JP2003193245A - めっき前処理剤、及びそれを用いた無電解めっき方法 - Google Patents
めっき前処理剤、及びそれを用いた無電解めっき方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シランカップリング剤と貴金属化合物をあ
らかじめ混合もしくは反応させためっき前処理剤を30
℃以上で連続使用する場合においても、その液の安定性
を向上させること。 【解決手段】 一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有
するシランカップリング剤と貴金属化合物をあらかじめ
混合もしくは反応させた液に過酸化水素を添加し、30
℃以上で連続使用することを特徴とするめっき前処理
剤、及びそれを用いた無電解めっき方法。めっき前処理
剤中における過酸化水素の濃度は0.1〜1000mg
/Lが、一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有するシ
ランカップリング剤がアゾール系化合物とエポキシシラ
ン系化合物との反応により得られたシランカップリング
剤であることが、金属捕捉能を持つ官能基がイミダゾー
ル基であることが、貴金属化合物がパラジウム化合物で
あることが好ましい。
らかじめ混合もしくは反応させためっき前処理剤を30
℃以上で連続使用する場合においても、その液の安定性
を向上させること。 【解決手段】 一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有
するシランカップリング剤と貴金属化合物をあらかじめ
混合もしくは反応させた液に過酸化水素を添加し、30
℃以上で連続使用することを特徴とするめっき前処理
剤、及びそれを用いた無電解めっき方法。めっき前処理
剤中における過酸化水素の濃度は0.1〜1000mg
/Lが、一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有するシ
ランカップリング剤がアゾール系化合物とエポキシシラ
ン系化合物との反応により得られたシランカップリング
剤であることが、金属捕捉能を持つ官能基がイミダゾー
ル基であることが、貴金属化合物がパラジウム化合物で
あることが好ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無電解めっきの触
媒となる貴金属化合物を捕捉する機能とめっき基体上に
固着する機能を同一分子内に併せ有するシランカップリ
ング剤と、貴金属化合物を混合もしくは反応させた液を
30℃以上で連続使用する場合、その液に過酸化水素を
添加することにより、液安定性を向上させためっき前処
理剤、およびそれを用いた無電解めっき方法に関するも
のである。
媒となる貴金属化合物を捕捉する機能とめっき基体上に
固着する機能を同一分子内に併せ有するシランカップリ
ング剤と、貴金属化合物を混合もしくは反応させた液を
30℃以上で連続使用する場合、その液に過酸化水素を
添加することにより、液安定性を向上させためっき前処
理剤、およびそれを用いた無電解めっき方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】無電解めっき法は導電性のない下地に金
属被膜を形成する方法の一つであり、樹脂基板にプリン
ト配線を形成する方法などに利用されている。この無電
解めっきの前処理としては、パラジウムなどの貴金属を
触媒としてあらかじめ下地に付着させておく活性化と呼
ばれる方法が一般的である。これまで、SnCl2の塩
酸性水溶液で処理した後PdCl2水溶液に浸漬処理し
てPdを吸着させたり、SnとPdを含んだコロイド溶
液によりPdを表面に担持させる方法が使われてきた。
これらの方法は毒性が高いSnを使用することや処理工
程が複雑であるなど問題が多い。そこで最近、無電解め
っきの触媒であるPdなどの貴金属を担持させる方法と
して、これらの貴金属類と錯体を形成できる官能基を有
するシランカップリング剤を使った方法がいろいろと提
案されている(特公昭59−52701、特開昭60−
181294、特開昭61−194183、特開平3−
44149号公報)。
属被膜を形成する方法の一つであり、樹脂基板にプリン
ト配線を形成する方法などに利用されている。この無電
解めっきの前処理としては、パラジウムなどの貴金属を
触媒としてあらかじめ下地に付着させておく活性化と呼
ばれる方法が一般的である。これまで、SnCl2の塩
酸性水溶液で処理した後PdCl2水溶液に浸漬処理し
てPdを吸着させたり、SnとPdを含んだコロイド溶
液によりPdを表面に担持させる方法が使われてきた。
これらの方法は毒性が高いSnを使用することや処理工
程が複雑であるなど問題が多い。そこで最近、無電解め
っきの触媒であるPdなどの貴金属を担持させる方法と
して、これらの貴金属類と錯体を形成できる官能基を有
するシランカップリング剤を使った方法がいろいろと提
案されている(特公昭59−52701、特開昭60−
181294、特開昭61−194183、特開平3−
44149号公報)。
【0003】本発明者らも、シランカップリング剤と貴
金属化合物をあらかじめ混合もしくは反応させためっき
前処理剤を使った方法について、いくつか提案している
(特願2000−1645、特願2000−23804
7号)。しかし、これらの液には、経時変化を起こしや
すく、沈殿が発生するなど液安定性が不十分であるとい
う問題点があった。本発明者等は、前記金属化合物とそ
れを捕捉する機能を有するシランカップリング剤をあら
かじめ混合もしくは反応させた液の経時変化の原因は、
貴金属化合物の還元反応にあることを突き止めた。そし
てその対策として、酸化剤を加えることにより経時変化
が抑制され、液安定性が向上することを見出し、すでに
提案している(特願2001−231129号)。
金属化合物をあらかじめ混合もしくは反応させためっき
前処理剤を使った方法について、いくつか提案している
(特願2000−1645、特願2000−23804
7号)。しかし、これらの液には、経時変化を起こしや
すく、沈殿が発生するなど液安定性が不十分であるとい
う問題点があった。本発明者等は、前記金属化合物とそ
れを捕捉する機能を有するシランカップリング剤をあら
かじめ混合もしくは反応させた液の経時変化の原因は、
貴金属化合物の還元反応にあることを突き止めた。そし
てその対策として、酸化剤を加えることにより経時変化
が抑制され、液安定性が向上することを見出し、すでに
提案している(特願2001−231129号)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記めっき前処理剤は
シランカップリング剤の機能により被めっき材に吸着す
るが、被めっき材によっては30℃以上に加温しないと
シランカップリング剤を十分固定できない場合がある。
しかし、このように前記めっき前処理剤を30℃以上で
連続使用した場合、経時変化の抑制が不十分になるとい
う問題点があった。本発明は、無電解めっきのためのめ
っき前処理剤のこうした問題点を改善することを技術的
課題とするものである。
シランカップリング剤の機能により被めっき材に吸着す
るが、被めっき材によっては30℃以上に加温しないと
シランカップリング剤を十分固定できない場合がある。
しかし、このように前記めっき前処理剤を30℃以上で
連続使用した場合、経時変化の抑制が不十分になるとい
う問題点があった。本発明は、無電解めっきのためのめ
っき前処理剤のこうした問題点を改善することを技術的
課題とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、前記貴金属化合物とそれを捕捉する機能を有す
るシランカップリング剤をあらかじめ混合もしくは反応
させた液を30℃以上で連続使用する場合、過酸化水素
のような強力な酸化剤を加えないと経時変化を抑制でき
ないことを見出し、本発明に至った。
た結果、前記貴金属化合物とそれを捕捉する機能を有す
るシランカップリング剤をあらかじめ混合もしくは反応
させた液を30℃以上で連続使用する場合、過酸化水素
のような強力な酸化剤を加えないと経時変化を抑制でき
ないことを見出し、本発明に至った。
【0006】すなわち、本発明は、(1)一分子中に金
属捕捉能を持つ官能基を有するシランカップリング剤と
貴金属化合物をあらかじめ混合もしくは反応させた液に
過酸化水素を添加してなり、かつ、30℃以上で連続使
用することを特徴とするめっき前処理剤、(2)めっき
前処理剤中の過酸化水素の濃度が0.1〜1000mg
/Lであることを特徴とする前記(1)記載のめっき前
処理剤、(3)一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有
するシランカップリング剤がアゾール系化合物とエポキ
シシラン系化合物との反応により得られたシランカップ
リング剤であることを特徴とする前記(1)又は(2)
記載のめっき前処理剤、(4)金属捕捉能を持つ官能基
がイミダゾール基であることを特徴とする前記(1)〜
(3)のいずれかに記載のめっき前処理剤、(5)貴金
属化合物がパラジウム化合物であることを特徴とする前
記(1)〜(4)のいずれかに記載のめっき前処理剤、
(6)前記(1)〜(5)のいずれかに記載のめっき前
処理剤を用い被めっき物のめっき前処理を30℃以上で
行った後、無電解めっきを行うことを特徴とする無電解
めっき方法、に関する。
属捕捉能を持つ官能基を有するシランカップリング剤と
貴金属化合物をあらかじめ混合もしくは反応させた液に
過酸化水素を添加してなり、かつ、30℃以上で連続使
用することを特徴とするめっき前処理剤、(2)めっき
前処理剤中の過酸化水素の濃度が0.1〜1000mg
/Lであることを特徴とする前記(1)記載のめっき前
処理剤、(3)一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有
するシランカップリング剤がアゾール系化合物とエポキ
シシラン系化合物との反応により得られたシランカップ
リング剤であることを特徴とする前記(1)又は(2)
記載のめっき前処理剤、(4)金属捕捉能を持つ官能基
がイミダゾール基であることを特徴とする前記(1)〜
(3)のいずれかに記載のめっき前処理剤、(5)貴金
属化合物がパラジウム化合物であることを特徴とする前
記(1)〜(4)のいずれかに記載のめっき前処理剤、
(6)前記(1)〜(5)のいずれかに記載のめっき前
処理剤を用い被めっき物のめっき前処理を30℃以上で
行った後、無電解めっきを行うことを特徴とする無電解
めっき方法、に関する。
【0007】本発明においては、前記特定のシランカッ
プリング剤を用いることが重要である。すなわち、金属
捕捉能を持つ官能基が分子内に存在することにより、め
っき触媒の活性を効果的に発現する電子状態、配向を取
ることが可能となり、シランカップリング剤であること
により被めっき材との密着性を発現することが可能とな
る。
プリング剤を用いることが重要である。すなわち、金属
捕捉能を持つ官能基が分子内に存在することにより、め
っき触媒の活性を効果的に発現する電子状態、配向を取
ることが可能となり、シランカップリング剤であること
により被めっき材との密着性を発現することが可能とな
る。
【0008】本発明に有用な金属捕捉能を持つ官能基と
しては、これらに制限されるものではないが、アミノ
基、カルボキシル基、アゾール基、水酸基、メルカプト
基などが挙げられる。これらの中でもアゾール基が好ま
しい。アゾール基としては、イミダゾール、オキサゾー
ル、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキ
サゾール、イソチアゾール、トリアゾール、オキサジア
ゾール、チアジアゾール、テトラゾール、オキサトリア
ゾール、チアトリアゾール、ベンダゾール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾールなどが挙
げられる。中でもイミダゾール基が特に好ましい。
しては、これらに制限されるものではないが、アミノ
基、カルボキシル基、アゾール基、水酸基、メルカプト
基などが挙げられる。これらの中でもアゾール基が好ま
しい。アゾール基としては、イミダゾール、オキサゾー
ル、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキ
サゾール、イソチアゾール、トリアゾール、オキサジア
ゾール、チアジアゾール、テトラゾール、オキサトリア
ゾール、チアトリアゾール、ベンダゾール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾールなどが挙
げられる。中でもイミダゾール基が特に好ましい。
【0009】また、前記シランカップリング剤とは、前
記貴金属イオン捕捉基の他に、−SiX1X2X3基を有
する化合物であり、X1、X2、X3はアルキル基、ハロ
ゲンやアルコキシ基などを意味し、被めっき物への固定
が可能な官能基であれば良い。X1、X2、X3は同一で
もまた異なっていても良い。
記貴金属イオン捕捉基の他に、−SiX1X2X3基を有
する化合物であり、X1、X2、X3はアルキル基、ハロ
ゲンやアルコキシ基などを意味し、被めっき物への固定
が可能な官能基であれば良い。X1、X2、X3は同一で
もまた異なっていても良い。
【0010】このようなシランカップリング剤として
は、例えば、アゾール系化合物とエポキシシラン系化合
物との反応で得られたシランカップリング剤を例示する
ことができる(特開平6−256358号公報)。ま
た、このような含窒素複素環式アゾール化合物と反応さ
せるエポキシ基含有シラン化合物としては、
は、例えば、アゾール系化合物とエポキシシラン系化合
物との反応で得られたシランカップリング剤を例示する
ことができる(特開平6−256358号公報)。ま
た、このような含窒素複素環式アゾール化合物と反応さ
せるエポキシ基含有シラン化合物としては、
【0011】
【化1】
(式中、R1、R2は水素又は炭素数が1〜3のアルキル
基、nは1〜3の整数)で示されるエポキシシランカッ
プリング剤が好ましい。
基、nは1〜3の整数)で示されるエポキシシランカッ
プリング剤が好ましい。
【0012】前記アゾール化合物と前記エポキシ基含有
シラン化合物との反応は、特開平6−256358号公
報に説示されている条件で行うことができる。例えば、
80〜200℃でアゾール化合物1モルに対して0.1
〜10モルのエポキシ基含有シラン化合物を滴下して5
分〜2時間反応させる。その際、溶媒は特に不要である
が、クロロホルム、ジオキサンメタノール、エタノール
等の有機溶媒を用いてもよい。
シラン化合物との反応は、特開平6−256358号公
報に説示されている条件で行うことができる。例えば、
80〜200℃でアゾール化合物1モルに対して0.1
〜10モルのエポキシ基含有シラン化合物を滴下して5
分〜2時間反応させる。その際、溶媒は特に不要である
が、クロロホルム、ジオキサンメタノール、エタノール
等の有機溶媒を用いてもよい。
【0013】本発明に使用する金属捕捉能を有するシラ
ンカップリング剤のその他の例として、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ンカップリング剤のその他の例として、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【0014】また、前記貴金属化合物としては、無電解
めっき液から銅やニッケルなどを析出させる際に触媒効
果を示すパラジウム、銀、白金、金などの塩化物、水酸
化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン
錯体などが挙げられるが、特にパラジウム化合物、中で
も塩化パラジウムが好ましい。貴金属化合物は水溶液と
して用いることが好ましく、めっき前処理剤中の濃度は
1〜300mg/Lが好ましい。本明細書において、め
っき前処理剤中の濃度とは、被めっき物を前処理する際
の溶液中の濃度をいう。
めっき液から銅やニッケルなどを析出させる際に触媒効
果を示すパラジウム、銀、白金、金などの塩化物、水酸
化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン
錯体などが挙げられるが、特にパラジウム化合物、中で
も塩化パラジウムが好ましい。貴金属化合物は水溶液と
して用いることが好ましく、めっき前処理剤中の濃度は
1〜300mg/Lが好ましい。本明細書において、め
っき前処理剤中の濃度とは、被めっき物を前処理する際
の溶液中の濃度をいう。
【0015】無電解めっきする下地を前記したような一
分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有するシランカップ
リング剤と貴金属化合物をあらかじめ混合もしくは反応
させた液で表面処理する場合、この液は適当な溶媒、例
えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、2−
プロパノール、アセトン、トルエン、エチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ジオキサンなどやこれらを混合
した溶液などに溶解させた溶液で使用できる。水を使用
する場合、特に被めっき面及びめっき条件により溶液の
pHを最適化する必要がある。
分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有するシランカップ
リング剤と貴金属化合物をあらかじめ混合もしくは反応
させた液で表面処理する場合、この液は適当な溶媒、例
えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、2−
プロパノール、アセトン、トルエン、エチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ジオキサンなどやこれらを混合
した溶液などに溶解させた溶液で使用できる。水を使用
する場合、特に被めっき面及びめっき条件により溶液の
pHを最適化する必要がある。
【0016】布状や板状の下地に対しては、浸漬処理や
刷毛塗り等で表面コートした後に溶媒を揮発させる方法
が一般的であるが、これに限定されるものではなく表面
に均一にシランカップリング剤を付着させる方法であれ
ばよい。また、粉体に対しては、浸漬処理後溶媒を揮発
させて強制的に溶液中に含まれるシランカップリング剤
を下地表面に付着させる方法の他にこのシランカップリ
ング剤の均一な成膜性により浸漬処理状態で下地表面に
吸着が可能であることから、処理後溶媒をろ過分離して
湿った粉体を乾燥させる方法も可能である。付着状態に
よっては水洗のみで、乾燥工程を省略できる場合もあ
る。
刷毛塗り等で表面コートした後に溶媒を揮発させる方法
が一般的であるが、これに限定されるものではなく表面
に均一にシランカップリング剤を付着させる方法であれ
ばよい。また、粉体に対しては、浸漬処理後溶媒を揮発
させて強制的に溶液中に含まれるシランカップリング剤
を下地表面に付着させる方法の他にこのシランカップリ
ング剤の均一な成膜性により浸漬処理状態で下地表面に
吸着が可能であることから、処理後溶媒をろ過分離して
湿った粉体を乾燥させる方法も可能である。付着状態に
よっては水洗のみで、乾燥工程を省略できる場合もあ
る。
【0017】めっき前処理剤中の一分子中に金属捕捉能
を持つ官能基を有するシランカップリング剤の濃度はこ
れに限ったものではないが、0.0001〜10重量%
が使いやすい。0.0001重量%未満の場合、基材の
表面に付着する化合物量が低くなりやすく、効果が得に
くい。また、10重量%を超えると付着量が多すぎて乾
燥しにくかったり、粉末の凝集を起こしやすくなる。
を持つ官能基を有するシランカップリング剤の濃度はこ
れに限ったものではないが、0.0001〜10重量%
が使いやすい。0.0001重量%未満の場合、基材の
表面に付着する化合物量が低くなりやすく、効果が得に
くい。また、10重量%を超えると付着量が多すぎて乾
燥しにくかったり、粉末の凝集を起こしやすくなる。
【0018】本発明においては、一分子中に金属捕捉能
を持つ官能基を有するシランカップリング剤と貴金属化
合物をあらかじめ混合もしくは反応させた液を30℃以
上で連続使用する場合、過酸化水素を添加することによ
り、触媒効果を示す貴金属の還元反応による経時変化が
抑制され、液の安定性が向上する。過酸化水素は酸化力
が強く、また分解後は水と酸素になるため不純物の発生
もなく、本発明のめっき前処理剤に対し貴金属化合物の
還元を抑制する以外の影響が全くない。添加する過酸化
水素のめっき前処理剤中の濃度は0.1〜1000mg
/Lが好ましい。0.1mg/Lより少ない場合は過酸
化水素の効果が十分に発揮されず、また、1000mg
/Lより多い場合はシランカップリング剤が分解する恐
れがある。
を持つ官能基を有するシランカップリング剤と貴金属化
合物をあらかじめ混合もしくは反応させた液を30℃以
上で連続使用する場合、過酸化水素を添加することによ
り、触媒効果を示す貴金属の還元反応による経時変化が
抑制され、液の安定性が向上する。過酸化水素は酸化力
が強く、また分解後は水と酸素になるため不純物の発生
もなく、本発明のめっき前処理剤に対し貴金属化合物の
還元を抑制する以外の影響が全くない。添加する過酸化
水素のめっき前処理剤中の濃度は0.1〜1000mg
/Lが好ましい。0.1mg/Lより少ない場合は過酸
化水素の効果が十分に発揮されず、また、1000mg
/Lより多い場合はシランカップリング剤が分解する恐
れがある。
【0019】表面処理後に使用した溶剤を揮発させるに
はこの溶媒の揮発温度以上に加熱して表面を乾燥すれば
十分である。溶剤として水を用いた場合は乾燥工程を省
略し、表面処理後水洗するだけでめっきを行うことも可
能である。ただしこの際、触媒をめっき液中に持ち込ま
ないようにするため、水洗を十分に行う必要がある。
はこの溶媒の揮発温度以上に加熱して表面を乾燥すれば
十分である。溶剤として水を用いた場合は乾燥工程を省
略し、表面処理後水洗するだけでめっきを行うことも可
能である。ただしこの際、触媒をめっき液中に持ち込ま
ないようにするため、水洗を十分に行う必要がある。
【0020】当然のことながら、めっき前処理を行う前
に被めっき面の洗浄を行っても良い。特に密着性が要求
される場合は、従来のクロム酸などによるエッチング処
理を用いても良い。無電解めっきを行う場合に、本発明
のめっき前処理剤での処理後、還元剤を含む溶液で処理
することが有効である場合もある。特に銅めっきの場合
は、還元剤としてジメチルアミン−ボラン溶液、次亜リ
ン酸ナトリウム溶液などで処理すると良い。また、本発
明の無電解めっき方法により無電解めっきを最初に行っ
て金属薄膜を形成させ、導電性のない下地にある程度の
導電性を持たせた後、電気めっきや卑なる金属との置換
めっきを行うことも可能である。本発明により、無電解
めっきで銅、ニッケル、コバルト、スズ、金などの金属
をめっきすることができる。
に被めっき面の洗浄を行っても良い。特に密着性が要求
される場合は、従来のクロム酸などによるエッチング処
理を用いても良い。無電解めっきを行う場合に、本発明
のめっき前処理剤での処理後、還元剤を含む溶液で処理
することが有効である場合もある。特に銅めっきの場合
は、還元剤としてジメチルアミン−ボラン溶液、次亜リ
ン酸ナトリウム溶液などで処理すると良い。また、本発
明の無電解めっき方法により無電解めっきを最初に行っ
て金属薄膜を形成させ、導電性のない下地にある程度の
導電性を持たせた後、電気めっきや卑なる金属との置換
めっきを行うことも可能である。本発明により、無電解
めっきで銅、ニッケル、コバルト、スズ、金などの金属
をめっきすることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】実施例1〜3、比較例1〜2
イミダゾールとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランとの等モル反応生成物であるシランカップリング
剤を250mg/L、塩化パラジウムを50mg/L含
んだ水溶液に、酸化剤として過酸化水素または過硫酸ナ
トリウムを添加した場合の液の安定性を、60℃保持
(最長10日)したときの経時変化を観察することによ
り調べた。実施例及び比較例を表1にまとめた。
シランとの等モル反応生成物であるシランカップリング
剤を250mg/L、塩化パラジウムを50mg/L含
んだ水溶液に、酸化剤として過酸化水素または過硫酸ナ
トリウムを添加した場合の液の安定性を、60℃保持
(最長10日)したときの経時変化を観察することによ
り調べた。実施例及び比較例を表1にまとめた。
【0022】
【表1】
【0023】実施例1〜3に示すように、過酸化水素を
適量添加した系では10日間の60℃保持でいずれも沈
殿発生は無かった。それに対し、比較例1に示すよう
に、過酸化水素無添加の系では4日で沈殿が発生した。
また比較例2に示すように、過硫酸ナトリウムを100
mg/L添加した系ではpHを1.0まで下げても7日
で沈殿が発生した。この系は20〜25℃程度の室温放
置では30日でも沈殿の発生はなかった(特願2001
−231129号)。比較例2により、室温よりも高い
温度で保持した場合、過酸化水素のような酸化力の強い
酸化剤を添加しないと沈殿の発生を防ぐことができない
ことがわかる。
適量添加した系では10日間の60℃保持でいずれも沈
殿発生は無かった。それに対し、比較例1に示すよう
に、過酸化水素無添加の系では4日で沈殿が発生した。
また比較例2に示すように、過硫酸ナトリウムを100
mg/L添加した系ではpHを1.0まで下げても7日
で沈殿が発生した。この系は20〜25℃程度の室温放
置では30日でも沈殿の発生はなかった(特願2001
−231129号)。比較例2により、室温よりも高い
温度で保持した場合、過酸化水素のような酸化力の強い
酸化剤を添加しないと沈殿の発生を防ぐことができない
ことがわかる。
【0024】また、表1の試験後にこれらの液をめっき
前処理剤として用いてガラスクロスに無電解ニッケルめ
っきを行った。処理は、めっき前処理剤浸漬(60℃、
15分間)、水洗、無電解ニッケルめっき(日鉱メタル
プレーティング(株)製無電解ニッケルめっき液ニコム
7N−0使用、70℃、15分間)の順番で行った。無
電解ニッケルめっきは実施例1〜3のいずれの液を用い
た場合も、均一性、密着性ともに問題なく行うことがで
きた。
前処理剤として用いてガラスクロスに無電解ニッケルめ
っきを行った。処理は、めっき前処理剤浸漬(60℃、
15分間)、水洗、無電解ニッケルめっき(日鉱メタル
プレーティング(株)製無電解ニッケルめっき液ニコム
7N−0使用、70℃、15分間)の順番で行った。無
電解ニッケルめっきは実施例1〜3のいずれの液を用い
た場合も、均一性、密着性ともに問題なく行うことがで
きた。
【0025】
【発明の効果】シランカップリング剤と貴金属化合物を
あらかじめ混合もしくは反応させためっき前処理剤は、
触媒効果を示す貴金属の還元反応による経時変化が起こ
り、沈殿が発生するなど液安定性に問題があった。これ
に対し、めっき前処理剤に酸化剤を添加することで貴金
属の還元反応はある程度抑制される。しかし、30℃以
上の温度で連続使用する場合、酸化力の弱い酸化剤添加
では十分な液安定性が得られない。本発明では、このめ
っき前処理剤に酸化力の強い過酸化水素を添加すること
で30℃以上の温度でも貴金属の還元反応を抑制し、そ
の結果液安定性が向上した。
あらかじめ混合もしくは反応させためっき前処理剤は、
触媒効果を示す貴金属の還元反応による経時変化が起こ
り、沈殿が発生するなど液安定性に問題があった。これ
に対し、めっき前処理剤に酸化剤を添加することで貴金
属の還元反応はある程度抑制される。しかし、30℃以
上の温度で連続使用する場合、酸化力の弱い酸化剤添加
では十分な液安定性が得られない。本発明では、このめ
っき前処理剤に酸化力の強い過酸化水素を添加すること
で30℃以上の温度でも貴金属の還元反応を抑制し、そ
の結果液安定性が向上した。
フロントページの続き
Fターム(参考) 4K022 AA36 BA03 BA06 BA08 BA14
BA21 CA06 CA15 CA16 CA20
CA21 CA22 DA01
Claims (6)
- 【請求項1】 一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有
するシランカップリング剤と貴金属化合物をあらかじめ
混合もしくは反応させた液に過酸化水素を添加してな
り、かつ、30℃以上で連続使用することを特徴とする
めっき前処理剤。 - 【請求項2】 めっき前処理剤中の過酸化水素の濃度が
0.1〜1000mg/Lであることを特徴とする請求
項1記載のめっき前処理剤。 - 【請求項3】 一分子中に金属捕捉能を持つ官能基を有
するシランカップリング剤がアゾール系化合物とエポキ
シシラン系化合物との反応により得られたシランカップ
リング剤であることを特徴とする請求項1又は2記載の
めっき前処理剤。 - 【請求項4】 金属捕捉能を持つ官能基がイミダゾール
基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
載のめっき前処理剤。 - 【請求項5】 貴金属化合物がパラジウム化合物である
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のめっ
き前処理剤。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のめっき
前処理剤を用い被めっき物のめっき前処理を30℃以上
で行った後、無電解めっきを行うことを特徴とする無電
解めっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001388972A JP2003193245A (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | めっき前処理剤、及びそれを用いた無電解めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001388972A JP2003193245A (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | めっき前処理剤、及びそれを用いた無電解めっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003193245A true JP2003193245A (ja) | 2003-07-09 |
Family
ID=27597312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001388972A Pending JP2003193245A (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | めっき前処理剤、及びそれを用いた無電解めっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003193245A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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