JP2003149662A - 液晶表示装置 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】一画素の反射板の面積を小さくしても、反射板
で反射する反射光同士の干渉を防止することができる反
射板を提供する。 【解決手段】外部からの入射光を観察者側に反射させ、
表示用光源とする液晶表示装置に用いられる反射板４０
Ａにおいて、反射板４０Ａの表面には、交互に形成され
ている凹部１８ｂと凸部１８ａとからなる凹凸パターン
が形成されており、凹凸パターンは２つの画素Ｐ１、Ｐ
２（Ｐ３、Ｐ４もしくはＰ５、Ｐ６もしくはＰ７、Ｐ
８）を一単位として周期的に繰り返して形成されてお
り、その繰り返しのピッチは０．５ｍｍ以下に設定され
ている。
で反射する反射光同士の干渉を防止することができる反
射板を提供する。 【解決手段】外部からの入射光を観察者側に反射させ、
表示用光源とする液晶表示装置に用いられる反射板４０
Ａにおいて、反射板４０Ａの表面には、交互に形成され
ている凹部１８ｂと凸部１８ａとからなる凹凸パターン
が形成されており、凹凸パターンは２つの画素Ｐ１、Ｐ
２（Ｐ３、Ｐ４もしくはＰ５、Ｐ６もしくはＰ７、Ｐ
８）を一単位として周期的に繰り返して形成されてお
り、その繰り返しのピッチは０．５ｍｍ以下に設定され
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射板を使用した
液晶表示装置及びその反射板に関し、特に、外部からの
入射光を観察者側に反射して表示用の光源とする反射型
または半透過型液晶表示装置及び同液晶表示装置に使用
される反射板に関する。
液晶表示装置及びその反射板に関し、特に、外部からの
入射光を観察者側に反射して表示用の光源とする反射型
または半透過型液晶表示装置及び同液晶表示装置に使用
される反射板に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、その光源の種類に応じ
て、反射型液晶表示装置、透過型液晶表示装置及び半透
過型液晶表示装置に分類される。
て、反射型液晶表示装置、透過型液晶表示装置及び半透
過型液晶表示装置に分類される。
【０００３】透過型液晶表示装置は、バックライト用の
光源を備えており、このバックライトにより表示を行
う。
光源を備えており、このバックライトにより表示を行
う。
【０００４】反射型液晶表示装置は、内部に反射板を有
し、この反射版により外部からの入射光を反射させて表
示光源としている。このため、透過型液晶表示装置とは
異なり、光源としてのバックライトを備える必要がな
い。
し、この反射版により外部からの入射光を反射させて表
示光源としている。このため、透過型液晶表示装置とは
異なり、光源としてのバックライトを備える必要がな
い。
【０００５】半透過型液晶表示装置は、上述の透過型液
晶表示装置と反射型液晶表示装置とを組み合わせたもの
である。
晶表示装置と反射型液晶表示装置とを組み合わせたもの
である。
【０００６】反射型液晶表示装置は、透過型液晶表示装
置よりも低消費電力化、薄型化、軽量化を達成すること
ができるため、主に携帯端末用の表示装置として利用さ
れている。その理由は、外部から入射した光を反射板で
反射させることにより表示光源として利用することがで
きるので、透過型液晶表示装置とは異なり、バックライ
ト用の光源が不要になるからである。
置よりも低消費電力化、薄型化、軽量化を達成すること
ができるため、主に携帯端末用の表示装置として利用さ
れている。その理由は、外部から入射した光を反射板で
反射させることにより表示光源として利用することがで
きるので、透過型液晶表示装置とは異なり、バックライ
ト用の光源が不要になるからである。
【０００７】現在の反射型液晶表示装置の基本構造は、
ＴＮ（ツイステッドネマテック）方式、一枚偏光板方
式、ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマテック）方式、
ＧＨ（ゲストホスト）方式、ＰＤＬＣ（高分子分散）方
式、コレステリック方式等を用いた液晶と、液晶を駆動
するためのスイッチング素子と、液晶セル内部又は外部
に設けた反射板と、から構成されている。これらの一般
的な反射型液晶表示装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）又は金属／絶縁膜／金属構造ダイオード（ＭＩＭ）
をスイッチング素子として用い、高精細及び高画質を実
現できるアクティブマトリクス駆動方式が採用され、こ
れに反射板が付随した構造となっている。
ＴＮ（ツイステッドネマテック）方式、一枚偏光板方
式、ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマテック）方式、
ＧＨ（ゲストホスト）方式、ＰＤＬＣ（高分子分散）方
式、コレステリック方式等を用いた液晶と、液晶を駆動
するためのスイッチング素子と、液晶セル内部又は外部
に設けた反射板と、から構成されている。これらの一般
的な反射型液晶表示装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）又は金属／絶縁膜／金属構造ダイオード（ＭＩＭ）
をスイッチング素子として用い、高精細及び高画質を実
現できるアクティブマトリクス駆動方式が採用され、こ
れに反射板が付随した構造となっている。
【０００８】このような従来の反射型液晶表示装置の一
例として、特許２８２５７１３号公報及び特許３０１２
５９６号公報に記載されたものがある。この反射型液晶
表示装置においては、フォトリソグラフィ工程により有
機絶縁膜を残して反射板の表面に孤立の凸部を形成し、
この凸部の上に層間膜を設けて、凸部からなる山の部分
とそれ以外の谷の部分とからなる滑らかな凹凸形状とす
ることにより、反射版の表面に凹凸パターンを形成して
いる。
例として、特許２８２５７１３号公報及び特許３０１２
５９６号公報に記載されたものがある。この反射型液晶
表示装置においては、フォトリソグラフィ工程により有
機絶縁膜を残して反射板の表面に孤立の凸部を形成し、
この凸部の上に層間膜を設けて、凸部からなる山の部分
とそれ以外の谷の部分とからなる滑らかな凹凸形状とす
ることにより、反射版の表面に凹凸パターンを形成して
いる。
【０００９】図６は、従来の反射板に形成された凹凸パ
ターンの例を示す平面図である。図６に示すように、凹
凸パターンは、反射板１の表面に、平面形状が円形状の
複数個の凸部２を凸パターンとして各々孤立状態に配置
して形成されている。
ターンの例を示す平面図である。図６に示すように、凹
凸パターンは、反射板１の表面に、平面形状が円形状の
複数個の凸部２を凸パターンとして各々孤立状態に配置
して形成されている。
【００１０】しかしながら、従来の反射板１は入射光を
ある程度拡散させて反射させることを目的としていたた
め、光の散乱性が強く、入射光は反射方向が円錐形状と
なるようにほぼ均等に反射していた。
ある程度拡散させて反射させることを目的としていたた
め、光の散乱性が強く、入射光は反射方向が円錐形状と
なるようにほぼ均等に反射していた。
【００１１】図７は、図６の反射板による入射光と反射
光の関係を示す説明図である。図７に示すように、反射
型液晶表示装置の表示面を見ている観察者の正面方向か
ら入射する入射光Ｌｉ（蛍光灯または太陽光）は、反射
板１で反射し、ほぼ均等に四方八方に拡散する反射光Ｌ
ｒとなる。
光の関係を示す説明図である。図７に示すように、反射
型液晶表示装置の表示面を見ている観察者の正面方向か
ら入射する入射光Ｌｉ（蛍光灯または太陽光）は、反射
板１で反射し、ほぼ均等に四方八方に拡散する反射光Ｌ
ｒとなる。
【００１２】すなわち、円形の凸部２からなる凹凸パタ
ーンが形成されている反射板１では、室内の蛍光灯のよ
うに、特定方向からの強い光（直接光）が支配的であ
り、壁に反射することによりパネルに入射する光（間接
光）が弱いような環境においては、特定方向からの光を
観察者側に効率良く反射させることができないため、パ
ネルに入射する光を有効に利用することができなかっ
た。従って、観察者側に反射される光は弱くなり、観察
者が暗いと感じる表示となってしまった。
ーンが形成されている反射板１では、室内の蛍光灯のよ
うに、特定方向からの強い光（直接光）が支配的であ
り、壁に反射することによりパネルに入射する光（間接
光）が弱いような環境においては、特定方向からの光を
観察者側に効率良く反射させることができないため、パ
ネルに入射する光を有効に利用することができなかっ
た。従って、観察者側に反射される光は弱くなり、観察
者が暗いと感じる表示となってしまった。
【００１３】また、反射板１に形成された凹凸パターン
の形状によっては、凹凸パターンのどの位置で反射され
たかという光の経路差に起因する干渉により、観察者と
パネルと入射光との角度に依存して色調の変化が顕著な
ものとなってしまい、カラー液晶表示装置の表示特性を
悪化させる原因となってしまっていた。
の形状によっては、凹凸パターンのどの位置で反射され
たかという光の経路差に起因する干渉により、観察者と
パネルと入射光との角度に依存して色調の変化が顕著な
ものとなってしまい、カラー液晶表示装置の表示特性を
悪化させる原因となってしまっていた。
【００１４】このような問題を解決するため、本願出願
人は、先に、観察者側に効率的に光を反射させることが
できる反射板及びその反射板を用いた反射型液晶表示装
置を提供した（特願２００１−０５５２２９）。
人は、先に、観察者側に効率的に光を反射させることが
できる反射板及びその反射板を用いた反射型液晶表示装
置を提供した（特願２００１−０５５２２９）。
【００１５】図８は、その反射型液晶表示装置１０の部
分断面図である。反射型液晶表示装置１０は、下部側基
板１１と、下部側基板１１に対向して配置された対向側
基板１２と、下部側基板１１と対向側基板１２との間に
挟み込まれた液晶層１３と、を有している。
分断面図である。反射型液晶表示装置１０は、下部側基
板１１と、下部側基板１１に対向して配置された対向側
基板１２と、下部側基板１１と対向側基板１２との間に
挟み込まれた液晶層１３と、を有している。
【００１６】この反射型液晶表示装置１０は、アクティ
ブマトリクス方式を採用しており、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）がスイッチング素子として各画素毎に設けら
れている。
ブマトリクス方式を採用しており、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）がスイッチング素子として各画素毎に設けら
れている。
【００１７】下部側基板１１は、絶縁性基板１４、絶縁
保護膜１５、ＴＦＴ１６、第１絶縁層１７、凸パターン
１８、第２絶縁層１９及び反射電極２０を有している。
保護膜１５、ＴＦＴ１６、第１絶縁層１７、凸パターン
１８、第２絶縁層１９及び反射電極２０を有している。
【００１８】絶縁性基板１４の上には絶縁保護膜１５が
積層され、ＴＦＴ１６は絶縁保護膜１５の上に形成され
ている。ＴＦＴ１６は、絶縁性基板１４上に形成された
ゲート電極１６ａと、ゲート電極１６ａを覆うように絶
縁保護膜１５上に形成されている半導体層１６ｃと、半
導体装置１６ｃに接続して形成されているドレイン電極
１６ｂ及びソース電極１６ｄと、を有している。
積層され、ＴＦＴ１６は絶縁保護膜１５の上に形成され
ている。ＴＦＴ１６は、絶縁性基板１４上に形成された
ゲート電極１６ａと、ゲート電極１６ａを覆うように絶
縁保護膜１５上に形成されている半導体層１６ｃと、半
導体装置１６ｃに接続して形成されているドレイン電極
１６ｂ及びソース電極１６ｄと、を有している。
【００１９】絶縁保護膜１５及びＴＦＴ１６の上には、
第１絶縁層１７またはＴＦＴ１６のソース電極１６ｄを
介して、凸パターン１８が形成されている。さらに、凸
パターン１８、第１絶縁層１７及びソース電極１６ｄを
覆って第２絶縁層１９が積層され、第２絶縁層１９に
は、ソース電極１６ｄに達するコンタクトホール２１が
開けられている。
第１絶縁層１７またはＴＦＴ１６のソース電極１６ｄを
介して、凸パターン１８が形成されている。さらに、凸
パターン１８、第１絶縁層１７及びソース電極１６ｄを
覆って第２絶縁層１９が積層され、第２絶縁層１９に
は、ソース電極１６ｄに達するコンタクトホール２１が
開けられている。
【００２０】さらに、コンタクトホール２１及び第２絶
縁層１９を覆って、反射電極２０が積層されている。反
射電極２０は、ＴＦＴ１６のソース電極１６ｄに接続さ
れ、反射板及び画素電極としての機能を有する。
縁層１９を覆って、反射電極２０が積層されている。反
射電極２０は、ＴＦＴ１６のソース電極１６ｄに接続さ
れ、反射板及び画素電極としての機能を有する。
【００２１】下部側基板１１の周縁部に設けられた端子
領域には、絶縁性基板１４上のゲート端子部２２ととも
に、ゲート端子部２２を覆う絶縁保護膜１５上のドレイ
ン端子部２３が形成されている。
領域には、絶縁性基板１４上のゲート端子部２２ととも
に、ゲート端子部２２を覆う絶縁保護膜１５上のドレイ
ン端子部２３が形成されている。
【００２２】対向側基板１２は、絶縁性基板２６と、液
晶層１３に向かって絶縁性基板２６上にこの順番に積層
されたカラーフィルタ２５及び透明電極２４と、を有し
ている。
晶層１３に向かって絶縁性基板２６上にこの順番に積層
されたカラーフィルタ２５及び透明電極２４と、を有し
ている。
【００２３】絶縁性基板２６から入射した入射光Ｌｉ
は、対向側基板１２から液晶層１３を経て下部側基板１
１に達し、反射電極２０に反射されて反射光Ｌｒとな
り、再び液晶層１３を経て透明電極２４から対向側基板
１２の外に出射される。
は、対向側基板１２から液晶層１３を経て下部側基板１
１に達し、反射電極２０に反射されて反射光Ｌｒとな
り、再び液晶層１３を経て透明電極２４から対向側基板
１２の外に出射される。
【００２４】図９（ａ）は、反射板１に入射する光Ｌｉ
と、反射板１に反射して観察者が視認する光Ｌｒとを模
式的に示したものである。入射光Ｌｉ及び反射光Ｌｒが
反射板１の法線方向となす角をそれぞれ入射角Ｔｉおよ
び反射角Ｔｒとする。入射光Ｌｉは、凸パターン１８及
び第２絶縁層１９により凹凸状に形成されている反射電
極２０で反射されるので、入射角Ｔｉと反射角Ｔｒは異
なる値となる。
と、反射板１に反射して観察者が視認する光Ｌｒとを模
式的に示したものである。入射光Ｌｉ及び反射光Ｌｒが
反射板１の法線方向となす角をそれぞれ入射角Ｔｉおよ
び反射角Ｔｒとする。入射光Ｌｉは、凸パターン１８及
び第２絶縁層１９により凹凸状に形成されている反射電
極２０で反射されるので、入射角Ｔｉと反射角Ｔｒは異
なる値となる。
【００２５】図９（ｂ）は、凹凸状の反射電極２０の一
点Ａに入射した光の反射について模式的に示した図であ
る。ここでは簡便のために反射電極２０の表面形状と反
射板１のみを図示している。
点Ａに入射した光の反射について模式的に示した図であ
る。ここでは簡便のために反射電極２０の表面形状と反
射板１のみを図示している。
【００２６】入射光Ｌｉが凹凸状の反射電極２０のＡ点
に入射すると、入射光ＬｉはＡ点における反射電極２０
の接平面での反射となるため、反射光ＬｒはＡ点におけ
る法線方向を対称軸とした方向に反射する。
に入射すると、入射光ＬｉはＡ点における反射電極２０
の接平面での反射となるため、反射光ＬｒはＡ点におけ
る法線方向を対称軸とした方向に反射する。
【００２７】ここで、Ａ点における反射電極２０の接平
面と反射板１とのなす角をＡ点における傾斜角θと定義
すると、反射光Ｌｉの反射方向の分布は反射電極２０の
凹凸の傾斜角θの分布に依存することになる。このた
め、観察者Ｐが反射板１の輝度に関して主観評価を行
い、明るい反射であると認識するように傾斜角θの分布
を設計することが重要となる。
面と反射板１とのなす角をＡ点における傾斜角θと定義
すると、反射光Ｌｉの反射方向の分布は反射電極２０の
凹凸の傾斜角θの分布に依存することになる。このた
め、観察者Ｐが反射板１の輝度に関して主観評価を行
い、明るい反射であると認識するように傾斜角θの分布
を設計することが重要となる。
【００２８】反射型液晶表示装置を使用する状況を検討
すると、図１０（ａ）に示すように、反射板1の法線方
向と０乃至―６０度の角度にある光源Ｓからの入射光Ｌ
ｉが、―１０乃至＋２０度の角度に反射される反射光Ｌ
ｒを観察者Ｐが視認する状況と、図１０（ｂ）に示すよ
うに、反射板１のＡ点への左右２０度以内の方向からの
入射光Ｌｉを左右２０度以内の方向で観察者Ｐが反射光
Ｌｒを視認する状況と、が支配的であると考えられる。
すると、図１０（ａ）に示すように、反射板1の法線方
向と０乃至―６０度の角度にある光源Ｓからの入射光Ｌ
ｉが、―１０乃至＋２０度の角度に反射される反射光Ｌ
ｒを観察者Ｐが視認する状況と、図１０（ｂ）に示すよ
うに、反射板１のＡ点への左右２０度以内の方向からの
入射光Ｌｉを左右２０度以内の方向で観察者Ｐが反射光
Ｌｒを視認する状況と、が支配的であると考えられる。
【００２９】反射板１に形成される凹凸パターンに、観
察者Ｐから見て水平方向に伸びた形状の凹凸を多く含め
ることにより、図１０（ａ）に示したように、光源Ｓか
らの入射光Ｌｉを効率的に観察者Ｐへの反射光Ｌｒとす
るような指向性を伴った反射板１を設計することができ
る。
察者Ｐから見て水平方向に伸びた形状の凹凸を多く含め
ることにより、図１０（ａ）に示したように、光源Ｓか
らの入射光Ｌｉを効率的に観察者Ｐへの反射光Ｌｒとす
るような指向性を伴った反射板１を設計することができ
る。
【００３０】図１１は反射板１に形成された凹凸パター
ンの平面図である。図中の斜線部分が凸パターン１８の
形成されている領域であり、白抜きの三角形で示されて
いる領域が凹部が形成されている領域である。図１１に
おいては、凹部を示す三角形は規則的に配列されている
が、実際には、ある程度の乱雑さをもって三角形が配列
されている。
ンの平面図である。図中の斜線部分が凸パターン１８の
形成されている領域であり、白抜きの三角形で示されて
いる領域が凹部が形成されている領域である。図１１に
おいては、凹部を示す三角形は規則的に配列されている
が、実際には、ある程度の乱雑さをもって三角形が配列
されている。
【００３１】ここでは複数の三角形の３辺を凸パターン
１８が画定している例を示したが、凹凸パターンとして
は複数の線状凸パターンにより四角形や楕円形などの閉
じた図形（閉図形）が形成されるものであればよい。
１８が画定している例を示したが、凹凸パターンとして
は複数の線状凸パターンにより四角形や楕円形などの閉
じた図形（閉図形）が形成されるものであればよい。
【００３２】図１２は図１１の２点間の模式的な断面図
である。凸パターン１８の中心間距離をＬ、凸パターン
１８の幅をＷ、凸パターン１８の高さをＤ、第２絶縁膜
層１９の高さが極小となる高さをｄ、第２絶縁膜層１９
の高さが最大となる点と最小となる点の高さ差を△Ｄと
する。第２絶縁膜層１９の上面に塗布されたアルミニウ
ム膜（反射電極２０）は非常に薄いため、その厚さは無
視し、図示しない。
である。凸パターン１８の中心間距離をＬ、凸パターン
１８の幅をＷ、凸パターン１８の高さをＤ、第２絶縁膜
層１９の高さが極小となる高さをｄ、第２絶縁膜層１９
の高さが最大となる点と最小となる点の高さ差を△Ｄと
する。第２絶縁膜層１９の上面に塗布されたアルミニウ
ム膜（反射電極２０）は非常に薄いため、その厚さは無
視し、図示しない。
【００３３】
【発明が解決しようとする課題】上述の図１１は１画素
に対応する凸パターン１８の形成状態を示したものであ
る。従来の反射型液晶表示装置１０においては、１画素
に対応する凸パターン１８は一律に決まっており、複数
の画素を並べる際には、一律に決まっている凸パターン
１８を繰り返し整列させていた。
に対応する凸パターン１８の形成状態を示したものであ
る。従来の反射型液晶表示装置１０においては、１画素
に対応する凸パターン１８は一律に決まっており、複数
の画素を並べる際には、一律に決まっている凸パターン
１８を繰り返し整列させていた。
【００３４】例えば、図１３に示すように、３つの画素
３０ａ、３０ｂ、３０ｃを連続して配列する場合には、
図１１に示したような凸パターン１８を各画素３０ａ、
３０ｂ、３０ｃ毎に繰り返し用いていた。
３０ａ、３０ｂ、３０ｃを連続して配列する場合には、
図１１に示したような凸パターン１８を各画素３０ａ、
３０ｂ、３０ｃ毎に繰り返し用いていた。
【００３５】近年の液晶表示装置は高精細であることが
要求されている。高精細にするためには、凸パターン１
８の繰り返しのピッチすなわち一つの画素の幅は小さく
しなければならない。一つの画素の幅を小さくすれば、
一画素に含まれる三角形（凹部）の数は必然的に少なく
なる。
要求されている。高精細にするためには、凸パターン１
８の繰り返しのピッチすなわち一つの画素の幅は小さく
しなければならない。一つの画素の幅を小さくすれば、
一画素に含まれる三角形（凹部）の数は必然的に少なく
なる。
【００３６】一方、携帯電話等の携帯機器の用途として
は、モノクロにおいては、反射型が主流であったが、カ
ラー液晶になると反射型では明るさが不足するという問
題があり、明るさを補うために一画素の中に反射領域と
透過領域とを有する半透過型が主流になってきた。透過
領域はバックライトを具備するため、暗い環境の中でも
明るい表示を得ることができる。
は、モノクロにおいては、反射型が主流であったが、カ
ラー液晶になると反射型では明るさが不足するという問
題があり、明るさを補うために一画素の中に反射領域と
透過領域とを有する半透過型が主流になってきた。透過
領域はバックライトを具備するため、暗い環境の中でも
明るい表示を得ることができる。
【００３７】図１４に、半透過型液晶表示装置の平面図
を示す。図１３に示した反射型液晶表示装置と同様に、
３つの画素３００ａ、３００ｂ、３００ｃが配列され、
これらの画素の約３分の１は図１３と同様に反射板が形
成された反射領域３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃとして
形成され、残りの３分の２は透過領域３０２ａ、３０２
ｂ、３０２ｃとして形成されている。一画素における反
射領域と透過領域との割合は、使用される機器に応じ
て、様々であるが、いずれにしても、半透過型液晶表示
装置における一画素の中で反射板が占める面積は反射型
液晶表示装置における一画素の中で反射板が占める面積
よりも小さい。従って、半透過型液晶表示装置における
一画素中に含まれる三角形（凹部）の数は反射型液晶表
示装置の場合よりも少ない。
を示す。図１３に示した反射型液晶表示装置と同様に、
３つの画素３００ａ、３００ｂ、３００ｃが配列され、
これらの画素の約３分の１は図１３と同様に反射板が形
成された反射領域３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃとして
形成され、残りの３分の２は透過領域３０２ａ、３０２
ｂ、３０２ｃとして形成されている。一画素における反
射領域と透過領域との割合は、使用される機器に応じ
て、様々であるが、いずれにしても、半透過型液晶表示
装置における一画素の中で反射板が占める面積は反射型
液晶表示装置における一画素の中で反射板が占める面積
よりも小さい。従って、半透過型液晶表示装置における
一画素中に含まれる三角形（凹部）の数は反射型液晶表
示装置の場合よりも少ない。
【００３８】一方、１個の三角形（凹部）の大きさは露
光精度等の製造上の能力に応じて決まるため、あまり小
さくすることはできない。このように、高精細化、半透
過型化によって、一画素に含まれる三角形（凹部）の数
が少なくなると、反射光Ｌｒ（図７参照）同士の干渉が
発生するという問題が生じる。一画素に含まれる三角形
（凹部）の数が少なくなると、一画素の中で干渉をキャ
ンセルすることが難しくなるからである。
光精度等の製造上の能力に応じて決まるため、あまり小
さくすることはできない。このように、高精細化、半透
過型化によって、一画素に含まれる三角形（凹部）の数
が少なくなると、反射光Ｌｒ（図７参照）同士の干渉が
発生するという問題が生じる。一画素に含まれる三角形
（凹部）の数が少なくなると、一画素の中で干渉をキャ
ンセルすることが難しくなるからである。
【００３９】一方、通常、反射板は一画素単位の繰り返
しパターンになっているため、一画素の中で干渉をキャ
ンセルできないと、複数画素においても反射光同士の干
渉をキャンセルすることはできない。反射光Ｌｒ同士の
干渉が発生すると、液晶表示装置の表示特性を悪化させ
る結果となる。
しパターンになっているため、一画素の中で干渉をキャ
ンセルできないと、複数画素においても反射光同士の干
渉をキャンセルすることはできない。反射光Ｌｒ同士の
干渉が発生すると、液晶表示装置の表示特性を悪化させ
る結果となる。
【００４０】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであり、一画素の反射板の面積を小さくしても、反
射板で反射する反射光同士の干渉を防止することができ
る反射板及びその反射板を用いた液晶表示装置を提供す
ることを目的とする。
ものであり、一画素の反射板の面積を小さくしても、反
射板で反射する反射光同士の干渉を防止することができ
る反射板及びその反射板を用いた液晶表示装置を提供す
ることを目的とする。
【００４１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は、外部からの入射光を観察者側に反射さ
せ、表示用光源とする液晶表示装置に用いられる反射板
において、前記反射板の表面には、交互に形成されてい
る凹部と凸部とからなる凹凸パターンが形成されてお
り、前記凹凸パターンは少なくとも２つの画素を一単位
として周期的に繰り返して形成されていることを特徴と
する反射板を提供する。
め、本発明は、外部からの入射光を観察者側に反射さ
せ、表示用光源とする液晶表示装置に用いられる反射板
において、前記反射板の表面には、交互に形成されてい
る凹部と凸部とからなる凹凸パターンが形成されてお
り、前記凹凸パターンは少なくとも２つの画素を一単位
として周期的に繰り返して形成されていることを特徴と
する反射板を提供する。
【００４２】本発明に係る反射板においては、複数の画
素にわたって同一の凹凸パターンが繰り返し形成され
る。このため、一画素毎に同一の凹凸パターンが繰り返
し形成されている従来の液晶表示装置とは異なり、凹凸
パターンの繰り返しのピッチを大きく、かつ、任意に設
定することが可能になる。この結果、従来の反射型液晶
表示装置において問題となっていた反射光同士の干渉を
防止することができる。
素にわたって同一の凹凸パターンが繰り返し形成され
る。このため、一画素毎に同一の凹凸パターンが繰り返
し形成されている従来の液晶表示装置とは異なり、凹凸
パターンの繰り返しのピッチを大きく、かつ、任意に設
定することが可能になる。この結果、従来の反射型液晶
表示装置において問題となっていた反射光同士の干渉を
防止することができる。
【００４３】また、本発明は、外部からの入射光を観察
者側に反射させ、表示用光源とする液晶表示装置に用い
られる反射板において、前記反射板の表面には、交互に
形成されている凹部と凸部とからなる凹凸パターンが形
成されており、前記凹凸パターンは少なくとも２つの画
素を一単位として周期的に繰り返して形成されており、
その繰り返しの周期はＲＧＢの３個の画素の単位からず
らした単位であることを特徴とする反射板を提供する。
者側に反射させ、表示用光源とする液晶表示装置に用い
られる反射板において、前記反射板の表面には、交互に
形成されている凹部と凸部とからなる凹凸パターンが形
成されており、前記凹凸パターンは少なくとも２つの画
素を一単位として周期的に繰り返して形成されており、
その繰り返しの周期はＲＧＢの３個の画素の単位からず
らした単位であることを特徴とする反射板を提供する。
【００４４】前記繰り返しの周期は２画素を単位とする
ことが好ましく、さらに、前記繰り返しのピッチは０．
５ｍｍ以下であることが好ましい。
ことが好ましく、さらに、前記繰り返しのピッチは０．
５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４５】例えば、前記凸部は複数の線形形状からな
り、前記凹部は前記凸部に囲まれた閉図形形状をなすも
のとすることができる。この場合の閉図形形状として
は、例えば、三角形を選択することができる。
り、前記凹部は前記凸部に囲まれた閉図形形状をなすも
のとすることができる。この場合の閉図形形状として
は、例えば、三角形を選択することができる。
【００４６】前記凹凸パターンは少なくとも２つの画素
間では連続して形成されていることが好ましい。
間では連続して形成されていることが好ましい。
【００４７】また、本発明は、外部からの入射光を観察
者側に反射させ、表示用光源とする複数の画素を有する
液晶表示装置の前記複数の画素のそれぞれに形成された
反射板において、第１の方向にＮ（Ｎは２以上の整数）
個の前記画素を一単位としてＮ種類の色の前記画素が周
期的に繰り返して形成され、前記第１の方向にＭ（Ｍは
２以上の整数）個の前記画素を一単位としてＭ種類の凹
凸パターンが形成された反射板を有する画素が周期的に
繰り返して配列され、前記Ｎと前記Ｍとの最小公倍数の
数の前記画素を前記第１の方向に配列した長さが０．５
ｍｍであることを特徴とする反射板を提供する。
者側に反射させ、表示用光源とする複数の画素を有する
液晶表示装置の前記複数の画素のそれぞれに形成された
反射板において、第１の方向にＮ（Ｎは２以上の整数）
個の前記画素を一単位としてＮ種類の色の前記画素が周
期的に繰り返して形成され、前記第１の方向にＭ（Ｍは
２以上の整数）個の前記画素を一単位としてＭ種類の凹
凸パターンが形成された反射板を有する画素が周期的に
繰り返して配列され、前記Ｎと前記Ｍとの最小公倍数の
数の前記画素を前記第１の方向に配列した長さが０．５
ｍｍであることを特徴とする反射板を提供する。
【００４８】上記の反射板を用いることにより、外部か
らの入射光を前記反射板において観察者側に反射させ、
表示用の光源とする液晶表示装置を形成することができ
る。この場合の液晶表示装置は、いわゆる反射型及び半
透過型液晶表示装置の双方を含む。
らの入射光を前記反射板において観察者側に反射させ、
表示用の光源とする液晶表示装置を形成することができ
る。この場合の液晶表示装置は、いわゆる反射型及び半
透過型液晶表示装置の双方を含む。
【００４９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施形態
に係る半透過型液晶表示装置４００Ａ及びその反射板４
０Ａの模式的な平面図である。
に係る半透過型液晶表示装置４００Ａ及びその反射板４
０Ａの模式的な平面図である。
【００５０】図１に示した半透過型液晶表示装置４００
Ａは縦に２列、横に４列の画素（幅Ｈ、高さＶ）、すな
わち、計８個の画素を有しているものとする。これら８
個の画素のうち、上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４
とし、下段の画素をＰ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８とし、画素
Ｐ１乃至Ｐ８はそれぞれ反射領域Ｒ１乃至Ｒ８及び透過
領域Ｑ１乃至Ｑ８を有しており、反射領域Ｒ１乃至Ｒ８
には反射板４０Ａが形成されている。
Ａは縦に２列、横に４列の画素（幅Ｈ、高さＶ）、すな
わち、計８個の画素を有しているものとする。これら８
個の画素のうち、上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４
とし、下段の画素をＰ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８とし、画素
Ｐ１乃至Ｐ８はそれぞれ反射領域Ｒ１乃至Ｒ８及び透過
領域Ｑ１乃至Ｑ８を有しており、反射領域Ｒ１乃至Ｒ８
には反射板４０Ａが形成されている。
【００５１】図１に示した反射板４０Ａには、図１１に
示した反射板１と同様に、表面に凹凸パターンが形成さ
れている。具体的には、ランダムな方向に延びる線状の
凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａにより囲まれ、
三角形形状をなしている凹パターン１８ｂとが反射板４
０Ａの表面に形成されている。
示した反射板１と同様に、表面に凹凸パターンが形成さ
れている。具体的には、ランダムな方向に延びる線状の
凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａにより囲まれ、
三角形形状をなしている凹パターン１８ｂとが反射板４
０Ａの表面に形成されている。
【００５２】本実施形態に係る半透過型液晶表示装置４
００Ａにおける反射板４０Ａにおいては、上段の画素Ｐ
１には第一の凹凸パターンＡが形成されており、画素Ｐ
１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢが形成
され、かつ、第一の凹凸パターンＡと第二の凹凸パター
ンＢとは連続的に形成されている。さらに、画素Ｐ２に
隣接する画素Ｐ３には第一の凹凸パターンＡが形成され
ており、画素Ｐ３に隣接する画素Ｐ４には第二の凹凸パ
ターンＢが形成され、かつ、第一の凹凸パターンＡと第
二の凹凸パターンＢとは連続的に形成されている。
００Ａにおける反射板４０Ａにおいては、上段の画素Ｐ
１には第一の凹凸パターンＡが形成されており、画素Ｐ
１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢが形成
され、かつ、第一の凹凸パターンＡと第二の凹凸パター
ンＢとは連続的に形成されている。さらに、画素Ｐ２に
隣接する画素Ｐ３には第一の凹凸パターンＡが形成され
ており、画素Ｐ３に隣接する画素Ｐ４には第二の凹凸パ
ターンＢが形成され、かつ、第一の凹凸パターンＡと第
二の凹凸パターンＢとは連続的に形成されている。
【００５３】同様に、下段の画素Ｐ５には第一の凹凸パ
ターンＡが形成されており、画素Ｐ５に隣接する画素Ｐ
６には第二の凹凸パターンＢが形成され、かつ、第一の
凹凸パターンＡと第二の凹凸パターンＢとは連続的に形
成されている。さらに、画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７に
は第一の凹凸パターンＡが形成されており、画素Ｐ７に
隣接する画素Ｐ８には第二の凹凸パターンＢが形成さ
れ、かつ、第一の凹凸パターンＡと第二の凹凸パターン
Ｂとは連続的に形成されている。
ターンＡが形成されており、画素Ｐ５に隣接する画素Ｐ
６には第二の凹凸パターンＢが形成され、かつ、第一の
凹凸パターンＡと第二の凹凸パターンＢとは連続的に形
成されている。さらに、画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７に
は第一の凹凸パターンＡが形成されており、画素Ｐ７に
隣接する画素Ｐ８には第二の凹凸パターンＢが形成さ
れ、かつ、第一の凹凸パターンＡと第二の凹凸パターン
Ｂとは連続的に形成されている。
【００５４】このように、本実施形態に係る半透過型液
晶表示装置４００Ａに用いられる反射板４０Ａにおいて
は、隣接する２つの画素を一単位として、同一の凹凸パ
ターンが繰り返されている。すなわち、２画素毎に凹凸
パターンＡ＋Ｂが繰り返し形成され、かつ、第一の凹凸
パターンＡと第二の凹凸パターンＢとは連続性を有して
いる。
晶表示装置４００Ａに用いられる反射板４０Ａにおいて
は、隣接する２つの画素を一単位として、同一の凹凸パ
ターンが繰り返されている。すなわち、２画素毎に凹凸
パターンＡ＋Ｂが繰り返し形成され、かつ、第一の凹凸
パターンＡと第二の凹凸パターンＢとは連続性を有して
いる。
【００５５】凹凸パターンＡ＋Ｂを繰り返し形成するだ
けであっても、２画素の中で干渉をキャンセルできるの
で、例えば、凹凸パターンＡまたはＢのみを繰り返し形
成する場合と比べて、干渉をよりキャンセルしやすくな
るが、さらに、凹凸パターンＡと凹凸パターンＢとを連
続的に形成することにより、さらに一層、干渉をキャン
セルしやすくなる。
けであっても、２画素の中で干渉をキャンセルできるの
で、例えば、凹凸パターンＡまたはＢのみを繰り返し形
成する場合と比べて、干渉をよりキャンセルしやすくな
るが、さらに、凹凸パターンＡと凹凸パターンＢとを連
続的に形成することにより、さらに一層、干渉をキャン
セルしやすくなる。
【００５６】図２は、本発明の第２の実施形態に係る反
射型液晶表示装置４００Ｂ及びその反射板４０Ｂの模式
的な平面図である。
射型液晶表示装置４００Ｂ及びその反射板４０Ｂの模式
的な平面図である。
【００５７】図２に示した反射型液晶表示装置４００Ｂ
は、第１の実施形態に係る半透過型液晶表示装置４００
Ａと同様に、縦に２列、横に４列の画素（幅Ｈ、高さ
Ｖ）、すなわち、計８個の画素を有しているものとし、
これら８個の画素のうち、上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ
３、Ｐ４とし、下段の画素をＰ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８と
する。ただし、反射型液晶表示装置４００Ｂは反射板４
０Ｂを形成した反射領域のみを有している。
は、第１の実施形態に係る半透過型液晶表示装置４００
Ａと同様に、縦に２列、横に４列の画素（幅Ｈ、高さ
Ｖ）、すなわち、計８個の画素を有しているものとし、
これら８個の画素のうち、上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ
３、Ｐ４とし、下段の画素をＰ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８と
する。ただし、反射型液晶表示装置４００Ｂは反射板４
０Ｂを形成した反射領域のみを有している。
【００５８】図２に示した反射板４０Ｂには、第１の実
施形態に係る反射板４０Ａと同様に、ランダムな方向に
延びる線状の凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａに
より囲まれ、三角形形状をなしている凹パターン１８ｂ
とが反射板４０Ｂの表面に形成されている。
施形態に係る反射板４０Ａと同様に、ランダムな方向に
延びる線状の凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａに
より囲まれ、三角形形状をなしている凹パターン１８ｂ
とが反射板４０Ｂの表面に形成されている。
【００５９】本実施形態に係る反射型液晶表示装置４０
０Ｂに用いられる反射板４０Ｂにおいては、上段の画素
Ｐ１には第一の凹凸パターンＡが形成されており、画素
Ｐ１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢが形
成され、かつ、第一の凹凸パターンＡと第二の凹凸パタ
ーンＢとは連続的に形成されている。さらに、画素Ｐ２
に隣接する画素Ｐ３には第一の凹凸パターンＡが形成さ
れており、画素Ｐ３に隣接する画素Ｐ４には第二の凹凸
パターンＢが形成され、かつ、第一の凹凸パターンＡと
第二の凹凸パターンＢとは連続的に形成されている。
０Ｂに用いられる反射板４０Ｂにおいては、上段の画素
Ｐ１には第一の凹凸パターンＡが形成されており、画素
Ｐ１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢが形
成され、かつ、第一の凹凸パターンＡと第二の凹凸パタ
ーンＢとは連続的に形成されている。さらに、画素Ｐ２
に隣接する画素Ｐ３には第一の凹凸パターンＡが形成さ
れており、画素Ｐ３に隣接する画素Ｐ４には第二の凹凸
パターンＢが形成され、かつ、第一の凹凸パターンＡと
第二の凹凸パターンＢとは連続的に形成されている。
【００６０】下段の画素Ｐ５には第二の凹凸パターンＢ
が形成されており、画素Ｐ５に隣接する画素Ｐ６には第
一の凹凸パターンＡが形成され、かつ、第二の凹凸パタ
ーンＢと第一の凹凸パターンＡとは連続的に形成されて
いる。さらに、画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７には第二の
凹凸パターンＢが形成されており、画素Ｐ７に隣接する
画素Ｐ８には第一の凹凸パターンＡが形成され、かつ、
第二の凹凸パターンＢと第一の凹凸パターンＡとは連続
的に形成されている。
が形成されており、画素Ｐ５に隣接する画素Ｐ６には第
一の凹凸パターンＡが形成され、かつ、第二の凹凸パタ
ーンＢと第一の凹凸パターンＡとは連続的に形成されて
いる。さらに、画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７には第二の
凹凸パターンＢが形成されており、画素Ｐ７に隣接する
画素Ｐ８には第一の凹凸パターンＡが形成され、かつ、
第二の凹凸パターンＢと第一の凹凸パターンＡとは連続
的に形成されている。
【００６１】さらに、画素Ｐ１に形成されている第一の
凹凸パターンＡと画素Ｐ５に形成されている第二の凹凸
パターンＢとは連続的に形成されている。以下、同様
に、画素Ｐ２に形成されている第二の凹凸パターンＢと
画素Ｐ６に形成されている第一の凹凸パターンＡとは連
続的に形成されており、画素Ｐ３に形成されている第一
の凹凸パターンＡと画素Ｐ７に形成されている第二の凹
凸パターンＢとは連続的に形成されており、画素Ｐ４に
形成されている第二の凹凸パターンＢと画素Ｐ８に形成
されている第一の凹凸パターンＡとは連続的に形成され
ている。
凹凸パターンＡと画素Ｐ５に形成されている第二の凹凸
パターンＢとは連続的に形成されている。以下、同様
に、画素Ｐ２に形成されている第二の凹凸パターンＢと
画素Ｐ６に形成されている第一の凹凸パターンＡとは連
続的に形成されており、画素Ｐ３に形成されている第一
の凹凸パターンＡと画素Ｐ７に形成されている第二の凹
凸パターンＢとは連続的に形成されており、画素Ｐ４に
形成されている第二の凹凸パターンＢと画素Ｐ８に形成
されている第一の凹凸パターンＡとは連続的に形成され
ている。
【００６２】上述の第１の実施形態に係る半透過型液晶
表示装置４００Ａに用いられる反射板４０Ａにおいて
は、横方向においてのみ、隣接する２つの画素を一単位
として、同一の凹凸パターンが繰り返されていた。これ
に対して、本実施形態に係る反射板４０Ｂにおいては、
横方向及び縦方向の双方において、隣接する２つの画素
を一単位として、同一の凹凸パターンＡ＋ＢまたはＢ＋
Ａが繰り返されている。
表示装置４００Ａに用いられる反射板４０Ａにおいて
は、横方向においてのみ、隣接する２つの画素を一単位
として、同一の凹凸パターンが繰り返されていた。これ
に対して、本実施形態に係る反射板４０Ｂにおいては、
横方向及び縦方向の双方において、隣接する２つの画素
を一単位として、同一の凹凸パターンＡ＋ＢまたはＢ＋
Ａが繰り返されている。
【００６３】図３は、本発明の第３の実施形態に係る反
射型液晶表示装置４００Ｃ及びその反射板４０Ｃの模式
的な平面図である。
射型液晶表示装置４００Ｃ及びその反射板４０Ｃの模式
的な平面図である。
【００６４】図３に示した反射板４０Ｃは縦に２列、横
に８列の画素（幅Ｈ、高さＶ）、すなわち、計１６個の
画素を有しているものとする。これら１６個の画素のう
ち、上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ
６、Ｐ７、Ｐ８とし、下段の画素をＰ９、Ｐ１０、Ｐ１
１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４、Ｐ１５、Ｐ１６とする。
本実施形態に係る反射型液晶表示装置４００Ｃは反射板
４０Ｃを形成した反射領域のみを有している。
に８列の画素（幅Ｈ、高さＶ）、すなわち、計１６個の
画素を有しているものとする。これら１６個の画素のう
ち、上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ
６、Ｐ７、Ｐ８とし、下段の画素をＰ９、Ｐ１０、Ｐ１
１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４、Ｐ１５、Ｐ１６とする。
本実施形態に係る反射型液晶表示装置４００Ｃは反射板
４０Ｃを形成した反射領域のみを有している。
【００６５】図３に示した反射板４０Ｃには、第１の実
施形態における反射板４０Ａと同様に、ランダムな方向
に延びる線状の凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａ
により囲まれ、三角形形状をなしている凹パターン１８
ｂとが反射板４０Ｃの表面に形成されている。
施形態における反射板４０Ａと同様に、ランダムな方向
に延びる線状の凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａ
により囲まれ、三角形形状をなしている凹パターン１８
ｂとが反射板４０Ｃの表面に形成されている。
【００６６】本実施形態に係る反射型液晶表示装置４０
０Ｃに用いられる反射板４０Ｃにおいては、上段の画素
Ｐ１には第一の凹凸パターンＡ１が形成されており、画
素Ｐ１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢ１
が形成されている。画素Ｐ２に隣接する画素Ｐ３には第
三の凹凸パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ３に隣
接する画素Ｐ４には第四の凹凸パターンＤ１が形成され
ている。さらに、これらの第一乃至第四の凹凸パターン
Ａ１乃至Ｄ１は連続的に形成されている。
０Ｃに用いられる反射板４０Ｃにおいては、上段の画素
Ｐ１には第一の凹凸パターンＡ１が形成されており、画
素Ｐ１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢ１
が形成されている。画素Ｐ２に隣接する画素Ｐ３には第
三の凹凸パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ３に隣
接する画素Ｐ４には第四の凹凸パターンＤ１が形成され
ている。さらに、これらの第一乃至第四の凹凸パターン
Ａ１乃至Ｄ１は連続的に形成されている。
【００６７】画素Ｐ４に隣接する画素Ｐ５には第一の凹
凸パターンＡ１が形成されており、画素Ｐ５に隣接する
画素Ｐ６には第二の凹凸パターンＢ１が形成されてい
る。画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７には第三の凹凸パター
ンＣ１が形成されており、画素Ｐ７に隣接する画素Ｐ８
には第四の凹凸パターンＤ１が形成されている。さら
に、これらの第一乃至第四の凹凸パターンＡ１乃至Ｄ１
は連続的に形成されている。
凸パターンＡ１が形成されており、画素Ｐ５に隣接する
画素Ｐ６には第二の凹凸パターンＢ１が形成されてい
る。画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７には第三の凹凸パター
ンＣ１が形成されており、画素Ｐ７に隣接する画素Ｐ８
には第四の凹凸パターンＤ１が形成されている。さら
に、これらの第一乃至第四の凹凸パターンＡ１乃至Ｄ１
は連続的に形成されている。
【００６８】同様に、下段の画素Ｐ９には第五の凹凸パ
ターンＡ２が形成されており、画素Ｐ９に隣接する画素
Ｐ１０には第六の凹凸パターンＢ２が形成されている。
画素Ｐ１０に隣接する画素Ｐ１１には第七の凹凸パター
ンＣ２が形成されており、画素Ｐ１１に隣接する画素Ｐ
１２には第八の凹凸パターンＤ２が形成されている。さ
らに、これらの第五乃至第八の凹凸パターンＡ２乃至Ｄ
２は連続的に形成されている。
ターンＡ２が形成されており、画素Ｐ９に隣接する画素
Ｐ１０には第六の凹凸パターンＢ２が形成されている。
画素Ｐ１０に隣接する画素Ｐ１１には第七の凹凸パター
ンＣ２が形成されており、画素Ｐ１１に隣接する画素Ｐ
１２には第八の凹凸パターンＤ２が形成されている。さ
らに、これらの第五乃至第八の凹凸パターンＡ２乃至Ｄ
２は連続的に形成されている。
【００６９】画素Ｐ１２に隣接する画素Ｐ１３には第五
の凹凸パターンＡ２が形成されており、画素Ｐ１３に隣
接する画素Ｐ１４には第六の凹凸パターンＢ２が形成さ
れている。画素Ｐ１４に隣接する画素Ｐ１５には第七の
凹凸パターンＣ２が形成されており、画素Ｐ１５に隣接
する画素Ｐ１６には第八の凹凸パターンＤ２が形成され
ている。さらに、これらの第五乃至第八の凹凸パターン
Ａ２乃至Ｄ２は連続的に形成されている。
の凹凸パターンＡ２が形成されており、画素Ｐ１３に隣
接する画素Ｐ１４には第六の凹凸パターンＢ２が形成さ
れている。画素Ｐ１４に隣接する画素Ｐ１５には第七の
凹凸パターンＣ２が形成されており、画素Ｐ１５に隣接
する画素Ｐ１６には第八の凹凸パターンＤ２が形成され
ている。さらに、これらの第五乃至第八の凹凸パターン
Ａ２乃至Ｄ２は連続的に形成されている。
【００７０】このように、本実施形態に係る反射型液晶
表示装置４００Ｃに用いられる反射板４０Ｃにおいて
は、上段の画素においては、連続する４つの画素を一単
位として、同一の凹凸パターンが繰り返されている。す
なわち、４画素毎に凹凸パターンＡ１＋Ｂ１＋Ｃ１＋Ｄ
１が繰り返し形成されている。同様に、下段の画素にお
いては、連続する４つの画素を一単位として、同一の凹
凸パターンが繰り返されている。すなわち、４画素毎に
凹凸パターンＡ２＋Ｂ２＋Ｃ２＋Ｄ２が繰り返し形成さ
れている。
表示装置４００Ｃに用いられる反射板４０Ｃにおいて
は、上段の画素においては、連続する４つの画素を一単
位として、同一の凹凸パターンが繰り返されている。す
なわち、４画素毎に凹凸パターンＡ１＋Ｂ１＋Ｃ１＋Ｄ
１が繰り返し形成されている。同様に、下段の画素にお
いては、連続する４つの画素を一単位として、同一の凹
凸パターンが繰り返されている。すなわち、４画素毎に
凹凸パターンＡ２＋Ｂ２＋Ｃ２＋Ｄ２が繰り返し形成さ
れている。
【００７１】なお、下段の画素Ｐ９乃至Ｐ１６に形成さ
れる凹凸パターンとしては、上段の画素Ｐ１乃至Ｐ８に
形成される凹凸パターンと同様に、第一の凹凸パターン
Ａ１、第二の凹凸パターンＢ１、第三の凹凸パターンＣ
１及び第四の凹凸パターンＤ１を選択することも可能で
ある。
れる凹凸パターンとしては、上段の画素Ｐ１乃至Ｐ８に
形成される凹凸パターンと同様に、第一の凹凸パターン
Ａ１、第二の凹凸パターンＢ１、第三の凹凸パターンＣ
１及び第四の凹凸パターンＤ１を選択することも可能で
ある。
【００７２】図４は、本発明の第４の実施形態に係る反
射型液晶表示装置４００Ｄ及びその反射板４０Ｄの模式
的な平面図である。
射型液晶表示装置４００Ｄ及びその反射板４０Ｄの模式
的な平面図である。
【００７３】図４に示した反射板４０Ｄは縦に４列、横
に８列の画素（幅Ｈ、高さＶ）、すなわち、計３２個の
画素を有しているものとする。これら３２個の画素のう
ち、最上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ
６、Ｐ７、Ｐ８とし、最上段の直下の第二段の画素をＰ
９、Ｐ１０、Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４、Ｐ１
５、Ｐ１６とし、第二段の直下の第三段の画素をＰ１
７、Ｐ１８、Ｐ１９、Ｐ２０、Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２
３、Ｐ２４とし、第三段の直下の第四段の画素をＰ２
５、Ｐ２６、Ｐ２７、Ｐ２８、Ｐ２９、Ｐ３０、Ｐ３
１、Ｐ３２とする。本実施形態に係る反射型液晶表示装
置４００Ｄは反射板４０Ｄを形成した反射領域のみを有
している。
に８列の画素（幅Ｈ、高さＶ）、すなわち、計３２個の
画素を有しているものとする。これら３２個の画素のう
ち、最上段の画素をＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ
６、Ｐ７、Ｐ８とし、最上段の直下の第二段の画素をＰ
９、Ｐ１０、Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４、Ｐ１
５、Ｐ１６とし、第二段の直下の第三段の画素をＰ１
７、Ｐ１８、Ｐ１９、Ｐ２０、Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２
３、Ｐ２４とし、第三段の直下の第四段の画素をＰ２
５、Ｐ２６、Ｐ２７、Ｐ２８、Ｐ２９、Ｐ３０、Ｐ３
１、Ｐ３２とする。本実施形態に係る反射型液晶表示装
置４００Ｄは反射板４０Ｄを形成した反射領域のみを有
している。
【００７４】図４に示した反射板４０Ｄには、第１の実
施形態における反射板４０Ａと同様に、ランダムな方向
に延びる線状の凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａ
により囲まれ、三角形形状をなしている凹パターン１８
ｂとが反射板４０Ｄの表面に形成されている。
施形態における反射板４０Ａと同様に、ランダムな方向
に延びる線状の凸パターン１８ａと、凸パターン１８ａ
により囲まれ、三角形形状をなしている凹パターン１８
ｂとが反射板４０Ｄの表面に形成されている。
【００７５】本実施形態に係る反射型液晶表示装置４０
０Ｄに用いられる反射板４０Ｄにおいては、最上段の画
素Ｐ１には第一の凹凸パターンＡ１が形成されており、
画素Ｐ１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢ
１が形成されている。画素Ｐ２に隣接する画素Ｐ３には
第三の凹凸パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ３に
隣接する画素Ｐ４には第四の凹凸パターンＤ１が形成さ
れている。さらに、これらの第一乃至第四の凹凸パター
ンＡ１乃至Ｄ１は連続的に形成されている。
０Ｄに用いられる反射板４０Ｄにおいては、最上段の画
素Ｐ１には第一の凹凸パターンＡ１が形成されており、
画素Ｐ１に隣接する画素Ｐ２には第二の凹凸パターンＢ
１が形成されている。画素Ｐ２に隣接する画素Ｐ３には
第三の凹凸パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ３に
隣接する画素Ｐ４には第四の凹凸パターンＤ１が形成さ
れている。さらに、これらの第一乃至第四の凹凸パター
ンＡ１乃至Ｄ１は連続的に形成されている。
【００７６】画素Ｐ４に隣接する画素Ｐ５には第一の凹
凸パターンＡ１が形成されており、画素Ｐ５に隣接する
画素Ｐ６には第二の凹凸パターンＢ１が形成されてい
る。画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７には第三の凹凸パター
ンＣ１が形成されており、画素Ｐ７に隣接する画素Ｐ８
には第四の凹凸パターンＤ１が形成されている。さら
に、これらの第一乃至第四の凹凸パターンＡ１乃至Ｄ１
は連続的に形成されている。
凸パターンＡ１が形成されており、画素Ｐ５に隣接する
画素Ｐ６には第二の凹凸パターンＢ１が形成されてい
る。画素Ｐ６に隣接する画素Ｐ７には第三の凹凸パター
ンＣ１が形成されており、画素Ｐ７に隣接する画素Ｐ８
には第四の凹凸パターンＤ１が形成されている。さら
に、これらの第一乃至第四の凹凸パターンＡ１乃至Ｄ１
は連続的に形成されている。
【００７７】また、第二段の画素Ｐ９には第二の凹凸パ
ターンＢ１が形成されており、画素Ｐ９に隣接する画素
Ｐ１０には第三の凹凸パターンＣ１が形成されている。
画素Ｐ１０に隣接する画素Ｐ１１には第四の凹凸パター
ンＤ１が形成されており、画素Ｐ１１に隣接する画素Ｐ
１２には第一の凹凸パターンＡ１が形成されている。さ
らに、これらの第二乃至第一の凹凸パターンＢ１乃至Ａ
１は連続的に形成されている。
ターンＢ１が形成されており、画素Ｐ９に隣接する画素
Ｐ１０には第三の凹凸パターンＣ１が形成されている。
画素Ｐ１０に隣接する画素Ｐ１１には第四の凹凸パター
ンＤ１が形成されており、画素Ｐ１１に隣接する画素Ｐ
１２には第一の凹凸パターンＡ１が形成されている。さ
らに、これらの第二乃至第一の凹凸パターンＢ１乃至Ａ
１は連続的に形成されている。
【００７８】画素Ｐ１２に隣接する画素Ｐ１３には第二
の凹凸パターンＢ１が形成されており、画素Ｐ１３に隣
接する画素Ｐ１４には第三の凹凸パターンＣ１が形成さ
れている。画素Ｐ１４に隣接する画素Ｐ１５には第四の
凹凸パターンＤ１が形成されており、画素Ｐ１５に隣接
する画素Ｐ１６には第一の凹凸パターンＡ１が形成され
ている。さらに、これらの第二乃至第一の凹凸パターン
Ｂ１乃至Ａ１は連続的に形成されている。
の凹凸パターンＢ１が形成されており、画素Ｐ１３に隣
接する画素Ｐ１４には第三の凹凸パターンＣ１が形成さ
れている。画素Ｐ１４に隣接する画素Ｐ１５には第四の
凹凸パターンＤ１が形成されており、画素Ｐ１５に隣接
する画素Ｐ１６には第一の凹凸パターンＡ１が形成され
ている。さらに、これらの第二乃至第一の凹凸パターン
Ｂ１乃至Ａ１は連続的に形成されている。
【００７９】また、第三段の画素Ｐ１７には第三の凹凸
パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ１７に隣接する
画素Ｐ１８には第四の凹凸パターンＤ１が形成されてい
る。画素Ｐ１８に隣接する画素Ｐ１９には第一の凹凸パ
ターンＡ１が形成されており、画素Ｐ１９に隣接する画
素Ｐ２０には第二の凹凸パターンＢ１が形成されてい
る。さらに、これらの第三乃至第二の凹凸パターンＣ１
乃至Ｂ１は連続的に形成されている。
パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ１７に隣接する
画素Ｐ１８には第四の凹凸パターンＤ１が形成されてい
る。画素Ｐ１８に隣接する画素Ｐ１９には第一の凹凸パ
ターンＡ１が形成されており、画素Ｐ１９に隣接する画
素Ｐ２０には第二の凹凸パターンＢ１が形成されてい
る。さらに、これらの第三乃至第二の凹凸パターンＣ１
乃至Ｂ１は連続的に形成されている。
【００８０】画素Ｐ２０に隣接する画素Ｐ２１には第三
の凹凸パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ２１に隣
接する画素Ｐ２２には第四の凹凸パターンＤ１が形成さ
れている。画素Ｐ２２に隣接する画素Ｐ２３には第一の
凹凸パターンＡ１が形成されており、画素Ｐ２３に隣接
する画素Ｐ２４には第二の凹凸パターンＢ１が形成され
ている。さらに、これらの第三乃至第二の凹凸パターン
Ｃ１乃至Ｂ１は連続的に形成されている。
の凹凸パターンＣ１が形成されており、画素Ｐ２１に隣
接する画素Ｐ２２には第四の凹凸パターンＤ１が形成さ
れている。画素Ｐ２２に隣接する画素Ｐ２３には第一の
凹凸パターンＡ１が形成されており、画素Ｐ２３に隣接
する画素Ｐ２４には第二の凹凸パターンＢ１が形成され
ている。さらに、これらの第三乃至第二の凹凸パターン
Ｃ１乃至Ｂ１は連続的に形成されている。
【００８１】また、第四段の画素Ｐ２５には第四の凹凸
パターンＤ１が形成されており、画素Ｐ２５に隣接する
画素Ｐ２６には第一の凹凸パターンＡ１が形成されてい
る。画素Ｐ２６に隣接する画素Ｐ２７には第二の凹凸パ
ターンＢ１が形成されており、画素Ｐ２７に隣接する画
素Ｐ２８には第三の凹凸パターンＣ１が形成されてい
る。さらに、これらの第四乃至第三の凹凸パターンＤ１
乃至Ｃ１は連続的に形成されている。
パターンＤ１が形成されており、画素Ｐ２５に隣接する
画素Ｐ２６には第一の凹凸パターンＡ１が形成されてい
る。画素Ｐ２６に隣接する画素Ｐ２７には第二の凹凸パ
ターンＢ１が形成されており、画素Ｐ２７に隣接する画
素Ｐ２８には第三の凹凸パターンＣ１が形成されてい
る。さらに、これらの第四乃至第三の凹凸パターンＤ１
乃至Ｃ１は連続的に形成されている。
【００８２】画素Ｐ２８に隣接する画素Ｐ２９には第四
の凹凸パターンＤ１が形成されており、画素Ｐ２９に隣
接する画素Ｐ３０には第一の凹凸パターンＡ１が形成さ
れている。画素Ｐ３０に隣接する画素Ｐ３１には第二の
凹凸パターンＢ１が形成されており、画素Ｐ３１に隣接
する画素Ｐ３２には第三の凹凸パターンＣ１が形成され
ている。さらに、これらの第四乃至第三の凹凸パターン
Ｄ１乃至Ｃ１は連続的に形成されている。
の凹凸パターンＤ１が形成されており、画素Ｐ２９に隣
接する画素Ｐ３０には第一の凹凸パターンＡ１が形成さ
れている。画素Ｐ３０に隣接する画素Ｐ３１には第二の
凹凸パターンＢ１が形成されており、画素Ｐ３１に隣接
する画素Ｐ３２には第三の凹凸パターンＣ１が形成され
ている。さらに、これらの第四乃至第三の凹凸パターン
Ｄ１乃至Ｃ１は連続的に形成されている。
【００８３】このように、本実施形態に係る反射板４０
Ｄにおいては、最上段から第四段までの画素において
は、連続する４つの画素を一単位として、同一の凹凸パ
ターンが繰り返されている。すなわち、最上段の画素に
おいては、４画素毎に凹凸パターンＡ１＋Ｂ１＋Ｃ１＋
Ｄ１が繰り返し形成されている。同様に、第二段の画素
においては、４画素毎に凹凸パターンＢ１＋Ｃ１＋Ｄ１
＋Ａ１が繰り返し形成されている。同様に、第三段の画
素においては、４画素毎に凹凸パターンＣ１＋Ｄ１＋Ａ
１＋Ｂ１が繰り返し形成されている。同様に、第四段の
画素においては、４画素毎に凹凸パターンＤ１＋Ａ１＋
Ｂ１＋Ｃ１が繰り返し形成されている。
Ｄにおいては、最上段から第四段までの画素において
は、連続する４つの画素を一単位として、同一の凹凸パ
ターンが繰り返されている。すなわち、最上段の画素に
おいては、４画素毎に凹凸パターンＡ１＋Ｂ１＋Ｃ１＋
Ｄ１が繰り返し形成されている。同様に、第二段の画素
においては、４画素毎に凹凸パターンＢ１＋Ｃ１＋Ｄ１
＋Ａ１が繰り返し形成されている。同様に、第三段の画
素においては、４画素毎に凹凸パターンＣ１＋Ｄ１＋Ａ
１＋Ｂ１が繰り返し形成されている。同様に、第四段の
画素においては、４画素毎に凹凸パターンＤ１＋Ａ１＋
Ｂ１＋Ｃ１が繰り返し形成されている。
【００８４】また、最も左側の縦方向の列の画素におい
ては、上から順に、第一の凹凸パターンＡ１（画素Ｐ
１）、第二の凹凸パターンＢ１（画素Ｐ９）、第三の凹
凸パターンＣ１（画素Ｐ１７）、第四の凹凸パターンＤ
１（画素Ｐ２５）が配列されている。
ては、上から順に、第一の凹凸パターンＡ１（画素Ｐ
１）、第二の凹凸パターンＢ１（画素Ｐ９）、第三の凹
凸パターンＣ１（画素Ｐ１７）、第四の凹凸パターンＤ
１（画素Ｐ２５）が配列されている。
【００８５】左から二番目の縦方向の列の画素において
は、上から順に、第二の凹凸パターンＢ１（画素Ｐ
２）、第三の凹凸パターンＣ１（画素Ｐ１０）、第四の
凹凸パターンＤ１（画素Ｐ１８）、第一の凹凸パターン
Ａ１（画素Ｐ２６）が配列されている。
は、上から順に、第二の凹凸パターンＢ１（画素Ｐ
２）、第三の凹凸パターンＣ１（画素Ｐ１０）、第四の
凹凸パターンＤ１（画素Ｐ１８）、第一の凹凸パターン
Ａ１（画素Ｐ２６）が配列されている。
【００８６】左から三番目の縦方向の列の画素において
は、上から順に、第三の凹凸パターンＣ１（画素Ｐ
３）、第四の凹凸パターンＤ１（画素Ｐ１１）、第一の
凹凸パターンＡ１（画素Ｐ１９）、第二の凹凸パターン
Ｂ１（画素Ｐ２７）が配列されている。
は、上から順に、第三の凹凸パターンＣ１（画素Ｐ
３）、第四の凹凸パターンＤ１（画素Ｐ１１）、第一の
凹凸パターンＡ１（画素Ｐ１９）、第二の凹凸パターン
Ｂ１（画素Ｐ２７）が配列されている。
【００８７】左から四番目の縦方向の列の画素において
は、上から順に、第四の凹凸パターンＤ１（画素Ｐ
４）、第一の凹凸パターンＡ１（画素Ｐ１２）、第二の
凹凸パターンＢ１（画素Ｐ２０）、第三の凹凸パターン
Ｃ１（画素Ｐ２８）が配列されている。
は、上から順に、第四の凹凸パターンＤ１（画素Ｐ
４）、第一の凹凸パターンＡ１（画素Ｐ１２）、第二の
凹凸パターンＢ１（画素Ｐ２０）、第三の凹凸パターン
Ｃ１（画素Ｐ２８）が配列されている。
【００８８】以下、同様に、左から五番目乃至八番目の
縦方向の列の画素においては、それぞれ、左から一番目
乃至四番目の縦方向の列の画素と同様の凹凸パターンの
配列がなされている。
縦方向の列の画素においては、それぞれ、左から一番目
乃至四番目の縦方向の列の画素と同様の凹凸パターンの
配列がなされている。
【００８９】画素Ｐ１、画素Ｐ９、画素Ｐ１７及び画素
Ｐ２５にそれぞれ形成されている第一乃至第四の凹凸パ
ターンＡ１乃至Ｄ１は連続的に形成されている。以下、
同様に、縦方向に配列されている４つの画素にそれぞれ
形成されている第一乃至第四の凹凸パターンＡ１乃至Ｄ
１（順序は必ずしもこの通りではない）は連続的に形成
されている。
Ｐ２５にそれぞれ形成されている第一乃至第四の凹凸パ
ターンＡ１乃至Ｄ１は連続的に形成されている。以下、
同様に、縦方向に配列されている４つの画素にそれぞれ
形成されている第一乃至第四の凹凸パターンＡ１乃至Ｄ
１（順序は必ずしもこの通りではない）は連続的に形成
されている。
【００９０】上述の第３の実施形態における反射板４０
Ｃにおいては、横方向においてのみ、連続する４つの画
素を一単位として、同一の凹凸パターンが繰り返されて
いた。これに対して、本実施形態に係る反射板４０Ｄに
おいては、横方向及び縦方向の双方において、連続する
４つの画素を一単位として、同一の凹凸パターンＡ１＋
Ｂ１＋Ｃ１＋Ｄ１が繰り返されている。
Ｃにおいては、横方向においてのみ、連続する４つの画
素を一単位として、同一の凹凸パターンが繰り返されて
いた。これに対して、本実施形態に係る反射板４０Ｄに
おいては、横方向及び縦方向の双方において、連続する
４つの画素を一単位として、同一の凹凸パターンＡ１＋
Ｂ１＋Ｃ１＋Ｄ１が繰り返されている。
【００９１】以上の第１乃至第４の実施形態に係る反射
板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄによれば、複数の画
素にわたって同一の凹凸パターンが繰り返されることに
なるため、従来のように、一画素毎に同一の凹凸パター
ンを繰り返す場合と異なり、凹凸パターンの繰り返しの
ピッチを大きく、かつ、任意に設定することが可能にな
り、従来の反射型液晶表示装置において問題となってい
た反射光同士の干渉を防止することができる。
板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄによれば、複数の画
素にわたって同一の凹凸パターンが繰り返されることに
なるため、従来のように、一画素毎に同一の凹凸パター
ンを繰り返す場合と異なり、凹凸パターンの繰り返しの
ピッチを大きく、かつ、任意に設定することが可能にな
り、従来の反射型液晶表示装置において問題となってい
た反射光同士の干渉を防止することができる。
【００９２】また、第４の実施形態においては、パター
ンＡ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１を横に連続して形成すること
も可能であり、あるいは、縦に連続して形成することも
可能である。パターンに連続性を持たせることにより、
さらに反射板同士の干渉を防止することができる。ある
いは、パターンＡ１とＢ１、パターンＣ１とＤ１のみに
連続性を持たせることもできる。
ンＡ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１を横に連続して形成すること
も可能であり、あるいは、縦に連続して形成することも
可能である。パターンに連続性を持たせることにより、
さらに反射板同士の干渉を防止することができる。ある
いは、パターンＡ１とＢ１、パターンＣ１とＤ１のみに
連続性を持たせることもできる。
【００９３】なお、上記の第１乃至第４の実施形態にお
ける反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄにおいて
は、２画素または４画素毎に同一の凹凸パターンを繰り
返すものとしたが、３画素毎に同一の凹凸パターンを繰
り返すような反射板を形成することも可能である。この
場合、３画素としては、ＲＧＢの３画素を選択すること
ができる。
ける反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄにおいて
は、２画素または４画素毎に同一の凹凸パターンを繰り
返すものとしたが、３画素毎に同一の凹凸パターンを繰
り返すような反射板を形成することも可能である。この
場合、３画素としては、ＲＧＢの３画素を選択すること
ができる。
【００９４】ただし、ＲＧＢの３画素を一単位として凹
凸パターンを繰り返し形成する場合、ＲＧＢの色毎に反
射板での反射率が異なるため、色味に差が生じるおそれ
がある。このため、凹凸パターンの繰り返しの周期とし
ては、３以外の数の画素を単位とすることが好ましい。
すなわち、凹凸パターンの繰り返しの周期としては、２
画素または４画素もしくは５画素以上を一単位とするこ
とが好ましい。
凸パターンを繰り返し形成する場合、ＲＧＢの色毎に反
射板での反射率が異なるため、色味に差が生じるおそれ
がある。このため、凹凸パターンの繰り返しの周期とし
ては、３以外の数の画素を単位とすることが好ましい。
すなわち、凹凸パターンの繰り返しの周期としては、２
画素または４画素もしくは５画素以上を一単位とするこ
とが好ましい。
【００９５】なお、上述の第１乃至第４の実施形態に係
る反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄにおいては、
凹パターン１８ｂを三角形形状をなすものとしたが、凹
パターン１８ｂの形状は三角形形状に限定されるもので
はなく、閉図形形状であれば、どのような形状をも選択
することができる。例えば、多角形、楕円形などを選択
することができる。
る反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄにおいては、
凹パターン１８ｂを三角形形状をなすものとしたが、凹
パターン１８ｂの形状は三角形形状に限定されるもので
はなく、閉図形形状であれば、どのような形状をも選択
することができる。例えば、多角形、楕円形などを選択
することができる。
【００９６】また、第１の実施形態は半透過型液晶表示
装置及びその反射板について、第２乃至第４の実施形態
は反射型液晶表示装置及びその反射板について記載した
が、いずれの実施形態も半透過型液晶表示装置及びその
反射板、反射型液晶表示装置及びその反射板に適用する
ことができる。
装置及びその反射板について、第２乃至第４の実施形態
は反射型液晶表示装置及びその反射板について記載した
が、いずれの実施形態も半透過型液晶表示装置及びその
反射板、反射型液晶表示装置及びその反射板に適用する
ことができる。
【００９７】なお、本発明者は凹凸パターンの横方向の
繰り返しのピッチの最適値を求めるために、以下のよう
な実験を行った。
繰り返しのピッチの最適値を求めるために、以下のよう
な実験を行った。
【００９８】３個の色の異なる画素を横方向にＲ、Ｇ、
Ｂの順に形成する。一方、凹凸パターンの異なる反射板
の横方向の配列パターンが、Ａのみ、ＡとＢの繰り返
し、ＡとＢとＣの繰り返し、ＡとＢとＣとＤの繰り返し
の４種類を想定し、すなわち、異なる凹凸パターンの数
を１から４までの間で変化させ、上述のＲ、Ｇ、Ｂに対
応して凹凸パターンを形成する。Ｒ、Ｇ、Ｂと凹凸パタ
ーンの組み合わせによって決まる繰り返し周期を基本周
期の画素数とし、この基本周期の長さを凹凸パターンの
全長と定義する。また、１画素の横方向の長さも８０μ
ｍ、６０μｍの２種を形成した。このようにして形成し
た各組み合わせについての評価結果を表１に示す。
Ｂの順に形成する。一方、凹凸パターンの異なる反射板
の横方向の配列パターンが、Ａのみ、ＡとＢの繰り返
し、ＡとＢとＣの繰り返し、ＡとＢとＣとＤの繰り返し
の４種類を想定し、すなわち、異なる凹凸パターンの数
を１から４までの間で変化させ、上述のＲ、Ｇ、Ｂに対
応して凹凸パターンを形成する。Ｒ、Ｇ、Ｂと凹凸パタ
ーンの組み合わせによって決まる繰り返し周期を基本周
期の画素数とし、この基本周期の長さを凹凸パターンの
全長と定義する。また、１画素の横方向の長さも８０μ
ｍ、６０μｍの２種を形成した。このようにして形成し
た各組み合わせについての評価結果を表１に示す。
【００９９】
【表１】
【０１００】表１において、ケース番号１及び５は従来
例に対応する。ケース番号２では、１画素の横方向の長
さを８０μｍ、異なる凹凸パターンの数を２とした。従
って、凹凸パターンの全長は４８０μｍ、基本周期の画
素数は６である。このとき、反射光同士の干渉は起こら
なかった。この干渉の有無を表１に示した。
例に対応する。ケース番号２では、１画素の横方向の長
さを８０μｍ、異なる凹凸パターンの数を２とした。従
って、凹凸パターンの全長は４８０μｍ、基本周期の画
素数は６である。このとき、反射光同士の干渉は起こら
なかった。この干渉の有無を表１に示した。
【０１０１】第１の方向にＮ（Ｎは２以上の整数）個の
画素を一単位としてＮ種類の色の画素が周期的に繰り返
して配列され、同じ第１の方向にＭ（Ｍは２以上の整
数）個の画素を一単位としてＭ種類の凹凸パターンが形
成された反射板を有する画素が周期的に繰り返して配列
されるとき、色及び凹凸パターンによって見え方が異な
るため、ＮとＭの最小公倍数の数の画素の周期で第１の
方向における見え方が異なる縞模様が発生する。すなわ
ち、第１の方向と直交する方向の縞が発生する。
画素を一単位としてＮ種類の色の画素が周期的に繰り返
して配列され、同じ第１の方向にＭ（Ｍは２以上の整
数）個の画素を一単位としてＭ種類の凹凸パターンが形
成された反射板を有する画素が周期的に繰り返して配列
されるとき、色及び凹凸パターンによって見え方が異な
るため、ＮとＭの最小公倍数の数の画素の周期で第１の
方向における見え方が異なる縞模様が発生する。すなわ
ち、第１の方向と直交する方向の縞が発生する。
【０１０２】しかしながら、この周期が短いと人間の目
にはこの縞模様は判別できないため、縞模様として認識
されることはない。本評価においては、第１の方向を横
方向としたため、縞模様は縦縞となる。この縦縞の判別
の可否を表１に示した。
にはこの縞模様は判別できないため、縞模様として認識
されることはない。本評価においては、第１の方向を横
方向としたため、縞模様は縦縞となる。この縦縞の判別
の可否を表１に示した。
【０１０３】また、本評価においては、画素数ＮはＲＧ
Ｂに対応させて３とした。ただし、第１の方向は縦方向
または斜め方向でもよく、また、画素数Ｎとしては２ま
たは４もしくは４以上を選択することもできる。
Ｂに対応させて３とした。ただし、第１の方向は縦方向
または斜め方向でもよく、また、画素数Ｎとしては２ま
たは４もしくは４以上を選択することもできる。
【０１０４】さらに、上述のように、ＲＧＢで反射率が
異なるため、異なる凹凸パターンの数がＲＧＢの数と同
じ３になると色味に差が生じる。この色味に差が発生す
るか否かを色味の差の有無として表１に示した。
異なるため、異なる凹凸パターンの数がＲＧＢの数と同
じ３になると色味に差が生じる。この色味に差が発生す
るか否かを色味の差の有無として表１に示した。
【０１０５】７個のケースについて実験を行った結果、
表１から以下のことが明らかになった。
表１から以下のことが明らかになった。
【０１０６】（１）反射光同士の干渉は、異なる凹凸パ
ターンの数を２以上にすると発生しない。
ターンの数を２以上にすると発生しない。
【０１０７】（２）縦縞は、凹凸パターンの全長が０．
５ｍｍ以下になると、人間の目では判別できない。０．
５ｍｍを超えると、縦縞は人間の目でも判別可能にな
る。
５ｍｍ以下になると、人間の目では判別できない。０．
５ｍｍを超えると、縦縞は人間の目でも判別可能にな
る。
【０１０８】（３）異なる凹凸パターンの数がＲＧＢの
数と同じ３になると、色味に差が生じる。それ以外の場
合は色味の差は生じない。
数と同じ３になると、色味に差が生じる。それ以外の場
合は色味の差は生じない。
【０１０９】すなわち、上述の第１乃至第４の実施形態
における反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄに関し
て言えば、図１乃至図４に示した同一の凹凸パターンの
横方向における繰り返しピッチＬ１、あるいは、図２及
び図４に示した同一の凹凸パターンの縦方向における繰
り返しピッチＬ２が約０．５ｍｍ以下であることが望ま
しい。
における反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄに関し
て言えば、図１乃至図４に示した同一の凹凸パターンの
横方向における繰り返しピッチＬ１、あるいは、図２及
び図４に示した同一の凹凸パターンの縦方向における繰
り返しピッチＬ２が約０．５ｍｍ以下であることが望ま
しい。
【０１１０】液晶表示装置の反射板として、上記の第１
乃至第４の実施形態における反射板４０Ａ、４０Ｂ、４
０Ｃ、４０Ｄを用いることにより、従来の反射型液晶表
示装置において問題となっていた反射光同士の干渉や色
味の差の発生を防止することができる。
乃至第４の実施形態における反射板４０Ａ、４０Ｂ、４
０Ｃ、４０Ｄを用いることにより、従来の反射型液晶表
示装置において問題となっていた反射光同士の干渉や色
味の差の発生を防止することができる。
【０１１１】しかしながら、縦縞については、１画素の
横方向の長さによって異なるため、横方向の凹凸パター
ンの全長を０．５ｍｍ以下に設定することが望ましい。
また、ここでは、横方向に凹凸パターンを形成した場合
について検討したが、縦方向に凹凸パターンを形成した
場合は横縞が発生すると考えられる。このため、凹凸パ
ターンを縦方向に配列する場合には、縦方向における凹
凸パターンの全長を０．５ｍｍ以下に設定することが望
ましい。
横方向の長さによって異なるため、横方向の凹凸パター
ンの全長を０．５ｍｍ以下に設定することが望ましい。
また、ここでは、横方向に凹凸パターンを形成した場合
について検討したが、縦方向に凹凸パターンを形成した
場合は横縞が発生すると考えられる。このため、凹凸パ
ターンを縦方向に配列する場合には、縦方向における凹
凸パターンの全長を０．５ｍｍ以下に設定することが望
ましい。
【０１１２】以下、上記の第１乃至第４の実施形態にお
ける反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄの何れかを
備える反射型液晶表示装置の製造方法を説明する。
ける反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄの何れかを
備える反射型液晶表示装置の製造方法を説明する。
【０１１３】図５は、反射型液晶表示装置の製造方法の
各過程を示す断面図である。
各過程を示す断面図である。
【０１１４】先ず、図５（ａ）に示すように、絶縁性基
板１４上にスイッチング素子としてのＴＦＴ１６を形成
する。
板１４上にスイッチング素子としてのＴＦＴ１６を形成
する。
【０１１５】具体的には、絶縁性基板１４の上にゲート
電極１６ａを形成した後、絶縁性基板１４上に絶縁保護
膜１５を積層し、さらに、絶縁保護膜１５の上に、ドレ
イン電極１６ｂ、半導体層１６ｃ及びソース電極１６ｄ
をそれぞれ形成する。
電極１６ａを形成した後、絶縁性基板１４上に絶縁保護
膜１５を積層し、さらに、絶縁保護膜１５の上に、ドレ
イン電極１６ｂ、半導体層１６ｃ及びソース電極１６ｄ
をそれぞれ形成する。
【０１１６】次いで、ＴＦＴ１６を覆って第１絶縁層１
７を積層する。
７を積層する。
【０１１７】次に、図５（ｂ）に示すように、第１絶縁
層１７の上に有機樹脂を塗布した後、露光・現象処理を
行い、、凸パターン形成マスクにより、反射電極２０の
表面に凹凸パターンを形成するための複数の凸パターン
１８を形成する。
層１７の上に有機樹脂を塗布した後、露光・現象処理を
行い、、凸パターン形成マスクにより、反射電極２０の
表面に凹凸パターンを形成するための複数の凸パターン
１８を形成する。
【０１１８】その後、図５（ｃ）に示すように、有機樹
脂の熱焼成を行う。熱焼成により有機樹脂の角部分が丸
みを帯びるものとなる。
脂の熱焼成を行う。熱焼成により有機樹脂の角部分が丸
みを帯びるものとなる。
【０１１９】次に、凸パターン１８を覆うように、有機
樹脂からなる層間膜を塗布して、滑らかな凹凸形状とし
た後、露光・現像処理を行ってコンタクトホール２１を
開ける。
樹脂からなる層間膜を塗布して、滑らかな凹凸形状とし
た後、露光・現像処理を行ってコンタクトホール２１を
開ける。
【０１２０】その後、図５（ｄ）に示すように、層間膜
の熱焼成を行い、第２絶縁層１９を形成する。
の熱焼成を行い、第２絶縁層１９を形成する。
【０１２１】次に、反射電極２０の形成位置に対応させ
て、コンタクトホール２１とともに第２絶縁層１９を覆
うアルミニウム薄膜を形成した後、露光・現像処理を行
って、反射電極２０（図８参照）を形成する。この反射
電極２０は、図１乃至図４に示した第１乃至第４の実施
形態に係る半透過型液晶表示装置４００Ａ及び反射型液
晶表示装置４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄに用いられる
反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄと同一の構成を
有しているものである。
て、コンタクトホール２１とともに第２絶縁層１９を覆
うアルミニウム薄膜を形成した後、露光・現像処理を行
って、反射電極２０（図８参照）を形成する。この反射
電極２０は、図１乃至図４に示した第１乃至第４の実施
形態に係る半透過型液晶表示装置４００Ａ及び反射型液
晶表示装置４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄに用いられる
反射板４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄと同一の構成を
有しているものである。
【０１２２】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る反射板また
はその反射板を用いた液晶表示装置によれば、複数の画
素にわたって同一の凹凸パターンが繰り返される。この
ため、一画素毎に同一の凹凸パターンが繰り返し形成さ
れている従来の液晶表示装置とは異なり、凹凸パターン
の繰り返しのピッチを大きく、かつ、任意に設定するこ
とが可能になり、従来の反射型液晶表示装置において問
題となっていた反射光同士の干渉、ひいては、液晶表示
装置の表示面における縞模様の発生を防止することがで
きる。
はその反射板を用いた液晶表示装置によれば、複数の画
素にわたって同一の凹凸パターンが繰り返される。この
ため、一画素毎に同一の凹凸パターンが繰り返し形成さ
れている従来の液晶表示装置とは異なり、凹凸パターン
の繰り返しのピッチを大きく、かつ、任意に設定するこ
とが可能になり、従来の反射型液晶表示装置において問
題となっていた反射光同士の干渉、ひいては、液晶表示
装置の表示面における縞模様の発生を防止することがで
きる。
【図１】本発明の第１の実施形態に係る半透過型液晶表
示装置及びその反射板の模式的な平面図である。
示装置及びその反射板の模式的な平面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る反射型液晶表示
装置及びその反射板の模式的な平面図である。
装置及びその反射板の模式的な平面図である。
【図３】本発明の第３の実施形態に係る反射型液晶表示
装置及びその反射板の模式的な平面図である。
装置及びその反射板の模式的な平面図である。
【図４】本発明の第４の実施形態に係る反射型液晶表示
装置及びその反射板の模式的な平面図である。
装置及びその反射板の模式的な平面図である。
【図５】本発明の第１乃至第４の実施形態における反射
板の何れかを用いた液晶表示装置の製造方法の各過程に
おける断面図である。
板の何れかを用いた液晶表示装置の製造方法の各過程に
おける断面図である。
【図６】従来の反射板に形成された凹凸パターンの一例
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図７】図６に示した反射板における入射光と反射光と
の関係を示す模式的な斜視図である。
の関係を示す模式的な斜視図である。
【図８】従来の反射型液晶表示装置の部分的な断面図で
ある。
ある。
【図９】入射光と反射光との関係を示す模式図である。
【図１０】光源、反射板及び観察者相互間の位置関係を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図１１】従来の反射板の凹凸パターンの平面図であ
る。
る。
【図１２】図１１に示した凹凸パターンの断面図であ
る。
る。
【図１３】反射型液晶表示装置における複数の反射板の
配列状態を示す模式的な平面図である。
配列状態を示す模式的な平面図である。
【図１４】半透過型液晶表示装置における複数の反射板
の配列状態を示す模式的な平面図である。
の配列状態を示す模式的な平面図である。
４００Ａ 第１の実施形態に係る半透過型液晶表示装置
４００Ｂ 第２の実施形態に係る反射型液晶表示装置
４００Ｃ 第３の実施形態に係る反射型液晶表示装置
４００Ｄ 第４の実施形態に係る反射型液晶表示装置
４０Ａ 第１の実施形態における反射板
４０Ｂ 第２の実施形態における反射板
４０Ｃ 第３の実施形態における反射板
４０Ｄ 第４の実施形態における反射板
Ｐ１−Ｐ３２ 画素
１８ａ 凸パターン
１８ｂ 凹パターン
【手続補正書】
【提出日】平成１３年１１月１３日（２００１．１１．
１３）
１３）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９９】
【表１】
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正内容】
【図４】
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正内容】
【図９】
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１１】
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１３】
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１４】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 原田 健吉
東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株
式会社内
Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA14 BA20 DB08 DD01
DE04
2H091 FA16Y FA41 FA41Z FD04
GA02 GA13 HA07 HA10 LA17
LA18
2H092 HA05 JA26 JB05 JB08 KB13
NA01 PA08 PA12
Claims (9)
- 【請求項１】 外部からの入射光を観察者側に反射さ
せ、表示用光源とする液晶表示装置に用いられる反射板
において、 前記反射板の表面には、交互に形成されている凹部と凸
部とからなる凹凸パターンが形成されており、 前記凹凸パターンは少なくとも２つの画素を一単位とし
て周期的に繰り返して形成されていることを特徴とする
反射板。 - 【請求項２】 外部からの入射光を観察者側に反射さ
せ、表示用光源とする液晶表示装置に用いられる反射板
において、 前記反射板の表面には、交互に形成されている凹部と凸
部とからなる凹凸パターンが形成されており、 前記凹凸パターンは少なくとも２つの画素を一単位とし
て周期的に繰り返して形成されており、その繰り返しの
周期はＲＧＢの３個の画素の単位からずらした単位であ
ることを特徴とする反射板。 - 【請求項３】 前記繰り返しの周期は２画素を単位とす
ることを特徴とする請求項２に記載の反射板。 - 【請求項４】 前記繰り返しのピッチは０．５ｍｍ以下
であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に
記載の反射板。 - 【請求項５】 前記凸部は複数の線形形状からなり、前
記凹部は前記凸部に囲まれた閉図形形状をなすものであ
ることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載
の反射板。 - 【請求項６】 前記閉図形形状は三角形であることを特
徴とする請求項５に記載の反射板。 - 【請求項７】 前記凹凸パターンは少なくとも２つの画
素間では連続して形成されていることを特徴とする請求
項１乃至６の何れか一項に記載の反射板。 - 【請求項８】 外部からの入射光を観察者側に反射さ
せ、表示用光源とする複数の画素を有する液晶表示装置
の前記複数の画素のそれぞれに形成された反射板におい
て、 第１の方向にＮ（Ｎは２以上の整数）個の前記画素を一
単位としてＮ種類の色の前記画素が周期的に繰り返して
形成され、 前記第１の方向にＭ（Ｍは２以上の整数）個の前記画素
を一単位としてＭ種類の凹凸パターンが形成された反射
板を有する画素が周期的に繰り返して配列され、 前記Ｎと前記Ｍとの最小公倍数の数の前記画素を前記第
１の方向に配列した長さが０．５ｍｍであることを特徴
とする反射板。 - 【請求項９】 請求項１乃至８の何れか一項に記載の反
射板を備え、外部からの入射光を前記反射板において観
察者側に反射させ、表示用の光源とする液晶表示装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001343533A JP3990141B2 (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 液晶表示装置 |
| TW091132750A TWI251698B (en) | 2001-11-08 | 2002-11-07 | Liquid crystal display device |
| US10/289,369 US7652733B2 (en) | 2001-11-08 | 2002-11-07 | Liquid crystal display device with reflector having alternating rugged patterns |
| CNB021502919A CN1297843C (zh) | 2001-11-08 | 2002-11-08 | 液晶显示器件 |
| KR1020020069293A KR100568196B1 (ko) | 2001-11-08 | 2002-11-08 | 액정표시장치 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001343533A JP3990141B2 (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 液晶表示装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=19157207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001343533A Expired - Lifetime JP3990141B2 (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 液晶表示装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| KR (1) | KR100568196B1 (ja) |
| CN (1) | CN1297843C (ja) |
| TW (1) | TWI251698B (ja) |
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| US7084940B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-08-01 | Seiko Epson Corporation | Electro-optic device comprising a recess/projection pattern obtained by rotating a reference pattern about a predetermined position |
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| KR100982128B1 (ko) | 2003-12-30 | 2010-09-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 요철 씨드 형성방법 |
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| JP2004264605A (ja) | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Omron Corp | 反射板、反射型表示装置および電子機器 |
| TWI252947B (en) * | 2004-02-25 | 2006-04-11 | Au Optronics Corp | Liquid crystal display device having various reflective pattern arrangements and method for arranging the same |
| KR101037085B1 (ko) * | 2004-06-05 | 2011-05-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
| US7670004B2 (en) * | 2006-10-18 | 2010-03-02 | Real D | Dual ZScreen® projection |
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| JP2825713B2 (ja) | 1991-09-10 | 1998-11-18 | シャープ株式会社 | 反射型液晶表示装置およびその製造方法 |
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| JP3097945B2 (ja) * | 1994-10-03 | 2000-10-10 | シャープ株式会社 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
| JP3213242B2 (ja) * | 1996-10-23 | 2001-10-02 | シャープ株式会社 | 反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法 |
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-
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-
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