JP2003231994A - メッキ治具およびメッキ装置 - Google Patents

メッキ治具およびメッキ装置

Info

Publication number
JP2003231994A
JP2003231994A JP2002033404A JP2002033404A JP2003231994A JP 2003231994 A JP2003231994 A JP 2003231994A JP 2002033404 A JP2002033404 A JP 2002033404A JP 2002033404 A JP2002033404 A JP 2002033404A JP 2003231994 A JP2003231994 A JP 2003231994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
plating
semiconductor substrate
substrate
jig
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002033404A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3748229B2 (ja
Inventor
Hiroyasu Sadabetto
裕康 定別当
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd, Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP2002033404A priority Critical patent/JP3748229B2/ja
Publication of JP2003231994A publication Critical patent/JP2003231994A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3748229B2 publication Critical patent/JP3748229B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造コストアップを招致することなく、コン
タクト不良や半導体基板上でメッキされない領域を低減
できるメッキ治具およびメッキ装置を実現する。 【解決手段】 メッキ治具1は、既存のプリント配線基
板である積層基板2を使用する為、非常に簡便かつ安価
に製作でき、製品コスト低減に寄与し得る。さらに積層
基板2の絶縁層27上に載置され、メッキ電極を有する
半導体基板Wを保持固定すると共に、そのメッキ電極と
前記積層基板に形成された電極とを電気的に接続させて
から半導体基板の周囲を樹脂封止する構造にした為、従
来の封止パッキン濡れによるコンタクト不良を回避で
き、半導体基板上でメッキされない領域を低減すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のメッ
キ工程に用いて好適なメッキ治具およびメッキ装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、チップとパッケージのサイズが等
しくなるCSP(Chip Size Package)構造の半導体装
置が知られている。この種の半導体装置では、半導体基
板(ウエハ)の表面側に接続パッド、パッシベーショ
ン、保護膜および再配線を形成した後、例えば100〜
150μm程度の厚さでフォトレジストを塗布硬化させ
た上、再配線の所定箇所を露出する開口部内に電解メッ
キを施すことで各再配線上にポストと呼ばれる柱状電極
を形成するようにしている。
【0003】柱状電極のように、厚いメッキ層を形成す
る場合は必然的にメッキ時間が長くなるため、多数枚の
半導体基板について同時にメッキ処理を施す必要が生じ
る。これ故、1基板あたりの占有面積が小さいラック式
のメッキ装置を使用する場合が多い。従来、ラック式の
メッキ装置では、図9に示す構造のメッキ治具が用いら
れる。このメッキ治具は、塩化ビニールなどの絶縁材料
で形成され、ラック装着時にメッキ装置側から電力供給
される給電端子11を備えたた筺体10と、この筺体1
0上に設けられ、半導体基板Wが載置されるホルダ12
と、Oリングなどの封止パッキン13を介してホルダ1
2上に載置された半導体基板Wの背面側を気密封止する
環状の押えフレーム14と、この押えフレーム14を筺
体10に固定保持する保持部材15とから構成される。
なお、給電端子11を介して供給される電力は、筺体1
0内部の配線を経て、押えフレーム14に配設されたコ
ンタクト電極と接続する半導体基板W側の電極部に供給
されるように構成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のメッキ治具では、ホルダ12上に半導体基板Wを封
止保持する為、高い治具精度が要求される。これ故、治
具自体が高価になるばかりか、治具のサイズが大きく重
いものとなる結果、そうしたメッキ治具が適用されるメ
ッキ装置側でも搬送システムの大型化を招く等、製造コ
ストアップを招致するという要因になっている。しか
も、上記構造による従来のメッキ治具では、封止パッキ
ン13を介してホルダ12上に半導体基板Wの周囲全体
を封止保持する構造なので、治具が繰り返し使用される
とパッキン濡れが生じ易くなり、これにより押えフレー
ム14に配設されたコンタクト電極と半導体基板W側の
電極部とのコンタクト不良を招いたり、半導体基板上で
メッキされない領域が広くなってしまうという問題もあ
る。さらに、従来のメッキ治具を用いた自動式のメッキ
装置では、治具自体の厚みが大きいことから、メッキ液
の撹拌効率が低下してしまうという弊害も生じる。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、製造コストアップを招致することなく、コン
タクト不良や半導体基板上でメッキされない領域を低減
でき、しかもメッキ液の撹拌効率を向上し得るメッキ治
具およびメッキ装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明では、絶縁基材上に形成され
る導体層と、この導体層上に設けられ、電極となる箇所
に前記導体層が露出するよう開口された絶縁層とを備え
た積層基板と、この積層基板の絶縁層上に載置され、メ
ッキ電極を有する半導体基板を保持固定すると共に、そ
のメッキ電極と前記積層基板に形成された電極とを電気
的に接続させる固定手段と、この固定手段によって前記
積層基板の絶縁層上に保持固定された前記半導体基板の
周囲を樹脂封止する封止手段とを具備することを特徴と
する。
【0007】請求項2に記載の発明では、絶縁基材上に
形成される導体層と、この導体層上に設けられ、電極部
分となる箇所に前記導体層が露出するよう開口された絶
縁層とを積層した積層基板と、この積層基板の絶縁層上
に載置され、メッキ電極を有する半導体基板の周囲を樹
脂封止する封止手段と、前記封止手段によって周囲が樹
脂封止された半導体基板を前記積層基板上に保持固定す
ると共に、当該半導体基板のメッキ電極と前記積層基板
に形成された電極とを電気的に接続させる固定手段とを
具備することを特徴とする。
【0008】請求項3に記載の発明では、絶縁基材上に
形成される導体層と、この導体層上に設けられ、電極と
なる箇所に前記導体層が露出するよう開口された絶縁層
とを備えた積層基板と、この積層基板の絶縁層上に載置
され、メッキ電極を有する半導体基板を保持固定すると
共に、そのメッキ電極と前記積層基板に形成された電極
とを気密封止しつつ電気的に接続する固定手段と、この
固定手段によって前記積層基板の絶縁層上に保持固定さ
れた前記半導体基板の周囲を樹脂封止する封止手段とを
具備することを特徴とする。
【0009】請求項4に記載の発明では、絶縁基材上に
形成される導体層と、この導体層上に設けられ、電極部
分となる箇所に前記導体層が露出するよう開口された絶
縁層とを積層した積層基板と、この積層基板の絶縁層上
に載置され、メッキ電極を有する半導体基板の周囲を封
止する封止手段と、前記封止手段によって周囲が封止さ
れた半導体基板を前記積層基板上に保持固定すると共
に、当該半導体基板が有するメッキ電極と前記積層基板
に形成された電極とを気密封止しつつ電気的に接続する
固定手段とを具備することを特徴とする。
【0010】請求項5に記載の発明では、上記請求項1
乃至4のいずれかに記載のメッキ治具を用いる装置であ
って、半導体基板が装着されたメッキ治具が垂直に立つ
ように専用カセットに収納しておき、そこから半導体基
板が装着されたメッキ治具をピックアップしてメッキ処
理することを特徴とする。
【0011】本発明では、絶縁基材上に形成される導体
層と、この導体層上に設けられ、電極となる箇所に前記
導体層が露出するよう開口された絶縁層とを備えた積層
基板をメッキ治具に用いるので、既存のプリント配線基
板を使用でき、これ故、非常に簡便かつ安価に製作でき
る結果、製品コスト低減に寄与し得る。さらに、積層基
板の絶縁層上に載置され、メッキ電極を有する半導体基
板を保持固定すると共に、そのメッキ電極と前記積層基
板に形成された電極とを電気的に接続させてから半導体
基板の周囲を樹脂封止する為、従来の封止パッキン濡れ
によるコンタクト不良を回避でき、半導体基板上でメッ
キされない領域を低減することも可能になっている。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の一形態について説明する。図1は実施の一形態によ
るメッキ治具1の外観を示す平面図である。メッキ治具
1は、半導体基板Wが載置される積層基板2と、この積
層基板2上に載置される半導体基板Wを保持固定する固
定具3と、固定具3により積層基板2上に保持固定され
た半導体基板Wの周囲を封止する封止樹脂4とから構成
される。
【0013】積層基板2には、例えばエポキシ樹脂基材
に銅箔を積層した周知のプリント配線基板21を用い
る。プリント配線基板21には、図2(イ)に図示する
ように、基板上辺に沿った所定の位置に治具ハンドリン
グ用の開口部22と、固定治具3を装着するための複数
の取り付け穴23と、半導体基板Wを取り外しするピッ
クアップピンを導通させる導通孔24とが穿設される。
【0014】開口部22、取り付け穴23および導通孔
24を穿設した後には、図2(ロ)に図示する通り、給
電電極25となる銅箔領域および1対の取り付け穴23
間に形成され、コンタクト治具電極26となる銅箔領域
を除く基板表面を樹脂コーティングして絶縁層27を形
成する。
【0015】このように、積層基板2は、既存のプリン
ト配線基板21を素材として、開口部22、取り付け穴
23および導通孔24を穿設し、給電電極25およびコ
ンタクト治具電極26となる銅箔領域が露出するように
樹脂コーティングして絶縁層27を形成したものだか
ら、非常に簡便かつ安価に製作でき、製品コスト低減に
寄与し得るようになっている。
【0016】固定具3は、積層基板2上に載置された半
導体基板Wを保持固定すると共に、半導体基板W側のメ
ッキ電極MDとコンタクト治具電極26とを電気的に接
続させる機能を有するものであり、その一例について図
3を参照して説明する。この図に示す固定具3は、固定
部材31と留め具34とに大別される。固定部材31
は、樹脂材などの絶縁体から形成され、平面視直方形状
の板体に一対の支持脚31aを一体成形したものであ
る。一対の支持脚31aは、積層基板2に穿設された取
り付け穴23に嵌入される。
【0017】また、固定部材31には、積層基板2に形
成されたコンタクト治具電極26(図2(ロ)参照)と
対向する面側に、半導体基板W側のメッキ電極MDとコ
ンタクト治具電極26とを電気的に接続する電極33
と、この電極33を介して接続されるメッキ電極MDお
よびコンタクト治具電極26を気密封止するOリング3
2とが一体化されている。
【0018】こうした固定部材31は、支持脚31aを
取り付け穴23に嵌入させた状態で上から押圧される
と、電極33が半導体基板W側のメッキ電極MDとコン
タクト治具電極26とを電気的に接続し、かつOリング
32が電極33を介して接続されるメッキ電極MDおよ
びコンタクト治具電極26を気密封止する状態となる。
そして、この状態で積層基板2の裏面側に突出する支持
脚31aの基端側に刻設された溝に嵌合するよう切り欠
かれた留め具34を嵌着させることで、積層基板2上に
載置された半導体基板Wを保持固定すると共に、半導体
基板W側のメッキ電極MDとコンタクト治具電極26と
を電気的に接続させるようになっている。
【0019】なお、図3に図示する一例では、電極33
は固定部材31により押し付けられることでメッキ電極
MDとコンタクト治具電極26とを電気的に接続する態
様であるが、これに替えて、例えば図4に図示する形状
の電極35を用いる態様としてもよい。すなわち、平面
視略T字状の電極35において水平方向に延びる電極板
を図4(イ)に示す形態に折曲させ、かつ垂直方向に延
びる電極板を同図(ロ)に示す形態に折曲させれば、電
極34は固定部材31により押し付けられることでメッ
キ電極MDとコンタクト治具電極26とに擦り付けられ
る為、単に押し付けられて接触する場合よりも電気的に
接続が確実になる、という効果を奏する。
【0020】また、固定具3は、図3に図示した構造に
限定されず、例えば図5に図示するように、固定部材3
1と留め具34とを一体化した構造としても構わない。
この場合、固定部材31と一体化され、弾性部材で形成
される留め具34側に固定脚34aを設け、この固定脚
34aの先端に形成される突起を、矩形状に形成された
取り付け穴23を貫通して積層基板2の裏面に係合する
まで押し込めば、積層基板2上に載置された半導体基板
Wを保持固定すると共に、半導体基板W側のメッキ電極
MDとコンタクト治具電極26とを電気的に接続させる
ことが可能になり、固定具3の装着が容易になる。
【0021】さて、上述した構造の積層基板2および固
定具3から構成されるメッキ治具1では、半導体基板W
を積層基板2上に載置した後、ディスペンサ等を用いて
半導体基板Wの周縁に封止樹脂4を塗布して硬化させる
ことで、図6(イ)に図示するように、半導体基板Wの
周縁が樹脂封止される。このようにすることで従来の封
止パッキン濡れによるコンタクト不良を回避でき、半導
体基板上でメッキされない領域を低減することも可能に
なっている。なお、積層基板2上に半導体基板Wを載置
するための位置決めガイドGを設けた場合には、図6
(ロ)に図示するように、位置決めガイドGの端部と半
導体基板Wの端部との隙間にも封止樹脂4が充填される
ように樹脂封止する。
【0022】ところで、こうした樹脂封止で問題となる
のは、半導体基板Wの端部で段差や隙間が出来る部分で
ある。この部分では、上述した固定具3のOリング32
(図3参照)だけでは対応することが不十分になる虞が
生じる。その為、樹脂封止に際しては、図7に示すよう
に、固定具3の両側部分を一部覆うように封止樹脂4を
盛るように樹脂封止すれば良い。なお、積層基板2上に
載置した半導体基板Wを固定具3で保持固定した後に半
導体基板Wの周縁を樹脂材4で封止する場合には、半導
体基板Wの端部に生じる段差や隙間を樹脂材4で充分に
樹脂封止してから固定具3で保持固定する。
【0023】次に、図8を参照して、上記構造によるメ
ッキ治具1を用いたメッキ装置100について説明す
る。この図において、101はメッキ治具基板装着装置
であり、メッキ治具1の積層基板2上に半導体基板Wを
搭載し、搭載した半導体基板Wの周縁を樹脂封止してか
ら固定具3を装着して半導体基板Wを保持固定する。ま
た、メッキ治具基板装着装置101は、半導体基板Wが
セットされたメッキ治具1を専用カセット101aに収
納する。102はメッキ治具カセット部であり、メッキ
治具基板装着装置101から搬入された専用カセット1
01aの向きを変え、メッキ治具1が垂直に立つように
セットする。
【0024】103は搬送システムによってメッキ治具
カセット部102からピックアップされたメッキ治具1
を水洗いする水洗前処理槽部である。104は搬送シス
テムにて槽内に装着されたメッキ治具1にメッキ処理す
るメッキ槽部である。105は搬送システムによってメ
ッキ槽部104からピックアップされたメッキ治具1を
水洗いして乾燥した後、封止樹脂を剥離する後処理水洗
乾燥槽部である。106は後処理水洗乾燥槽部105か
ら搬出したメッキ処理済みのメッキ治具1を専用カセッ
ト101aに収納する収納部である。
【0025】107は専用カセット101aに収納され
たメッキ処理済みのメッキ治具1からメッキ処理された
半導体基板Wを取り出して基板キャリヤに移載するメッ
キ治具基板脱着装置である。108はメッキ治具基板脱
着装置107により半導体基板Wが取り外された使用済
みのメッキ治具1や固定具3を洗浄したり、電極部分に
ライトエッチングを施して再生する再生装置である。こ
の再生装置108にて再生されたメッキ治具1や固定具
3は、メッキ治具基板装着装置101に搬入されて再使
用される。
【0026】このような構成によれば、メッキ治具1が
従来のものに比して薄く軽く、しかもメッキ治具1の向
きを変える必要がなく、単に専用カセット101aから
取り出して吊り下げ搬送するだけで良いため、非常に簡
素な搬送システムで対応することが可能になっている。
また、メッキ治具1がプリント配線基板を素材にして製
作されているため、厚さが薄いため、メッキ治具が占め
るメッキ槽のサイズを小型化でき、さらにはメッキ液の
撹拌効率も向上するようになっている。
【0027】
【発明の効果】請求項1〜4に記載のメッキ治具によれ
ば、絶縁基材上に形成される導体層と、この導体層上に
設けられ、電極となる箇所に前記導体層が露出するよう
開口された絶縁層とを備えた積層基板をメッキ治具に用
いるので、既存のプリント配線基板を使用でき、これ
故、非常に簡便かつ安価に製作できる結果、製品コスト
低減に寄与し得る。さらに、積層基板の絶縁層上に載置
され、メッキ電極を有する半導体基板を保持固定すると
共に、そのメッキ電極と前記積層基板に形成された電極
とを電気的に接続させてから半導体基板の周囲を樹脂封
止する為、従来の封止パッキン濡れによるコンタクト不
良を回避でき、半導体基板上でメッキされない領域を低
減することもできる。請求項5に記載のメッキ装置によ
れば、半導体基板が装着されたメッキ治具が垂直に立つ
ように専用カセットに収納しておき、そこから半導体基
板が装着されたメッキ治具をピックアップしてメッキ処
理するので、単に専用カセットから取り出して吊り下げ
搬送するだけで良いため、非常に簡素な搬送システムで
対応することが出来る。さらに、メッキ治具はプリント
配線基板を素材にして製作されているため、厚さが薄い
ため、メッキ治具が占めるメッキ槽のサイズを小型化で
き、さらにはメッキ液の撹拌効率も向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態によるメッキ治具1の構
成を示す平面図である。
【図2】積層基板2の構造を説明するための平面図であ
る。
【図3】固定具3の構造を説明するための図である。
【図4】電極35の一構造例を示す図である。
【図5】固定具3の構造例を示す図である。
【図6】樹脂封止の一例を示す断面図である。
【図7】樹脂封止形態を示す図である。
【図8】メッキ装置の一例を示すブロック図である。
【図9】従来例を示す図である。
【符号の説明】
1 メッキ治具 2 積層基板 21 プリント配線基板 22 開口部 23 取り付け穴 24 導通孔 25 給電電極 26 コンタクト治具電極 27 絶縁層 3 固定具 31 固定部材 31a 支持脚 33 電極 34 留め具 35 電極 4 封止樹脂 W 半導体基板 10 筺体 11 給電端子 12 ホルダ 13 封止パッキン 14 押えフレーム 15 保持部材

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基材上に形成される導体層と、この
    導体層上に設けられ、電極となる箇所に前記導体層が露
    出するよう開口された絶縁層とを備えた積層基板と、 この積層基板の絶縁層上に載置され、メッキ電極を有す
    る半導体基板を保持固定すると共に、そのメッキ電極と
    前記積層基板に形成された電極とを電気的に接続させる
    固定手段と、 この固定手段によって前記積層基板の絶縁層上に保持固
    定された前記半導体基板の周囲を樹脂封止する封止手段
    とを具備することを特徴とするメッキ治具。
  2. 【請求項2】 絶縁基材上に形成される導体層と、この
    導体層上に設けられ、電極部分となる箇所に前記導体層
    が露出するよう開口された絶縁層とを積層した積層基板
    と、 この積層基板の絶縁層上に載置され、メッキ電極を有す
    る半導体基板の周囲を樹脂封止する封止手段と、 前記封止手段によって周囲が樹脂封止された半導体基板
    を前記積層基板上に保持固定すると共に、当該半導体基
    板のメッキ電極と前記積層基板に形成された電極とを電
    気的に接続させる固定手段とを具備することを特徴とす
    るメッキ治具。
  3. 【請求項3】 絶縁基材上に形成される導体層と、この
    導体層上に設けられ、電極となる箇所に前記導体層が露
    出するよう開口された絶縁層とを備えた積層基板と、 この積層基板の絶縁層上に載置され、メッキ電極を有す
    る半導体基板を保持固定すると共に、そのメッキ電極と
    前記積層基板に形成された電極とを気密封止しつつ電気
    的に接続する固定手段と、 この固定手段によって前記積層基板の絶縁層上に保持固
    定された前記半導体基板の周囲を樹脂封止する封止手段
    とを具備することを特徴とするメッキ治具。
  4. 【請求項4】 絶縁基材上に形成される導体層と、この
    導体層上に設けられ、電極部分となる箇所に前記導体層
    が露出するよう開口された絶縁層とを積層した積層基板
    と、 この積層基板の絶縁層上に載置され、メッキ電極を有す
    る半導体基板の周囲を封止する封止手段と、 前記封止手段によって周囲が封止された半導体基板を前
    記積層基板上に保持固定すると共に、当該半導体基板が
    有するメッキ電極と前記積層基板に形成された電極とを
    気密封止しつつ電気的に接続する固定手段とを具備する
    ことを特徴とするメッキ治具。
  5. 【請求項5】 上記請求項1乃至4のいずれかに記載の
    メッキ治具を用いる装置であって、 半導体基板が装着されたメッキ治具が垂直に立つように
    専用カセットに収納しておき、そこから半導体基板が装
    着されたメッキ治具をピックアップしてメッキ処理する
    ことを特徴とするメッキ装置。
JP2002033404A 2002-02-12 2002-02-12 メッキ治具およびメッキ装置 Expired - Fee Related JP3748229B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002033404A JP3748229B2 (ja) 2002-02-12 2002-02-12 メッキ治具およびメッキ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002033404A JP3748229B2 (ja) 2002-02-12 2002-02-12 メッキ治具およびメッキ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003231994A true JP2003231994A (ja) 2003-08-19
JP3748229B2 JP3748229B2 (ja) 2006-02-22

Family

ID=27776210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002033404A Expired - Fee Related JP3748229B2 (ja) 2002-02-12 2002-02-12 メッキ治具およびメッキ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3748229B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104928750A (zh) * 2015-06-23 2015-09-23 湖州巨力铝型材有限公司 一种多功能铝型材阳极氧化挂具插条

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104928750A (zh) * 2015-06-23 2015-09-23 湖州巨力铝型材有限公司 一种多功能铝型材阳极氧化挂具插条

Also Published As

Publication number Publication date
JP3748229B2 (ja) 2006-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6844274B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and plating method
EP0379289B1 (en) Fixture and a method for plating contact bumps for integrated circuits
JP4669019B2 (ja) 基板ホルダ及び電解めっき装置
US5024746A (en) Fixture and a method for plating contact bumps for integrated circuits
US8859912B2 (en) Coreless package substrate and fabrication method thereof
KR950035545A (ko) 범프를 통해 회로기판에 접속되는 반도체칩을 갖는 반도체 장치 및 반도체 칩 실장 방법
KR102103538B1 (ko) 기판 홀더, 도금 장치 및 도금 방법
JP2007251159A (ja) 集積回路パッケージシステム
US7900807B2 (en) Conductive ball mounting apparatus and conductive ball mounting method
JP2017203178A (ja) 基板ホルダ及びこれを用いためっき装置
CN103596358A (zh) Smt加法高密度封装多层线路板结构及其制作方法
JP3748229B2 (ja) メッキ治具およびメッキ装置
KR100260276B1 (ko) 수직 리드 온칩 패키지
WO2007126670A1 (en) Substrate having conductive traces isolated by laser to allow electrical inspection
JP3778282B2 (ja) 基板ホルダ及びめっき装置
JP4655269B2 (ja) 導電性ボールの搭載方法および搭載装置
US12104266B2 (en) Plating apparatus having conductive liquid and plating method
KR102647910B1 (ko) 워터폴 방식의 화학도금용 지그
JP2020132925A (ja) 基板ホルダ及びめっき装置
JP2010127806A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4011693B2 (ja) 半導体パッケージの製造方法
TWI224375B (en) Package structure with liquid chip carrier and manufacturing method thereof
JPH0445986B2 (ja)
JPH10163614A (ja) 半田ボール供給装置
JP2003043101A (ja) 半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040531

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050928

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051031

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051122

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051124

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3748229

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081209

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091209

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091209

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091209

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101209

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111209

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121209

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121209

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131209

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees