JP2003168593A

JP2003168593A - 放電プラズマ処理装置

Info

Publication number: JP2003168593A
Application number: JP2001364589A
Authority: JP
Inventors: Kazuyoshi Iwane; 和良岩根
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2001-11-29
Filing date: 2001-11-29
Publication date: 2003-06-13

Abstract

(57)【要約】【課題】長尺（巻物）状の被処理体を安定して、均一
に処理できる放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】少なくとも一方が固体誘電体で被覆され
た一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導
入して、発生するグロー放電プラズマで電極間に設置さ
れた被処理体を処理する放電プラズマ処理装置におい
て、少なくとも電極の一方が被処理体搬送機能を備えた
帯状閉環電極であり、かつ温度調整機構を備えた電極で
あることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、放電プラズマ処理
装置に関し、特に、温度調整機構と被処理体搬送機能を
備えた帯状閉環電極を有する放電プラズマ処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電極間に電界を印加し発生するグ
ロー放電プラズマを用い、固定された電極間中を搬送さ
れる被処理体の処理を行う場合、電極として平行平板型
電極を用いて処理が行われているが、被処理体が巻物で
ある場合には、搬送される被処理体は、固定電極の表面
と接するように搬送されるため、その裏面がこすれ、被
処理体裏面が傷ついたり、コンタミの発生が起きるとい
う問題があった。

【０００３】そのような問題を解決する技術として、特
開２０００−２４８０９０号公報においては、帯状閉環
状電極を導入しているが、この場合、プラズマ処理する
のに時間を必要とする長尺（巻物）の被処理体において
は、同時に発生する熱プラズマにより電極の温度が急激
に上がり、アーク放電や不均一で不安定な放電が発生
し、プラズマ処理が均質に行われなくなる危険性があ
る。

【０００４】また、ベルトコンベア型等の帯状閉環状電
極においては、電極が複数の独立した金属部分からなる
ために、電極全体に渡って温度を一定にすることが難し
く、処理中の温度差が処理ムラになり易いという問題が
あった。さらに、帯状閉環状電極には、駆動軸付近で曲
率が大きくなり、電極上に被覆された固体誘電体の割れ
やハガレが起こりやすくなり、ガラスセラミック製等の
固体誘電体を用いることができないという問題があっ
た。また、帯状閉環状電極には垂れ防止構造がないた
め、放電において特に重要な要素の一つである電極間距
離が一定にならなかったり、熱変形のため搬送や処理に
支障をきたすという問題が起こる可能性があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑み、長尺（巻物）状の被処理体を安定して、均一に
処理できる放電プラズマ処理装置を提供することを目的
とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究した結果、少なくとも一方の電極と
して、温度調整機構及び被処理体搬送機能を備えた帯状
閉環電極を用いることにより、長尺（巻物）状の被処理
体を安定して、均一にプラズマ処理できることを見出
し、本発明を完成させた。

【０００７】すなわち、本発明の第１の発明は、少なく
とも一方が固体誘電体で被覆された一対の電極間に電界
を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロ
ー放電プラズマで電極間に設置された被処理体を処理す
る放電プラズマ処理装置において、少なくとも電極の一
方が被処理体搬送機能を備えた帯状閉環電極であり、か
つ温度調整機構を備えた電極であることを特徴とする放
電プラズマ処理装置である。

【０００８】また、本発明の第２の発明は、第１の発明
に記載の温度調整機構が、電極内部に冷媒又は熱媒流路
を有する機構であることを特徴とする放電プラズマ処理
装置である。

【０００９】また、本発明の第３の発明は、第１の発明
に記載の温度調整機構が、帯状閉環電極の駆動軸に冷媒
又は熱媒流路が設けられている機構であることを特徴と
する放電プラズマ処理装置である。

【００１０】また、本発明の第４の発明は、第１の発明
に記載の温度調整機構が、帯状閉環電極の垂れ防止部に
冷媒又は熱媒流路が設けられている機構であることを特
徴とする放電プラズマ処理装置である。

【００１１】また、本発明の第５の発明は、第１の発明
に記載の温度調整機構が、帯状閉環電極の裏面に放冷フ
ィンを有する冷却機構であることを特徴とする放電プラ
ズマ処理装置である。

【００１２】また、本発明の第６の発明は、第１〜５の
いずれかの発明に記載の帯状閉環電極が、ベルト形状で
あることを特徴とする放電プラズマ処理装置である。

【００１３】また、本発明の第７の発明は、第１〜５の
いずれかの発明に記載の帯状閉環電極が、キャタピラ形
状であることを特徴とする放電プラズマ処理装置であ
る。

【００１４】また、本発明の第８の発明は、請求項１〜
７のいずれかの発明に記載の帯状閉環電極に対向する電
極が、平行平板型電極であることを特徴とする放電プラ
ズマ処理装置である。

【００１５】また、本発明の第９の発明は、第１〜８の
いずれかの発明に記載の電極を被覆する固体誘電体が、
セラミックであることを特徴とする放電プラズマ処理装
置である。

【００１６】また、本発明の第１０の発明は、電極を被
覆する固体誘電体の表面が平滑であることを特徴とする
第１〜９のいずれかの発明に記載の放電プラズマ処理装
置である。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の放電プラズマ処理装置の
構成を図で説明する。図１は、本発明の放電プラズマ処
理装置の構成の一例を説明する模式図である。図１にお
いては、一対の電圧印加電極２とアース電極３の電極間
に電源１より電界を印加し、電極２及び３の間の放電空
間４に処理ガスを導入して、放電空間で発生するグロー
放電プラズマで電極２及び３の間を搬送される被処理体
１０の表面をプラズマ処理する放電プラズマ処理装置が
示され、上記アース電極３が、温度調整機構を備えた被
処理体１０を搬送する帯状閉環電極を示している。上記
一対の電極２及び３のうち、少なくとも一方が温度調整
機構を有する被処理体搬送機能を備えた帯状閉環電極で
あればよく、両電極であってもかまわないが、被処理体
と接する側の電極のみであっても構わない。

【００１８】本発明の装置において、被処理体搬送機能
を備えた帯状閉環電極としては、例えば、金属薄板の両
端を合わせたベルト形の帯状形状にしたもの、金属板を
複数枚繋いだキャタピラ状構成の両端を合わせて帯状形
状にしたものが挙げられる。全体の長さや幅の大きさ
は、被処理体の大きさ、処理能力、処理目的等により適
宜決定される。また、被処理体搬送機能を備えた帯状閉
環電極は、さらに温度調整機構を備えている必要があ
る。温度調整機構としては、電極自体を内部から冷却又
は加熱する方法または電極を外部から冷却又は加熱する
方法のいずれであってもよい。

【００１９】本発明の被処理体搬送機能及び温度調整機
構を備えた放電プラズマ処理装置の構成の例を図で説明
する。図２は、金属薄板の両端を合わせて帯状形状にし
た電極の放電処理面の裏面に金属フィンなどの突起を持
たせて放熱面積を増やして冷却する機構を示す図であ
る。被処理体１０は、基材繰り出しロール１１から繰り
出され、電極駆動軸５及び６により移動する帯状閉環電
極３により搬送され、電極２及び３の間の放電空間４内
で処理ガスのプラズマで処理される。処理中の熱プラズ
マによる電極の温度上昇を抑えるために、電極３の裏面
には金属フィン７を複数個設け、帯状閉環電極３は移動
しながら空冷される。金属フィン７の設置数は、装置の
大きさ、処理目的等により適宜決められ、材質としては
電極と同じ材質であるのが好ましい。

【００２０】図３は、帯状閉環電極を駆動させる軸を温
度調整する機構を示す図である。被処理体１０は、基材
繰り出しロール１１から繰り出され、電極駆動軸５及び
６により移動する帯状閉環電極３により搬送され、電極
２及び３の間の放電空間４内で処理ガスのプラズマで処
理される。処理中の熱プラズマによる電極の温度上昇を
抑えたりする温度調整のために、電極駆動軸５及び６に
は内部に水等の冷媒又は熱媒を通す流路５１、６１を設
け、帯状閉環電極３は移動しながら駆動軸に接するとき
に冷却又は加熱される。

【００２１】図４は、帯状閉環電極の駆動軸と駆動軸と
の間に設けた垂れ防止部に温度調整機構を持たせる方法
を示す図である。被処理体１０は、基材繰り出しロール
１１から繰り出され、電極駆動軸５及び６により移動す
る帯状閉環電極３により搬送され、電極２及び３の間の
放電空間４内で処理ガスのプラズマで処理される。処理
中の熱プラズマによる電極の温度上昇を抑えたりする温
度調整のために、電極駆動軸５及び６の間に複数個の垂
れ防止ロール８を設ける。この垂れ防止ロール８には内
部に水等の冷媒又は熱媒を通す流路８１を設け、帯状閉
環電極３は移動しながら垂れ防止ロール８に接するとき
に冷却又は加熱される。なお、帯状閉環電極３の垂れ防
止機構は、駆動軸間距離が長い場合には、放電空間での
電極間距離を一定にし、放電状態を安定にするために用
いるのが好ましい。なお、垂れ防止ロール等の材質は、
電極３の材質、処理目的等により適宜選択できる。

【００２２】また、帯状閉環電極３として、金属板を複
数枚繋いだキャタピラ状構成の電極を用いる場合には、
図５に示すように、各構成金属板３１の内部に冷媒又は
熱媒の流路３２を設けて冷却又は加熱する方法が好まし
く、さらに、図３及び４に示した温度調整機構と組み合
わせた温度調整機構が好ましく、特に、キャタピラ状構
成においてはその構成する金属板が厚くなるので、電極
３全体が重くなり、垂れ防止ロールと組み合わせる方法
が好ましい。さらに、キャタピラ状構成の電極において
は、金属板の繋ぎ部分における空隙を無くす工夫が必要
であり、キャタピラを構成する金属板の両端または一方
に張り出し部３３を設けたり、金網状物で覆ったりする
ことにより、放電を安定に立つようにするのが好まし
い。

【００２３】なお、上記帯状閉環電極の駆動軸の回転速
度及び方向は、被処理体の巻き出しロール及び巻き取り
ロールの回転速度と方向を同じにすることにより、より
均一な処理を行うことができ、被処理体を全く傷付ける
ことなく処理できる。

【００２４】本発明では、電極が一定の温度に保たれる
ので、アーク放電につながるような温度上昇を抑えるこ
とが出来る。また、温度差に起因する処理ムラを抑える
こともできる。冷媒として、水等を、熱媒として、絶縁
油等を使用することにより、設定する温度は、０〜３０
０℃までの処理の目的に応じて決められる。

【００２５】上記電極の材質としては、金属であれば特
に限定されないが、好ましくは、ステンレス鋼等の鉄系
材料、銅、アルミニウム等が挙げられる。電極の形状と
しては、少なくとも一方は上述の帯状閉環電極であり、
他方は特に限定されないが、電界集中によるアーク放電
の発生を避けるために、対向電極間の距離が一定となる
構造である平行平板型であることが好ましい。

【００２６】電極間の距離は、固体誘電体の厚さ、印加
電圧の大きさ、プラズマを利用する目的等を考慮して適
宜決定されるが、０．１〜５０ｍｍであることが好まし
い。０．１ｍｍ未満では、電極間の間隔を置いて設置す
るのに充分でないことがある。５０ｍｍを超えると、均
一な放電プラズマを発生させにくい。

【００２７】電極の対向面の一方又は双方は、固体誘電
体で被覆されている必要がある。固体誘電体が電極に密
着し、かつ電極の対向面を完全に覆うようにすることが
好ましい。固体誘電体によって覆われずに電極同士が直
接対向する部位があると、そこからアーク放電が生じや
すい。固体誘電体の厚みは、０．０１〜４ｍｍであるこ
とが好ましい。厚すぎると放電プラズマを発生するのに
高電圧を要することがあり、薄すぎると電圧印加時に絶
縁破壊が起こり、アーク放電が発生することがある。

【００２８】固体誘電体の材質としては、セラミック誘
電体が好ましく、具体的には、酸化アルミニウム、二酸
化ジルコニウム、二酸化チタン等の金属酸化物、チタン
酸バリウム等の複酸化物、及びこれらの複層化したもの
が挙げられる。さらに、シリコーンゴム、ポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラ
スチック、ガラス、二酸化珪素等が挙げられる。また、
安定なプラズマ放電を得るためには、電極に被覆した固
体誘電体の表面は、平滑であることが好ましく、算術平
均粗さＲａが１０μｍ以下とすることが好ましい。

【００２９】本発明の装置においては、上記電極間に
は、高周波、パルス波、マイクロ波等の電界が印加さ
れ、プラズマを発生させるが、パルス電界を印加するこ
とが好ましく、特に、電界の立ち上がり及び／又は立ち
下がり時間が、１０μｓ以下である電界が好ましい。１
０μｓを超えると放電状態がアークに移行しやすく不安
定なものとなり、パルス電界による高密度プラズマ状態
を保持しにくくなる。また、立ち上がり時間及び立ち下
がり時間が短いほどプラズマ発生の際のガスの電離が効
率よく行われるが、４０ｎｓ未満の立ち上がり時間のパ
ルス電界を実現することは、実際には困難である。より
好ましくは５０ｎｓ〜５μｓである。なお、ここでいう
立ち上がり時間とは、電圧（絶対値）が連続して増加す
る時間、立ち下がり時間とは、電圧（絶対値）が連続し
て減少する時間を指すものとする。

【００３０】上記パルス電界の電界強度は、１０〜１０
００ｋＶ／ｃｍとなるようにするのが好ましい。電界強
度が１０ｋＶ／ｃｍ未満であると処理に時間がかかりす
ぎ、１０００ｋＶ／ｃｍを超えるとアーク放電が発生し
やすくなる。

【００３１】上記パルス電界の周波数は、０．５ｋＨｚ
以上であることが好ましい。０．５ｋＨｚ未満であると
プラズマ密度が低いため処理に時間がかかりすぎる。上
限は特に限定されないが、常用されている１３．５６Ｍ
Ｈｚ、試験的に使用されている５００ＭＨｚといった高
周波帯でも構わない。負荷との整合のとり易さや取り扱
い性を考慮すると、５００ｋＨｚ以下が好ましい。この
ようなパルス電界を印加することにより、処理速度を大
きく向上させることができる。

【００３２】また、上記パルス電界におけるひとつのパ
ルス継続時間は、２００μｓ以下であることが好まし
い。２００μｓを超えるとアーク放電に移行しやすくな
る。ここで、ひとつのパルス継続時間とは、ＯＮ、ＯＦ
Ｆの繰り返しからなるパルス電界における、ひとつのパ
ルスの連続するＯＮ時間を言う。

【００３３】本発明の装置で用いる被処理体は、フィル
ム状、シート状、枚葉状のいずれであってもよいが、巻
物形状のものが好ましい。具体的には、半導体用基材、
例えば、銅張積層体、プリント回路基材、ＴＡＢテー
プ、プリプレグ等が挙げられる。また、材質としては、
ポリイミド、エポキシ樹脂、ＢＴ樹脂、ＰＰＥ樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド
系樹脂、液晶ポリマー系樹脂等を挙げることができる。

【００３４】本発明の放電プラズマ処理装置における処
理圧力は、特に限定されないが、大気圧近傍の圧力下で
行うことができ、１．３３３×１０⁴〜１０．６６４×
１０⁴Ｐａの圧力下で行うのが好ましく、中でも、圧力
調整が容易で、装置が簡便になる９．３３１×１０⁴〜
１０．３９７×１０⁴Ｐａの範囲で行うのが好ましい。

【００３５】上記処理においては、放電プラズマ発生空
間に存在する処理ガスの選択により任意の処理が可能で
ある。

【００３６】上記処理ガスとして、ＣＦ₄、Ｃ₂Ｆ₆、Ｃ
ＣｌＦ₃、ＳＦ₆等のフッ素含有化合物ガスを用いること
によって、撥水性表面を得ることができる。

【００３７】また、処理ガスとして、Ｏ₂、Ｏ₃、水、空
気等の酸素元素含有化合物、Ｎ₂、ＮＨ₃等の窒素元素含
有化合物、ＳＯ₂、ＳＯ₃等の硫黄元素含有化合物を用い
て、基材表面にカルボニル基、水酸基、アミノ基等の親
水性官能基を形成させて表面エネルギーを高くし、親水
性表面を得ることができる。また、アクリル酸、メタク
リル酸等の親水基を有する重合性モノマーを用いて親水
性重合膜を堆積することもできる。

【００３８】さらに、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎ等の金属の金属
−水素化合物、金属−ハロゲン化合物、金属アルコラー
ト等の処理用ガスを用いて、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ
₂等の金属酸化物薄膜を形成させ、基材表面に電気的、
光学的機能を与えることができ、ハロゲン系ガスを用い
てエッチング処理、ダイシング処理を行ったり、酸素系
ガスを用いてレジスト処理や有機物汚染の除去を行った
り、アルゴン、窒素等の不活性ガスによるプラズマで表
面クリーニングや表面改質を行うこともできる。

【００３９】経済性及び安全性の観点から、上記処理用
ガス単独雰囲気よりも、以下に挙げるような希釈ガスに
よって希釈された雰囲気中で処理を行うことが好まし
い。希釈ガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
キセノン等の希ガス、窒素気体等が挙げられる。これら
は単独でも２種以上を混合して用いてもよい。

【００４０】

【実施例】本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもので
はない。

【００４１】実施例１図２に示す装置を用い、放電プラズマ処理を行った。電
圧印加側電極２として、幅３００ｍｍ×長さ５００ｍｍ
×厚み２０ｍｍのＳＵＳ３０４製平行平板電極を用い
た。なお、電極２は、内部に穴を有し水で冷却するよう
にした。アース側電極３として、裏面にアルミニウム製
の空冷放熱用フィン（高さ５０×幅５００ｍｍ×厚さ１
ｍｍ）を５５ｍｍの間隔で設けた幅５００ｍｍ×長さ３
０００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍのアルミニウム金属製の帯
状閉環ベルトを用いた。印加電極２の電極対向面は、固
体誘電体としてアルミナを１．０ｍｍ厚に被覆し、アー
ス電極３の電極対向面には固体誘電体として２ｍｍ厚の
シリコンゴムで被覆した。被処理体１０として、厚み
０．２ｍｍのフレキシブルプリント基板の巻物を用い
た。処理ガスとして乾燥空気を用い、電極間にパルス立
ち上がり速度５μｓ、電圧２０ｋＶ_P-P、周波数１０ｋ
Ｈｚのパルス電界を印加し、基板を１００ｍｍ／ｍｉｎ
で搬送するように電極駆動軸５及び６を回転させると同
時に基板搬送ロール１１及び１２を回転させ、基板表面
をグロー放電プラズマ処理を行った。その結果、放電状
態は、良好で、基材表面に傷をつけることなく均一な処
理を連続２時間行うことができた。また、アース側電極
温度は安定し８５℃に保たれていた。

【００４２】実施例２図３に示す装置を用い、放電プラズマ処理を行った。電
圧印加側電極２として、幅３００ｍｍ×長さ５００ｍｍ
×厚み２０ｍｍのＳＵＳ３０４製平行平板電極を用い
た。なお、電極２は、内部に穴を有し水で冷却するよう
にした。アース側電極３として、幅５００ｍｍ×長さ３
０００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍのアルミニウム金属製帯状
閉環ベルトを用いた。また、電極３の駆動軸５及び６を
１００ｍｍφ×幅６００ｍｍのアルミニウム金属製に
し、内部に冷却水を通して冷却出来るようにした。印加
電極２の電極対向面は、固体誘電体としてアルミナを
１．０ｍｍ厚に被覆し、アース電極３の電極対向面には
固体誘電体として２ｍｍ厚のシリコンゴムで被覆した。
被処理体１０として、厚み０．２ｍｍのフレキシブルプ
リント基板の巻物を用いた。処理ガスとして乾燥空気を
用い、電極間にパルス立ち上がり速度５μｓ、電圧２０
ｋＶ_P-P、周波数１０ｋＨｚのパルス電界を印加し、基
板を１５０ｍｍ／ｍｉｎで搬送するように電極駆動軸５
及び６を回転させると同時に基板搬送ロール１１及び１
２を回転させ、基板表面をグロー放電プラズマ処理を行
った。その結果、放電状態は良好で、基材表面に傷をつ
けることなく均一な処理を連続２時間行うことができ
た。また、アース側電極温度は安定し９５℃に保たれて
いた。

【００４３】実施例３図４に示す装置を用い、放電プラズマ処理を行った。電
圧印加側電極２として、幅３００ｍｍ×長さ５００ｍｍ
×厚み２０ｍｍのＳＵＳ３０４製平行平板電極を用い
た。なお、電極２は、内部に穴を有し水で冷却するよう
にした。アース側電極３として、幅５００ｍｍ×長さ３
０００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍのアルミニウム金属製帯状
閉環ベルトを用いた。また、電極３の駆動軸５及び６の
間には内部に冷却水を通して冷却出来るようにした電極
ベルトの垂れを防止するための２０ｍｍφ×幅６００ｍ
ｍの銅製ロールを３０個並べて電極３の駆動を円滑にす
るようにした。印加電極２の電極対向面は、固体誘電体
としてアルミナを１．０ｍｍ厚に被覆し、アース電極３
の電極対向面には固体誘電体として２ｍｍ厚のシリコン
ゴムで被覆した。被処理体１０として、厚み０．１ｍｍ
の銅張積層体の巻物を用いた。処理ガスとしてアルゴン
を用い、電極間にパルス立ち上がり速度５μｓ、電圧５
ｋＶ_P-P、周波数１５ｋＨｚのパルス電界を印加し、基
板を３０ｍｍ／ｍｉｎで搬送するように電極駆動軸５及
び６を回転させると同時に基板搬送ロール１１及び１２
を回転させ、基板表面をグロー放電プラズマ処理を行っ
た。その結果、放電状態は良好で、基材表面に傷をつけ
ることなく均一な処理を連続２時間行うことができた。
また、アース側電極温度は安定し５５℃に保たれてい
た。

【００４４】実施例４図４に示す装置を用い、放電プラズマ処理を行った。電
圧印加側電極２として、幅３００ｍｍ×長さ５００ｍｍ
×厚み２０ｍｍのＳＵＳ３０４製平行平板電極を用い
た。なお、電極２は、内部に穴を有し水で冷却するよう
にした。アース側電極３として、１ブロックが幅５００
ｍｍ×長さ５０ｍｍ×厚さ２０ｍｍの図４に示すような
キャタピラ状のＳＵＳ３０４製帯状閉環ベルトを用い
た。また、電極３の駆動軸５及び６の間には内部に冷却
水を通して冷却出来るようにした電極ベルトの垂れを防
止するための２０ｍｍφ×幅６００ｍｍの銅製ロールを
３０個並べて電極３の駆動を円滑にするようにした。印
加電極２及びアース電極３の電極対向面は、固体誘電体
としてアルミナを１．０ｍｍ厚に被覆した。被処理体１
０として、厚み０．１ｍｍの銅張積層体の巻物を用い
た。処理ガスとしてアルゴン／酸素（容積比）＝２０／
８０の混合ガスを用い、電極間にパルス立ち上がり速度
５μｓ、電圧５ｋＶ_P-P、周波数１５ｋＨｚのパルス電
界を印加し、基板を５０ｍｍ／ｍｉｎで搬送するように
電極駆動軸５及び６を回転させると同時に基板搬送ロー
ル１１及び１２を回転させ、基板表面をグロー放電プラ
ズマ処理を行った。その結果、放電状態は良好で、基材
表面に傷をつけることなく均一な処理を連続２時間行う
ことができた。また、アース側電極温度は安定し３０℃
に保たれていた。

【００４５】

【発明の効果】本発明の放電プラズマ処理装置は、温度
調整機構及び被処理体搬送機能を備えた帯状閉環電極を
用いるので、長尺（巻物）状の被処理体を安定して、均
一に処理できる装置である。また、本発明の装置は、大
気圧下での実施が可能であるので、容易にインライン化
でき、本発明の装置を用いる方法により処理工程全体の
速度向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の放電プラズマ処理装置の構成を説明す
る図である。

【図２】本発明の温度調整機構及び被処理体搬送機能を
備えた帯状閉環電極を用い放電プラズマ処理装置の一例
を説明する図である。

【図３】本発明の温度調整機構及び被処理体搬送機能を
備えた帯状閉環電極を用い放電プラズマ処理装置の一例
を説明する図である。

【図４】本発明の温度調整機構及び被処理体搬送機能を
備えた帯状閉環電極を用い放電プラズマ処理装置の一例
を説明する図である。

【図５】本発明で用いる電極のキャタピラ形状を説明す
る図である。

【符号の説明】

１電源２平行平板電極３帯状閉環電極４放電空間５、６帯状閉環電極駆動軸７放熱フィン８垂れ防止ロール１０被処理体１１基材巻出しロール１２基材巻き取りロール３１キャタピラ用金属薄板３３キャタピラ張り出し部３２、５１、６１、８１冷媒又は熱媒流路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方が固体誘電体で被覆され
た一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導
入して、発生するグロー放電プラズマで電極間に設置さ
れた被処理体を処理する放電プラズマ処理装置におい
て、少なくとも電極の一方が被処理体搬送機能を備えた
帯状閉環電極であり、かつ温度調整機構を備えた電極で
あることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
【請求項２】温度調整機構が、電極内部に冷媒又は熱
媒流路を有する機構であることを特徴とする請求項１に
記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項３】温度調整機構が、帯状閉環電極の駆動軸
に冷媒又は熱媒流路が設けられている機構であることを
特徴とする請求項１に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項４】温度調整機構が、帯状閉環電極の垂れ防
止部に冷媒又は熱媒流路が設けられている機構であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の放電プラズマ処理装
置。
【請求項５】温度調整機構が、帯状閉環電極の裏面に
放冷フィンを有する冷却機構であることを特徴とする請
求項１に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項６】帯状閉環電極が、ベルト形状であること
を特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の放電
プラズマ処理装置。
【請求項７】帯状閉環電極が、キャタピラ形状である
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の
放電プラズマ処理装置。
【請求項８】帯状閉環電極に対向する電極が、平行平
板型電極であることを特徴とする請求項１〜７のいずれ
か１項に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項９】電極を被覆する固体誘電体が、セラミッ
クであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項
に記載の放電プラズマ処理装置。
【請求項１０】電極を被覆する固体誘電体の表面が平
滑であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項
に記載の放電プラズマ処理装置。