JP2003147048A - チキソトロピック組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 付着性、研削性及び作業性に優
れ、きれいな溶工面を得ることができ、Ｍｇ合金等に対
してもパテとして好適に使用することができるチキソト
ロピック組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）ポリフェノール骨格を有
し、１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を有するエ
ポキシ樹脂と、（Ｂ）特定構造のトリス（カルボアミノ
置換）トリアジン、及び／又は活性メチレン化合物をブ
ロック剤とするブロック化イソシアネートと、（Ｃ）顔
料とを含有して成り、チキソトロピックインデックスが
７〜１０であることを特徴とするチキソトロピック組成
物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、チキソトロピッ
ク組成物に関し、さらに詳しくは、Ｍｇ合金等に対して
パテとして好適に使用することができる、付着性及び研
削性に優れたチキソトロピック組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ｍｇ合金は、軽量であり、薄肉化及びリ
サイクル化が容易であるなどの利点を有するので、パソ
コンや携帯電話などの多くの工業製品に利用されてい
る。

【０００３】これらの工業製品の塗装面の補修作業にお
いては、通常損傷箇所の旧塗装を剥離処理し、そこにパ
テをヘラ等で厚盛に付け、乾燥後そのパテ面を研磨し、
その上にプライマーを塗付した後、塗装を施す。

【０００４】一般にこの作業には不飽和ポリエステル樹
脂等を主剤としたパテが使用されている。

【０００５】しかし従来の前記パテは、補修作業の対象
となる素材がＭｇ合金及びこれを処理したものである場
合に、これらの素材に対する付着性が十分ではなく、補
修箇所が剥離しやすいという欠点があった。

【０００６】また前記素材では、一般にプライマーとパ
テとの層間付着性が不十分であるという問題もあった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、付
着性、研削性及び作業性に優れ、きれいな塗工面を得る
ことができ、Ｍｇ合金等に対してもパテとして好適に使
用することができるチキソトロピック組成物を提供する
ことである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
のこの発明は、（Ａ）ポリフェノール骨格を有し、１分
子中に少なくとも１個のエポキシ基を有するエポキシ樹
脂と、（Ｂ）下記一般式（１）［化２］で表されるトリ
ス（カルボアミノ置換）トリアジン、及び／又は活性メ
チレン含有化合物をブロック剤とするブロック化イソシ
アネートと、（Ｃ）顔料とを含有して成り、チキソトロ
ピックインデックスが７〜１０であることを特徴とする
チキソトロピック組成物であり、

【０００９】

【化２】 （ただし、式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は炭素数７〜
２０のアラルキル基であり、３個のＲは互いに同一であ
っても相違していても良い。） また前記チキソトロピック組成物の好適な態様として、
前記エポキシ樹脂（Ａ）と、前記トリス（カルボアミノ
置換）トリアジン、及び／又は活性メチレン含有化合物
をブロック剤とするブロック化イソシアネート（Ｂ）と
は、その含有割合が質量比で９５：５〜３０：７０であ
り、前記エポキシ樹脂（Ａ）は、そのエポキシ当量が２
００〜１７００の範囲に有り、前記顔料（Ｃ）は、その
含有量が、前記エポキシ樹脂（Ａ）と前記トリス（カル
ボアミノ置換）トリアジン、及び／又は活性メチレン含
有化合物をブロック剤とするブロック化イソシアネート
（Ｂ）との含有量の合計を１００質量部としたときに、
３０１〜４２０質量部であり、チキソトロピック組成物
は、パテ用であり、チキソトロピック組成物は、Ｍｇ合
金用のパテ用チキソトロピック組成物である。

【００１０】

【発明の実施の形態】この発明に係るチキソトロピック
組成物は、（Ａ）成分として、ポリフェノール骨格を有
し、１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を有するエ
ポキシ樹脂を含有する。

【００１１】この発明において使用される（Ａ）成分と
しては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、Ｏ−クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂などを例示できる。これ
らの中でもビスフェノール型エポキシ樹脂及びフェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂の中でも特にビスフェノールＡ型エポ
キシ樹脂及びビスフェノールＦ型エポキシ樹脂が好まし
い。

【００１２】ここに述べるポリフェノール型エポキシ樹
脂はフェノール環上またはフェノール環に置換した炭化
水素骨格にハロゲン、酸素、窒素、硫黄を含む官能基、
たとえばハロゲン基、エーテル基、エステル基、カルボ
ニル基、水酸基、アミノ基、ニトロ基、チオール基、チ
オエーテル基などを有するものも含まれる。

【００１３】また、（Ａ）成分は変性剤を用いて変性さ
れたものも含まれる。変性剤としては、例えば、(1)炭
素数１〜１８の、直鎖状または分岐したところの、不飽
和炭化水素鎖又は飽和炭化水素鎖を有するモノカルボン
酸、(2)コハク酸及びその無水物、マレイン酸及びその
無水物、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデ
カン二酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、ナフタレンジカルボン酸、及びダイマー酸等のジカ
ルボン酸、(3)無水トリメリット酸、及び無水ピロメリ
ット酸等の多価カルボン酸、(4)カルボキシル基含有の
ビニル系共重合体等のカルボキシル基含有化合物、(5)
イソシアネート基含有化合物、並びに(6)カプロラクト
ン等の環状エステル化合物等をあげることができる。

【００１４】（Ａ）成分に使用することのできる市販品
としては、例えばジャパンエポキシレジン（株）製の
「エピコート」を挙げることができる。

【００１５】（Ａ）成分のエポキシ当量については、特
に限定されるものではないが、２００〜１７００である
ことが好ましく、特に４００〜１０００であることが好
ましい。（Ａ）成分のエポキシ当量が２００より小さい
と、反応性及び安全性が低下する場合があり、（Ａ）成
分のエポキシ当量が１７００より大きいと、チキソトロ
ピック組成物の塗工性が低下する場合がある。

【００１６】したがって前記「エピコート」を使用する
場合には、「エピコート」＃１００１〜＃１００４が好
適である。

【００１７】この発明に係るチキソトロピック組成物
は、（Ｂ）成分として、前記一般式（１）[化３]で表さ
れるトリス（カルボアミノ置換）トリアジン、及び／又
は活性メチレン含有化合物をブロック剤とするブロック
化イソシアネートを含有する。

【００１８】

【化３】 ただし、式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜２０のアルキ
ル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は炭素数７〜２
０のアラルキル基であり、３個のＲは互いに同一であっ
ても相違していても良い。

【００１９】前記一般式（１）で示されるトリス（カル
ボアミノ置換）トリアジンは、トリアジン環における３
個の炭素原子それぞれにカルボアミノ基が置換するトリ
アジンであることを意味し、このトリス（カルボアミノ
置換）トリアジンとしては、トリス（ヒドロキシカルボ
アミノ）トリアジンとトリス（アルコキシカルボニルア
ミノ）トリアジンとを挙げることができる。

【００２０】トリス（アルコキシカルボアミノ）トリア
ジンにおいて、Ｒにより示される炭素数１〜２０のアル
キル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、se
c−ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘプタデシ
ル基、及びエイコシル基等を挙げることができ、Ｒによ
り示される炭素数６〜２０のアリール基としては、フェ
ニル基、トリル基、ナフチル基、及びアントリル基等を
挙げることができ、Ｒにより示される炭素数７〜２０の
アラルキル基としては、前記アリール基における芳香環
にアルキル基が置換したアラルキル基を挙げることがで
きる。これらの中でも好ましいＲとしては、炭素数１〜
８のアルキル基であり、特に好ましい炭化水素基は炭素
数が１〜４であるアルキル基である。具体的には、この
トリス（カルボアミノ置換）トリアジンとして、２，
４，６−トリス−（メトキシカルボニルアミノ）−１，
３，５−トリアジン、２，４，６−トリス−（ブトキシ
カルボニルアミノ）−１，３，５−トリアジン及びこれ
らの混合物が好ましい。またこの（Ｂ）成分としてCYLI
NK2000（三井サイテック株式会社製）等の市販品をその
まま用いることができる。

【００２１】また、この（Ｂ）成分としては、一般式
（１）で示される化合物がジオール類と一部縮合したオ
リゴマーを使用することもできる。ここで用いられるジ
オール類としては、例えばエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、プロピレングリコール、プロパンジオ
ール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジ
オール、ネオペンチルグリコール等を挙げることができ
る。

【００２２】前記ブロック化イソシアネートは、活性メ
チレン含有化合物をブロック剤として有する。活性メチ
レン含有化合物をブロック剤とするブロック化イソシア
ネートを使用すると、この発明に係るチキソトロピック
組成物に要求される付着性等の性能を十分に発揮するこ
とができるチキソトロピック組成物を得ることができ
る。一方ブロック剤としてオキシム類又はピラゾール類
を有するブロック化イソシアネートを使用すると、チキ
ソトロピック組成物の付着性が不良になるので好ましく
ない。

【００２３】前記ブロック化イソシアネートにおけるイ
ソシアネートとしては、１分子中に２個以上のイソシア
ネート基を有するイソシアネートが好ましく、特に１分
子中に３〜７個のイソシアネート基を有するイソシアネ
ートが好ましい。

【００２４】前記ブロック化イソシアネートにおけるイ
ソシアネートとしては、例えば脂肪族系イソシアネー
ト、脂環族系イソシアネート及び芳香族系イソシアネー
トを挙げることができる。具体的には、前記脂肪族系イ
ソシアネートとしては、例えばヘキサメチレンジイソシ
アネート、リジンジイソシアネートなどを挙げることが
できる。前記脂環族系イソシアネートとしては、例えば
イソホロンジイソシアネート、ジシクロへキシルメタン
−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロへキシルメタ
ン−２，４’−ジイソシアネート、ジイソシアネートジ
メチルシクロヘキサンなどを挙げることができる。前記
芳香族系イソシアネートとしては、例えばパラフェニレ
ンジイソシアネート、２−クロロ−１，４−フェニルジ
イソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、
２，６−トルエンジイソシアネート、１，５−ナフタレ
ンジイソシアネートなどを挙げることができる。

【００２５】前記ブロック化イソシアネートにおけるイ
ソシアネートは、ヌレート体、ビュレット体、ウレア
体、重合体及びアダクト体並びにこれらの混合物を含
む。

【００２６】（Ｂ）成分として用いられるブロック化イ
ソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト系のヌレート体、又は、ビュレット体、並びに、イソ
ホロンジイソシアネート系のヌレート体からなるブロッ
ク化イソシアネート、又は、ブロック化ポリイソシアネ
ートを単独又は併用して用いることが特に好適である。
前記ブロック化イソシアネートにおけるイソシアネート
としてこれらのイソシアネートを使用すると、反応性が
高くて加熱後に着色しないという利点がある。

【００２７】この発明において使用される（Ｂ）成分と
しては、前記トリス（カルボアミノ置換）トリアジン及
び前記ブロック化イソシアネートのうち、いずれか一方
を選択して使用することもでき、また両方を一緒に使用
することもできる。

【００２８】この発明に係るチキソトロピック組成物
は、（Ｃ）成分として、顔料を含有する。

【００２９】この発明において使用される（Ｃ）成分と
しては、二酸化チタン、酸化鉄、カーボンブラック、黄
鉛などの無機系着色顔料、アゾ系、フタロシアニン系、
キナクリドン系、インジゴ系、ペリレン系などの有機系
着色顔料、タルク、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、シ
リカ、マイカ、カオリンなどの体質顔料、リン酸亜鉛
系、リン酸アルミニウム系、ストロンチウムクロメー
ト、ジンククロメートなどの防錆顔料、などを例示する
ことができる。

【００３０】この発明に係るチキソトロピック組成物
は、チキソトロピックインデックス（以下「ＴＩ値」と
いう）が７〜１０である。

【００３１】すなわちこの発明に係るチキソトロピック
組成物は、チキソトロピック的性質を有し、静置状態に
おいては流動性がないので、静置状態においても流動性
を有する塗料組成物とは異なる物質である。

【００３２】ＴＩ値は、組成物の温度が２０±１℃のと
きに、ＢＨ型粘度計（（株）東京計器製）を用いて、ロ
ーターNo.７により測定される粘度から下記の式により
求めることができる。

【００３３】ＴＩ値＝〔回転数２rpmのときの粘度(cp
s)〕／〔回転数２０rpmのときの粘度(cps)〕 ＴＩ値が７〜１０であると、このチキソトロピック組成
物をパテ材としてＭｇ合金等に対して使用したときに、
作業性が良好であり、塗布したチキソトロピック組成物
からヘラ等の治具を離すときにそのチキソトロピック組
成物が糸状に伸びて、塗工面が荒れる現象、つまり糸引
きが生じることがなく、素地に対する付着性及び塗布後
の研削性が良好であり、きれいな仕上げ面が得られる。
一方ＴＩ値が７より小さいと、塗布時に糸引きが生じ、
きれいな塗工面を得ることができず、また作業性が悪い
ので好ましくない。ＴＩ値が１０より大きいと、塗布部
に平滑面を得ることが困難であり、素地に対する付着性
が低く、また作業性が悪いので好ましくない。

【００３４】前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との含有
割合は、質量比で９５：５〜３０：７０であることが好
ましく、９５：５〜５０：５０であることがさらに好ま
しい。前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との含有割合が
前記範囲内にあると、架橋が不十分となることがなく、
また架橋が密になるすぎることもなく、チキソトロピッ
ク組成物の付着性等の性能が好適に発揮されるので好ま
しい。

【００３５】前記（Ｃ）成分の含有量は、前記（Ａ）成
分と前記（Ｂ）成分との含有量の合計を１００質量部と
したときに、３０１〜４２０質量部であることが好まし
い。前記（Ｃ）成分の含有量が前記範囲内にあると、十
分な着色力を確実に得ることができ、またチキソトロピ
ック組成物に要求される付着性等の性能を十分に発揮す
ることができるという利点がある。

【００３６】この発明の作用について説明する。この発
明における（Ａ）成分は、金属素材及びセラミックに対
する付着性に極めて優れている。しかしながら、エポキ
シ樹脂中のエポキシ基は非常に反応性が高く、一体型の
樹脂組成物とするのは困難である。

【００３７】一方、（Ｂ）成分であるトリス（カルボア
ミノ置換）トリアジンはその構造中に水酸基と反応する
部位及びエポキシ基と反応する部位を有している。この
エポキシ基と反応する部位とエポキシ基とは常温付近で
は殆ど反応せず、１２０℃程度で反応する。したがっ
て、（Ａ）成分と（Ｂ）成分であるトリス（カルボアミ
ノ置換）トリアジンとを混合すると常温では反応せず、
一体型として使用可能な樹脂組成物即ちこの発明に係る
チキソトロピック組成物を得ることができる。また、こ
のチキソトロピック組成物は、加熱時にエポキシ基の反
応に伴って生成する水酸基と（Ｂ）成分との反応も起こ
る。故に、この発明に係るチキソトロピック組成物は、
硬化性に優れる。

【００３８】（Ｂ）成分である活性メチレン含有化合物
をブロック剤とするブロック化イソシアネートは、ブロ
ック剤により不活性化されているので、常温ではエポキ
シ樹脂中のエポキシ基と反応しない。前記ブロック化イ
ソシアネートは、加熱するとブロック剤がイソシアネー
トから離脱して活性のイソシアネートを生じ、これがエ
ポキシ樹脂中のエポキシ基と反応して、エポキシ樹脂と
強固な三次元架橋構造を形成する。したがって（Ａ）成
分と（Ｂ）成分である活性メチレン含有化合物をブロッ
ク剤とするブロック化イソシアネートとを混合すること
により、一体型のチキソトロピック組成物を得ることが
できる。

【００３９】この発明に係るチキソトロピック組成物
は、チキソトロピック性を有するので、塗工時に力を作
用させるとゾル状となって流動性を有し、塗工後はゲル
状となって、流動性が消失する。したがってこの発明に
係るチキソトロピック組成物は、パテ材として好適に使
用することができる。

【００４０】この発明に係るチキソトロピック組成物
は、Ｍｇ合金等に対しても付着性が大きいので、Ｍｇ合
金等を材料とするパソコン及び携帯電話等の部品に対す
る補修用パテ材として好適に使用することができる。

【００４１】

【実施例】以下、実施例によりこの発明をさらに具体的
に説明するが、この発明はこれに限定されるものではな
い。なお、「部」及び「％」は「質量部」及び「質量
％」を示す。

【００４２】＜エポキシ樹脂溶液の調製＞表１に示した
エポキシ樹脂、キシレン及びシクロヘキサンを、表１に
示した割合で、還流冷却器、温度計、及び撹拌機を取り
付けた４口フラスコに仕込み、この４口フラスコ内を１
００℃に加熱してエポキシ樹脂を完全に溶解し、エポキ
シ樹脂溶液Ｅ−１、Ｅ−２及びＥ−３を調製した。

【００４３】

【表１】

【００４４】１）ジャパンエポキシレジン（株）製：ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量４７５、
数平均分子量９００ ２）ジャパンエポキシレジン（株）製：ビスフェノール
Ｆ型エポキシ樹脂、エポキシ当量９２５、数平均分子量
１６００ ３）ジャパンエポキシレジン（株）製：ポリグリコール
ジグリシジル型エポキシ樹脂、エポキシ当量１５０ （実施例１〜７）表２で示したエポキシ樹脂溶液と表３
で示した顔料とイソホロンとを、表２及び表３で示した
割合で容器に仕込み、ディスパーにて素練をした後、ロ
ールミルにて、粒度が４０μｍになるまで分散を行い、
チキソトロピック組成物Ｔ−１〜Ｔ−７を得た。

【００４５】チキソトロピック組成物Ｔ−１〜Ｔ−７の
ＴＩ値、固形分及びエポキシ樹脂/顔料固形分比を表２
に示した。ＴＩ値は、前述した方法によって測定した。
固形分は、ＪＩＳ Ｋ ５４０７ ４に準拠して測定し
た。

【００４６】

【表２】

【００４７】

【００４８】

【表３】

【００４９】１）三井サイテック(株)製：トリス(アル
コキシカルボアミノ)トリアジン、固形分５０％ ２）旭化成工業(株)製：ヘキサメチレンジイソシアネー
ト系イソシアヌレート型ポリイソシアネートの活性メチ
レン含有化合物によるブロック体、固形分６０％ ３）旭化成工業(株)製：ヘキサメチレンジイソシアネー
ト系イソシアヌレート型ポリイソシアネートのオキシム
系化合物によるブロック体、固形分８０％ ４）バイエル（株）製：イソホロンジイソシアネート系
イソシアヌレート型ポリイソシアネート及びヘキサメチ
レンジイソシアネート系イソシアヌレート型ポリイソシ
アネートの混合物の活性メチレン含有化合物によるブロ
ック体、固形分７５％ （比較例１〜９）表４で示したエポキシ樹脂溶液と表５
で示した顔料とイソホロンとを、表４及び表５で示した
割合で容器に仕込み、ディスパーにて素練をした後、ロ
ールミルにて、粒度が４０μｍになるまで分散を行い、
チキソトロピック組成物Ｔ−８〜Ｔ−１５を得た。

【００５０】チキソトロピック組成物Ｔ−８〜Ｔ−１５
のＴＩ値、固形分及びエポキシ樹脂/顔料固形分比を表
３に示した。ＴＩ値及び固形分の測定方法は、前記実施
例１〜６の場合と同様である。

【００５１】

【表４】

【００５２】

【００５３】

【表５】

【００５４】（糸引き試験）（株）パルテック製のＭｇ
合金試験板に、日本研紙（株）製ＡＢＲＡＳＩＯＮＰＡ
ＰＥＲ Ｃ−Ｐ２４０ Ｃｗ にて研磨することにより
凹状欠陥部を形成させた。

【００５５】実施例１〜７及び比較例１〜９で得られた
チキソトロピック組成物Ｔ１〜１５を、前記試験板の凹
状欠陥部に竹製のヘラで塗工し、塗工面からヘラを離す
ときに、塗工したチキソトロピック組成物が糸状に延び
て塗工面が荒れる現象、すなわち糸引きが生ずるか否か
の試験を行った。

【００５６】比較例９として、川上塗料（株）製「ポリ
エステルパテ２０Ｙ（主剤）と「ポリエステルパテＹ２
０（硬化剤）」を５：１の割合で混ぜたものを用い、実
施例１と同様の試験を行った。

【００５７】試験結果は、目視により、以下の評価基準
により評価した。試験結果を表４に示した。 ○：糸引きが生じなかった。

【００５８】×：糸引きが生じて、塗工面が荒れた。

【００５９】（加熱後の塗工面の外観観察試験）前記糸
引き試験においてチキソトロピック組成物を塗工した試
験板を１６０℃で２０分間加熱した。加熱後の塗工面の
外観を観察した。

【００６０】評価基準を以下に示した。試験結果を表６
及び表７に示した。 ○：平滑面が得られた。

【００６１】×：引き跡又は窪みが生じ、平滑面が得ら
れなかった。

【００６２】（加熱後の塗工部の研削性試験）前記加熱
後の塗工面の外観観察試験において示した加熱した試験
板の塗工部を、日本研紙（株）製ＡＢＲＡＳＩＯＮ Ｐ
ＡＰＥＲ Ｃ−Ｐ１０００ Ｃｗを用いて研削し、その
ときの研削カスの研磨紙に対する絡みつきを調べた。

【００６３】評価基準を以下に示した。試験結果を表６
及び表７に示した。 ○：研削カスの研磨紙への絡みつきが見られなかった。

【００６４】×：研削カスの研磨紙への絡みつきが見ら
れた。

【００６５】（加熱後の塗工部の金属素材との付着性試
験）前記加熱後の塗工部の研削性試験において示した研
削した試験板の塗工部の付着性を、ＪＩＳ Ｋ ５４００
８．５．２に準拠した方法により評価した。

【００６６】評価基準を以下に示した。試験結果を表６
及び表７に示した。 ○：塗工部の剥離が生じなかった。

【００６７】×：塗工部の剥離が生じた。

【００６８】（加熱後の塗工部のプライマーとの付着性
試験）前記加熱後の塗工部の研削性試験において示した
研削した試験板の塗工部に、日本油脂ＢＡＳＦコーティ
ング（株）製プライマー「ベルファイン プライマーＮ
ｏ．5000」をエアースプレーにて、乾燥塗膜厚が１０〜
２０μｍになるように塗装し、１６０℃で２０分間加熱
した。プライマーとの付着性は、ＪＩＳ５４００ Ｋ
８．５．２に準拠した方法により評価した。

【００６９】評価基準を以下に示した。試験結果を表６
及び表７に示した。 ○：プライマーとの層間で剥離が生じなかった。

【００７０】×：プライマーとの層間で剥離が生じた。

【００７１】

【表６】

【００７２】

【表７】

【００７３】

【発明の効果】この発明に係るチキソトロピック組成物
は、パテ材として好適に使用することができ、Ｍｇ合金
等に対しても付着性が大きいので、Ｍｇ合金等を材料と
するパソコン及び携帯電話等の部品に対する補修用パテ
材として好適に使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/34 Ｃ０９Ｄ 5/34 163/00 163/00 175/04 175/04 (71)出願人 501438511 株式会社千代田 岩手県江刺市岩谷堂字松長根16−５ (72)発明者 足立 解 神奈川県横浜市港北区岸根町485−１−202 (72)発明者 佐々木 精一 神奈川県横浜市戸塚区下倉田町473 尽心 寮209 (72)発明者 増淵 茂麿 東京都板橋区熊野町１−５ (72)発明者 川辺 新一 埼玉県児玉郡神川町元原 300−18 (72)発明者 上林 清 岩手県江刺市岩谷堂字松長根 16−５ Ｆターム(参考） 4J002 CD041 CK021 DA037 DE117 DE137 DE237 DG047 DJ017 DJ037 DJ047 DJ057 EU186 FD097 FD146 FD201 4J034 DK01 DK05 HA07 HC12 HC13 HC71 HD12 HD15 MA02 MA04 MA29 RA07 RA17 4J036 AD08 AF06 DA10 DB17 DC45 FA05 FA06 HA12 JA01 JA15 4J038 DB061 DB071 DB351 DG161 DG301 JB36 KA08 MA15 NA23 PB12 PC02

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）ポリフェノール骨格を有し、１分
   子中に少なくとも１個のエポキシ基を有するエポキシ樹
   脂と、（Ｂ）下記一般式（１）［化１］で表されるトリ
   ス（カルボアミノ置換）トリアジン、及び／又は活性メ
   チレン含有化合物をブロック剤とするブロック化イソシ
   アネートと、（Ｃ）顔料とを含有して成り、チキソトロ
   ピックインデックスが７〜１０であることを特徴とする
   チキソトロピック組成物。 【化１】 （ただし、式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜２０のアル
   キル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は炭素数７〜
   ２０のアラルキル基であり、３個のＲは互いに同一であ
   っても相違していても良い。）
2. 【請求項２】 前記エポキシ樹脂（Ａ）と、前記トリス
   （カルボアミノ置換）トリアジン、及び／又は活性メチ
   レン含有化合物をブロック剤とするブロック化イソシア
   ネート（Ｂ）とは、その含有割合が質量比で９５：５〜
   ３０：７０である請求項１に記載のチキソトロピック組
   成物。
3. 【請求項３】 前記エポキシ樹脂（Ａ）は、そのエポキ
   シ当量が２００〜１７００の範囲に有ることを特徴とす
   る請求項１又は２に記載のチキソトロピック組成物。
4. 【請求項４】 前記顔料（Ｃ）は、その含有量が、前記
   エポキシ樹脂（Ａ）と前記トリス（カルボアミノ置換）
   トリアジン、及び／又は活性メチレン含有化合物をブロ
   ック剤とするブロック化イソシアネート（Ｂ）との含有
   量の合計を１００質量部としたときに、３０１〜４２０
   質量部である請求項１〜３のいずれか１項に記載のチキ
   ソトロピック組成物。
5. 【請求項５】 パテ用である、請求項１〜４のいずれか
   １項に記載のチキソトロピック組成物。
6. 【請求項６】 Ｍｇ合金用である、請求項５に記載のチ
   キソトロピック組成物。