JP2003195079A - 光導波路形成用放射線硬化性組成物、光導波路ならびに光導波路の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 、光導波路形成用放射線硬化性組成物、そ
れを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法に関す
る。より詳細には、目的形状に見合った導波路形状や伝
送特性に優れる光導波路ならびに光導波路の製造方法を
得る。 【解決手段】 （Ａ）重合性基を有するビニル系重合
体、（Ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化
合物および（Ｃ）放射線重合開始剤を含有することを特
徴とする光導波路形成用放射線硬化性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路形成用放
射線硬化性組成物、それを用いた光導波路ならびに光導
波路の製造方法に関する。より詳細には、目的形状に見
合った導波路形状や伝送特性に優れる光導波路ならびに
光導波路の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】マルチメディア時代を迎え、光通信シス
テムやコンピュータにおける情報処理の大容量化および
高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目
されている。このような光導波路としては、石英系導波
路が代表的であり、一般に以下の工程により製造されて
いる。 シリコン基板上に、火炎堆積法（ＦＨＤ）やＣＶＤ法
等の手法によりガラス膜よりなる下部クラッド層を形成
する。 下部クラッド層上に、これと屈折率の高い無機質の薄
膜を形成し、この薄膜を反応性イオンエッチング法（Ｒ
ＩＥ）を利用してパターニングすることによりコア部分
を形成する。 更に、火炎堆積法によって上部クラッド層を形成す
る。 しかしながら、このような石英系導波路の製造方法で
は、特殊な製造装置が必要であるとともに、製造時間が
長くかかるなどの問題が見られた。また、特開２０００
−１８０６４３においては、光重合可能な成分を含有す
るシリコーン系組成物に、所定量の光を照射し、所定箇
所を硬化させるととともに、未露光部を現像することに
よりコア部分等を形成して、光導波路を製造する方法を
提案している。このような光硬化性組成物を用いた光導
波路の製造方法によれば、従来の石英系導波路の製造方
法と比較して、所定量の光を照射した後に現像するだけ
で、短時間、かつ低コストで光導波路を製造できるとい
う利点を得ることができる。しかしながら、前述の光硬
化性組成物を用いた光導波路の製造方法においては、特
殊なシリコーン系オリゴマーを用いるなどの制約があっ
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情を背景としてなされたものであって、汎用の有機
材料を用いて優れた導波路形状、ならびに優れた伝送特
性を有する光導波路を形成することが可能となる放射線
硬化性組成物、それを用いた光導波路およびこのような
光導波路を効率的に製造することができる方法を提供す
ることを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】（Ａ）下記一般式（１）
で表される構造を有する重合体（以下、「共重合体
（Ａ）」という）

【化３】 ［R¹,R²,R³は水素または1〜12の炭素鎖を有するアルキ
ル基、Ｘはカルボキシル基を有する基、Ｙは重合性基を
有する基、ＺはXおよびY以外の有機基である］ （Ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物
および（Ｃ）放射線重合開始剤を含有することを特徴と
する光導波路形成用放射線硬化性組成物、これを用いて
形成される光導波路および光導波路の製造方法を提供す
るものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】光導波路形成用放射線硬化性組成
物 （Ａ）成分 本発明に用いられる共重合体（Ａ）は、次の２通りの方
法で得ることができる。 （ａ）カルボキシル基を有するラジカル重合性化合
物、（ｂ）環状エーテルを有するラジカル重合性化合
物、（ｃ）他のラジカル重合性化合物を溶媒中でラジカ
ル共重合することにより得ることができる。 （ａ）カルボキシル基を有するラジカル重合性化合
物、（ｃ）他のラジカル重合性化合物を溶媒中でラジカ
ル共重合した後、（ｄ）反応性官能基を有するラジカル
重合性化合物を、重合物側鎖のカルボキシル基の一部に
付加させることにより得ることができる。 前記カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物
（ａ）としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ク
ロトン酸などのモノカルボン酸；マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカ
ルボン酸；２−サクシノロイルエチルメタクリレート、
２−マレイノロイルエチルメタクリレート、２−ヘキサ
ヒドロフタロイルエチルメタクリレートなどのカルボキ
シル基およびエステル結合を有するメタクリル酸誘導体
などが使用できる。これらの化合物は単独、もしくは２
種以上を組み合わせて使用できる。これらの中ではアク
リル酸、メタクリル酸、２−ヘキサヒドロフタロイルエ
チルメタクリレートが好ましく、さらに好ましくはアク
リル酸やメタクリル酸である。

【０００６】共重合体（Ａ）中に占めるカルボニル基を
有するラジカル重合性化合物の割合は５〜５０重量％で
あり、好ましくは１０〜４０重量％である。５重量％未
満であると、本組成物を光照射によって硬化させアルカ
リ現像処理を施した場合に溶解しにくくなり、光導波路
のコア部分として用いた場合、設計どおりのコア形状が
得られず、十分な伝送特性が得られない。逆に５０重量
％を超えても、設計どおりの形状のものが得られない。
前記環状エーテルを置換基に有するラジカル重合性化合
物（ｂ）としては、例えばグリシジル（メタ）アクリレ
ート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、α
−ｎ−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、α−
ｎ−ブチルグリシジル（メタ）アクリレート、２-メチ
ルグリシジル（メタ）アクリレート、２-エチルグリシ
ジル（メタ）アクリレート、２-プロピルグリシジル
（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メ
タ）アクリレート、３，４−エポキシヘプチル（メタ）
アクリレート、α−エチル−６，７−エポキシヘプチル
（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル（メタ）アクリレート、（２−エチル−２−オ
キセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−メチ
ル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、
２−（２−エチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）
アクリレート、２−（２−メチル−２−オキセタニル）
エチル（メタ）アクリレート、３−（２−エチル−２−
オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート、３−
（２−メチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）ア
クリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類、o-ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリ
シジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテ
ル、α-メチル-o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、
α-メチル-m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-
メチル-p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3-ジ
グリシジルオキシメチルスチレン、2,4-ジグリシジルオ
キシメチルスチレン、2,5-ジグリシジルオキシメチルス
チレン、2,6-ジグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,
4-トリグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,5-トリグ
リシジルオキシメチルスチレン、2,3,6-トリグリシジル
オキシメチルスチレン、3,4,5-トリグリシジルオキシメ
チルスチレン、2,4,6-トリグリシジルオキシメチルスチ
レン等のスチレン類などが挙げられる。これらのうち、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリ
レート、グリシジル（メタ）アクリレート、２-メチル
グリシジル（メタ）アクリレート、p-ビニルベンジルグ
リシジルエーテルなどが好ましく用いられる。

【０００７】前記他のラジカル重合性化合物（ｃ）は、
主として共重合体（Ａ）の機械的特性や屈折率を適度に
コントロールする目的で使用する。ここで、「他の」と
は、前出のラジカル重合性化合物以外のラジカル重合性
化合物の意味である。このような他のラジカル重合性化
合物（ｃ）としては、好ましくは（メタ）アクリル酸ア
ルキルエステル類、（メタ）アクリル酸アリールエステ
ル類、ジカルボン酸ジエステル類、芳香族ビニル類、共
役ジオレフィン類、ニトリル基含有重合性化合物、塩素
含有重合性化合物、アミド結合含有重合性化合物、脂肪
酸ビニル類などを挙げることができる。具体的には、メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル
（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリ
レート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレートなどの（メ
タ）アクリル酸アルキルエステル；フェニル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メ
タ）アクリル酸アリールエステル；マレイン酸ジエチ
ル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカ
ルボン酸ジエステル；スチレン、α−メチルスチレン、
ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトル
エン、ｐ−メトキシスチレンなどの芳香族ビニル類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブ
タジエンなどの共役ジオレフィン類、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなどのニトリル基含有重合性化
合物；塩化ビニル、塩化ビニリデンなどの塩素含有重合
性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミドなどのア
ミド結合含有重合性化合物；酢酸ビニルなどの脂肪酸ビ
ニル類を用いることができる。これらの化合物は単独、
もしくは２種以上を組み合わせて用いることができ、こ
れらのうち、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル
（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン
などが特に好ましい。共重合体（Ａ）中に占める他のラ
ジカル重合性化合物の割合は５〜８０重量％であり、好
ましくは２０〜７０重量％である。

【０００８】共重合体（Ａ）を合成する際に用いられる
重合溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどの環状エーテル類；エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類；エ
チレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールエチルエーテルアセテートなどの多価アルコー
ルのアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４
−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ジアセト
ンアルコールなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ
酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−
３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸
メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキ
シプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチ
ルなどのエステル類が挙げられる。これらのうち、環状
エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多
価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン
類、エステル類などが好ましい。

【０００９】また、ラジカル共重合における重合触媒と
しては、通常のラジカル重合開始剤が使用でき、例えば
２，２‘−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−ア
ゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２
‘−アゾビス−（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロ
ニトリル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシ
ド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピ
バレート、１，１‘−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）
シクロヘキサンなどの有機過酸化物、および過酸化水素
などを挙げることができる。過酸化物をラジカル重合開
始剤に使用する場合、還元剤を組み合わせてレドックス
型の開始剤としてもよい。

【００１０】方法において、共重合体（Ａ）側鎖のカ
ルボキシル基に付加させる、前記反応性官能基を有する
ラジカル重合性化合物（ｄ）としては、例えばグリリシ
ジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メ
タ）アクリレート、α−ｎ−プロピルグリシジル（メ
タ）アクリレート、α−ｎ−ブチルグリシジル（メタ）
アクリレート、２-メチルグリシジル（メタ）アクリレ
ート、２-エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２-
プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エ
ポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシ
ヘプチル（メタ）アクリレート、α−エチル−６，７−
エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、３，４−エポ
キシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等のエ
ポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステル類、o-ビ
ニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグ
リシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテ
ル、α-メチル-o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、
α-メチル-m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-
メチル-p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3-ジ
グリシジルオキシメチルスチレン、2,4-ジグリシジルオ
キシメチルスチレン、2,5-ジグリシジルオキシメチルス
チレン、2,6-ジグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,
4-トリグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,5-トリグ
リシジルオキシメチルスチレン、2,3,6-トリグリシジル
オキシメチルスチレン、3,4,5-トリグリシジルオキシメ
チルスチレン、2,4,6-トリグリシジルオキシメチルスチ
レン等のエポキシ基を有するスチレン類などが挙げられ
る。これらのうち、３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリ
レート、２-メチルグリシジル（メタ）アクリレート、p
-ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが好ましく用
いられる。

【００１１】付加反応に用いる溶媒としては、共重合体
に用いた溶媒と同じものを用いることができる。付加反
応を行う際、熱による重合反応を抑えるために、熱重合
禁止剤を添加することができる。このような熱重合禁止
剤としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノ
ン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モ
ノベンジルエーテル、メトキシフェノール、アミルキノ
ン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、
フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテルなどを
挙げることができる。これら化合物の使用量は、共重合
体１００重量部に対して好ましくは５重量部以下であ
る。

【００１２】（２）成分（Ｂ） 分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物（Ｂ）
は、熱重合および／または光重合する化合物であり、以
下に示されるような化合物を例示することができる。

【００１３】分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を
有する化合物；（メタ）アクリロイル基、またはビニル
基を分子中に２個以上含有する化合物を使用することが
できる。このような化合物としては、例えばエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１, ４−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、１, ６−へキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロ
キシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロ
ピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）
アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサ
イドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオー
ルのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグ
リシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させた
エポキシ（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン
化ビスフェノールＡのジアクリレート等が挙げられる。
さらに分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を含
有する（メタ）アクリレートとしては、３個以上の水酸
基を有する多価アルコールに３モル以上の（メタ）アク
リル酸がエステル結合した化合物、例えばトリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス
（２−ヒドキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート等が挙げられる。また、主鎖にポリエーテ
ル、ポリエステル、ポリウレタン骨格を有するポリエー
テルアクリルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴ
マー、ポリウレタンアクリルオリゴマー、あるいはポリ
エポキシアクリルオリゴマーも使用することができる。
これらの市販品としては、ユピマーＵＶ ＳＡ１００
２、ＳＡ２００７（以上、三菱化学製）、ビスコート＃
１９５、＃２３０、＃２１５、＃２６０、＃２９５、＃
３００、＃３３５ＨＰ、＃３６０、＃４００、＃５４
０、＃７００、３ＰＡ、ＧＰＴ（以上、大阪有機化学工
業製）、ライトアクリレート４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、
ＮＰ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ、ＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、
ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社
化学製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２
０、ＨＸ−６２０、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０
４、Ｒ−６８４、ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭ
ＰＴＡ、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＣＡ
−２０、−３０、−６０、−１２０（以上、日本化薬
製）、アロニックスＭ２０８、Ｍ２１０、Ｍ２１５、Ｍ
２２０、Ｍ２４０、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ
３１５、Ｍ３２５、Ｍ４００、Ｍ１２００、Ｍ６１０
０、Ｍ６２００、Ｍ６２５０、Ｍ７１００、Ｍ８０３
０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６
０、Ｍ９０５０（以上、東亞合成製）、リポキシＶＲ−
７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０（以上、昭和高分子
製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ８１、８３、６００、６２９、６
４５、７４５、７５４、７６７、７０１、７５５、７０
５、７７０、８００、８０５、８１０、８３０、４５
０、１８３０、１８７０（以上、ダイセルＵＣＢ製）、
ビームセット５７５、５５１Ｂ、５０２Ｈ、１０２（以
上、荒川化学製）等が挙げられる。

【００１４】分子中に２個以上の環状エーテル類を有す
る化合物；オキシラン化合物、オキセタン化合物、オキ
ソラン化合物などのうち、分子中に２個以上の環状エー
テルを有する化合物を使用することができる。例えばオ
キシラン化合物類として３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−３‘，４’−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−
メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキ
シルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサ
イド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジ
ペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル
−３‘，４’−エポキシ−６‘−メチルシクロヘキサン
カルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシ
クロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイ
ド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシ化
テトラベンジルアルコール、ラクトン変性３，４−エポ
キシシクロヘキシルメチル−３’，４‘−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性エポキシ化
テトラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキ
サイド、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビス
フェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳ
ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエー
テル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、
臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化
ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフ
ェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック
樹脂、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、
１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリ
セリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリ
シジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレング
リコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１
種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加するこ
とにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシ
ジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエ
ステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエー
テル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールま
たはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られる
ポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；
高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆
油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン
酸オクチル、エポキシ化アマニ油などを挙げることがで
きる。オキセタン化合物として、３，７−ビス（３−オ
キセタニル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，
３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメ
チレン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−
ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチ
ル〕ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキ
セタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス
［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］
プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−
オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビ
ス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、
トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビ
ス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、
トリシクロデカンジイルジメチレン（３−エチル−３−
オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパ
ントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エー
テル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメ
トキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキ
セタニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールト
リス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテ
ル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３
−オキセタニルメチル）エーテルなどを例示することが
でき、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせ
て用いることができる。

【００１５】これらの市販品としては、エポライト４０
Ｅ、１００Ｅ、７０Ｐ、１５００ＮＰ、１００ＭＦ、４
０００、３００２（以上、共栄社化学製）、セロキサイ
ド２０２１、２０８１、ＧＴ３０１、ＧＴ４０１、エポ
リードＣＤＭ、ＰＢ３６００、エポフレンドＡ１００
５、Ａ１０１０、Ａ１０２０（以上、ダイセル化学
製）、デナコール６１１、６１２、５１２、５２１、４
１１、４２１、３１３、３２１（以上、ナガセ化成製）
等が挙げられる。また、前記したエチレン性不飽和基、
および環状エーテルの両反応性基を分子中にそれぞれ少
なくとも１個以上含有する化合物であってもよい。例え
ば、グリシジル（メタ）アクリレート、ビニルシクロヘ
キセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサ
ン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）ア
クリレートなどが挙げられる。

【００１６】これらの（Ｂ）成分は、単独、または２種
以上で用いてもよく、特にエチレン性不飽和基を分子中
に２個以上含有する化合物を使用することが好ましい。
共重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは３０
〜１５０重量部、より好ましくは５０〜１３０重量部で
ある。３０重量部未満であると、光導波路を形成する
際、目的の導波路形状が得られない場合があり、１５０
重量部を超えると、共重合体（Ａ）との相溶性が悪くな
り、硬化物表面に膜荒れを生じることがある。

【００１７】（Ｃ）成分 放射線重合開始剤は、放射線によって前記した（Ｂ）成
分を重合しうる活性種を発生できる開始剤である。ここ
で放射線とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線および
Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を
意味する。従って、（Ｃ）成分である放射線重合開始剤
を必要とし、必要に応じて、さらに光増感剤を添加す
る。放射線重合開始剤としては、光照射により分解して
ラジカルを発生するもの（放射線ラジカル重合開始
剤）、カチオンを発生するもの（放射線カチオン重合開
始剤）に大別できる。放射線ラジカル重合開始剤として
は、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケ
タール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フ
ルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カル
バゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベン
ゾフェノン、４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、
４，４′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、
ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロ
ロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オ
ン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォ
スフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベン
ゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィ
ンオキシド等が挙げられる。

【００１８】放射線ラジカル重合開始剤の市販品として
は、例えばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、
５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１
７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４
−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チ
バ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、Ｌｕｃｉｒｉｎ
ＴＰＯ、ＴＰＯ−Ｌ（以上、ＢＡＳＦ製）、ユベクリル
Ｐ３６（ＵＣＢ製）等が挙げられる。放射線カチオン重
合開始剤としては、下記一般式（２）で表される構造を
有するオニウム塩を挙げることができる。このオニウム
塩は、光を受けることによりルイス酸を放出する化合物
である。 ［Ｒ¹² _a Ｒ¹³ _b Ｒ¹⁴ _c Ｒ¹⁵ _d Ｗ］^+m［ＭＸ_n+m］^-m （２） 〔式中、カチオンはオニウムイオンであり、ＷはＳ、Ｓ
ｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ
またはＮ≡Ｎであり、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ ¹⁵は同
一または異なる有機基であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそ
れぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）はＷ
の価数に等しい。Ｍは、ハロゲン化物錯体〔ＭＸ_n+m〕
の中心原子を構成する金属またはメタロイドであり、例
えばＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃ
ａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏな
どである。Ｘは例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子
であり、ｍはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であ
り、ｎはＭの原子価である。〕 一般式（２）においてオニウムイオンの具体例として
は、ジフェニルヨードニウム、４−メトキシジフェニル
ヨードニウム、ビス（４−メチルフェニル）ヨードニウ
ム、ビス（４−tert−ブチルフェニル）ヨードニウム、
ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム、トリフェニル
スルホニウム、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニ
ルスルホニウム、ビス［４−（ジフェニルスルフォニ
オ）−フェニル］スルフィド、ビス［４−（ジ（４−
（２−ヒドロキシエチル）フェニル）スルホニオ）−フ
ェニル］スルフィド、η⁵−２，４−（シクロペンタジ
ェニル）［１，２，３，４，５，６−η］−（メチルエ
チル）−ベンゼン］−鉄（１＋）等が挙げられる。上記
一般式（２）中における陰イオン（ＭＸ_n+m）の具体例
としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ₄ ^-）、ヘキサ
フルオロホスフェート（ＰＦ₆ ^-）、ヘキサフルオロアン
チモネート（ＳｂＦ₆ ^-）、ヘキサフルオロアルセネート
（ＡｓＦ₆ ^-）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ
₆ ^-）などが挙げられる。

【００１９】放射線カチオン重合開始剤として使用する
ことができるオニウム塩として、前記一般式（２）にお
いて、［ＭＸ_n+m］の代わりに一般式： 〔ＭＸ_n（ＯＨ）^-〕 （３） （ここで、Ｍ、Ｘおよびｎは一般式（２）に関し定義の
通りである。）で表される陰イオン、過塩素酸イオン
（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン
（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルフォン酸イオン（ＦＳ
Ｏ₃ ^-）、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベン
ゼンスルフォン酸イオン、トリニトロトルエンスルフォ
ン酸イオンなどの他の陰イオンを有するオニウム塩が挙
げられる。放射線カチオン重合開始剤の市販品として
は、例えばＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶ
Ｉ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニオンカー
バイド社）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１
５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１（以上、旭電化工業
（株））、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２６１（以上、チバガイ
ギー社）、ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２
６３９、ＣＩ−２０６４（以上、日本曹達（株））、Ｃ
Ｄ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以
上、サートマー社）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０
３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０
２、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＭＰＩ−１０
３、ＢＢＩ−１０１、ＢＢＩ−１０２、ＢＢＩ−１０３
（以上、みどり化学（株））、Ｄｅｇａｃｕｒｅ Ｋ１
２６（デグサ社製）などが挙げられる。前記の放射線重
合開始剤は、１種単独、あるいは２種以上のものを組み
合わせて（Ｃ）成分を構成することができる。

【００２０】本発明の樹脂組成物における（Ｃ）成分の
含有割合は、通常０．１〜１０重量％が好ましく、０．
２〜５重量％が特に好ましい。（Ｃ）成分の含有割合が
０．１重量％未満であると、硬化が十分に進行せず、光
導波路の伝送特性で問題を生ずることがある。一方、１
０重量％を超えると、開始剤が長期の伝送特性に悪影響
を及ぼす可能性がある。また、放射線硬化性組成物にお
いて、上述した放射線重合開始剤と併用して光増感剤を
配合することも好ましい。この理由は、光増感剤を併用
することにより、光等のエネルギー線をより効果的に吸
収することができるためである。このような光増感剤と
しては、チオキサントン、ジエチルチオキサントンおよ
びチオキサントンの誘導体；アントラキノン、ブロムア
ントラキノンおよびアントラキノンの誘導体；アントラ
セン、ブロムアントラセンおよびアントラセン誘導体；
ペリレンおよびペリレンの誘導体；キサントン、チオキ
サントンおよびチオキサントンの誘導体；クマリンおよ
びケトクマリン等を挙げることができる。これらの光増
感剤は、開始剤の種類に応じて適した増感剤を選択する
必要がある。

【００２１】本発明の樹脂組成物には、前記の成分以外
に、必要に応じて本発明の樹脂組成物の特性を損なわな
い範囲で、例えば分子中に１個の重合性反応基を含有す
る化合物や高分子樹脂、例えば、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン
樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン
−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹
脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、
シリコーン系ポリマーポリマーを配合することができ
る。さらにまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加
剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定
剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止
剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、
可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ
性改良剤、帯電防止剤等を必要に応じて配合することが
できる。ここで、酸化防止剤としては、例えばＩｒｇａ
ｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以
上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、Ａｎｔｉ
ｇｅｎｅ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、スミライザー（住友化学工
業製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、例えばＴ
ｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、
３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１
１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ
化成製）等が挙げられ、光安定剤としては、例えばＴｉ
ｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ
・スペシャルティ・ケミカルズ製）、サノールＬＳ７７
０（三共製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友
化学工業製）等が挙げられ、シランカップリング剤とし
ては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品とし
て、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウコーニ
ング・シリコーン製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３
（以上、信越化学工業製）等が挙げられ、塗面改良剤と
しては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシ
リコーン添加剤が挙げられ、市販品としてはＤＣ−５
７、ＤＣ−１９０（以上、ダウコーニング製）、ＳＨ一
２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１
９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン製）、
ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以
上、信越化学工業製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ
−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー
製）等が挙げられる。

【００２２】本発明の樹脂組成物は、さらに（Ｄ）成分
として、有機溶媒を含有することが好ましい。有機溶媒
を添加することにより、放射線硬化性組成物の保存安定
性が向上するとともに、適当な粘度を得ることができる
ため、均一な厚さを有する光導波路を形成することがで
きる。有機溶媒の種類としては、本発明の目的、効果を
損なわない範囲で選ぶことができるが、通常、大気圧下
での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化
合物であって、各構成成分を均一に溶解させる有機化合
物であることが好ましい。具体的には、成分（Ａ）の共
重合体を調製する際に使用する有機溶剤を用いることが
できる。好ましい有機溶剤としては、アルコール類、エ
ーテル類、エステル類、およびケトン類が挙げられ、よ
り好ましい有機溶媒としては、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、乳酸エチル、メチルイソブチルケト
ン、メチルアミルケトン、トルエン、キシレン、および
メタノールからなる群から選択される少なくとも１つの
溶剤が挙げられる。有機溶媒の含有量は、放射線硬化性
組成物の全体量を１００重量部としたときに、１０〜５
００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。かかる
有機溶媒の添加量が１０重量部未満となると、放射線硬
化性組成物の粘度調整が困難となる場合があるためであ
り、一方、有機溶媒の添加量が５００重量部を超える
と、十分な厚さを有する光導波路等を形成することが困
難となる場合があるためである。

【００２３】なお、光導波路を製造するにあたり、下部
クラッド層、コア部分および上部クラッド層の各層を形
成する工程を含むとともに、少なくとも一つの工程が、
上記放射線硬化性組成物を放射線により硬化させる工程
である。 １．放射線硬化性組成物の調製 光導波路を構成する下部クラッド層、コア部分および上
部クラッド層を形成するための放射線硬化性組成物、す
なわち下層用組成物、コア用組成物および上層用組成物
は、それぞれ、上記した硬化性組成物を、常法にしたが
って混合撹拌することにより、調製することができる。
また、調製された下層用組成物、コア用組成物および上
層用組成物としては、それぞれ、最終的に得られる各部
の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足す
るように、互いに異なる放射線硬化性組成物を用いるこ
とが好ましい。したがって、（Ａ）、（Ｂ）成分の種
類、配合量等を適宜選択することにより、異なる屈折率
を有する硬化膜が得られる放射線硬化性組成物とするこ
とができる。そして、屈折率の差が適宜の大きさとなる
ような二種または三種の放射線硬化性組成物を用い、最
も高い屈折率の硬化膜を与える放射線硬化性組成物をコ
ア用組成物とし、他の放射線硬化性組成物を下層用組成
物および上層用組成物として用いることが好ましい。た
だし、下層用組成物と上層用組成物とは同一の放射線硬
化性組成物であってもよく、通常は同一の組成物である
ことが、経済的に有利であり、製造管理も容易となるこ
とからより好ましい。また、各放射線硬化性組成物を調
製する際に、その粘度を、１〜１０，０００ｃｐｓ（２
５℃）の範囲内の値とすることが好ましく、５〜８，０
００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることがより好
ましく、１０〜５，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の
値とすることがさらに好ましい。この理由は、各放射線
硬化性組成物の粘度がこれらの範囲外の値となると、取
り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが
困難となる場合があるためである。なお、放射線硬化性
組成物の粘度は、上記組成物や有機溶媒の配合量によっ
て、適宜調整することができる。

【００２４】以下、図面を適宜参照しながら、本発明の
光導波路および光導波路の製造方法に関する実施形態を
それぞれ具体的に説明する。 基本的光導波路構成 図１、放射線硬化性組成物を適用して構成した光導波路
の基本的構成を示す断面図である。この図１に示すよう
に、光導波路１０は、紙面に直角方向（奥行き方向）に
伸びる基板１２と、この基板１２の表面上に形成された
下部クラッド層１３と、この下部クラッド層１３上に形
成された、特定の幅を有するコア部分１５と、このコア
部分１５を含む下部クラッド層１３上に積層して形成さ
れた上部クラッド層１７と、を含んで構成されている。
そして、コア部分１５は、導波路損失が少なくなるよう
に、その側部を含めて、下部クラッド層１３および上部
クラッド層１７により被覆してあり、全体として埋設さ
れた状態である。 厚さおよび幅 以上のような構成の光導波路において、下部クラッド
層、上部クラッド層、およびコア部分の厚さはそれぞれ
特に制限されるものではないが、例えば、下部クラッド
層の厚さを１〜２００μｍ、コア部分の厚さを３〜２０
０μｍ、上部クラッド層の厚さを１〜２００μｍの範囲
内の値とすることが好ましい。また、コア部分の幅につ
いても特に限定されるものではないが、例えば、１〜２
００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。 屈折率 また、コア部分の屈折率を、下部および上部クラッド層
のいずれの屈折率よりも大きくすることが必要である。
したがって、波長４００〜１，６００ｎｍの光に対し
て、コア部分の屈折率を１．４２０〜１．６５０の範囲
内の値とするとともに、下部クラッド層および上部クラ
ッド層の屈折率をそれぞれ１．４００〜１．６４８の範
囲内の値とすることが好ましい。また、コア部分の屈折
率がクラッド層より大きいことが好ましく、特にコア部
分の屈折率が、クラッド層の屈折率よりも少なくとも
０．１％大きい値とすることが好ましい。

【００２５】光導波路の形成方法 光導波路１０は、図２に示すような工程を経て形成され
る。すなわち、下部クラッド層１３、コア部分１５およ
び上部クラッド層（図示せず。）を、いずれも、それら
の層を形成するための放射線硬化性組成物を塗工したの
ち、放射線硬化することにより形成することが好まし
い。なお、以下の形成例では、下部クラッド層、コア部
分および上部クラッド層を、それぞれ硬化後において屈
折率が異なる硬化物が得られる放射線硬化性組成物であ
る下層用組成物、コア用組成物、および上層用組成物か
ら形成することを想定して、説明する。 基板の準備 まず、図２（ａ）に示すように、平坦な表面を有する基
板１２を用意する。この基板１２の種類としては、特に
制限されるものではないが、例えば、シリコン基板やガ
ラス基板等を用いることができる。 下部クラッド層の形成工程 用意した基板１２の表面に、下部クラッド層１３を形成
する工程である。具体的には、図２（ｂ）に示すよう
に、基板１２の表面に、下層用組成物を塗布し、乾燥ま
たはプリベークさせて下層用薄膜を形成する。そして、
この下層用薄膜に、放射線を照射することにより硬化さ
せて、下部クラッド層１３を形成することができる。な
お、下部クラッド層１３の形成工程では、薄膜の全面に
放射線を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
ここで、下層用組成物を塗布方法としては、スピンコー
ト法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロ
ールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シ
ルクスクリーン法、またはインクジェット法等の方法を
用いることができる。このうち、特に均一な厚さの下層
用薄膜が得られることから、スピンコート法を採用する
ことがより好ましい。また、下層用組成物のレオロジー
特性を塗布方法に適切に対応したものとするために、各
種レベリング剤、チクソ付与剤、フィラー、有機溶媒、
界面活性剤等を必要に応じて配合することが好ましい。
また、下層用組成物からなる下層用薄膜は、塗布後、有
機溶剤などを除去する目的で５０〜２００℃の温度でプ
リベークすることが好ましい。なお、下部クラッド層の
形成工程における塗布方法や、レオロジー特性の改良等
については、後述するコア部分の形成工程や、上部クラ
ッド層の形成工程においてもあてはまる内容である。ま
た、下部クラッド層を形成する際の放射線の照射量につ
いても、特に制限されるものでは無いが、波長２００〜
４５０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ2の放射線を、
照射量が１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照
射して、露光することが好ましい。ここに、照射される
放射線の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ
線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、特に
紫外線が好ましい。そして、放射線（紫外線）の照射装
置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いる
ことが好ましい。また、露光後に、塗膜全面が十分硬化
するように、さらに加熱処理（以下、「ポストベーク」
という。）を行うことが好ましい。この加熱条件は、放
射線硬化性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等によ
り変わるが、通常、３０〜４００℃、好ましくは５０〜
３００℃で、例えば５分間〜７２時間の加熱条件とすれ
ば良い。なお、下部クラッド層の形成工程における放射
線の照射量、種類、および放射線（紫外線）の照射装置
等については、後述するコア部分の形成工程や、上部ク
ラッド層の形成工程においてもあてはまる内容である。

【００２６】コア部分の形成 次に、この下部クラッド層１３上に、図２（ｃ）に示す
ように、コア用組成物を塗布し、乾燥またはさらにプリ
ベークさせてコア用薄膜１４を形成する。その後、図２
（ｄ）に示すように、コア用薄膜１４の上面に対して、
所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターン
を有するフォトマスク１９を介して放射線１６の照射を
行うことが好ましい。これにより、放射線が照射された
箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現
像除去することにより、図２（ｅ）に示すように、下部
クラッド層１３上に、パターニングされた硬化膜よりな
るコア部分１５を形成することができる。また、コア部
分１５を形成するためのコア用薄膜１４に対する放射線
１６の照射は、所定のパターンを有するフォトマスク１
９に従って行われた後、現像液により未露光部分を現像
することにより、未硬化の不要な部分が除去され、これ
によってコア部分１５が形成される。このように所定の
パターンに従って放射線の照射を行う方法としては、放
射線の透過部と非透過部とからなるフォトマスクを用い
る方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法が
挙げられる。 ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用した、所定のパタ
ーンに従って放射線透過領域と放射線不透過領域とより
なるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方
法。 ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、
この導光部材における所定のパターンに対応する光ファ
イバーを介して放射線を照射する方法。

【００２７】ｃ．レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等
の集光性光学系により得られる収束性放射線を走査させ
ながら放射線硬化性組成物に照射する方法。 なお、露光後、露光部分の硬化を促進させるために、加
熱処理を行ってもよい。その加熱条件は、放射線硬化性
組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通
常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃であ
る。このようにして所定のパターンに従ってパターン露
光し、選択的に硬化させた薄膜に対しては、硬化部分と
未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像処理する
ことができる。したがって、パターン露光後、未硬化部
分を除去するとともに、硬化部分を残存させることによ
り、結果として、コア部分を形成することができる。こ
こで、現像液としては、有機溶媒、あるいは水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナト
リウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルア
ミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−
プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルア
ミン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビ
シクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］−５−ノナンなどのアルカリ
類からなるアルカリ水溶液等を用いることができる。ま
た、アルカリ水溶性を使用する場合、その濃度を、通常
０．０５〜２５重量％、好ましくは０．１〜３．０重量
％の範囲内の値とすることが好ましい。なお、このよう
なアルカリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水
溶性有機溶媒や界面活性剤などを適当量添加して、現像
液として使用することも好ましい。また、現像時間は、
通常３０〜６００秒間であり、また現像方法は液盛り
法、ディッピング法、シャワー現像法などの公知の方法
を採用することができる。現像液として有機溶媒を用い
た場合はそのまま風乾することにより、また、アルカリ
水溶液を用いた場合には流水洗浄を、例えば３０〜９０
秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素等で風乾させることによ
って表面上の水分を除去することにより、パターン状被
膜が形成される。

【００２８】」次いで、パターニング部をさらに硬化さ
せるために、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置
により、例えば３０〜４００℃の温度で５〜６００分間
ポストベーク処理し、硬化されたコア部分が形成される
ことになる。 上部クラッド層の形成 次いで、コア部分１５が形成された下部クラッド層１３
の表面に、上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベー
クさせて上層用薄膜を形成する。この上層用薄膜に対
し、放射線を照射して硬化させることにより、図２に示
したように上部クラッド層１７を形成することができ
る。また、放射線の照射によって得られる上部クラッド
層は、必要に応じて、さらに上述したポストベークする
ことが好ましい。ポストベークすることにより、硬度お
よび耐熱性に優れた上部クラッド層を得ることができ
る。

【００２９】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。各組成物を表１および表２に示す。 ［放射線硬化性組成物の調製］共重合体（Ａ）の調製例１ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスイ
ソブチロニトリルを１．３ｇ、有機溶剤として乳酸エチ
ルを５３．８ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪
拌した。引き続いて、メタクリル酸６．７ｇ、ジシクロ
ペンタニルメタクリレート１５．７ｇ、スチレン９．０
ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート１３．５ｇを仕込ん
だ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８
０℃に上昇させ、この温度で５時間重合を行った。その
後、得られた溶液に３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート１０．６ｇ、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド０．７ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．１
ｇを添加し、８０℃で８時間攪拌することで、ポリマー
中のカルボキシル基の一部にエポシキ基を付加させて、
側鎖にアクリル基を有するポリマー溶液を得た。その
後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物
を凝固させた。さらに、この凝固物と同重量のテトラヒ
ドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させ
た。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた
凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共
重合体Ａ−１を得た。

【００３０】共重合体（Ａ）の調製例２ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスジ
メチルバレロニトリルを０．４ｇ、有機溶剤として乳酸
エチルを５９．８ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するま
で攪拌した。引き続いて、メタクリル酸８．０ｇ、ジシ
クロペンタニルメタクリレート１０．０ｇ、メチルメタ
クリレート１３．９ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート
８．０ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その
後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で５時間
重合を行った。その後、得られた溶液に３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチルアクリレート３１．９ｇ、テト
ラブチルアンモニウムブロマイド２．２ｇ、ｐ−メトキ
シフェノール０．１ｇを添加し、８０℃で８時間攪拌す
ることで、ポリマー中のカルボキシル基の一部にエポシ
キ基を付加させて、側鎖にアクリル基を有するポリマー
溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴
下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と
同重量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサ
ンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行
った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥し
て、目的とする共重合体Ａ−２を得た。

【００３１】共重合体（Ａ）の調製例３ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスイ
ソブチロニトリルを１．３ｇ、有機溶剤としてジエチレ
ングリコールジメチルエーテルを５３．８ｇを仕込み、
重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、メタ
クリル酸６．７ｇ、グリシジルメタクリレート１５．７
ｇ、スチレン９．０ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート
１３．５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その
後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で５時間
重合を行った。その後、反応生成物を多量のヘキサンに
滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物
と同重量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキ
サンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回
行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥
し、目的とする共重合体Ａ−３を得た。

【００３２】」共重合体（Ａ）の調製例４ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスイ
ソブチロニトリルを１．３ｇ、有機溶剤として乳酸エチ
ルを５３．８ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪
拌した。引き続いて、メタクリル酸６．７ｇ、（２−エ
チル−２−オキセタニル）メチルアクリレート１５．７
ｇ、スチレン９．０ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート
１３．５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その
後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で５時間
重合を行った。その後、反応生成物を多量のヘキサンに
滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物
と同重量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキ
サンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回
行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥
し、目的とする共重合体Ａ−４を得た。

【００３３】共重合体（Ａ）の調製例５ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスイ
ソブチロニトリルを１．３ｇ、有機溶剤として乳酸エチ
ルを５３．８ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪
拌した。引き続いて、メタクリル酸６．７ｇ、ジシクロ
ペンタニルメタクリレート１５．７ｇ、スチレン９．０
ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート１３．５ｇを仕込ん
だ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８
０℃に上昇させ、この温度で５時間重合を行った。その
後、得られた溶液に３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート３１．９ｇ、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド２．２ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．１
ｇを添加し、８０℃で８時間攪拌することで、ポリマー
中のカルボキシル基の全てにエポシキ基を付加させて、
側鎖にアクリル基を有するポリマー溶液を得た。その
後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物
を凝固させた。さらに、この凝固物と同重量のテトラヒ
ドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させ
た。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた
凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共
重合体Ａ−５を得た。

【００３４】共重合体（Ａ）の調製例６ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスイ
ソブチロニトリルを１．３ｇ、有機溶剤として乳酸エチ
ルを５３．８ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪
拌した。引き続いて、メタクリル酸６．７ｇ、ジシクロ
ペンタニルメタクリレート１５．７ｇ、スチレン９．０
ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート１３．５ｇを仕込ん
だ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８
０℃に上昇させ、この温度で５時間重合を行った。その
後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物
を凝固させた。さらに、この凝固物と同重量のテトラヒ
ドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させ
た。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた
凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共
重合体Ａ−６を得た。

【００３５】共重合体（Ａ）の調製例７ ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒
素置換した後、重合開始剤として２，２‘−アゾビスジ
メチルバレロニトリルを０．４ｇ、有機溶剤として乳酸
エチルを５９．８ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するま
で攪拌した。引き続いて、メタクリル酸８．０ｇ、ジシ
クロペンタニルメタクリレート１０．０ｇ、メチルメタ
クリレート１３．９ｇ、およびｎ−ブチルアクリレート
８．０ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その
後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で５時間
重合を行った。その後、反応生成物を多量のヘキサンに
滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物
と同重量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキ
サンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回
行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥
して、目的とする共重合体Ａ−７を得た。

【００３６】放射線硬化性組成物Ｊ−１の調製 上述した共重合体Ａ−１ ３３．０重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能アクリレート（東亞合成社
製、Ｍ８１００）を９．９重量部、トリメチロールプロ
パントリアクリレートを６．６重量部、放射線ラジカル
重合開始剤であるＩｒｇｃｕｒｅ．３６９（チバスペシ
ャリティ・ケミカルズ社製）を１．０重量部、乳酸エチ
ルを４９．５重量部添加し、均一に混合することによ
り、放射線硬化性組成物Ｊ−１を得た。

【００３７】放射線硬化性組成物Ｊ−２の調製 上述した共重合体Ａ−２ ２８．３重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能アクリレート（東亞合成社
製、Ｍ８１００）を１７．０重量部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレートを１１．３重量部、放射線ラジ
カル重合開始剤であるＩｒｇｃｕｒｅ．３６９（チバス
ペシャリティ・ケミカルズ社製）を１．０重量部、乳酸
エチルを４２．５重量部添加し、均一に混合することに
より、放射線硬化性組成物Ｊ−２を得た。

【００３８】放射線硬化性組成物Ｊ−３の調製 上述した共重合体Ａ−３ ３３．０重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能オキシラン化合物（ダイセル
化学社製、エポリードＧＴ３０１）を１６．５重量部、
放射線カチオン重合開始剤であるＳＰ１７０（旭電化社
製）を１．０重量部、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルを４９．５重量部添加し、均一に混合することに
より、放射線硬化性組成物Ｊ−３を得た。

【００３９】放射線硬化性組成物Ｊ−４の調製 上述した共重合体Ａ−４ ３３．０重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能オキシラン化合物（ダイセル
化学社製、エポリードＧＴ３０１）を１６．５重量部、
放射線カチオン重合開始剤であるＳＰ１７０（旭電化社
製）を１．０重量部、乳酸エチルを４９．５重量部添加
し、均一に混合することにより、放射線硬化性組成物Ｊ
−３を得た。

【００４０】放射線硬化性組成物Ｊ−５の調製 上述した共重合体Ａ−１ ３５．０重量部に対し、重合
反応性組成物であるペンタエリスリトールトリアクリレ
ートを１３．５重量部、放射線ラジカル重合開始剤であ
るＩｒｇｃｕｒｅ．３６９（チバスペシャリティ・ケミ
カルズ社製）を３．０重量部、乳酸エチルを４８．５重
量部添加し、均一に混合することにより、放射線硬化性
組成物Ｊ−５を得た。

【００４１】放射線硬化性組成物Ｊ−６の調製 上述した共重合体Ａ−１ ３３．０重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能アクリレート（東亞合成社
製、Ｍ８１００）を９．９重量部、トリメチロールプロ
パントリアクリレートを６．６重量部、放射線ラジカル
重合開始剤であるＩｒｇｃｕｒｅ．８１９（チバスペシ
ャリティ・ケミカルズ社製）を１．０重量部、乳酸エチ
ルを４９．５重量部添加し、均一に混合することによ
り、放射線硬化性組成物Ｊ−６を得た。

【００４２】放射線硬化性組成物Ｊ−７の調製（比較
例） 上述した共重合体Ａ−５ ３３．０重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能アクリレート（東亞合成社
製、Ｍ８１００）を９．９重量部、トリメチロールプロ
パントリアクリレートを６．６重量部、放射線ラジカル
重合開始剤であるＩｒｇｃｕｒｅ．３６９（チバスペシ
ャリティ・ケミカルズ社製）を１．０重量部、乳酸エチ
ルを４９．５重量部添加し、均一に混合することによ
り、放射線硬化性組成物Ｊ−７を得た。

【００４３】放射線硬化性組成物Ｊ−８の調製（比較
例） 上述した共重合体Ａ−６ ３３．０重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能アクリレート（東亞合成社
製、Ｍ８１００）を９．９重量部、トリメチロールプロ
パントリアクリレートを６．６重量部、放射線ラジカル
重合開始剤であるＩｒｇｃｕｒｅ．３６９（チバスペシ
ャリティ・ケミカルズ社製）を１．０重量部、乳酸エチ
ルを４９．５重量部添加し、均一に混合することによ
り、放射線硬化性組成物Ｊ−８を得た。た。

【００４４】放射線硬化性組成物Ｊ−９の調製（比較
例） 上述した共重合体Ａ−７ ２８．３重量部に対し、重合
反応性組成物である多官能アクリレート（東亞合成社
製、Ｍ８１００）を１７．０重量部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレートを１１．３重量部、放射線ラジ
カル重合開始剤であるＩｒｇｃｕｒｅ．３６９（チバス
ペシャリティ・ケミカルズ社製）を１．０重量部、乳酸
エチルを４２．５重量部添加し、均一に混合することに
より、放射線硬化性組成物Ｊ−９を得た。

【００４５】［実施例１］ （１）光導波路の形成 下部クラッド層の形成 放射線硬化性組成物Ｊ−２をシリコン基板の表面上に、
スピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて１００
℃、１０分間の条件でプリベークした。次いで、放射線
硬化性組成物Ｊ−２からなる塗膜に、波長３６５ｎｍ、
照度２０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を３０秒間照射して、放
射線硬化させた。そして、この硬化膜を１５０℃、１時
間の条件でポストベークをすることにより、厚さ５０μ
ｍの下部クラッド層とした。 コア部分の形成 次に、放射線硬化性組成物Ｊ−１を下部クラッド層の上
にスピンコータで塗膜を形成し、ホットプレートを用い
て１００℃、１０分の条件でプレベークした。その後、
放射線硬化性組成物Ｊ−１からなる厚さ５０μｍの塗膜
に、幅５０μｍのライン状パターンを有するフォトマス
クを介して、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2の
紫外線を３０秒間照射して、塗膜を放射線硬化させた。
次いで、放射線硬化させた塗膜を有する基板を１．０％
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（ＴＭＡ
Ｈ）からなる現像液中に浸漬して、塗膜の未露光部を溶
解させた。その後、１５０℃、１時間の条件でポストベ
ークを行い、幅５０μｍのライン状パターンを有するコ
ア部分を形成した。 上部クラッド層の形成 次いで、コア部分を有する下部クラッド層の上面に、放
射線硬化性組成物Ｊ−２をスピンコータで塗布し、ホッ
トプレートを用いて１００℃、１０分の条件でプリベー
クした。その後、放射線硬化性組成物Ｊ−２からなる塗
膜に、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線
を３０秒間照射することにより、厚さ５０μｍの上部ク
ラッド層を形成した。

【００４６】［実施例２〜５、比較例１〜２］下部クラ
ッド層、コア部分、上部クラッド層を実施例１に記した
組成物を用いる代わりに表３に示した組成物を用いる以
外はすべて前記した手法と同じ手法により、光導波路を
形成した。

【００４７】（２）光導波路形状の精度 上記した手法により設計したコア形状（高さ５０μｍ×
ライン幅５０μｍ）に関して、コア高さ、コア幅ともに
５０±５μｍの形状が形成された場合を「○」、それ以
上、以下の形状になった場合を「×」とした。 （３）光導波路の伝送損失評価 このようにして得られた下部クラッド層、コア部分およ
び上部クラッド層からなる光導波路について、波長８５
０ｎｍの光を一端から入射させた。そして、他端から出
射する光量を測定することにより、単位長さ当たりの導
波路損失をカットバック法により求めた。 （４）耐溶剤性 このようにして得られた下部クラッド層、コア部分およ
び上部クラッド層からなる光導波路について、テトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）に室温にて２４時間浸漬した後
に、塗膜が基板から剥がれない場合を「○」、剥がれた
場合を「×」とした。上記測定の結果を表２に記した。
比較例１では、Ｊ−７のコア部分を形成した際、アルカ
リ現像時に未露光部分がアルカリ現像液に溶解しないた
め目的のコア形状が得られなかった。そのため、それを
用いた光導波路の伝送損失は１ｄＢ／ｃｍ以上の値を示
した。また、比較例２では、アルカリ現像後に硬化部に
部分的な溶解が生じたため目的の形状が得られなかっ
た。そのためそれを用いた光導波路の損失は１ｄＢ／ｃ
ｍ以上の値を示した。

【００４８】

【表１】

【００４９】

【表２】

【００５０】

【表３】

【００５１】

【発明の効果】以上のように、本発明の放射線硬化性組
成物を使用することで、きわめて容易に、かつ短時間、
高精度に光導波路を成形することができるようになっ
た。また、本発明の放射線硬化性組成物で形成された光
導波路は、低い伝送損失が得られることができた。この
ように、本発明の光導波路の製造方法によれば、光導波
路を効率的に製造することができるようになった。

【００５２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光導波路の断面図である。

【図２】（ａ）〜（ｅ）は、光導波路の製造方法の一部
工程図である。

【００５３】

【符号の説明】

１０ 光導波路 １２ 基板 １３ 下部クラッド層 １４ コア用薄膜 １５ コア部分 １６ 放射線 １７ 上部クラッド層 １８ リッジ １９ フォトマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江利山 祐一 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H047 KA04 PA02 PA15 PA21 PA22 PA28 QA02 QA04 QA05 TA36 TA43 4J027 AA02 BA19 BA20 BA21 BA26 CB03 CC03 CD03 4J036 AB01 AB07 AD01 AD08 AD21 AF01 AF06 AK08 AK09 AK11 AK19 DB17 FB18 GA01 HA01 JA15

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）下記一般式（１）で表される構造
   を有する重合体 【化１】 ［R¹,R²,R³は水素または1〜12の炭素鎖を有するアルキ
   ル基、Ｘはカルボキシル基を有する基、Ｙは重合性基を
   有する基、ＺはXおよびY以外の有機基である］ （Ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物
   および（Ｃ）放射線重合開始剤を含有することを特徴と
   する光導波路形成用放射線硬化性組成物。
2. 【請求項２】 （Ｄ）成分として有機溶剤をさらに含有
   することを特徴とする請求項１記載の光導波路形成用放
   射線硬化性組成物。
3. 【請求項３】 （Ｂ）成分の重合性反応基がエチレン性
   不飽和基であることを特徴とする請求項１記載の光導波
   路形成用放射線硬化性組成物。
4. 【請求項４】 下部クラッド層と、コア部分と、上部ク
   ラッド層とを含む光導波路において、下部クラッド層、
   コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つが、下
   記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する放射線硬化性組成物の
   硬化物からなる光導波路。 （Ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する重合体 【化２】 ［R¹,R²,R³は水素または1〜12の炭素鎖を有するアルキ
   ル基、Ｘはカルボキシル基を有する基、Ｙは重合性基を
   有する基、ＺはXおよびY以外の有機基である］ （Ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物 （Ｃ）放射線重合開始剤
5. 【請求項５】 前記下部クラッド層、コア部分および上
   部クラッド層を構成するための各放射線硬化性組成物に
   おいて、コア部分の屈折率がクラッド層より０．１％以
   上大きいことを特徴とする請求項４記載の光導波路。
6. 【請求項６】下部クラッド層と、コア部分と、上部クラ
   ッド層とを含む光導波路の製造方法において、前記下部
   クラッド層を形成する工程と、コア部分を形成する工程
   と、上部クラッド層を形成する工程とを含むとともに、
   これらの少なくとも一つの工程が、請求項１記載の放射
   線硬化性組成物を放射線硬化させて形成する工程である
   ことを特徴とする光導波路の製造方法。