリフ
ァイド結合剤としては、例えばSiO2およびAl2O3
を含み、さらにMgO、CaO、K2Oや他の成分を必
要に応じて含む結合剤が用いられ、その混合量は適宜に
調製される。具体的には、砥石の結合度(砥石硬度)が
A〜Kの範囲となるように、ビトリファイド結合剤の種
類および混合量を設定することが好ましい。
10の具体例としては、セラミックス砥粒をビトリファ
イド結合剤により結合した砥石、いわゆるビトリファイ
ド砥石が挙げられる。ビトリファイド砥石は、セラミッ
クス砥粒をビトリファイド結合剤と共に混合し、この混
合物を所望のチップ形状に成形した後、例えば1200〜13
50℃の温度で焼成することにより作製される。ビトリフ
ァイド結合剤としては、例えばSiO2およびAl2O3
を含み、さらにMgO、CaO、K2Oや他の成分を必
要に応じて含む結合剤が用いられ、その混合量は適宜に
調製される。具体的には、砥石の結合度(砥石硬度)が
A〜Kの範囲となるように、ビトリファイド結合剤の種
類および混合量を設定することが好ましい。
【0039】ビトリファイド砥石を作製するにあたっ
て、セラミックス砥粒には予め塩酸、硫酸、硝酸、フッ
酸、これらの混酸などの酸液を用いて酸処理を施してお
くことが好ましい。セラミックス砥粒に酸処理を施すこ
とによって、砥粒自体の安全性(消毒効果)を高めるこ
とができると共に、砥粒表面の鋭利な突起などをある程
度まで滑らかにすることができるため、皮膚に対する攻
撃性をより一層低下させることが可能となる。これは美
容処理チップ10を用いた美容処理の安全性を高める上
で有効である。
て、セラミックス砥粒には予め塩酸、硫酸、硝酸、フッ
酸、これらの混酸などの酸液を用いて酸処理を施してお
くことが好ましい。セラミックス砥粒に酸処理を施すこ
とによって、砥粒自体の安全性(消毒効果)を高めるこ
とができると共に、砥粒表面の鋭利な突起などをある程
度まで滑らかにすることができるため、皮膚に対する攻
撃性をより一層低下させることが可能となる。これは美
容処理チップ10を用いた美容処理の安全性を高める上
で有効である。
【0040】なお、セラミックス砥粒の結合・保持に
は、例えばゴム系結合剤、レジン系結合剤、ガラス系結
合剤、メタル系結合剤などのビトリファイド系結合剤以
外の結合剤を使用してもよい。美容処理チップ10に
は、砥粒がチップ形状を維持し得るように、砥粒間を各
種の結合剤で結合させたチップ状砥石を使用することが
できる。このような砥石の中でも、ビトリファイド結合
剤を用いた砥石(ビトリファイド砥石)は、適度な表面
粗さと硬度(砥石結合度)を有することから、皮膚の再
生促進処理や汚れの除去処理の効率や安全性の向上に対
して有効である。
は、例えばゴム系結合剤、レジン系結合剤、ガラス系結
合剤、メタル系結合剤などのビトリファイド系結合剤以
外の結合剤を使用してもよい。美容処理チップ10に
は、砥粒がチップ形状を維持し得るように、砥粒間を各
種の結合剤で結合させたチップ状砥石を使用することが
できる。このような砥石の中でも、ビトリファイド結合
剤を用いた砥石(ビトリファイド砥石)は、適度な表面
粗さと硬度(砥石結合度)を有することから、皮膚の再
生促進処理や汚れの除去処理の効率や安全性の向上に対
して有効である。
【0041】上述した美容処理チップ10の具体的な構
成例(実施例1)としては、粒度が#320の白色アルミ
ナ砥粒をビトリファイド結合剤により、砥石結合度(砥
石硬度)がFとなるように結合、保持したビトリファイ
ド砥石が挙げられる。このビトリファイド砥石からなる
美容処理チップ10を装置本体1に装着して、以下に示
す評価試験を実施した。美容処理チップ10の振動は、
主として皮膚方向に対して前後方向の往復振動とし、ま
た振動数は約6000回/min(モータ回転数6000rpm)、振
幅は約0.4μmとした。
成例(実施例1)としては、粒度が#320の白色アルミ
ナ砥粒をビトリファイド結合剤により、砥石結合度(砥
石硬度)がFとなるように結合、保持したビトリファイ
ド砥石が挙げられる。このビトリファイド砥石からなる
美容処理チップ10を装置本体1に装着して、以下に示
す評価試験を実施した。美容処理チップ10の振動は、
主として皮膚方向に対して前後方向の往復振動とし、ま
た振動数は約6000回/min(モータ回転数6000rpm)、振
幅は約0.4μmとした。
【0042】評価試験は、まず人体の皮膚を模した評価
用試料を用意し、上記した条件で美容処理チップ10を
振動させつつ、評価用試料の表面に密着させながら移動
させることにより実施した。試験後の評価用試料の表面
状態を観察した結果、試料表面の老化した角質や汚れに
相当する部分のみが均一に除去され、その下部組織に剥
離痕などは認められなかった。この評価結果から、本発
明の美容処理装置は皮膚の再生促進処理や汚れの除去処
理に対して有効であることが確認された。また、実際に
被験者の皮膚に対して皮膚の再生促進処理を施したとこ
ろ、良好な効果が得られることが確認された。
用試料を用意し、上記した条件で美容処理チップ10を
振動させつつ、評価用試料の表面に密着させながら移動
させることにより実施した。試験後の評価用試料の表面
状態を観察した結果、試料表面の老化した角質や汚れに
相当する部分のみが均一に除去され、その下部組織に剥
離痕などは認められなかった。この評価結果から、本発
明の美容処理装置は皮膚の再生促進処理や汚れの除去処
理に対して有効であることが確認された。また、実際に
被験者の皮膚に対して皮膚の再生促進処理を施したとこ
ろ、良好な効果が得られることが確認された。
【0043】一方、本発明との比較例として、粒度が#
60の炭化ケイ素砥粒を用いる以外は実施例1と同様に作
製したビトリファイド砥石からなる美容処理チップ(比
較例1)と、アルミナ焼結体からなる美容処理チップ
(比較例2)を用いて、実施例1と同様な評価試験を実
施したところ、比較例1のチップでは試料表面の角質に
相当する部分のみならず、その下部組織の一部まで剥離
していることが確認された。また、角質に相当する部分
の剥離状態は不均一であった。比較例2のチップを用い
た場合には、試料表面が若干不均一に除去される傾向が
認められた。
60の炭化ケイ素砥粒を用いる以外は実施例1と同様に作
製したビトリファイド砥石からなる美容処理チップ(比
較例1)と、アルミナ焼結体からなる美容処理チップ
(比較例2)を用いて、実施例1と同様な評価試験を実
施したところ、比較例1のチップでは試料表面の角質に
相当する部分のみならず、その下部組織の一部まで剥離
していることが確認された。また、角質に相当する部分
の剥離状態は不均一であった。比較例2のチップを用い
た場合には、試料表面が若干不均一に除去される傾向が
認められた。
【0044】上述した実施形態の美容処理装置によれ
ば、美容処理チップ10に粒度が#80〜#800の範囲の
砥粒、特にセラミックス砥粒(さらにはアルミナ砥粒)
を適用しているため、皮膚にダメージなどを与えること
なく、均一にかつ効率よく皮膚表面の老化した角質や汚
れなどを除去することができる。すなわち、機械的な振
動の印加による皮膚の再生促進処理を効果的にかつ安全
に実施することが可能となる。特に、アルミナ砥粒は人
体に対する安全性が高く、かつ攻撃性が低いことから、
例えば利用者の肌質が弱い場合や敏感肌などの場合にも
安全に皮膚の再生促進処理を実施することができる。
ば、美容処理チップ10に粒度が#80〜#800の範囲の
砥粒、特にセラミックス砥粒(さらにはアルミナ砥粒)
を適用しているため、皮膚にダメージなどを与えること
なく、均一にかつ効率よく皮膚表面の老化した角質や汚
れなどを除去することができる。すなわち、機械的な振
動の印加による皮膚の再生促進処理を効果的にかつ安全
に実施することが可能となる。特に、アルミナ砥粒は人
体に対する安全性が高く、かつ攻撃性が低いことから、
例えば利用者の肌質が弱い場合や敏感肌などの場合にも
安全に皮膚の再生促進処理を実施することができる。
【0045】このように、上述した実施形態の美容処理
装置を用いて、皮膚表面の老化した角質の一部を皮膚表
面全体に対して均一に除去することによって、皮膚のタ
ーンオーバー機能が活性化される、すなわち皮膚の再生
サイクルが促進されるため、例えば古い角質の滞留が原
因となる肌のシミやくすみを取り除くことができる。さ
らに、しわやストレッチマークの部分の表皮には古い角
質が詰まっているため、古い角質を取り除いて周囲の細
胞を刺激することによって、しわやストレッチマークな
どを緩和することができる。このような処理を繰り返す
ことで、滑らかな肌を再生することが可能となる。
装置を用いて、皮膚表面の老化した角質の一部を皮膚表
面全体に対して均一に除去することによって、皮膚のタ
ーンオーバー機能が活性化される、すなわち皮膚の再生
サイクルが促進されるため、例えば古い角質の滞留が原
因となる肌のシミやくすみを取り除くことができる。さ
らに、しわやストレッチマークの部分の表皮には古い角
質が詰まっているため、古い角質を取り除いて周囲の細
胞を刺激することによって、しわやストレッチマークな
どを緩和することができる。このような処理を繰り返す
ことで、滑らかな肌を再生することが可能となる。
【0046】また、上述した美容処理チップ10の微振
動に基づいて毛細血管を拡張し、血流(栄養補給)やリ
ンパ流(老廃物排出)を促進することによって、皮膚の
再生機能が高められるため、皮膚の老化を防止ないしは
予防することができる。このように、この実施形態の美
容処理装置は美肌処理などの美容処理に多大な効果をも
たらすものである。美容処理装置は特に美顔処理に好適
であるが、これに限らず身体各部の美肌処理などに使用
することができる。
動に基づいて毛細血管を拡張し、血流(栄養補給)やリ
ンパ流(老廃物排出)を促進することによって、皮膚の
再生機能が高められるため、皮膚の老化を防止ないしは
予防することができる。このように、この実施形態の美
容処理装置は美肌処理などの美容処理に多大な効果をも
たらすものである。美容処理装置は特に美顔処理に好適
であるが、これに限らず身体各部の美肌処理などに使用
することができる。
【0047】上述した実施形態においては、セラミック
ス砥粒のみを用いた美容処理チップ10について説明し
たが、例えばセラミックス砥粒に各種洗顔料などに用い
られているスクラブ剤を混合して用いることも効果的で
ある。この際のスクラブ剤としては、セラミックス砥粒
の結合温度(砥石焼成温度)を考慮して選択することが
好ましく、例えばシリカや炭酸カルシウムなどの合成無
機系スクラブ剤が使用される。また、場合によっては天
然系(動物系など)のスクラブ剤などを使用することも
できる。
ス砥粒のみを用いた美容処理チップ10について説明し
たが、例えばセラミックス砥粒に各種洗顔料などに用い
られているスクラブ剤を混合して用いることも効果的で
ある。この際のスクラブ剤としては、セラミックス砥粒
の結合温度(砥石焼成温度)を考慮して選択することが
好ましく、例えばシリカや炭酸カルシウムなどの合成無
機系スクラブ剤が使用される。また、場合によっては天
然系(動物系など)のスクラブ剤などを使用することも
できる。
【0048】また、美容処理チップ10には予め美顔液
や保湿液などの美容液、さらにはコラーゲンなどを塗布
もしくは含浸しておくことも有効である。粒径によって
はコラーゲンビーズなどを美容処理チップ10に内在さ
せてもよい。このような場合には、セラミックス砥粒に
よる砥石を多孔質化し、その空孔部内に美容液やコラー
ゲンなどを含浸させるとよい。これらは随時補給して用
いることもできる。美容液などを塗布もしくは含浸させ
た美容処理チップは、セラミックス砥粒単独の美容処理
チップ10と併用して使用することも有効である。この
ような場合には、美容処理装置に複数のチップ保持機構
を設け、これら複数のチップ保持機構で各処理に応じた
複数の美容処理チップを保持した構成などが採用され
る。
や保湿液などの美容液、さらにはコラーゲンなどを塗布
もしくは含浸しておくことも有効である。粒径によって
はコラーゲンビーズなどを美容処理チップ10に内在さ
せてもよい。このような場合には、セラミックス砥粒に
よる砥石を多孔質化し、その空孔部内に美容液やコラー
ゲンなどを含浸させるとよい。これらは随時補給して用
いることもできる。美容液などを塗布もしくは含浸させ
た美容処理チップは、セラミックス砥粒単独の美容処理
チップ10と併用して使用することも有効である。この
ような場合には、美容処理装置に複数のチップ保持機構
を設け、これら複数のチップ保持機構で各処理に応じた
複数の美容処理チップを保持した構成などが採用され
る。
【0049】図5は複数の美容処理チップを使用した美
容処理装置の一構成例を示す正面図である。なお、前述
した実施形態の美容処理装置と同一部分については同一
符号を付して一部説明を省略する。図5では図示を省略
したが、この実施形態の美容処理装置も前述した実施形
態と同様に、装置本体1には偏心ロータを有するモータ
などの振動発生手段が内蔵されている。装置本体1の先
端部分には、複数のチップ保持機構21、22がチップ
接続部として設けられている。図5は2つのチップ保持
機構21、22を有する美容処理装置を示している。チ
ップ保持機構21、22の具体的な構成は前述した実施
形態と同様である。
容処理装置の一構成例を示す正面図である。なお、前述
した実施形態の美容処理装置と同一部分については同一
符号を付して一部説明を省略する。図5では図示を省略
したが、この実施形態の美容処理装置も前述した実施形
態と同様に、装置本体1には偏心ロータを有するモータ
などの振動発生手段が内蔵されている。装置本体1の先
端部分には、複数のチップ保持機構21、22がチップ
接続部として設けられている。図5は2つのチップ保持
機構21、22を有する美容処理装置を示している。チ
ップ保持機構21、22の具体的な構成は前述した実施
形態と同様である。
【0050】第1のチップ保持機構21には第1の美容
処理チップとして、前述した実施形態と同様な美容処理
チップ10、すなわち老化した角質や汚れなどを除去す
るための美容処理チップ10が保持されている。一方、
第2のチップ固定機構22には第1のチップ保持機構2
1と同様な美容処理チップ10を配置してもよいが、例
えば第2の美容処理チップとして美容処理剤を含浸させ
た美容処理チップ20などを保持させることによって、
1つの美容処理装置で複数の美容処理を同時にもしくは
逐次実施することが可能となる。なお、美容処理チップ
10には前述した実施形態と同様に、粒度が#80〜#80
0の範囲の砥粒を用いて構成された美容処理チップを用
いることができ、また場合によってはセラミックス焼結
体からなるチップなどを適用することもできる。
処理チップとして、前述した実施形態と同様な美容処理
チップ10、すなわち老化した角質や汚れなどを除去す
るための美容処理チップ10が保持されている。一方、
第2のチップ固定機構22には第1のチップ保持機構2
1と同様な美容処理チップ10を配置してもよいが、例
えば第2の美容処理チップとして美容処理剤を含浸させ
た美容処理チップ20などを保持させることによって、
1つの美容処理装置で複数の美容処理を同時にもしくは
逐次実施することが可能となる。なお、美容処理チップ
10には前述した実施形態と同様に、粒度が#80〜#80
0の範囲の砥粒を用いて構成された美容処理チップを用
いることができ、また場合によってはセラミックス焼結
体からなるチップなどを適用することもできる。
【0051】第2の美容処理チップ20の具体例として
は、チップ形状を維持する多孔質基材内に、各種の美容
処理剤を含浸させた美容処理チップが挙げられる。この
ような美容処理チップ20を前述したような振動数や振
幅で振動させ、この振動が加えられた状態の美容処理チ
ップ20を利用者の皮膚表面に当接させることによっ
て、美容処理チップ20に含ませた美容処理剤を身体に
浸透させる美容処理を実施することができる。振動と皮
膚への当接(パッティング)時の衝撃などにより美容処
理剤が美容処理チップ20からしみ出し、このしみ出し
た美容処理剤をチップ20の振動で皮膚に浸透させる。
は、チップ形状を維持する多孔質基材内に、各種の美容
処理剤を含浸させた美容処理チップが挙げられる。この
ような美容処理チップ20を前述したような振動数や振
幅で振動させ、この振動が加えられた状態の美容処理チ
ップ20を利用者の皮膚表面に当接させることによっ
て、美容処理チップ20に含ませた美容処理剤を身体に
浸透させる美容処理を実施することができる。振動と皮
膚への当接(パッティング)時の衝撃などにより美容処
理剤が美容処理チップ20からしみ出し、このしみ出し
た美容処理剤をチップ20の振動で皮膚に浸透させる。
【0052】美容処理チップ20の基材として用いる多
孔質体には、美容処理剤を保持し得ると共に、人体に対
する安全性を有するものであれば種々の材料からなる多
孔質基材を使用することができる。なお、ここで言う美
容処理剤の保持とは、多孔質基材内に美容処理剤を完全
に閉じ込める状態を示すものではなく、美容処理チップ
20の利用形態に応じて、美容処理剤の一部が自然にし
み出すような状態や湧出するような状態を含むものであ
る。また、多孔質基材はその空孔部に美容処理剤を保持
する材料に限らず、空孔部での保持に加えて美容処理剤
を吸収するような材料であってもよい。
孔質体には、美容処理剤を保持し得ると共に、人体に対
する安全性を有するものであれば種々の材料からなる多
孔質基材を使用することができる。なお、ここで言う美
容処理剤の保持とは、多孔質基材内に美容処理剤を完全
に閉じ込める状態を示すものではなく、美容処理チップ
20の利用形態に応じて、美容処理剤の一部が自然にし
み出すような状態や湧出するような状態を含むものであ
る。また、多孔質基材はその空孔部に美容処理剤を保持
する材料に限らず、空孔部での保持に加えて美容処理剤
を吸収するような材料であってもよい。
【0053】多孔質基材の空孔量(多孔質度)は、取り
扱い上の強度を有していれば美容処理剤の種類や目的と
する美容処理条件などに応じて適宜に設定することがで
きる。美容処理剤の含浸量は多孔質基材の材質によって
も異なるため、これらの条件を考慮した上で多孔質度を
設定することが好ましい。さらに、多孔質基材の硬度や
強度についても、美容処理条件や美容処理の対象部位な
どに応じて適宜に設定することができる。例えば、美容
処理剤のしみ出し量(身体への浸透量)を高める上で、
多孔質基材が徐々に磨耗するような硬度や強度としても
よいし、また逆に多孔質基材は損傷しないような硬度や
強度とすることもできる。
扱い上の強度を有していれば美容処理剤の種類や目的と
する美容処理条件などに応じて適宜に設定することがで
きる。美容処理剤の含浸量は多孔質基材の材質によって
も異なるため、これらの条件を考慮した上で多孔質度を
設定することが好ましい。さらに、多孔質基材の硬度や
強度についても、美容処理条件や美容処理の対象部位な
どに応じて適宜に設定することができる。例えば、美容
処理剤のしみ出し量(身体への浸透量)を高める上で、
多孔質基材が徐々に磨耗するような硬度や強度としても
よいし、また逆に多孔質基材は損傷しないような硬度や
強度とすることもできる。
【0054】上述したような多孔質基材の具体例として
は、多孔質セラミックス、多孔質樹脂(例えば発泡樹
脂)、多孔質ゴム(例えば発泡ゴム)などが挙げられ
る。これら以外についても美容処理条件に応じた安全性
や美容処理剤の保持性並びにしみ出し性などを有するも
のであれば、各種材料の多孔質体を使用することができ
る。多孔質セラミックスとしては、セラミックス材料の
多孔質焼結体やセラミックス材料の多孔質結合体などが
例示される。これらは焼結条件や結合剤の種類、さらに
はその他の条件を制御することで、種々の多孔質度(空
孔量)、硬度、強度などを有する多孔質基材を比較的容
易に得ることができる。多孔質セラミックスは美容処理
チップ20の多孔質基材に好適であり、その構成材料に
は前述した美容処理チップ10と同様なセラミックス材
料(粒子)が用いられる。
は、多孔質セラミックス、多孔質樹脂(例えば発泡樹
脂)、多孔質ゴム(例えば発泡ゴム)などが挙げられ
る。これら以外についても美容処理条件に応じた安全性
や美容処理剤の保持性並びにしみ出し性などを有するも
のであれば、各種材料の多孔質体を使用することができ
る。多孔質セラミックスとしては、セラミックス材料の
多孔質焼結体やセラミックス材料の多孔質結合体などが
例示される。これらは焼結条件や結合剤の種類、さらに
はその他の条件を制御することで、種々の多孔質度(空
孔量)、硬度、強度などを有する多孔質基材を比較的容
易に得ることができる。多孔質セラミックスは美容処理
チップ20の多孔質基材に好適であり、その構成材料に
は前述した美容処理チップ10と同様なセラミックス材
料(粒子)が用いられる。
【0055】セラミックス材料の多孔質焼結体は、成形
体を作製する際の樹脂バインダ成分の配合量や焼結条件
などを適宜選択することで得ることができる。さらに、
多孔質焼結体自体の硬度や多孔質度などの条件を制御す
ることも可能である。セラミックス材料の多孔質結合体
としては、セラミックス粒子(粉末)をビトリファイド
結合剤などにより結合した多孔質体が挙げられる。この
ような結合体は、セラミックス粉末をビトリファイド結
合剤と共に混合し、この混合物を所望のチップ形状に成
形した後、例えば1200〜1350℃程度の温度で焼成するこ
とにより作製される。ビトリファイド結合剤の種類や混
合量を適宜設定することで、各種の多孔質度や硬度を有
する多孔質結合体を得ることができる。なお、セラミッ
クス粒子の処理や結合剤の種類などは前述した実施形態
と同様である。
体を作製する際の樹脂バインダ成分の配合量や焼結条件
などを適宜選択することで得ることができる。さらに、
多孔質焼結体自体の硬度や多孔質度などの条件を制御す
ることも可能である。セラミックス材料の多孔質結合体
としては、セラミックス粒子(粉末)をビトリファイド
結合剤などにより結合した多孔質体が挙げられる。この
ような結合体は、セラミックス粉末をビトリファイド結
合剤と共に混合し、この混合物を所望のチップ形状に成
形した後、例えば1200〜1350℃程度の温度で焼成するこ
とにより作製される。ビトリファイド結合剤の種類や混
合量を適宜設定することで、各種の多孔質度や硬度を有
する多孔質結合体を得ることができる。なお、セラミッ
クス粒子の処理や結合剤の種類などは前述した実施形態
と同様である。
【0056】美容処理チップ20は、上述したような多
孔質基材内に液状の美容処理剤を含浸させることにより
構成される。液状美容処理剤の含浸・保持は、多孔質基
材を美容処理剤(液)中に浸漬することで実施される。
さらに、真空含浸などを適用することによって、美容処
理剤を多孔質基材内に高密度に充填することができる。
多孔質基材内に含浸させる美容処理剤については、目的
とする美容処理に応じて各種の美容液、化粧液、皮膚保
護液、洗顔液などを適宜に選択することができ、特に限
定されるものではない。さらに、美容処理剤は液状のも
のに限らず、粉体状や粒子状の処理剤を含んでいてもよ
い。これらは予め液体(美容処理液や溶剤など)に溶解
もしくは分散させておくことによって、多孔質基材に含
浸、保持させることができる。
孔質基材内に液状の美容処理剤を含浸させることにより
構成される。液状美容処理剤の含浸・保持は、多孔質基
材を美容処理剤(液)中に浸漬することで実施される。
さらに、真空含浸などを適用することによって、美容処
理剤を多孔質基材内に高密度に充填することができる。
多孔質基材内に含浸させる美容処理剤については、目的
とする美容処理に応じて各種の美容液、化粧液、皮膚保
護液、洗顔液などを適宜に選択することができ、特に限
定されるものではない。さらに、美容処理剤は液状のも
のに限らず、粉体状や粒子状の処理剤を含んでいてもよ
い。これらは予め液体(美容処理液や溶剤など)に溶解
もしくは分散させておくことによって、多孔質基材に含
浸、保持させることができる。
【0057】美容処理剤としては、具体的には各種のビ
タミンやセラミド、またコラーゲン(コラーゲンビーズ
などを含む)などの美容成分、各種化粧品として用いら
れている化粧成分、日焼け止めのような皮膚保護成分な
どを含むものが用いられ、また場合によっては洗顔成分
などを含むものを用いることも可能である。これら各成
分は1種または2種以上の混合物として使用することがで
きる。さらに、これら美容処理剤の主目的成分に加え
て、例えば抗炎症作用を有する成分などを配合したり、
香料や顔料などを副成分として添加してもよい。
タミンやセラミド、またコラーゲン(コラーゲンビーズ
などを含む)などの美容成分、各種化粧品として用いら
れている化粧成分、日焼け止めのような皮膚保護成分な
どを含むものが用いられ、また場合によっては洗顔成分
などを含むものを用いることも可能である。これら各成
分は1種または2種以上の混合物として使用することがで
きる。さらに、これら美容処理剤の主目的成分に加え
て、例えば抗炎症作用を有する成分などを配合したり、
香料や顔料などを副成分として添加してもよい。
【0058】美容処理剤の主目的成分としてのビタミン
には、ビタミンA油(ビタミンAパルミテート)、ビタ
ミンE油(d1-α-トコフェロール)、ビタミンC(テト
ラ2-ヘキシルデカン酸アスコルビル)などが効果的に用
いられる。例えば、ビタミンAは角質化した皮膚をやわ
らげ、また肥厚した皮膚や毛孔壁を柔軟にして、ニキビ
などのできやすい油漏性角化肌の解消などに効果を発揮
する。ビタミンEは細胞の若さを保つ働きを有し、肌荒
れ、しわなどの原因となるターンオーバーの改善などに
効果を発揮し、シミの原因となる褐色の色素の沈着も抑
制することができる。ビタミンCはシミ、ソバカスの発
生原因となるメラニン色素の形成を阻害すると共に、シ
ミの要因となる活性酸素を阻害する抗酸化作用を有す
る。バイオ技術で作られたセラミドは、肌の保湿機能を
高めるなどの効果を有する。
には、ビタミンA油(ビタミンAパルミテート)、ビタ
ミンE油(d1-α-トコフェロール)、ビタミンC(テト
ラ2-ヘキシルデカン酸アスコルビル)などが効果的に用
いられる。例えば、ビタミンAは角質化した皮膚をやわ
らげ、また肥厚した皮膚や毛孔壁を柔軟にして、ニキビ
などのできやすい油漏性角化肌の解消などに効果を発揮
する。ビタミンEは細胞の若さを保つ働きを有し、肌荒
れ、しわなどの原因となるターンオーバーの改善などに
効果を発揮し、シミの原因となる褐色の色素の沈着も抑
制することができる。ビタミンCはシミ、ソバカスの発
生原因となるメラニン色素の形成を阻害すると共に、シ
ミの要因となる活性酸素を阻害する抗酸化作用を有す
る。バイオ技術で作られたセラミドは、肌の保湿機能を
高めるなどの効果を有する。
【0059】美容処理チップ10に含ませる美容処理剤
の具体例としては、上述した各種ビタミンやセラミドな
どの主目的成分に、抗炎症作用を有する成分(例えばグ
リチルレチン酸ステアリル)をオリーブスクワランや吸
着精製オリーブ油などの植物性油に溶かしたものを加え
た混合処理剤が挙げられる。この混合処理剤には、アロ
マ効果などを有する各種香料や香油、さらには顔料など
を配合してもよい。このような混合処理剤は、主目的成
分の種類に応じて各種の美容処理用途に用いられる。顔
料は美容処理チップ20を使用目的毎に着色し、美容処
理チップ20の利便性を高める上で効果的である。な
お、上記した美容処理剤はあくまでも一例であり、美容
処理チップ20に含ませる美容処理剤は目的とする美容
処理内容や処理対象部位などに応じて適宜に選択して使
用することができる。
の具体例としては、上述した各種ビタミンやセラミドな
どの主目的成分に、抗炎症作用を有する成分(例えばグ
リチルレチン酸ステアリル)をオリーブスクワランや吸
着精製オリーブ油などの植物性油に溶かしたものを加え
た混合処理剤が挙げられる。この混合処理剤には、アロ
マ効果などを有する各種香料や香油、さらには顔料など
を配合してもよい。このような混合処理剤は、主目的成
分の種類に応じて各種の美容処理用途に用いられる。顔
料は美容処理チップ20を使用目的毎に着色し、美容処
理チップ20の利便性を高める上で効果的である。な
お、上記した美容処理剤はあくまでも一例であり、美容
処理チップ20に含ませる美容処理剤は目的とする美容
処理内容や処理対象部位などに応じて適宜に選択して使
用することができる。
【0060】この実施形態の美容処理装置においては、
第1の美容処理チップ10および第2の美容処理チップ
20のそれぞれに対して振動が伝達される。第1の美容
処理チップ10によれば、前述した実施形態と同様に皮
膚表面の老化した角質の一部や皮膚表面に付着した汚れ
などを除去することができる。このような処理と同時
に、第2の美容処理チップ20により美容処理剤を効率
的に浸透させることができる。これら2つの処理を同時
に進行させるために、第1のチップ保持機構21は第2
のチップ保持機構22に対して所定の角度をもって設け
られている。すなわち、第2の美容処理チップ20の上
面20aと第1の美容処理チップ10の角部10aが皮
膚表面に同時に当接するように、各チップ保持機構2
1、22の形成角度が設定されている。
第1の美容処理チップ10および第2の美容処理チップ
20のそれぞれに対して振動が伝達される。第1の美容
処理チップ10によれば、前述した実施形態と同様に皮
膚表面の老化した角質の一部や皮膚表面に付着した汚れ
などを除去することができる。このような処理と同時
に、第2の美容処理チップ20により美容処理剤を効率
的に浸透させることができる。これら2つの処理を同時
に進行させるために、第1のチップ保持機構21は第2
のチップ保持機構22に対して所定の角度をもって設け
られている。すなわち、第2の美容処理チップ20の上
面20aと第1の美容処理チップ10の角部10aが皮
膚表面に同時に当接するように、各チップ保持機構2
1、22の形成角度が設定されている。
【0061】上述した美容処理剤を含浸させた第2の美
容処理チップ20によれば、目的とする美容処理条件に
応じた振動数や振幅で振動させつつ利用者の皮膚表面に
押し当てることによって、美容処理チップ20に含ませ
た美容処理剤を身体に効率よく浸透させることができ
る。さらに、美容処理チップ20自体の安全性が高く、
かつ肌への攻撃性などを美容処理剤中の成分により和ら
げることができるため、皮膚の負担やダメージなどをよ
り一層抑えることが可能となる。
容処理チップ20によれば、目的とする美容処理条件に
応じた振動数や振幅で振動させつつ利用者の皮膚表面に
押し当てることによって、美容処理チップ20に含ませ
た美容処理剤を身体に効率よく浸透させることができ
る。さらに、美容処理チップ20自体の安全性が高く、
かつ肌への攻撃性などを美容処理剤中の成分により和ら
げることができるため、皮膚の負担やダメージなどをよ
り一層抑えることが可能となる。
【0062】第2の美容処理チップ20は、例えばニキ
ビ傾向肌、脂漏性肌、肥厚角化肌、乾燥傾向肌、荒れ
肌、シミ・ソバカス傾向肌、くすみ傾向肌、弱肌傾向肌
などの改善のための美容処理、肌の老化や乾燥などを防
ぐための美容処理、さらには日常の美容、化粧、肌の保
護のための各種処理などに有効であり、これらの美容処
理を効果的にかつ安全に実施することができる。さら
に、美容処理剤の浸透量は、美容処理チップ20への美
容処理剤の含浸量、美容処理チップ20に加える振動数
や振幅、美容処理チップ20の硬度や強度(チップ自体
の磨耗量)などにより制御することができる。これは美
容処理剤の浸透量やそれに基づく美容処理効果の向上に
対して有効に作用する。
ビ傾向肌、脂漏性肌、肥厚角化肌、乾燥傾向肌、荒れ
肌、シミ・ソバカス傾向肌、くすみ傾向肌、弱肌傾向肌
などの改善のための美容処理、肌の老化や乾燥などを防
ぐための美容処理、さらには日常の美容、化粧、肌の保
護のための各種処理などに有効であり、これらの美容処
理を効果的にかつ安全に実施することができる。さら
に、美容処理剤の浸透量は、美容処理チップ20への美
容処理剤の含浸量、美容処理チップ20に加える振動数
や振幅、美容処理チップ20の硬度や強度(チップ自体
の磨耗量)などにより制御することができる。これは美
容処理剤の浸透量やそれに基づく美容処理効果の向上に
対して有効に作用する。
【0063】なお、上記した実施形態では老化した角質
や汚れなどを除去するための第1の美容処理チップ10
と美容処理剤を含浸させた第2の美容処理チップ20と
を有する美容処理装置について説明したが、美容処理装
置に設置する複数の美容処理チップはこれらに限定され
るものではない。美容処理装置には例えば2つ以上の美
容処理チップ10を設置してもよいし、また美容処理チ
ップ20を複数設置してもよい。さらに、これら以外の
美容処理チップを併用したり、3つ以上の美容処理チッ
プを設置することも可能である。このような複数の美容
処理チップを有する美容処理装置によれば、適用した美
容処理チップの種類などに応じて、複数種類の美容処理
を一括して実施することができる。また、同種の美容処
理チップを複数用いた場合には、その処理効率を高める
ことができる。
や汚れなどを除去するための第1の美容処理チップ10
と美容処理剤を含浸させた第2の美容処理チップ20と
を有する美容処理装置について説明したが、美容処理装
置に設置する複数の美容処理チップはこれらに限定され
るものではない。美容処理装置には例えば2つ以上の美
容処理チップ10を設置してもよいし、また美容処理チ
ップ20を複数設置してもよい。さらに、これら以外の
美容処理チップを併用したり、3つ以上の美容処理チッ
プを設置することも可能である。このような複数の美容
処理チップを有する美容処理装置によれば、適用した美
容処理チップの種類などに応じて、複数種類の美容処理
を一括して実施することができる。また、同種の美容処
理チップを複数用いた場合には、その処理効率を高める
ことができる。
【0064】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の美容処理
装置によれば、皮膚の再生促進処理や汚れの除去処理な
どの美容処理を実施する際に、皮膚へのダメージを抑制
した上で、皮膚表面の老化した角質の一部や皮膚表面に
付着した汚れなどを均一にかつ適度に除去することをで
きる。従って、皮膚の再生促進処理や汚れの除去処理な
どをより有効かつ安全に実施することが可能となる。
装置によれば、皮膚の再生促進処理や汚れの除去処理な
どの美容処理を実施する際に、皮膚へのダメージを抑制
した上で、皮膚表面の老化した角質の一部や皮膚表面に
付着した汚れなどを均一にかつ適度に除去することをで
きる。従って、皮膚の再生促進処理や汚れの除去処理な
どをより有効かつ安全に実施することが可能となる。
【図1】 本発明の一実施形態による美容処理装置の外
観を示す正面図である。
観を示す正面図である。
【図2】 図1に示す美容処理装置の側面図である。
【図3】 図1に示す美容処理装置の構成を示す断面図
である。
である。
【図4】 図1に示す美容処理装置の変形例の構成を示
す断面図である。
す断面図である。
【図5】 本発明の他の実施形態による美容処理装置の
概略構成を示す正面図である。
概略構成を示す正面図である。
1……装置本体、2……偏心ロータ、3……モータ、5
……電源部、7……スイッチ部、9,21,22……チ
ップ保持機構,10……美容処理チップ(第1の美容処
理チップ),20……第2の美容処理チップ
……電源部、7……スイッチ部、9,21,22……チ
ップ保持機構,10……美容処理チップ(第1の美容処
理チップ),20……第2の美容処理チップ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 山▲崎▼ 章次
東京都江東区古石場1丁目4番4号 ヤー
マン株式会社内
Fターム(参考) 2D034 DA00
4C074 AA05 BB01 CC01 DD01 GG01
HH04
Claims (17)
- 【請求項1】 装置本体と、前記装置本体に内蔵された
振動発生手段と、前記振動発生手段から振動が伝達さ
れ、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記振動を印
加するように当接される美容処理チップとを具備する美
容処理装置において、 前記美容処理チップは、粒度が#80〜#800の範囲の砥
粒を備えることを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の美容処理装置において、 前記砥粒は#240〜#800の範囲の粒度を有することを特
徴とする美容処理装置。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2記載の美容処理
装置において、 前記美容処理チップは、前記砥粒と、前記砥粒がチップ
形状を維持するように、前記砥粒を結合させる結合剤と
を具備することを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれか1項
記載の美容処理装置において、 前記砥粒はセラミックス砥粒であることを特徴とする美
容処理装置。 - 【請求項5】 請求項4記載の美容処理装置において、 前記セラミックス砥粒は、アルミナ砥粒、ジルコニア砥
粒、マグネシア砥粒およびスピネル砥粒から選ばれる少
なくとも1種からなることを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項6】 請求項4または請求項5記載の美容処理
装置において、 前記セラミックス砥粒は酸処理が施されていることを特
徴とする美容処理装置。 - 【請求項7】 装置本体と、前記装置本体に内蔵された
振動発生手段と、前記振動発生手段から振動が伝達さ
れ、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記振動を印
加するように当接される美容処理チップとを具備する美
容処理装置において、 前記美容処理チップはアルミナ砥粒を備えることを特徴
とする美容処理装置。 - 【請求項8】 請求項7記載の美容処理装置において、 前記美容処理チップは、前記アルミナ砥粒と、前記アル
ミナ砥粒がチップ形状を維持するように、前記アルミナ
砥粒を結合させる結合剤とを具備することを特徴とする
美容処理装置。 - 【請求項9】 請求項1ないし請求項8のいずれか1項
記載の美容処理装置において、 前記振動発生手段は前記美容処理チップに主として往復
振動を印加することを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項10】 請求項9記載の美容処理装置におい
て、 前記振動発生手段は前記美容処理チップを500〜20000回
/minの範囲の振動数で振動させることを特徴とする美容
処理装置。 - 【請求項11】 請求項9または請求項10記載の美容
処理装置において、 前記振動発生手段は前記美容処理チップを0.01〜100μm
の範囲の振幅で振動させることを特徴とする美容処理装
置。 - 【請求項12】 請求項1ないし請求項11のいずれか
1項記載の美容処理装置において、 前記美容処理チップは、前記美容処理を施す身体の皮膚
表面の老化した角質を除去するように、前記皮膚表面に
当接されることを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項13】 請求項1ないし請求項12のいずれか
1項記載の美容処理装置において、 さらに、前記振動発生手段から振動が伝達される第2の
美容処理チップを具備することを特徴とする美容処理装
置。 - 【請求項14】 請求項13記載の美容処理装置におい
て、 前記第2の美容処理チップは、多孔質基材と、前記多孔
質基材内に含浸された美容処理剤とを有することを特徴
とする美容処理装置。 - 【請求項15】 請求項14記載の美容処理装置におい
て、 前記美容処理剤は、美容成分、化粧成分および皮膚保護
成分から選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とす
る美容処理装置。 - 【請求項16】 請求項15記載の美容処理装置におい
て、 前記美容処理剤は、さらに香料および顔料から選ばれる
少なくとも1種を含むことを特徴とする美容処理装置。 - 【請求項17】 装置本体と、 前記装置本体に内蔵された振動発生手段と、 前記振動発生手段からの振動が伝達されように、前記装
置本体に設けられた複数のチップ接続部と、 前記複数のチップ接続部にそれぞれ保持され、かつ美容
処理を施す身体の皮膚表面に前記振動を印加するように
当接される複数の美容処理チップとを具備することを特
徴とする美容処理装置。
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