JP2003149653A

JP2003149653A - 液晶表示セルおよびシール剤

Info

Publication number: JP2003149653A
Application number: JP2001343061A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Tonai; 内篤藤; Hideaki Tokaji; 梶秀章戸
Original assignee: Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Current assignee: JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date: 2001-11-08
Filing date: 2001-11-08
Publication date: 2003-05-21
Also published as: TWI237145B; WO2003040818A1; CN1582411A; KR20040029051A; TW200300220A

Abstract

(57)【要約】【課題】表示斑、表示不良等が起きることがない液晶表
示セルを提供する。【解決手段】少なくとも一方の基板の表面には透明電極
膜、透明電極保護膜および配向膜が順次積層されてなる
一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対
向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の
透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入さ
れ、透明電極周縁部の間隙をシール剤で封着して密閉し
た液晶表示セルにおいて、前記シール剤が硬化して形成
されたシール部の表面抵抗が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□の範
囲にあることを特徴とする液晶表示セル。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、シール部の表面抵抗が１
０¹⁰〜１０¹³Ω／□（体積抵抗としては１０⁴〜１０⁷Ω
・ｃｍ）の範囲にあるために、シール部は絶縁性を有し
上下電極基板は導通することがなく、一方で液晶表示部
に帯電することがないので表示斑、表示不良等が起きる
ことがない液晶表示セルに関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来より、ガラス基板の表面にＩ
ＴＯなどの透明電極膜、ポリイミドなどの高分子からな
る配向膜が順次積層されている一対の透明電極付基板
を、それぞれの透明電極膜同士が対向するようにスペー
サを介して対向させ、このスペーサによって所定の間隔
に開けられた隙間に液晶を封入し、透明電極周縁部の間
隙をシール剤で封着して密閉した液晶表示セルが知られ
ている。

【０００３】このタイプの液晶表示セルは、製造工程で
液晶セル内部に混入した異物やスペーサによって配向膜
が傷つけられ、その結果、上下の電極間に導通が生じ、
この導通に起因する表示不良が発生することがあった。
このため、上記のような液晶表示セルでは、透明電極付
基板の透明電極膜と配向膜との間に絶縁膜が形成されて
いる（特開昭６０−２６００２１号公報、特開平１−１
５０１１６号公報、特開平２−２２１９２３号公報など
参照）。

【０００４】また、透明電極と配向膜との間にこのよう
な絶縁膜を形成すると、配向膜のラビング時に発生する
静電気などによって配向膜に傷や配向不良などが生じる
こともあった。このため本願出願人は、特開平５−２３
２４５９号公報において、導電性微粒子とマトリックス
からなり、かつ表面抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□である
保護膜を透明電極表面に形成することを提案している。

【０００５】このような液晶表示セルを用いた液晶表示
装置として、ＴＦＴ型液晶表示装置およびＳＴＮ型液晶
表示装置が知られている。ＴＦＴ型液晶表示装置は、透
明基板上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、ゲート電
極などのＴＦＴアレイが設けられている。このＴＦＴア
レイによる凹凸を平坦化膜により平坦化した後、その上
にＩＴＯなどの表示電極を取り付ける構成にすることに
より、開口率の向上とＴＦＴアレイの凹凸による配向乱
れをなくすようにしている。さらにカラーフィルターを
有する液晶表示装置においても、カラーフィルター画素
の平坦化あるいは信頼性向上のために絶縁性保護被膜が
設けられている。

【０００６】これら各種液晶表示セルは、上記したよう
に改良が計られてはいるものの、装置の組立作業中また
は搬送中に発生する静電気の影響で表示斑と呼ばれる画
面の表示不良の問題があった。また、基板周縁部のシー
ル部を通して水分が液晶層に進入し、長時間を経て表示
斑が発生する問題があった。このため、本願出願人は、
液晶表示装置において、シール部の外側面全面にわたっ
て表面抵抗が１０⁸〜１０¹²Ω／□の導電性被膜が形成
された液晶表示装置を提案している（特開平９−１８５
９９８号公報）。

【０００７】しかしながら、表示斑の問題は低減された
ものの、基板間距離がミクロンオーダーのシール部に導
電性微粒子を樹脂に分散させた塗料を塗布して緻密な導
電性被膜を形成することは容易な工程ではなく、このた
め付加価値が高く高価な機種の液晶表示以外は経済性に
問題があった。さらに、機種によっては、前記した帯電
による表示斑を抑制するために、ＩＴＯ電極等の端子部
へ銅箔テープ等を貼り付けているが、この場合、後工程
で銅箔テープを剥離する必要があるが、この際銅箔テー
プの粘着材が基板に残存することがあり実装工程（組立
工程）で使用できない場合があった。

【０００８】

【発明の目的】本発明は、前記のような従来技術におけ
る問題点を解決するものであって、表示斑、表示不良等
が起きることがない液晶表示セルを提供することを目的
としている。

【０００９】

【発明の概要】本発明に係る第１の液晶表示セルは、少
なくとも一方の基板の表面には透明電極膜、透明電極保
護膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極
付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所
定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板
の間にあけられた間隙に液晶が封入され、透明電極周縁
部の間隙をシール剤で封着して密閉した液晶表示セルに
おいて、前記シール剤が硬化して形成されたシール部の
表面抵抗が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□の範囲にあることを特
徴としている。

【００１０】本発明に係る第２の液晶表示セルは、少な
くとも一方の基板の表面にはカラーフィルター、透明絶
縁性保護被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層され
てなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同
士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この
一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封
入され、透明電極周縁部の間隙をシール剤で封着して密
閉した液晶表示セルにおいて、前記シール剤が硬化して
形成されたシール部の表面抵抗が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□
の範囲にあることを特徴としている。

【００１１】本発明に係る第３の液晶表示セルは、少な
くとも一方の基板の表面にはＴＦＴアレイ、透明平坦化
膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対
の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向す
るように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明
電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入され、透
明電極周縁部の間隙をシール剤で封着して密閉した液晶
表示セルにおいて、前記シール剤が硬化して形成された
シール部の表面抵抗が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□の範囲にあ
ることを特徴としている。

【００１２】前記シール部は、導電性微粒子を含んでな
り、該導電性微粒子の平均粒子径が０.０１〜１μｍの
範囲にあり、シール部中の導電性微粒子の含有量が５〜
５０重量％の範囲にあることが好ましい。前記シール部
に、さらにシール用スペーサを含むことが好ましい。

【００１３】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係る液晶表示セル
につき、図面を参照して具体的に説明する。 [液晶表示セル]本発明に係る液晶表示セルは、少なくと
も一方の基板の表面には透明電極膜、透明電極保護膜お
よび配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板
が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間
隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に
あけられた間隙に液晶が封入され、透明電極周縁部の間
隙をシール剤で封着して密閉した液晶表示セルであり、
前記シール剤が硬化して形成されたシール部の表面抵抗
が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□（体積抵抗としては１０⁴〜１
０⁷Ω・ｃｍ）の範囲にある。

【００１４】このような本発明に係る液晶表示セルの周
縁部を概略的に表すと、図１に示される。図１は本発明
に係る液晶表示セルの周縁部を概略的に表す断面図であ
り、図１中、符号３は基板、符号４は電極、符号５はシ
ール剤、負号６は液晶を示し、基板３上に、薄膜状電極
４が形成された一対の基板３、３を対向して配置され、
基板３、３の内側周辺部にシール部５を介在させて、内
部に液晶６を封入してなるものである。

【００１５】図２は、本発明に係る液晶表示セルの周縁
部以外を模式的に表す断面図である。この液晶表示セル
１０は、ガラス基板１１の表面に透明電極膜１２、透明
電極保護膜１３および配向膜１４が順次積層されてなる
一対の透明電極付基板１７が、それぞれの透明電極膜１
２、１２同士が対向するように複数のスペーサ粒子１
５、１５・・により所定の間隔ｄを開けて配置され、こ
の所定間隔ｄに開けられた透明電極膜１２、１２間の隙
間に液晶１６が封入され、透明電極周縁部の間隙をシー
ル剤で封着して密閉して形成されたものである。

【００１６】なお、本発明に係る液晶表示セルでは、ガ
ラス基板１１と透明電極膜１２との間にさらにＳｉＯ₂
膜などのアルカリパッシベーション膜を形成した透明電
極付基板を用いてもよいなど、特許請求の範囲を逸脱し
ない範囲で様々な変形が可能である。またスペーサ粒子
は必ずしも使用する必要はなく、使用する場合、シリカ
粒子、ガラス繊維、樹脂粒子など公知のものを使用する
ことができる。

【００１７】本発明に係る液晶表示セルでは、少なくと
も一方の基板の表面にはカラーフィルター、透明絶縁性
保護被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてな
る一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が
対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対
の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入さ
れ、透明電極周縁部の間隙を前記した液晶表示セルと同
様にシール剤で封着して密閉した液晶表示セルであって
もよい（第１の液晶表示セルともいう）。

【００１８】図３は、本発明に係る第２の液晶表示セル
の１態様例を模式的に表す断面図である。この図３にそ
の特徴的部分が示されているカラー液晶表示装置２０
は、ガラス基板２１ａ上にアルカリパッシベーション膜
２１ｂ、複数の画素電極２１ｃ、透明絶縁性保護膜２１
ｄおよび配向膜２１ｅが順次積層された電極板２１と、
ガラス基板２２ａ上にアルカリパッシベーション膜２２
ｂ、カラーフィルター２２ｃ、透明絶縁性保護膜２２
ｄ、透明電極２２ｅおよび配向膜２２ｆが順次積層され
た対向電極板２２を有する液晶表示セル２'と、この液
晶表示セルの両側に一対の偏光板３’、４’とを備えて
いる。このうち、透明絶縁性保護膜２１ｄおよび２２ｄ
は、前記透明絶縁性保護膜形成用塗布液を塗布して形成
された膜である。

【００１９】前記液晶表示セル２の電極板２１と対向電
極板２２とは、それぞれのガラス基板２１ａおよび２２
ａを外側にして、複数の画素電極２１ｃのそれぞれと複
数のカラーフィルターＲ、Ｇ、Ｂのそれぞれとが対向す
るように配置されている。また、この電極２１と対向電
極板２２との間の間隙には液晶２３が封入されている。

【００２０】さらに複数の画素電極２１ｃのそれぞれと
透明電極２２ｅとの間には不図示の回路が形成され、こ
の回路はカラー液晶表示装置２０本体に接続されてい
る。また、対向電極板２２のアルカリパッシベーション
膜２２ｂ上に形成されたカラーフィルター２２ｃは、Ｒ
（レッドフィルター）、Ｇ（グリーンフィルター）、Ｂ
（ブルーフィルター）の複数のカラー要素からなり、各
カラー要素が互いに隣接するように規則正しく配列さ
れ、これにより液晶表示装置２０本体から送られてくる
表示信号により特定の画素電極２１ｃと透明電極２２ｅ
との間に形成された回路が作動し、表示信号に対応した
カラー画像が対向電極板２２の外側に配置された偏光板
４‘を通して観察できるようになっている。

【００２１】本発明に係る液晶表示セルでは、少なくと
も一方の基板の表面にＴＦＴアレイ、透明平坦化膜、透
明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明
電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよう
に所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付
基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されていてもよ
い（第３の液晶表示セルともいう）。

【００２２】図４は、本発明に係る第３の液晶表示セル
の１態様例を模式的に表す断面図である。この液晶表示
セル３０は、表面にＴＦＴアレイ３２が形成され、この
ＴＦＴアレイ３２表面に、透明平坦化膜３３、画素電極
３４および配向膜３５が順次積層された透明絶縁性基板
３１と、表面にブラックマトリクス（遮蔽膜）４２、カ
ラーフィルター４３、透明平坦化膜４４、対向電極４５
および配向膜４６が順次積層された対向基板４１とが、
液晶層５１とを挟んで配向膜３５および４６が対峙する
ように構成されている。

【００２３】なお、図２のように配向膜３５および４６
の間にはスペーサ粒子が介在していてもよい。ＴＦＴア
レイ３２は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、データ
電極、補助容量などとからなるものである。［透明電極保護膜、絶縁性保護被膜、平坦化膜］本発明
に用いる透明電極保護膜、絶縁性保護被膜、平坦化膜
（以下、これら３つの膜を、単に透明被膜ということが
ある）としては従来公知のものを用いることができ、た
とえば、ガラス、プラスチックなどの基材表面に各膜を
形成するための塗布液をディッピング法、スピナー法、
スプレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷などの方
法で塗布し、ついでこのようにして基材表面に形成され
た被膜を常温〜８０℃で乾燥し、必要に応じてさらに１
２０℃以上、場合によっては３００℃以上に加熱して硬
化するなどの方法によりにより形成される。

【００２４】このような透明電極保護膜、絶縁性保護被
膜、平坦化膜の形成方法としては特に制限されるもので
はないが、具体的には、下記透明被膜形成用塗布液（透
明電極保護膜形成用塗布液、絶縁性保護被膜形成用塗布
液、平坦化膜形成用塗布液は同一であり、以下、これを
透明被膜形成用塗布液という）用いることが好ましい。

【００２５】透明被膜形成用塗布液は、（Ａ）マトリッ
クス形成成分（前駆体）が水と有機溶媒とからなる混合
溶媒に分散されている。さらに、必要に応じて（Ｂ）イ
オン吸着体微粒子が含まれていてもよい。（Ａ）マトリックス形成成分透明被膜膜形成用塗布液に用いられる（Ａ）マトリック
ス形成成分（前駆体）は、アセチルアセトナトキレート
化合物、有機ケイ素化合物、ポリシラザンおよび金属ア
ルコキシドから選ばれる１種または２種以上の混合物か
らなるものが例示される。

【００２６】アセチルアセトナトキレート化合物前記アセチルアセトナトキレート化合物はアセチルアセ
トンを配位子とするキレート化合物で、下記化学式
（１）で表される化合物またはその縮合体である。

【００２７】

【化１】

【００２８】〔ただし、式中、ａ＋ｂは２〜４であり、
ａは０〜３であり、ｂは１〜４であり、Ｒは−Ｃ_nＨ
_2n+1（ｎ＝３または４）であり、Ｘは−ＣＨ₃、−ＯＣ
Ｈ₃、−Ｃ₂Ｈ₅または−ＯＣ₂Ｈ₅である。Ｍ1は周期率表
第ＩＢ族、第IIＡ、Ｂ族、第III Ａ、Ｂ族、第IVＡ、Ｂ
族、第ＶＡ、Ｂ族、第VIＡ族、第VII Ａ族、第VIII族か
ら選ばれる元素またはバナジル（ＶＯ）である。この
内、これらの元素などとａ、ｂの好ましい組み合わせ
は、次表の通りである。〕

【００２９】

【表１】

【００３０】このような化合物の具体例としては、たと
えばジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウ
ム、トリブトキシ−モノアセチルアセトナトジルコニウ
ム、ビスアセチルアセトナト鉛、トリスアセチルアセト
ナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウ
ム、モノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウム
などが挙げられる。

【００３１】有機ケイ素化合物また、有機ケイ素化合物としては、一般式Ｒ_a−Ｓi(ＯＲ')_4-a （２）（ただし、式中、Ｒは−Ｃ_nＨ_2n+1であり、Ｒ’は−Ｃ_n
Ｈ_2n+1または−Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ_nＨ_2n+1であり、ａは０ない
し３の整数であり、ｎは１ないし４の整数である。）で
示される有機ケイ素化合物が用いられる。

【００３２】このような有機ケイ素化合物としては、具
体的には、たとえばテトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、モノメチルトリメトキシシラン、モノエチ
ルトリエトキシシラン、モノエチルトリメトキシシラ
ン、モノメチルトリエトキシシランなどが好ましく用い
られる。これらの有機ケイ素化合物は、そのままの状態
でも、あるいは部分加水分解して用いてもよい。このよ
うな部分加水分解は、従来から行われている通常の方
法、たとえばメタノールまたはエタノールなどのアルコ
ールに有機ケイ素化合物を混合し、水と酸とを加えて部
分加水分解する方法に従って得ることができる。

【００３３】上記有機ケイ素化合物が添加された透明被
膜形成用塗布液を基材上に塗布し、得られた被膜を乾燥
・焼成すると、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水
性および絶縁性に優れた被膜が形成される。ポリシラザン前記ポリシラザンとしては下記式（３）で表される繰り
返し単位を有するポリシラザンが用いられる。

【００３４】

【化２】

【００３５】〔ただし、式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、
それぞれ水素原子または炭素原子数１〜８のアルキル基
である。〕有機ケイ素化合物として前記式（３）で表されるポリシ
ラザンを用いる場合、アルキル基がメチル基、エチル
基、またはプロピル基であるポリシラザンが好ましい。
この場合には、加熱時に分解するアルキル基がなく、加
熱時に膜の収縮が少なく、このため収縮ストレス時にク
ラックが生じることが少なくなり、クラックのほとんど
ない透明被膜が得られる。

【００３６】また、上記式（３）で表される繰り返し単
位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状で
あってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシラ
ザンとが混合して含まれていてもよい。さらに、このよ
うなポリシラザンの数平均分子量は、５００〜１０，０
００、好ましくは１，０００〜４，０００の範囲にある
ことが望ましい。数平均分子量が５００未満では、加熱
硬化時に低分子量のポリシラザンが揮発し、得られた透
明イオンゲッター膜が多孔質になりやすく、また、分子
量が１０，０００を越えると、塗布液の流動性が低下す
る傾向がある。

【００３７】金属アルコキシドまた、金属アルコキシドとしては、Ｍ²(ＯＲ)_n（式中、
Ｍ²は金属原子であり、Ｒはアルキル基または−Ｃ_mＨ_2m
Ｏ₂ （ｍ＝３〜１０）であり、ｎはＭ²の原子価と同じ
整数である。）で表される化合物またはそれらの縮合体
が好ましく、これらの化合物またはその縮合体から選ば
れる１種または２種以上を組み合わせて用いることがで
きる。上記式中のＭ²は、金属であれば特に限定される
ことはないが、好ましいＭ²は、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｔ
ｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ，Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、
Ｓｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｈ
ｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ、ＣｅまたはＣｕである。

【００３８】このような金属アルコキシドとしては、具
体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソプロポ
キシ−ジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛など
が好ましく用いられる。上記金属アルコキシドを添加し
た透明被膜形成用塗布液を塗布・乾燥・焼成すると、こ
の金属アルコキシドの重合硬化により、耐擦傷性、耐酸
性、耐アルカリ性、耐水性および絶縁性に優れた被膜が
形成される。

【００３９】（Ｂ）イオン吸着性微粒子透明被膜形成用塗布液に用いることのできる（Ｂ）イオ
ン吸着性微粒子は、液晶中、配向膜中、シール剤中に存
在するあるいはこれらから溶出する無機カチオン、無機
アニオン、有機カチオン、有機アニオンを吸着しうる微
粒子であって、平均粒子径が１ｎｍ〜１０μｍの範囲に
あることが好ましく、また、イオン吸着容量は０.１〜
６.０ｍｍｏｌ／ｇの範囲にあることが好ましい。

【００４０】無機カチオンとしては、たとえば、Ｎa⁺、
Ｋ⁺、Ｒb⁺、Ｃs⁺、Ｌi⁺、Ａg⁺、Ｍg ⁺、Ｃa⁺⁺、Ｓr⁺⁺、
Ｂa⁺⁺、ＮＨ₄ ⁺などが挙げられる。無機アニオンとして
は、たとえば、Ｆ^-、Ｃl^-、Ｂr^-、ＮＯ^3-、ＳＯ₄ ^2-、Ｐ
Ｏ ₄ ^2-、ＣＯ^3-、ＨＣＯ^3-などが挙げられる。有機カチ
オンとしては、たとえば、テトラエチルアンモニウムイ
オン、テトラプロピルアンモニウムイオンなどの４級ア
ンモニウムイオンなどが挙げられる。

【００４１】有機アニオンとしては、たとえば、蟻酸イ
オン、酢酸イオンなどのカルボン酸イオン、石炭酸イオ
ンなどが挙げられる。特に、イオン吸着性微粒子が前記
第１の液晶表示セルの透明電極保護膜に用いられる場
合、平均粒子径が５０ｎｍ以下、好ましくは１０〜４０
ｎｍのイオン吸着性微粒子を含む塗布液を用いて電極膜
と配向膜の間に形成された、膜厚が３０ｎｍ〜２μｍの
透明電極保護膜は、透明電極保護膜表面が１〜１０ｎｍ
の均一な表面荒さを有するので疎水性の配向膜との密着
性に優れている。

【００４２】前記イオン吸着容量が前記範囲内にあれ
ば、イオンを充分吸着することができるので、可動イオ
ンによる表示不良を起きることがなく、長期信頼性にも
優れていた液晶表示セルを得ることができる。このよう
な無機イオン吸着体微粒子の粒子径はレーザードップラ
ー法またはＴＥＭ観察によって求めることができる。

【００４３】前記イオン吸着性微粒子は、前記した無
機、有機イオンを吸着することができる上に、イオン吸
着容量および平均粒子径が前記範囲にあり、なかでもイ
オン吸着性無機微粒子を用いる場合は、これをＭＯ_X・
ｎＨ₂Ｏで表し、付着水以外の結晶水、構造水酸基、表
面水酸基のいずれかを金属酸化物（ＭＯ_x）１モル当た
り水（Ｈ₂Ｏ）のモル数ｎが０.０２〜５の範囲で有して
いる金属酸化物であって、下記式（１）で表される公知
の有機ケイ素化合物または有機ケイ素化合物の加水分解
物で処理されたものが好ましい。

【００４４】一般式Ｒ_a−Ｓｉ(ＯＲ’)_4-a 式（１）（ただし、式中、Ｒは−Ｃ_nＨ_2n+1であり、Ｒ’は−Ｃ_n
Ｈ_2n+1または−Ｃ₂Ｈ₄Ｏ−Ｃ_nＨ_2n+1であり、ａは０な
いし３の整数であり、ｎは１ないし４の整数である。
このようなイオン吸着性微粒子を構成する金属酸化物と
しては、ＳiＯ₂、Ａl₂Ｏ₃、ＺrＯ₂、ＴiＯ₂、ＳnＯ₂、
Ｉn₂Ｏ₃、Ｓb₂Ｏ₅、ＭgＯ、ＺnＯ等の金属酸化物、Ｓi
Ｏ₂・Ａl₂Ｏ₃、ＳiＯ₂・ＴiＯ₂、ＳiＯ₂・Ｓb₂Ｏ₅、Ｉn
₂Ｏ₃・ＳnＯ ₂、Ｓb₂Ｏ₅・ＳnＯ₂、ＳnＯ₂・Ｉn₂Ｏ₃・Ｓ
b₂Ｏ₅等の複合金属酸化物あるいは固溶体、ゼオライト
（結晶性アルミノシリケート）等が挙げられる。さら
に、これらの２種以上の混合物も好ましく用いられる。

【００４５】このうち、ＳiＯ₂・Ａl₂Ｏ₃、ＳiＯ₂・Ｔi
Ｏ₂などの複合酸化物はカチオンを吸着し、Ａl₂Ｏ₃、Ｓ
nＯ₂、ＺrＯ₂などはカチオンとアニオンの双方を吸着す
ることができ、また、ＭgＯ、ＺnＯなどはアニオンを吸
着するものとして使用される。このようなイオン吸着性
無機微粒子が前記式（１）で表される有機ケイ素化合物
または有機ケイ素化合物の部分加水分解物で処理されて
いると、イオン吸着性無機微粒子の表面が疎水性を有す
るようになるため、透明被膜形成用塗布液、配向膜形成
用樹脂塗料中で凝集することなく単分散状態で均一に分
散し、得られる透明被膜膜は透明電極膜との密着性に優
れるとともに表面の平滑性が向上し、また得られる配向
膜は透明被膜との密着性に優れるとともに表面が平滑と
なり、いずれもパネル中の可動イオンを効率的に吸着す
ることができる。

【００４６】塗布液組成このような透明被膜を形成する際には、透明被膜形成用
塗布液が使用される。塗布液は、（ａ）アセチルアセト
ナトキレート化合物、（ｂ）有機ケイ素化合物、（ｃ）
ポリシラザン、（ｄ）金属アルコキシドから選ばれる１
種または２種以上の混合物または化合物からなる（Ａ）
マトリックス形成成分（前駆体）と（Ｂ）イオン吸着性
微粒子とが水と有機溶媒とからなる混合溶媒に均一に溶
解または分散されており、具体的には、それぞれの成分
を酸化物、窒化物に換算した時の重量比で下記のような
組成を有している。

【００４７】（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物
を（Ｍ¹Ｏ_X）で表し、（ｂ）有機ケイ素化合物を（Ｓi
Ｏ₂）で表し、（ｃ）ポリシラザンを（ＳiＮ）で表し、
（ｄ）金属アルコキシドを（Ｍ²Ｏ_X）で表した時、０．００１≦Ｍ¹Ｏ_X／（ＳｉＯ₂＋ＳiＮ＋Ｍ²Ｏ_X）≦１
０の量で用いられていることが好ましい。

【００４８】この値が前記範囲内にあれば、耐アルカリ
性、耐酸性、耐塩水性、耐水性、耐溶剤性、密着性およ
び透明性に優れた被膜を得ることができる。また、有機
ケイ素化合物およびポリシラザンと金属アルコキシドと
の配合割合は、０.００１≦Ｍ²Ｏ_X／(ＳｉＯ₂＋ＳiＮ＋
Ｍ²Ｏ_X)≦１.０であることが好ましい。

【００４９】塗布液中の（Ｂ）イオン吸着性微粒子は、
これを酸化物に換算して、形成した透明被膜中に１〜９
０重量％、さらには５〜７０重量％の範囲となるような
量で存在していることが好ましい。イオン吸着性微粒子
が１重量％〜９０重量％の範囲となるような量で存在し
ていると、この塗布液から得られた透明被膜の表面に、
さらにポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる
別の被膜が密着性よく形成できるとともに、液晶パネル
中のイオンを効果的に低減できる透明被膜を形成でき
る。

【００５０】さらに、必要に応じてこれらのイオン吸着
性微粒子以外の絶縁性または導電性の無機化合物微粒子
を必要量用いることができる。この場合も、塗布液に
は、イオン吸着性微粒子とイオン吸着性微粒子以外の微
粒子は、形成した透明被膜中に酸化物、窒化物の合計と
して１〜９０重量％、さらには５〜７０重量％の範囲と
なるような量で存在していることが好ましい。

【００５１】上記塗布液中の固形分濃度は、イオン吸着
性微粒子とマトリックス形成成分（前駆体）を酸化物、
窒化物に換算した合計値で、１５重量％以下であること
が好ましい。この値が１５重量％を越えると、塗布液の
保存性が低下する傾向が生じ、一方、この固形分濃度が
極端に低いと、目的の膜厚を得るのに多数回の塗布操作
を繰り返すことが必要となるので、固形分濃度は０．１
重量％以上が実用的である。

【００５２】このような塗布液には、水と有機溶媒が用
いられるが、有機溶媒としては、アルコール類、エーテ
ル類、ケトン類などから選ばれる通常の有機溶媒が用い
られる。これらの有機溶媒は単独でもしくは２種以上を
混合して用いてもよい。本発明に用いる透明被膜形成用
塗布液中の水分濃度は、０．１〜５０重量％の範囲であ
ることが好ましい。この値が０．１重量％未満である
と、アセチルアセトナトキレート化合物、有機ケイ素化
合物、ポリシラザンおよび金属アルコキシドの加水分解
（および縮重合、複合化）が充分になされず、得られる
被膜の耐擦傷性、耐久性が低下する傾向が生じる、ま
た、この値が５０重量％を越えると、塗布の際、塗布液
が基材からはじかれる傾向が生じる。

【００５３】また、アセチルアセトナトキレート化合物
の金属種または無機イオン吸着性微粒子の種類またはこ
れらの混合割合によって、得られる被膜の屈折率および
誘電率が自由にコントロールされる。有機ケイ素化合
物、ポリシラザン、金属アルコキシドを添加して含む塗
布液によって形成した被膜は、これらの化合物の種類と
添加量によって、より一層自由に被膜の屈折率および誘
電率がコントロールされる。このようにして屈折率をコ
ントロールして透明電極付基板の透明電極上に透明イオ
ンゲッター膜を形成することにより、たとえばこの上に
形成される配向膜の屈折率（１．６〜１．８）より高く
して電極などが透けて見えるのを防止することができ
る。

【００５４】［配向膜］本発明の液晶表示セルには従来
公知の樹脂からなる配向膜を用いることができる。樹脂
としては、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルアルコール樹脂、ポリビニルシンナメート樹脂などが
挙げられる。このような配向膜には、必要に応じてさら
に前記（Ｂ）イオン吸着性微粒子が含まれていてもよ
い。

【００５５】配向膜の組成必要に応じて用いる配向膜中のイオン吸着性微粒子の含
有量は１〜９０重量％、さらには５〜７０重量％の範囲
にあることが好ましい。配向膜中のイオン吸着性微粒子
の含有量が１重量％未満の場合は、液晶パネル中のイオ
ンを効果的に低減できないことがあり、配向膜中のイオ
ン吸着性微粒子の含有量が９０重量％を越えると、配向
膜の強度が低下したり、液晶配向規制力が低下して表示
性能が低下することがある。

【００５６】配向膜の形成このような配向膜の形成は、配向膜形成用樹脂塗料をフ
レキソ印刷法、ディッピング法、スピンコート法、スプ
レー法、ロールコーター法等により塗布し、乾燥し、つ
いで加熱処理する従来公知の方法によって形成すること
ができる。このとき使用する配向膜形成用樹脂塗料とし
ては、前記したポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミ
ック酸等を、必用に応じて溶剤で溶解して用いることが
できる。溶剤としては、Ｎ-メチル-２-ピロリドン、Ｎ-
メチルカプロラクタム、Ｎ-メチルプロピオンアミド、
Ｎ-ジメチルアセトアミド、Ｎ-ジメチルホルムアミドな
どが挙げられる。

【００５７】塗料中の樹脂とイオン吸着性微粒子との合
計固形分濃度は、塗布法や樹脂の獣類によっても異なる
が概ね１〜５０重量％の範囲である。塗料中の樹脂とイ
オン吸着性微粒子との合計固形分濃度が１重量％未満の
場合は、得られる配向膜の膜厚が薄くなることがあり、
５０重量％を越えるとイオン吸着性微粒子の分散性が低
下することがあり、得られる配向膜の強度が低下した
り、配向膜表面の平滑性が損なわれ、液晶配向規制力が
低下して表示性能が低下することがある。

【００５８】このような塗料を、上記方法により、前記
した透明被膜あるいは透明電極膜上に塗布し、ついで乾
燥し、加熱処理する。乾燥条件としては、前記した溶剤
が蒸発できればよく、通常５０〜１５０℃の範囲であ
る。また、加熱処理温度は樹脂の脱水・閉環反応が充分
起きればとくに制限はなく、樹脂の種類によっても異な
るが、通常１５０〜３００℃の範囲である。

【００５９】［シール部］本発明の液晶表示セルで形成
されたシール部は、シール用樹脂と導電性微粒子とから
なっている。前記シール部の表面抵抗が１０¹⁰〜１０¹³
Ω／□、さらには１０¹¹〜１０¹²Ω／□、シール部の体
積抵抗としては概ね１０⁴〜１０⁷Ω・ｃｍ、さらには１
０⁵〜１０⁶Ω・ｃｍ）の範囲にあることが好ましい。

【００６０】シール部の表面抵抗が１０¹⁰Ω／□未満の
場合は、ＩＴＯなどによる配線が高精細な場合にＩＴＯ
端子間で横導通が発生することがある。シール部の表面
抵抗が１０¹³Ω／□を越えると、帯電防止効果が充分得
られず表示斑が発生することがある。導電性微粒子導電性微粒子としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化
アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、低次酸化チタン、
これらに異種元素がドーピングされた酸化錫、酸化イン
ジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、低次酸化チタン、
およびこれらの混合物などの酸化物系導電性微粒子が挙
げられる。ドープする異種元素としては、たとえば、酸
化錫に対しては、Ｓb、Ｐ、Ｚn、Ｔe、Ｆ、Ｂi等があ
り、酸化インジウムに対してはＳnが、酸化亜鉛に対し
てはＡlが、酸化チタンに対してはＴaがそれぞれ主とし
て用いられる。

【００６１】このような酸化物系の導電性微粒子は、平
均粒子径が０.０１〜１μｍ、さらには０.０１〜０.１
μｍの範囲にあることが好ましい。またシール部中の導
電性微粒子の含有量が５〜５０重量％、さらには１０〜
３０重量％の範囲にあることが好ましい。酸化物系導電
性微粒子の平均粒子径が０.０１μｍ未満の場合は、導
電性を有するこのような微細な粒子を得ることが困難で
あり、得られたとしても単分散しにくく凝集する傾向が
あり、前記したようにＩＴＯ端子間で横導通が発生する
ことがある。

【００６２】また、酸化物系導電性微粒子の平均粒子径
が１μｍを越えると、粒子が大きいために、ＩＴＯ端子
間での横導通や、ＩＴＯ配線間での上下導通（短絡）が
発生することがある。また、シール部中の酸化物系導電
性微粒子の含有量が５重量％未満の場合は、酸化物系導
電性微粒子の種類にもよるがシール部の表面抵抗が１０
¹³Ω／□を越えることがあり、帯電防止効果が充分得ら
れず表示斑が発生することがある。

【００６３】シール部中の酸化物系導電性微粒子の含有
量が５０重量％を越えると、シール部の表面抵抗が１０
¹⁰Ω／□未満となることがあり、前記ＩＴＯ端子間で横
導通やＩＴＯ配線間での上下導通（短絡）が発生するこ
とがある。また、必要に応じて、導電性微粒子として金
属微粒子を用いることもできる。金属微粒子を用いる場
合は、分散性等の点から金属コロイド粒子が好ましい。
このような金属コロイド粒子としては従来公知の金属コ
ロイド粒子を用いることができ、たとえば、Ａu、Ａg、
Ｐd、Ｐt、Ｒh、Ｒu、Ｃu、Ｆe、Ｎi、Ｃo、Ｓn、Ｔi、
Ｉn、Ａl、Ｔa、Ｓbなどの金属から選ばれる金属微粒子
コロイド粒子が挙げられる。

【００６４】また、Ａu、Ａg、Ｐd、Ｐt、Ｒh、Ｒu、Ｃ
u、Ｆe、Ｎi、Ｃo、Ｓn、Ｔi、Ｉn、Ａl、Ｔa、Ｓbなど
の金属から選ばれる少なくとも２種以上の金属からなる
複合金属コロイド微粒子が挙げられる。好ましい２種以
上の金属の組合せとしては、Ａu-Ｃu、Ａg-Ｐt、Ａg-Ｐ
d、Ａu-Ｐd、Ａu-Ｒh、Ｐt-Ｐd、Ｐt-Ｒh、Ｆe-Ｎi、Ｎ
i-Ｐd、Ｆe-Ｃo、Ｃu-Ｃo、Ｒu-Ａg、Ａu-Ｃu-Ａg、Ａg
-Ｃu-Ｐt、Ａg-Ｃu-Ｐd、Ａg-Ａu-Ｐd、Ａu-Ｒh-Ｐd、
Ａg-Ｐt-Ｐd、Ａg-Ｐt-Ｒh、Ｆe-Ｎi-Ｐd、Ｆe-Ｃo-Ｐ
d、Ｃu-Ｃo-Ｐd などが挙げられる。

【００６５】導電性微粒子が金属微粒子である場合、シ
ール部中の金属微粒子の含有量は、シール部の表面抵抗
が前記範囲にあれば特に制限はないが概ね３〜３０重量
％、さらには５〜２０重量％の範囲にあることが好まし
い。また、この場合金属微粒子の平均粒子径は１〜２０
０ｎｍ、さらには２〜７０ｎｍの範囲にあることが好ま
しい。

【００６６】平均粒子径が２００ｎｍを越えると、硬化
前のシール剤中で金属微粒子が偏在することがあり、前
記横導通や上下短絡の原因となることがある。平均粒径
が１ｎｍ未満の場合には、凝集する傾向があり、前記し
たようなＩＴＯ端子間の横導通の原因となることがあ
る。前記樹脂としては、たとえばエポキシアクリレート
などのエポキシ樹脂、ポリエーテル変性ウレタンアクリ
レート樹脂、ポリエステル変性ウレタンアクリレート樹
脂等の樹脂が用いられる。

【００６７】さらに、必要に応じて前記（Ｂ）イオン吸
着性無機微粒子のうち絶縁性のイオン吸着性無機微粒子
を用いてもよい。絶縁性のイオン吸着性無機微粒子とし
ては、ＳiＯ₂、Ａl₂Ｏ₃、ＺrＯ₂、ＴiＯ₂、ＳnＯ₂、Ｍg
Ｏ、ＺnＯ等の金属酸化物、ＳiＯ₂・Ａl₂Ｏ₃、ＳiＯ₂・
ＴiＯ₂、ＳiＯ₂・Ｓb₂Ｏ₅等の複合金属酸化物あるいは
固溶体、ゼオライト（結晶性アルミノシリケート）等が
挙げられる。さらに、これらの２種以上の混合物も好ま
しく用いられる。絶縁性のイオン吸着性無機微粒子のシ
ール部中の含有量は、前記導電性微粒子との合計量が１
〜９０重量％、さらには５〜７０重量％の範囲にあるこ
とが好ましい。このような絶縁性のイオン吸着性無機微
粒子を含んであると、シール剤中の不純物イオンやパネ
ル中の可動イオンを効率的に吸着することができる。

【００６８】前記シール部には、さらに液晶セルの電極
間距離およびセルギャップ、すなわち液晶セルの電極間
に形成された液晶層の厚さを均一に保持するため、シー
ル用スペーサを含んでいてもよい。シール用スペーサ粒
子としては、電極基板間距離を一定に保持することがで
きれば特に制限はなく従来公知のスペーサ粒子を用いる
ことができる。平均粒子径が概ね１〜２０μｍの範囲に
あり、粒子径の均一なシリカ粒子は好適に用いることが
できる。さらに適度に弾性を有するシリカ粒子、樹脂分
散性に優れたシリカ粒子も好適に用いることができる。

【００６９】このようなシール用スペーサ粒子を含んで
いると電極基板間距離を一定に保持することができ、た
とえば液晶セル内部の厚さが不均一になることによる色
ムラや点灯時のコントラストの低下を抑制することがで
きる。シール用スペーサとしては、真球状のシリカ粒
子、ポリオルガノシロキサン粒子等が好適に使用され
る。特に、本願出願人による特開２０００−２０４１６
８号公報に開示したポリオルガノシロキサン粒子がシー
ル用樹脂に均一に分散させることができるので好まし
い。

【００７０】このようなシール部は、以下に示すシール
剤を用いて形成される。シール剤本発明に用いるシール剤は、未硬化のシール用樹脂と導
電性微粒子とからなっている。シール用樹脂としては、
たとえばエポキシアクリレートなどのエポキシ樹脂、ポ
リエーテル変性ウレタンアクリレート樹脂、ポリエステ
ル変性ウレタンアクリレート樹脂等の樹脂が用いられ
る。また導電性微粒子としては前記したと同様の導電性
微粒子を用いることができる。

【００７１】シール剤中の導電性微粒子は、酸化物系の
導電性微粒子の場合５〜５０重量％、さらには１０〜３
０重量％の範囲にあることが好ましい。金属微粒子の場
合は５〜３０重量％、さらには１０〜２０重量％の範囲
にあることが好ましい。さらに、必要に応じて前記
（Ｂ）イオン吸着性無機微粒子のうち絶縁性のイオン吸
着性無機微粒子を用いてもよい。絶縁性のイオン吸着性
無機微粒子のシール剤中の含有量は、前記導電性微粒子
との合計量が１〜９０重量％、さらには５〜７０重量％
の範囲にあることが好ましい。

【００７２】このような酸化物系の導電性微粒子、絶縁
性イオン吸着性無機微粒子が前記式（１）で表される有
機ケイ素化合物または有機ケイ素化合物の部分加水分解
物で処理されていると、導電性微粒子、イオン吸着性無
機微粒子の表面が疎水性を有するようになるため、シー
ル剤用樹脂接着剤中で凝集することなく単分散状態で均
一に分散し、このため得られるシール部は基材との密着
性や密閉性を低下させることがなく、特に導電性微粒子
が連続して繋がることなどがないので基板間を導通させ
ることがなく、絶縁性を保持したまま有効に帯電防止効
果を発現することができる。

【００７３】このようなシール剤には、前記したような
シール用スペーサが含まれていてもよい。液晶表示セル
をこのようなシール剤でシールする際には、未硬化のシ
ール用樹脂に前記導電性微粒子と、必要に応じてイオン
吸着性微粒子、シール用スペーサと溶媒とからなるシー
ル剤が使用される。溶媒としては、シール用樹脂が溶解
しうるものであれば特に制限はなく、たとえばメチルカ
ルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル
などが使用される。

【００７４】本発明に係る液晶表示セルでは、周縁部を
シール剤でシールする際には、まず、ガラス基板上に透
明電極、配向膜が形成された１方の透明電極付基板の配
向膜の周縁に、液晶の封入口を残してシール剤をスクリ
ーン印刷機で印刷する。ついでシール剤が印刷されてな
い部分に必用に応じて常法によりスペーサ（この場合、
通常面内用スペーサという）を散布し、乾燥した後、ガ
ラス基板上に透明電極、配向膜が形成された別の透明電
極付基板とを貼り合わせ、適度な加圧下（３Ｋｇ／ｃｍ
²程度）、約１００〜２００℃の温度範囲で加熱して樹
脂を硬化させ透明電極周縁部の間隙をシール剤で封着し
て、ついで真空下にセルを置き、封入口より液晶を封入
したのち、封止剤で封止して、液晶表示セルを得ること
ができる。

【００７５】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係る液
晶表示セルは、シール部に導電性微粒子が単分散状態で
含まれており、シール部が特定範囲の表面抵抗（または
体積抵抗）を有しているので電極が導通することなく絶
縁性を有し、通常の静電気の帯電原因が発生しても帯電
することがなく、このため表示斑ができず表示性能に優
れている。

【００７６】また、シール部に導電性微粒子が単分散状
態で含まれているので、液晶表示装置の製造時に特別の
静電気除去装置を必要としない。

【００７７】

【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。

【００７８】

【調製例】[導電性微粒子の調製]導電性微粒子の分散液の調製導電性微粒子として錫ドープ酸化インジウム微粒子水分
散ゾル（触媒化成工業（株）製：ＩＴＯ、平均粒径４０
ｎｍ、固形分濃度２０.５重量％)５００ｇを使用し、限
外ろ過装置で水をメタノールで溶媒置換し、固形分濃度
３０重量％のメタノール分散ゾルを得た。

【００７９】このゾル３００ｇとエタノール２７００ｇ
を混合した後、この混合液にγ-グリシドプロピルトリ
メトキシシラン８.４ｇを添加し、１時間攪拌して、シ
リカ・アルミナ粒子の表面がγ-グリシドプロピルトリ
メトキシシランで修飾されたゾルを得た。つぎに得られ
たゾルにエチレングリコール１９６ｇを添加したのち、
６０℃で１時間過熱した。その後ロータリーエバポレー
ターにより減圧下で脱エタノールし、エチレグリコール
を分散媒とする固形分濃度３０重量％の表面処理導電性
微粒子の分散液を得た。

【００８０】導電性微粒子の分散液の調製導電性微粒子としてアンチモンドープ酸化錫微粒子水分
散ゾル（触媒化成工業（株）製：ＡＴＯ、平均粒径５０
ｎｍ、固形分濃度１０重量％)１０００ｇを使用した以
外は表面処理導電性微粒子の分散液と同様にして固形
分濃度３０重量％の表面処理導電性微粒子の分散液を
得た。

【００８１】導電性微粒子の分散液の調製メタノール・水混合溶媒（メタノール４０重量部／６０
重量部）に、あらかじめポリビニルピロリドンを複合金
属１重量部当たり０.０１重量部となるように加え、分
散液中の複合金属微粒子の濃度が金属換算で２重量％で
あり、銀とパラジウムの重量比が７：３となるように、
硝酸銀と硝酸パラジウムを添加し、ついで還流器付フラ
スコで９０℃、窒素雰囲気下５時間加熱して、導電性微
粒子の分散液を得た。

【００８２】５時間加熱した後、還流を止め、加熱しな
がらメタノールを除去し、ヘキシレングリコールを分散
媒とする濃度１５重量％の導電性微粒子の分散液を調
製した。導電性微粒子の分散液の調製導電性微粒子として五酸化アンチモン微粒子水分散液
（平均粒径２０ｎｍ、固形分濃度２０重量％)を用い、
これをロータリーエバポレーターにてエチレングリコー
ルにて溶媒置換し、固形分濃度３０重量％の導電性微粒
子の分散液を得た。

【００８３】[イオン吸着性微粒子の調製]イオン吸着性微粒子の分散液の調製イオン吸着性微粒子としてシリカ・アルミナ水分散ゾル
（SiO₂/Al₂O₃重量比=２８５.７、平均粒径１２ｎｍ、固
形分濃度２０重量％)５００ｇを使用し、限外ろ過装置
で水をメタノールで溶媒置換し、固形分濃度３０重量％
のメタノール分散ゾルを得た。

【００８４】このゾル３００ｇとエタノール２７００ｇ
を混合した後、この混合液にγ-グリシドプロピルトリ
メトキシシラン８.４ｇを添加し、１時間攪拌して、シ
リカ・アルミナ粒子の表面がγ-グリシドプロピルトリ
メトキシシランで修飾されたゾルを得た。つぎに得られ
たゾルにエチレングリコール１９６ｇを添加したのち、
６０℃で１時間過熱した。その後ロータリーエバポレー
ターにより減圧下で脱エタノールし、エチレグリコール
を分散媒とする固形分濃度３０重量％の表面処理イオン
吸着性微粒子の分散液を得た。

【００８５】[透明被膜形成用塗布液の調製]透明被膜形成用塗布液の調製マトリックス形成成分としてエチルシリケート２８（多
摩化学工業社製：ＳiＯ₂濃度：２８.８重量％）１４.６
ｇを、純水５ｇおよびエチルアルコール６２.３ｇとの
混合溶媒に添加し、これに濃度６１％の硝酸０.１ｇを
加えてエチルシリケートの部分加水分解物分散液を調製
した。

【００８６】この分散液に両イオン交換樹脂(ダイヤイ
オン)５ｇを添加し、１６時間室温で攪拌した後、イオ
ン交換樹脂を濾別してイオン除去したエチルシリケート
の部分加水分解物分散液とした。この分散液に、ヘキシ
レングリコール１８ｇを加えて２４時間攪拌し、つい
で、ヘキシレングリコール７０ｇ加えた後、減圧蒸留を
行い、固形分濃度６.０重量％の塗布液を調製した。

【００８７】[配向膜形成用塗料の調製]配向膜形成用塗料の調製ポリイミド膜形成用塗料(日産化学（株）製：サンエバ
ー)１００ｇに、表面処理イオン吸着性粒子の分散液
をＮ-メチル-２-ピロリドンで固形分濃度が６重量％と
なるように希釈した分散液３０ｇを添加し、均一になる
まで混合して配向膜形成用塗料を調製した。

【００８８】[シール剤の調製]シール剤の調製シール用接着剤（三井化学（株）製：ストラクトボンド
XN-5A-C）１００ｇに導電性微粒子の分散液５０ｇを
添加して均一になるまで撹拌した。ついで、これに平均
粒子径６.０μｍのスペーサ材シリカ粒子を２.４ｇ添加
し、均一になるまで攪拌してシール剤を調製した。

【００８９】シール剤の調製導電性微粒子の分散液を用いた以外はシール剤と同
様にしてシール剤を調製した。シール剤の調製導電性微粒子の分散液を用いた以外はシール剤と同
様にしてシール剤を調製した。

【００９０】シール剤の調製導電性微粒子の分散液を用いた以外はシール剤と同
様にしてシール剤を調製した。シール剤の調製導電性微粒子の分散液５０ｇの代わりに導電性微粒子
の分散液２５ｇとイオン吸着性微粒子の分散液２５ｇ
とを用いた以外はシール剤と同様にしてシール剤を
調製した。

【００９１】シール剤の調製シール用接着剤（三井化学（株）製：ストラクトボンド
XN-5A-C）１００ｇに導電性微粒子の分散液２５ｇを
添加して均一になるまで撹拌した。ついで、これに平均
粒子径６.０μｍのスペーサ材シリカ粒子を２.４ｇ添加
し、均一になるまで攪拌してシール剤を調製した。

【００９２】シール剤の調製（導電性微粒子含まず）シール用接着剤（三井化学（株）製：ストラクトボンド
XN-5A-C）１００ｇに平均粒子径６.０μｍのスペーサ材
シリカ粒子を２.４ｇ添加し、均一になるまで攪拌して
シール剤を調製した。シール剤の調製（導電性微粒子含まず）シール用接着剤（三井化学（株）製：ストラクトボンド
XN-5A-C）１００ｇにイオン吸着性微粒子の分散液２０
ｇを添加して均一になるまで撹拌した。ついで、これに
平均粒子径６.０μｍのスペーサ材シリカ粒子を２.４ｇ
添加し、均一になるまで攪拌してシール剤を調製し
た。

【００９３】

【実施例１】液晶表示セル（Ａ）の作成パターニングされたＩＴＯ表示電極つきガラス基板（旭
硝子（株）製：３０Ω／□以下品）上にフレキソ印刷に
て透明被膜形成用塗布液を塗布し、得られた塗膜を９０
℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀ランプで積算光量
６,０００ｍJ/cm２（３６５nm用センサにて測定）の条
件で紫外線を照射し、ついで３００℃で３０分間焼成を
行ない、透明被膜を形成した。得られた透明被膜の膜厚
を触針式表面粗さ計で測定したところ７０ｎｍであっ
た。

【００９４】つぎに、透明被膜上にポリイミド膜形成用
塗料（日産化学（株）製：サンエバー）をフレキソ印刷
で塗布し、１００℃で５分間乾燥した後、２４０℃で３
０分間加熱処理して厚さ６０ｎｍのポリイミド膜を形成
し、ついでラビング処理を行った。このようにして、硝
子基板上に透明電極、透明被膜およびラビング処理した
配向膜が順次積層した一対の透明電極付き基板を得た。
得られた一対の透明電極付き基板のうち一方の基板には
平均粒子径が５.６μｍのスペーサを散布し、もう一方
の基板にはシール部にシール剤を印刷し、これらの基
板を透明電極同士が互いに対向するように貼り合わせ、
ＳＴＮ液晶を封入し、ついで封入口を封止材で封止して
本発明の第１の液晶表示セル（Ａ）を作成した。

【００９５】得られた液晶表示セル（Ａ）について、表
面抵抗、表示斑（１）、表示斑（２）、長期信頼性、導
通性を評価し、結果を表２に示した。シール部の表面抵抗の測定無地のガラス基板上にシール剤を１０cm×１０cm角に
スクリーン印刷し、１６０℃で３時間加熱硬化して表面
抵抗測定用シール部膜を調製した。得られた膜について
高抵抗計（三菱化学（株）製：ハイレスター）を用いて
表面抵抗を測定した。

【００９６】静電気帯電による表示斑（１）の観察液晶表示セル（Ａ）の中央部のガラス表面上１ｃｍのと
ころから、帯電装置（ＭＩＬＴＹ社製：ゼロスタット）
を用いてセルに強制的に帯電させて表示斑を生じさせ、
この表示斑がなくなるまでの時間を測定し、以下の基準
で評価した。［評価基準］表示斑がなくなるまでの時間が２分未満：○ 表示斑がなくなるまでの時間が２分〜１０分未満：△ 表示斑がなくなるまでの時間が１０分以上：×表示斑（２）の観察前記方法にて１０枚の液晶表示セル（Ａ）を作製し、液
晶表示セルの点灯表示テストを実施し、この時の表示ム
ラの有無について目視観察を行った。このとき、表示ム
ラの発生しなかったパネルの枚数を調べた。

【００９７】長期信頼性の評価上記方法にて作成した１０枚の液晶表示セル（Ａ）を、
高温高湿の環境（相対湿度９５％、温度８０℃）に５０
０時間曝したのち、液晶表示セルの点灯表示テストを実
施し、表示ムラの有無について目視観察を行った。この
とき、表示ムラの発生しなかったパネルの枚数を調べ
た。結果を表２に示す。

【００９８】横導通の有無の評価セルの端子部に電極を取り付け、セル全面の点灯と消灯
を繰り返し、表示面の筋状の表示斑の有無を観察し、結
果を表２に示した。

【００９９】

【実施例２】液晶表示セル（Ｂ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして本発明の第１の液晶
表示セル（Ｂ）を作成した。得られた液晶表示セル
（Ｂ）について、表面抵抗、表示斑（１）、表示斑
（２）、長期信頼性、導通性を評価し、結果を表２に示
した。

【０１００】

【実施例３】液晶表示セル（Ｃ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして本発明の第１の液晶
表示セル（Ｃ）を作成した。得られた液晶表示セル
（Ｃ）について、表面抵抗、表示斑（１）、表示斑
（２）、長期信頼性、導通性を評価し、結果を表２に示
した。

【０１０１】

【実施例４】液晶表示セル（Ｄ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして本発明の第１の液晶
表示セル（Ｄ）を作成した。得られた液晶表示セル
（Ｄ）について、表面抵抗、表示斑（１）、表示斑
（２）、長期信頼性、導通性を評価し、結果を表２に示
した。

【０１０２】

【実施例５】液晶表示セル（Ｅ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして本発明の第１の液晶
表示セル（Ｅ）を作成した。得られた液晶表示セル
（Ｅ）について、表面抵抗、表示斑（１）、表示斑
（２）、長期信頼性、導通性を評価し、結果を表２に示
した。

【０１０３】

【実施例６】液晶表示セル（Ｆ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして本発明の第１の液晶
表示セル（Ｆ）を作成した。得られた液晶表示セル
（Ｆ）について、表面抵抗、表示斑（１）、表示斑
（２）、長期信頼性、導通性を評価し、結果を表２に示
した。

【０１０４】

【比較例１】液晶表示セル（Ｇ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示セル（Ｇ）
を作成した。得られた液晶表示セル（Ｇ）について、表
面抵抗、表示斑（１）、表示斑（２）、長期信頼性、導
通性を評価し、結果を表２に示した。

【０１０５】

【比較例２】液晶表示セル（Ｈ）の作成実施例１において、シール剤の代わりにシール剤を
用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示セル（Ｈ）
を作成した。得られた液晶表示セル（Ｈ）について、表
面抵抗、表示斑（１）、表示斑（２）、長期信頼性、導
通性を評価し、結果を表２に示した。

【０１０６】

【表２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶表示セルの周縁部を概略的に
表す断面図を示す。

【図２】本発明に係る液晶表示セルの周縁部以外を模式
的に表す断面図を示す。

【図３】本発明に係る第２の液晶表示セルの１態様例を
模式的に表す断面図を示す。

【図４】本発明に係る第３の液晶表示セルの１態様例を
模式的に表す断面図を示す。

【符号の説明】

２ …液晶表示装置３ …基板４ …透明電極５ …シール部６ …液晶７ …導電性被膜１０…液晶表示セル１１…ガラス基板１２…透明電極膜１３…透明電極保護膜１４…配向膜１５…スペーサ粒子１６…液晶１７…透明電極付基板２０…カラー液晶表示装置２１…電極板２１ａ…ガラス基板２１ｂ…アルカリパッシベーション膜２１ｃ…画素電極２１ｄ…透明絶縁性保護膜２１ｅ…配向膜２２…対向電極板２２ａ…ガラス基板２２ｂ…アルカリパッシベーション膜２２ｃ…カラーフィルター２２ｄ…透明絶縁性保護膜２２ｅ…透明電極２２ｆ…配向膜２'…液晶表示セル３’、４’…偏光板２３…液晶３０…液晶表示セル３１…透明絶縁性基板３２…ＴＦＴアレイ３３…透明平坦化膜３４…画素電極３５…配向膜４１…対向基板４２…ブラックマトリクス（遮蔽膜）４３…カラーフィルター４４…透明平坦化膜４５…対向電極４６…配向膜５１…液晶層

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１４年１１月７日（２００２．１１．
７）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の名称

【補正方法】変更

【補正内容】

【発明の名称】液晶表示セルおよびシール剤

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

【請求項６】前記シール部に、さらにシール用スペーサ
を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載
の液晶表示セル。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方の基板の表面には透明電極
膜、透明電極保護膜および配向膜が順次積層されてなる
一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対
向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の
透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入さ
れ、透明電極周縁部の間隙をシール剤で封着して密閉し
た液晶表示セルにおいて、前記シール剤が硬化して形成されたシール部の表面抵抗
が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□の範囲にあることを特徴とする
液晶表示セル。
【請求項２】少なくとも一方の基板の表面にはカラーフ
ィルター、透明絶縁性保護被膜、透明電極膜および配向
膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それ
ぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけ
て配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられ
た間隙に液晶が封入され、透明電極周縁部の間隙をシー
ル剤で封着して密閉した液晶表示セルにおいて、前記シール剤が硬化して形成されたシール部の表面抵抗
が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□の範囲にあることを特徴とする
液晶表示セル。
【請求項３】少なくとも一方の基板の表面にはＴＦＴア
レイ、透明平坦化膜、透明電極膜および配向膜が順次積
層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明
電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置さ
れ、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に
液晶が封入され、透明電極周縁部の間隙をシール剤で封
着して密閉した液晶表示セルにおいて、前記シール剤が硬化して形成されたシール部の表面抵抗
が１０¹⁰〜１０¹³Ω／□の範囲にあることを特徴とする
液晶表示セル。
【請求項４】前記シール部が導電性微粒子を含んでな
り、該導電性微粒子の平均粒子径が０.０１〜１μｍの
範囲にあり、シール部中の導電性微粒子の含有量が５〜
５０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３
のいずれかに記載の液晶表示セル。
【請求項５】前記シール部に、さらにシール用スペーサ
を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載
の液晶表示セル。