JP2003240903A - 反射防止物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光反射低減、及び表示視認性向上ができる微
細凹凸による反射防止面を設けた反射防止物品につい
て、更に耐擦傷性と耐汚染性を良くする。 【解決手段】 反射防止物品１０は、表面に微細凹凸１
を有する反射防止樹脂層２を基材３上に積層した構成で
あり、その微細凹凸１の形状は、微細凹凸の最凸部に於
ける周期をＰ_MAXを、可視光の波長帯域の真空中に於け
る最小波長λ_MIN以下、水平断面内での反射防止樹脂層
の材料部分の断面積占有率が、微細凹凸の最凸部から最
凹部に行くに従って連続的に漸次減少して行く様な形状
とし、しかも、反射防止樹脂層はシリコーンアクリレー
トを含有する電離放射線硬化性樹脂の架橋硬化物として
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、携帯電話
機の液晶表示部等の各種用途に用い得る、光の表面反射
を防止した反射防止物品に関する。 【０００２】 【従来の技術】現在、液晶表示ディスプレイ（ＬＣＤ）
等を表示部に利用した携帯電話機等の各種機器の普及に
は目覚しいものがある。そして、この様な表示部を有す
る場合、その表示をより確実にし、また高機能なものと
する為に、各種工夫が成されることが多い。例えば、携
帯電話機等では、その表示部を、水、塵、外力等から保
護するために、ＬＣＤ等による表示パネルを露出させ
ず、外側に透明プラスチック板等による窓材を設けた構
成として保護する事が多い（特開平７−６６８５９号公
報等参照）。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、表示パ
ネルを保護する等の為に、その前方に窓材等を設ける
と、窓材の表裏両面で外光が反射し、表示の視認性が低
下するという問題があった。また、表示パネルの低消費
電力化が重要な要素である携帯電話機等では、外光反射
の問題点として表示の視認性低下の他に更に、窓材の反
射によって、表示パネルからの光の一部が表示パネル側
に戻される為に、表示パネルの光の利用効率が低下し、
その分、無駄な電力が消費されているという問題もあっ
た。 【０００４】上記の如き窓材の様に、光反射の防止が望
まれる物品は、各種用途にある。例えば、レンズ、プリ
ズム、フィルター等の各種光学部品の他に、上記した表
示部窓材、或いは表示部がらみでは透明タッチパネル、
或いは、広告ディスプレス等の用途である。そして、こ
の様な反射防止が必要な場合、従来の手法としては、反
射防止処理として、例えば、蒸着、スパッタリング、或
いは塗工等の手法によって単層或いは低屈折率層と高屈
折率層との多層膜からなる反射防止層を設ける（特開２
００１−１２７８５２号公報等参照）等の技術が挙げら
れる。しかし、蒸着、スパッタリング等による反射防止
層は、１回又は多数回のバッチ処理により、屈折率と厚
みを制御した薄膜を形成する必要があるので、製品の安
定性、良品率等に問題がある上、バッチ式生産となるの
で、生産性が低く、この為、コストも高くなるという問
題があった。或いはまた、別の反射防止処理として、表
面を梨地処理化し、その鏡面反射によって光反射を低減
する技術も挙げられるが、この方法では光を拡散させる
点で、光の利用効率を上げることはできない、という問
題があった。それは、特に例えば、前記表示部の窓材に
於ける、表示光の利用効率である。 【０００５】そこで、本出願人は、これら従来の反射防
止技術に於ける問題点を解決すべく、特開昭５０−７０
０４０号公報に開示された、極めて微細な微細凹凸を表
面に設けることによって表面反射率を減少させる技術
を、応用することを試みた。同号公報に開示された技術
をここで説明すれば、表面反射を減らすべきレンズ等の
光学部品に対して、その表面にフォトレジスト等を塗布
し、露光し、現像する等して、該表面に一品毎度に直
接、微細凹凸を作製する方法である。 【０００６】但し、この方法では、作業能率が悪く、工
業製品に必要な生産性（量産性）は得られない。そこ
で、本出願人は、その様な微細凹凸を、一旦、原版（マ
ザー版）とするガラス基材上に作製してから、このマザ
ー版から、コンパクトディスクの製造ライン等で用いら
れているニッケル電鋳法を利用して、金属製の（賦形
型）マスター版を作製し、このマスター版を使用するこ
とで、工業製品としての量産性を実現する事に成功し
た。例えば、このマスター版を、射出成形機の金型内に
取りつけて、樹脂製の反射防止物品の射出成形と同時
に、その表面に微細凹凸を賦形した反射防止物品（特願
２００１−１８５９６５号による表示装置の窓材：本特
許出願時未公開）、或いは、このマスター版を用いて、
いわゆる２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒ法）等に
よって微細凹凸を有する層を基材上に形成した反射防止
物品（特願２００１−２３７３５３号による透明タッチ
パネル：本特許出願時未公開）等である。 【０００７】ただ、上記の如き技術によって、量産性は
得られたとしても、この様な極めて微細な微細凹凸によ
って反射防止機能を付与した反射防止物品は、その表面
が傷ついて微細な凹凸形状が崩れると性能に悪影響する
ので、傷付きには注意する必要がある。その為に、反射
防止物品は、窓材や透明タッチパネル等の、その反射防
止面が外部に露出しない様に装置内側或いは装置内部と
なる様な用途のものとなる。しかし、反射防止物品を、
この様な用途に用いたとしても、部品（反射防止物品）
組み付け迄の工程に於いて、やはり傷付きに注意すべき
なのは当然である。また、微細な凹凸であるが故に、手
垢や油汚れ等の汚れが凹部内部にまで進入すれば、平坦
面に比べて汚れは除去し難い。従って、汚れが付着し難
い耐汚染性の向上も望まれた。 【０００８】上記耐擦傷性、耐汚染性という点から、前
記の如き方法で得られる反射防止物品をみると、射出成
形を利用した場合では、その微細凹凸は、射出樹脂と同
じ樹脂材料、例えばアクリル樹脂やポリカーボネート樹
脂等の熱可塑性樹脂で構成される事になり、傷付き等に
対する微細凹凸の強固な表面強度は得難くく、また耐汚
染性も得難い。これに対して、２Ｐ法で微細凹凸を有す
る層を形成したものは、該微細凹凸はフォトポリマーと
いう硬化性樹脂の硬化物で構成される為に、熱可塑性樹
脂で構成する場合の比べて表面強度は向上できるが、耐
汚染性は得られない。 【０００９】すなわち、本発明の課題は、光の無駄な反
射を減らし、表示の視認性を向上させると共に表示光の
光の利用効率も上げられる様な、微細凹凸を設けた反射
防止物品について、その微細凹凸による反射防止面の耐
擦傷性と耐汚染性を向上させることである。 【００１０】 【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
すべく、本発明による反射防止物品は、表面に微細凹凸
を有する樹脂成形物が基材上に形成されて成る、反射防
止物品であって、該微細凹凸は、可視光の波長帯域の真
空中に於ける最小波長をλ_MIN、該微細凹凸の最凸部に
於ける周期をＰ_MAXとしたときに、 Ｐ_MAX≦λ_MIN なる関係を有し、 且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断した
と仮定したときの断面内に於ける樹脂成形物の材料部分
の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行
くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、
且つ、樹脂成形物がシリコーンアクリレートを含有する
電離放射線硬化性樹脂の架橋硬化物から成る構成とし
た。 【００１１】この様な構成の反射防止物品とすること
で、物品表面の光反射が微細凹凸によって防止される。
微細凹凸によって光反射が防止されるのは、簡単に言え
ば、物質表面に、反射防止すべき光の波長以下のサイズ
の微細凹凸を設けると、該表面と空気間の屈折率変化
を、実質的に穏やかで連続的なものにできるので、急激
で不連続な屈折率変化の場合に生じる現象である光反射
を防げるからである。しかも、この様な微細凹凸を設け
た本反射防止物品が備える反射防止機能は、梨地処理等
の様な鏡面乱反射によって光反射を低減するものでは無
く、物品表面と空気との界面の急激な屈折率変化を緩和
する事によって実現している為に、光反射率が低減した
分、光透過率が向上する。従って、ディスプレイ等の表
示部の窓材等に使用時に、表示の視認性を向上させると
共に、表示光の光の利用効率も上げられる物品となる。
更に、微細凹凸を設けた樹脂成形物には、特にシリコー
ンアクリレート含有の電離放射線硬化性樹脂の架橋硬化
物で形成してあるので、耐擦傷性と耐汚染性も得られ
る。従って、傷や汚れが付き難く、反射防止性能が低下
し難い。 【００１２】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。 【００１３】〔概要〕先ず、図１（Ａ）は、本発明の反
射防止物品１０の一形態を例示する断面図である。同図
の如く、本発明の反射防止物品１０は、反射防止を目的
とした微細凹凸２を表面に有する樹脂成形物１を基材３
上に形成した構成の物品である。なお、同図は、樹脂成
形物１は基材３の片面に形成された構成であるが、本発
明の反射防止物品は、樹脂成形物が基材の２以上の複数
の面に形成されたものを除外するものでは無い。 【００１４】本発明特有の上記微細凹凸２は、光波長以
上の大きさの凹凸によるマット面（艶消し）を利用して
光を散乱（拡散反射）させる方式の従来公知の反射防止
処理乃至は防眩処理とは異なり、可視光線の波長以下の
大きさの本発明特有の形状の凹凸である。この様な微細
な凹凸によって、光反射防止効果が得られるのである。
しかも、樹脂成形物がシリコーンアクリレート含有の電
離放射線硬化性樹脂の架橋硬化物としてあるので、耐擦
傷性及び耐汚染性を良くする事もできる。 【００１５】なお、図１（Ｂ）に例示する反射防止物品
１０の如く、樹脂成形物１と基材３間に接着層４を設け
た構成は、樹脂成形物と基材との接着性向上が必要な場
合に望ましい。 【００１６】〔微細凹凸〕微細凹凸２が、反射防止効果
を有するのは、次の様な理由による。すなわち、該微細
凹凸２によって、物品表面を構成する樹脂成形物１と、
外界（空気）との間の急激で不連続な屈折率変化を、連
続的で漸次変化する屈折率変化に変えることが可能とな
るからである。それは、光の反射は、物質界面の不連続
な急激な屈折率変化によって生じる現象であるから、物
品表面に於ける屈折率変化を、空間的に連続的に変化す
る様にすることによって、該物品面に於ける光反射が減
るのである。 【００１７】図２〜図４は、樹脂成形物１の表面に賦形
された微細凹凸２によって得られる屈折率分布を、概念
的に説明する概念図である。先ず、図２は、微細凹凸２
が表面に付与された樹脂成形物１について、該樹脂成形
物１が、Ｚ≦０の部分の空間を占め、該樹脂成形物の表
面、すなわちＺ＝０に於けるＸＹ平面上に、Ｚ軸方向を
凹凸方向とする多数の微細凹凸２が配置された状態を示
す。 【００１８】そして、本発明では、微細凹凸２を、図２
の如く、その最凸部２ｔに於ける周期をＰ_MAXとしたと
きに、このＰ_MAXが、可視光の波長帯域の真空中に於け
る最小波長をλ_MIN以下としてある為、微細凹凸形成面
への到達光に対しては、媒質（樹脂成形物、及び空気）
の屈折率に空間的な分布があっても、それは注目する波
長以下の大きさの分布である為に、その分布がそのまま
直接に光に作用せず、それが平均化されたものとして作
用する。従って、平均化された後の屈折率（有効屈折
率）が光が進行するに従って連続的に変化する様な分布
にしておけば、光の反射を防げるのである。 【００１９】なお、本発明に於いて、最凸部２ｔに於け
る周期Ｐ_MAXとは、隣接する微細凹凸２の最凸部２ｔ間
の距離のうち最大の距離であって、個々の微細凹凸が規
則的に配置され周期性を有する（隣接する微細凹凸同士
間の距離が同一）構成でも良いが、周期性が無い（隣接
する微細凹凸同士間の距離が不揃い）構成でも良い。 【００２０】そして、図２では、直交座標系として、樹
脂成形物１の表面の包絡面に立てた法線方向にＺ軸を、
また、それと直交する平面内にＸ軸、Ｙ軸をとる。そし
て、今、光が樹脂成形物外部から樹脂成形物に入光し
て、該樹脂成形物内部を進み、該樹脂成形物の表面近傍
をＺ軸の負方向に向かって進行しつつあり、丁度、Ｚ軸
座標がｚのところに存在するとする。 【００２１】すると、ここのＺ＝ｚに居る光にとって
は、媒体の屈折率は樹脂成形物１表面が特定の微細凹凸
２をなす為、厳密には、Ｚ＝ｚに於いてＺ軸と直交する
ＸＹ平面（横断面：水平断面）内に於いて、分布ｆ
（ｘ，ｙ，ｚ）を持つ様に見える。すなわち、ＸＹ平面
内に於いて、樹脂成形物１の断面部分は屈折率ｎ
_b（１．５程度）、其の他の部分、具体的には空気ａの
部分は屈折率ｎ_a（＝１．０程度）となる（図３参
照）。ところが実際には、光にとっては、その波長（反
射防止の対象とする光の波長が分布を有する場合は、そ
の波長帯域の最小波長λ_MINを考えれば良い。）よりも
小さな空間的スケールの屈折率分布は、平均化されたも
のとして作用する結果、平均化された結果の有効屈折率
は、前記ＸＹ平面内に於いて、屈折率分布ｆ（ｘ，ｙ，
ｚ）をＸＹ平面内に於いて積分したもの、 【００２２】 【数１】 【００２３】となる。その結果、有効屈折率（ｎ_ef）の
分布はｚのみの関数ｎ_ef（ｚ）となる（図４参照）。 【００２４】よって、もしも、微細凹凸２に於ける樹脂
成形物の凸部の断面積が、凹部に向かって連続的に増大
する様な形状であれば（ＸＹ平面内に於ける）樹脂成形
物部分と空気部分との面積比がＺ軸方向に向かって連続
的に変化する為、有効屈折率ｎ_ef（ｚ）はｚに付いての
連続関数になる。 【００２５】一方、屈折率ｎ₀の媒質から、屈折率ｎ₁の
媒質に光が入射する場合を考える。今、簡単の為に、入
射角θ＝０°（垂直入射）を考える。但し、入射角は入
射面の法線に対する角度とする。この場合、媒質界面で
の反射率Ｒは、偏光、及び入射角には依存せず、下記の
〔式２〕となる。 【００２６】 【数２】 【００２７】従って、（有効）屈折率のＺ方向への変化
が連続関数であるということは、Ｚ方向（光の進行方
向）に微小距離Δｚ隔てた２点、Ｚ＝ｚに於ける屈折率
ｎ_ef（ｚ）をｎ₀、Ｚ＝ｚ＋Δｚに於ける屈折率ｎ
_ef（ｚ＋Δｚ）をｎ₁、としたときに、 【００２８】Δｚ→０ ならば、 ｎ₁→ｎ₀ 【００２９】となり（連続関数の定義より）、よって、
〔式２〕より、 【００３０】Ｒ→０ 【００３１】となる。 【００３２】なお、ここで、より厳密に言うと、物体中
での光の波長は、真空中の波長をλ、物体の屈折率をｎ
としたときに、λ／ｎとなり、λよりは一般に或る程度
小となる。但し、物体が空気の場合の屈折率はｎ≒１の
為、λ／ｎ≒λと考えて良い。但し、樹脂成形物に使わ
れる材料は、通常１．５前後の屈折率である為、屈折率
ｎ_bの樹脂成形物中の波長（λ／ｎ_b）は、０．７λ程度
となる。この点を考慮すると、微細凹凸２の部分に於い
て、空気の側の部分（微細凹凸２の凹部）について見れ
ば、 【００３３】Ｐ_MAX≦λ_MIN 【００３４】の条件を満たすとき、屈折率平均化による
反射率低減効果が期待出来る。但し、 【００３５】λ_MIN／ｎ_b≦Ｐ_MAX≦λ_MIN 【００３６】である場合は、樹脂成形物の部分（微細凹
凸２の凸部）の寄与について見れば、屈折率平均化によ
る反射率低減効果は、少なくとも完全には期待出来ない
ことになる。しかし、それでも、空気部分に於ける寄与
の為、全体としては反射防止効果を有する。そして、 【００３７】Ｐ_MAX≦λ_MIN／ｎ_b 【００３８】の条件までも満たす場合は、空気部分、樹
脂成形物部分とも、周期Ｐ_MAXが、最短波長よりも小さ
いと言う条件が完全に満たされる為、屈折率平均化によ
る反射防止効果は、より完全となる。具体的には、λ
_MINを可視光波長帯域の下限３８０ｎｍ、ｎ_bを仮に１．
５とすれば、λ_MIN／ｎ_bは２５０ｎｍ、つまりＰ_MAXは
２５０ｎｍ以下とすれば良い。 【００３９】次に、微細凹凸２の形状は、微細凹凸をそ
の凹凸方向と直交する面（ＸＹ平面）で切断したと仮定
したときの断面（水平断面）内に於ける樹脂成形物の材
料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部（頂上）
から最凹部（谷底）に行くに従って連続的に漸次増加し
て行く形状とする。この為には、微細凹凸の山は少なく
ともその一部の側面が斜めの斜面を有するものとすれば
良いが、下記する図５（Ｃ）の様に斜面と共に垂直側面
がある形状の微細凹凸でも良い。特に、好ましくは、最
凸部に於いて完全に０に収束し、且つ最凹部に於いて完
全に１に収束する形状とする。具体的には例えば、図５
（Ｂ）、図５（Ｃ）の如き形状が挙げられる。但し、図
５（Ｄ）、或いは図５（Ｅ）の如く、最凸部に於いて
は、ほぼ０に漸近した形状、或いは、最凹部に於いてほ
ぼ１に漸近する様な形状であれば、或る程度の効果は得
られる。微細凹凸の形状は、この様な条件を満たせば、
どんな形状でも良い。 【００４０】例えば、個々の微細凹凸２の垂直断面形状
は、図５（Ａ）の如き正弦波等の曲線のみによる波状の
形状〔図２も参照〕、図５（Ｂ）及び図５（Ｃ）の如き
三角形等の直線のみによる形状、或いは、図５（Ｄ）の
如き三角形の最凸部が平坦面を成す形状である台形の形
状、図５（Ｅ）の如き隣接する三角形間の最凹部が平坦
面を成す形状等である。但し、図５（Ｄ）や図５（Ｅ）
の如く、最凸部或いは最凹部に平坦面を有する形状で
は、最凸部或いは最凹部の平坦面の部分で、その平坦面
の占める面積割合が大きい程、有効屈折率の変化がより
大きく不連続となる。その点で性能的には劣るものとな
る。しかし、この場合でも、微細凹凸の最凸部から最凹
部に行くに従って有効屈折率を連続的に変化させること
は出来る。従って、反射防止性能の点では、最凸部或い
は最凹部の平坦面の面積割合は少ない程好ましい。 【００４１】また、有効屈折率ｎ_ef（ｚ）を空気中から
樹脂成形物中に向かうＺ方向の関数として、ｎ_aからｎ_b
に連続的に変化する様にする為には、微細凹凸の最凸部
に於いて、樹脂成形物の断面積占有率が０に収束する図
５（Ｂ）或いは図５（Ｃ）の如き形状（すなわち、尖っ
た形状）で且つ最凹部に於いて該断面積占有率が連続的
に１に収束する形状が最も好ましい。 【００４２】次に、個々の微細凹凸の水平断面形状は、
円形（例えば図２）、楕円形、三角形、四角形、長方
形、六角形、其の他多角形等任意である。なお、水平断
面形状は、微細凹凸の最凸部から最凹部の全てにわたっ
て同じである必要は無い。従って、微細凹凸の立体形状
は、例えば、水平断面形状が円形で垂直断面形状が正三
角形の場合の微細凹凸の立体形状は円錐に、水平断面形
状が円形で垂直断面形状が三角形の場合の微細凹凸の立
体形状は斜円錐に、水平断面形状が三角形で垂直断面形
状が正三角形の場合の微細凹凸の立体形状は三角錐に、
水平断面形状が四角形で垂直断面形状が三角形の場合の
微細凹凸の立体形状は四角錐になる。 【００４３】また、微細凹凸の、水平面内に於ける配置
は、図２で例示した如く二次元的配置の他に、図６
（Ａ）の斜視図で例示の直線溝状の微細凹凸２の如く、
一次元的配置でも良く、どちらも効果は得られる。但
し、一次元的配置の場合は、光の波の振幅方向との関係
で、反射防止効果が得られる方向と得られない方向とが
出る、異方性が発生する。従って、図２の斜視図や図６
（Ｂ）及び（Ｃ）の平面図で例示の様な二次元的配置の
方が、方向性が全く無い点で好ましい。 【００４４】なお、個々の微細凹凸の立体形状は全て同
一でも良いが、全て同一で無くても良い。また、個々の
微細凹凸２を二次元配置する場合に、周期は、個々の微
細凹凸に於いて全て同一でも良いが、全て同一で無くて
も良い。 【００４５】また、微細凹凸の高さＨは、希望する反射
率の低減効果と樹脂成形物表面に入射する可視光帯域の
最大波長に応じて決定する。例えば、特開昭５０−７０
０４０号公報（特にその第３図）記載の反射率、微細凹
凸の高さ、及び光波長との関係を基に設計する場合、例
えば、可視光帯域での反射率を、２％（未処理硝子の半
分）以下に低減させることを目標とするならば、その最
小高さＨ_MINが０．２λ_MAX以上、すなわち、 【００４６】Ｈ_MIN≧０．２λ_MAX 【００４７】また、可視光帯域での反射率を０．５％以
下にまで低減させることを目標とするならば、 【００４８】Ｈ_MIN≧０．４λ_MAX 【００４９】とするのが好ましい。なお、ここで、λ
_MAXは、可視光波長帯域の真空中に於ける最大波長であ
る。微細凹凸の高さＨは、ゼロから高くなるに従って反
射率が低下して行くが、上記不等号条件を満足させる高
さまで達すると、有為な効果が得られる様になる。具体
的には、例えば、発光スペクトルの最大波長が、λ_MAX
＝６４０ｎｍの蛍光灯を用いたとすれば、Ｈ_MIN≧０．
２λ_MAX＝１２８ｎｍとかなる。すなわち、Ｈ_MINは１２
８ｎｍ以上とすれば良い。また、スペクトルの最大波長
がλ_MAX＝７８０ｎｍの太陽光線を考えるならば、Ｈ_MIN
≧０．２λ_MAX＝１５６ｎｍ、すなわち、Ｈ_MINは１５６
ｎｍ以上とすれば良い。また、最小高さＨ_{M IN}と周期Ｐ
_MAXとの関係では、最小高さＨ_MIN／周期Ｐ_MAXの比を、
１／２〜４／１程度とする。 【００５０】ここで、微細凹凸の具体的形状及び大きさ
を例示すれば、形状は垂直断面が正弦波状で水平断面が
円形の円錐状の形状のものを多数、二次元的に規則的配
置した集合体であり、周期Ｐ_MAXが５０〜２５０ｎｍ、
最小高さＨ_MINを前記周期Ｐ_{MA X}の１．５倍としたもの等
がある。 【００５１】〔樹脂成形物自体の屈折率〕なお、もちろ
んだが、上述の如き微細凹凸で光反射を防げたとして
も、樹脂成形物の材料自体の屈折率にも留意するのが好
ましい。すなわち、基材が透明で、光の反射率に関係し
て透過率にも注目する場合には、樹脂成形物も透明なも
のとなるが、この様な樹脂成形物は、それを積層する基
材との屈折率差が極力小さくするのが好ましい。本発明
では樹脂成形物の表面に本発明特有の微細凹凸が付与さ
れるので、樹脂成形物の表面での光反射は低減できる
が、樹脂成形物と基材との界面（接着層が介在する場合
は、これらの層の界面となる）での光反射は、該界面に
接する２層間の屈折率差が大きい程、大きいからであ
る。従って、樹脂成形物は、或いは更に接着層も、その
屈折率は、基材の屈折率と同値或いは近い値とするのが
好ましい。もっとも、密な物質である樹脂成形物と、空
気との屈折率差（約１．５程度）に比べると、互いに密
な物質である樹脂成形物及び接着層と、基材との屈折率
差は、０コンマ以下とオーダー的に小さい。従って、屈
折率差を意識しなくても、元々の光反射はオーダー的に
小さい。 【００５２】〔樹脂成形物の樹脂〕上述の如き微細凹凸
を表面に有する樹脂成形物１は、シリコーンアクリレー
トを含有する電離放射線硬化性樹脂の架橋硬化物で構成
する。これによって、樹脂成形物の表面の耐擦傷性と共
に耐汚染性も得られる。なお、この様な樹脂成形物の具
体的形成方法は、特に限定はない。例えば、一例を挙げ
れば、いわゆる２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒ
法）にて、そのフォトポリマーとして上記の電離放射線
硬化性樹脂を使用することで、微細凹凸が表面に賦形さ
れた樹脂成形物を基材上に形成できる。 【００５３】上記シリコーンアクリレートとしては、１
分子中の側鎖、末端、あるいはその両方に２個以上のア
クリレート系の重合性不飽和基を有するもの使用でき
る。該アクリレート系の重合性不飽和基としては、（メ
タ）アクリロイル基、又は（メタ）アクリロイルオキシ
基のいずれか１種以上のものである。但し、（メタ）ア
クリロイル基とは、アクリロイル基、メタアクリロイル
基の意味で用いる（以下同様に記載する）。なお、シリ
コーンアクリレートの平均分子量としては、通常１００
０〜１０００００である。 【００５４】シリコーンアクリレートの例としては、例
えば、以下のものがあげられる（但し、もちろん、これ
ら化合物に限定されるものではない）。 【００５５】（１）特公昭５１ー４２９６１号公報、特
公昭５４ー６５１２号公報、特公昭５８ー５３６５６号
公報等に開示されるような、分子の末端、又は側鎖に
（メタ）アクリロイル基を有するポリシロキサン。 【００５６】（２）特開昭６２ー２９２８６７号公報に
開示されるような、末端変性ポリオルガノシロキサン。
より具体的には、 【００５７】 【化１】 【００５８】とからなるポリオルガノシロキサンと、ペ
ンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート・モノメタアクリレート、
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート又はペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートとを反
応させ、ポリオルガノシロキサンの末端ＳｉＯ−ＯＲ³
基と該ペンタエリスリトールの多官能（メタ）アクリレ
ートの分子中のＣ−ＯＨ基との間で脱アルコール反応を
行わせて生成したもの。（但し、ここで、Ｒ¹は、互い
に同一又は相異なる置換若しくは非置換の１価炭化水素
基、Ｒ³は、互いに同一又は相異なるアルキル基、Ｑ
は、ポリメチレン基又は酸素原子、ｎは、４〜１００の
数を表す。） 【００５９】（３）特開昭４８ー１６９９１号公報に開
示されるような、光官能基として（メタ）アクリロイル
オキシ基を有するポリオルガノシロキサン。 【００６０】（４）特開昭５５ー１０４３２０号公報に
開示されるような、分子中にＳｉ−Ｃｌ基を有するポリ
オルガノシロキサンとペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレートとを反応させてなるもの。 【００６１】なお、樹脂成形物に用いる電離放射線硬化
性樹脂中には、上述の如きシリコーンアクリレート以外
に、物性調整等の為に必要に応じ適宜、シリコーンアク
リレート以外の重合性化合物を併用しても良い。該化合
物としては、例えば各種アクリレート類として、ポリエ
ステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリ
レート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メ
タ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート等
が挙げられる。或いはまた、トリメチールプロパントリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレ
ンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能モノ
マーを併用しても良い。 【００６２】また、上記電離放射線硬化性樹脂中には、
基材との屈折率差の低減の為、基材との易接着性の向上
の為、或いは可撓性付与の為に、非架橋型熱可塑性樹脂
を混合しても良い。非架橋型熱可塑性樹脂としては、例
えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロー
スアセテート、エチルヒドロキシセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体、ポ
リスチレン、ビニルトルエン樹脂、ポリ−α−メチルス
チレン等のスチレン系樹脂、又はスチレン共重合体、ポ
リ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸
エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル等のアクリル樹
脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、ロジン、ロジン変
性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂等の天然
又は合成樹脂等である。 【００６３】なお、紫外線で硬化させる場合には、上記
電離放射線硬化性樹脂に光重合開始剤を添加する。分子
中にラジカル重合性不飽和結合を有する化合物に対して
は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン
類等がある。分子中にカチオン重合性官能基を有する化
合物に対しては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホ
ニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、
ベンゾインスルホン酸エステル、ジアリルヨードシル塩
等がある。又、必要に応じて更に、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホ
スフィン等を混合して用いることもできる。 【００６４】尚、ここで電離放射線としては、電磁波又
は荷電粒子線のうち分子を重合、架橋し得るエネルギー
を有するものを意味し、紫外線、可視光線、Ｘ線、電子
線、α線等があるが、通常紫外線、又は電子線が用いら
れる。紫外線源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライトラン
プ、メタルハライドランプ等の光源が使用される。電子
線源としては、コッククロフトワルトン型、バンデグラ
フト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直
線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速
器を用い、１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは、１０
０〜３００ｋｅＶのエネルギーをもつ電子を照射するも
のが使用される。 【００６５】〔樹脂成形物とその微細凹凸の形成法〕樹
脂成形物の形成、並びに、該樹脂成形物の表面への微細
凹凸の形成は、例えば、２Ｐ法で形成できるが、転写シ
ートから転写層として微細凹凸賦形済みの樹脂成形物を
基材に転写させる転写法によって、基材に間接的に形成
することもできる。２Ｐ法、転写法、或いはその他の方
法等、いずれの方法でも、樹脂成形物表面に微細凹凸を
賦形する為に使用する賦形型は、その作製法としては特
に制限は無い。賦形型は、用途に応じたものとすれば良
い。但し、賦形型は、工業的生産性、コストを考慮する
と、先ず、微細凹凸の原版（マザー版）を作製し、この
原版から直接或いは多段の複製工程を経て本版（マスタ
ー版）を作製し、この本版を賦形型として用いるのが好
ましい。なお、樹脂成形物の厚みは特に制限は無いが、
通常１〜１０μｍ程度である。 【００６６】原版の作製は、微細凹凸２を賦形する為の
凹凸形状を最初に造形する工程であり、その作製方法と
しては、半導体分野等に於ける微細加工技術を流用でき
る。但し、半導体の場合は、凹凸形状はその側面が通常
垂直面で良く、本発明の如く斜面にする必要は特に無い
ため、本発明では、斜面が形成できる様にして微細加工
する。 【００６７】上記の如き微細加工技術としては、電子線
描画法を利用できる。この方法では、先ず、ガラス基板
の上にレジスト層を形成した後、電子線描画法により該
レジスト層を露光し現像してパターニングしてレジスト
パターン層とする。この後、腐蝕マスクに該レジストパ
ターン層を利用してガラス基板をドライエッチング法等
により腐蝕することで、ガラス基板に微細凹凸形状が形
成される。この際、エッチング時にサイドエッチングさ
せて、斜面を形成する。また、ガラス基板腐蝕時の腐蝕
マスクとしてはレジストパターン層自体を直接用いても
良いが、斜面を有する深い凹凸形状を形成するには、好
ましくは、ガラス基板上にクロム等による金属層を設け
た後、レジスト膜を形成してレジストパターン層を得、
前記金属層をこのレジストパターン層を利用して金属パ
ターン層としてたものを、腐蝕マスクとして用いるのが
良い。 【００６８】また、レジスト膜へのパターン形成に際し
ては、電子線描画法の他に、レーザー描画法も利用でき
る。レーザ描画法では、ホログラム、回折格子等の作製
等に利用されているレーザ干渉法が利用できる。回折格
子の場合は、一次元的配置であるが、角度を変えて多重
露光すれば、二次元配置も可能となる。但し、レーザ干
渉法では、得られる微細凹凸は、通常規則的配置となる
が、電子線描画法では、予め所定の描画パターン情報を
記憶装置にデジタルデータとして記憶しておき、該描画
パターン情報により、走査する電子線のＯＮ、ＯＦＦ、
乃至は強弱を変調する。その為、規則配置の他にも、不
規則配置も可能である。また、レーザー描画法及び電子
線描画法には各々長所、短所が有る為、設計諸元、目
的、生産性等を考慮の上、適宜な手法及び条件を選択す
る。 【００６９】次に、上記原版（マザー版）から本版（マ
スター版）を作製する方法には、公知の方法、例えば、
マザー版にニッケル等の金属めっきを行って、めっき層
を剥がし金属マスター版を作製する（電鋳法）。或い
は、このマスター版にもう一度めっきして、再度複製し
た型をマスター版としても良い。なお、最終的に樹脂成
形物の表面に対して微細凹凸を賦形する賦形型の形態と
しては、板状、シート状、或いは円筒状のものがあり
得、反射防止物品の形状、用途等に応じて適宜選択すれ
ば良い。 【００７０】なお、賦形型を円筒状とするには、例え
ば、プレート状のニッケル電鋳版を、中空円筒状の鉄等
による金属シリンダー表面に貼り込めば、円筒状の賦形
型が得られる。また、この様な円筒状の賦形型を用いれ
ば（後述「成形版胴法」）、賦形型として、図７の断面
図の如き素材シート２３上に賦形層２２が積層された構
成で、連続帯状の賦形シート２０を得ることもできる。
なお、賦形層２２はその表面の微細凹凸２１の個々の凹
凸が、分離独立しその凹部にて素材シート２３が露出し
たものでも、個々の凹凸が連続したものでもどちらでも
良い。或いはまた、円筒状の賦形型を熱エンボス版とし
て用いれば、熱可塑性樹脂からなる樹脂シートの表面に
微細凹凸を賦形した構成の賦形型（賦形シート）も得ら
れる。 【００７１】ここで、連続帯状の賦形型の作製が可能
な、「成形版胴法」について説明しておく。なお、この
成形版胴法も２Ｐ法の一種であるが、結果物を連続帯状
物として得られる。 【００７２】成形版胴法では、フォトポリマーとして液
状の電離放射線硬化性樹脂（の未硬化物）を、円筒状の
賦形型として成形版胴（ロール凹版、賦形版とも呼称さ
れる）の少なくとも凹部に充填させると共に該樹脂に素
材シートを接触させ、該樹脂が素材シートと成形版胴と
の間に保持されている状態で電離放射線を照射して該樹
脂を硬化させて微細凹凸とする事で、素材シートに微細
凹凸を賦形する。この結果、微細凹凸が素材シートの表
面に形成された賦形シートが作製される。なお、この様
な成形版胴法による凹凸形成方法は、特開昭５７−８７
３１８号公報、特公昭５７−２２７５５号公報、特公昭
６３−５００６６号公報、特開平７−３２４７６号公報
等に開示されるものであって、成形版胴の凹凸形状を忠
実に電離放射性硬化性樹脂の硬化物（微細凹凸）として
素材シートに賦形する方法である。この方法は基本的に
は、以下の工程からなる。 【００７３】（１）表面に目的とする微細凹凸の凹凸形
状と同形状且つ逆凹凸の凹凸形状（微細凹凸２と同形
状）を形成した円筒形状の成形版胴を用意し、これを軸
芯の回りに回転させる。 （２）連続帯状の素材シートを、該成形版胴の周速度と
同速度で供給する。 （３）該素材シートと該成形版胴とを、その間に電離放
射線硬化性樹脂の未硬化液状組成物を介して重ね合わせ
て密着させ、該液状組成物が該成形版胴の少なくとも凹
部を完全に充填する様にする。 （４）その状態のままで電離放射線照射装置から電離放
射線を照射して、該液状組成物を架橋、硬化させる。 （５）而る後に、素材シートを、それに接着し且つ成形
版胴上の凹凸形状が賦形された電離放射線硬化性樹脂の
硬化物からなる微細凹凸と共に、成形版胴から剥離除去
する。この結果、微細凹凸が素材シートに接着した構成
で賦形シートが得られる。 【００７４】上記（３）の工程に於いて、電離放射線硬
化性樹脂の未硬化液状組成物を成形版胴、或いは素材シ
ートに塗工するには公知の各種方法、例えば、ロールコ
ート、カーテンフローコート、Ｔダイコート等の方法を
用る。特に成形版胴への塗工の場合はインキパン中の液
状組成物に、回転する成形版胴を浸漬させる（所謂ドブ
浸け）も可能である。 【００７５】なお、素材シート２１の材料としては、成
形版胴表面の少なくとも一部に素材シートを巻き付けら
れる様な可撓性を有するものが使われ、電離放射線の照
射が素材シート側から可能である樹脂シートが代表的で
ある。例えば、ポリエチレンテレフタレートシート等で
ある。なお、素材シートの厚さは通常２０〜２００μｍ
程度である。また、上記電離放射線硬化性樹脂として
は、例えばアクリレート系等の公知の樹脂の中から用途
に応じて、適宜なものを使用する。また、離型性向上が
必要なときは、電離放射線硬化性樹脂としてシリコーン
アクリレート、或いは、電離放射線非硬化性樹脂として
シリコーン樹脂、ポリオレフィン樹脂等の樹脂の他に、
ワックス等を添加しても良い。 【００７６】なお、シート状の賦形型（賦形シート）が
得られる上述成形版胴法は、図８の断面図で例示する転
写シート３０に於ける離型性シート３１の作製にも利用
できる。 【００７７】図８の転写シート３０は、離型性シート３
１に転写層３２として樹脂成形物１が積層され、該離型
性シート３１は、その転写層３２側の離型面に微細凹凸
２Ａを有する。微細凹凸２Ａは、樹脂成形物の表面に付
与される微細凹凸とは逆凹凸形状の凹凸である。転写シ
ートによる賦形では、その離型性シート３１が、樹脂成
形物１に対する賦形型となる。なお、離型性シート上へ
の樹脂成形物の形成は、ロールコート等の従来公知の塗
工法等により行えば良い。また、転写シート上に於ける
樹脂成形物と、基材同士との接着性が得られない場合
は、転写層３２として更に接着層を含める事もある。こ
の場合、図１（Ｂ）に例示の反射防止物品１０の如く、
樹脂成形物１と基材３間に接着層４を有する構成のもの
が得られる。 【００７８】なお、転写シートの転写方法（転写圧加圧
方式）としては、従来公知の各種転写方法、例えば、
（１）ローラ圧で加圧するローラ転写法、（２）平板状
に加圧するホットスタンプ法、（３）射出圧で加圧する
射出成形同時転写法（特開平６−３１５９５０号公報、
特公平２−４２０８０号公報等参照）等を採用すれば良
い。 【００７９】ところで、上述成形版胴法で得られるシー
ト状の賦形型（賦形シート）は、使用目的が賦形であ
る。但し、基材がシート状の場合には、上述の成形版胴
法を用いて、この賦形シートの製法と同様にして、直
接、本発明の反射防止物品を得ることも出来る。すなわ
ち、上述した成形版胴法は、本発明の反射防止物品を得
る一方法でもある。これを、図７の賦形シート２０の構
成と、図１（Ａ）の反射防止物品１０の構成とを対比し
て説明すれば、素材シート２３は基材３に該当し、賦形
層２２は樹脂成形物１に該当し、賦形層２２表面の微細
凹凸２１は微細凹凸２に該当することになる。なお、賦
形シート２０に於ける微細凹凸２１は、該賦形シートか
ら直接に樹脂成形物に賦形する場合には、樹脂成形物表
面の微細凹凸２とは逆凹凸形状となる。 【００８０】〔賦形型を脱型する時期〕なお、賦形型を
脱型する時期（転写シートによる場合は離型性シートを
剥離する時期）、すなわち、樹脂成形物表面の微細凹凸
を露出させる時期は、樹脂成形物に用いる電離放射線硬
化性樹脂の架橋硬化が完了した後でも良いが、樹脂成形
物が少なくとも固体状態となっていれば、該樹脂の架橋
硬化が完了する前でも良い。硬化完了前とは、未硬化或
いは半硬化（不完全硬化）である。なお、前述「成形版
胴法」は、賦形型の脱型を少なくとも半硬化後に行う方
法であった。 【００８１】特に、転写シートによって樹脂成形物を転
写形成する場合には、転写シート上での転写層としての
樹脂成形物を硬化完了前状態として、なお且つその状態
で常温で非粘着固体となる様な電離放射線硬化性樹脂を
用いるのは、好ましい態様である。これによって、転写
シートとしての取り扱い易さに望まれる可撓性と、転写
後の反射防止物品上での樹脂成形物に必要な表面強度と
なる耐擦傷性との両立が容易となる。また、転写時に、
転写層として樹脂成形物を熱接着で基材に直接接着させ
る事も容易となる。転写後、電離放射線照射により、該
樹脂成形物を硬化完了させる。なお、常温とは、賦形シ
ートの脱型（転写シートの場合は離型性シートの剥離）
を行う雰囲気温度を意味する。具体的値は、気候や作業
環境によって異るが、通常は１０〜４０℃の範囲、より
一般的には１５〜２５℃の範囲である。 【００８２】〔基材〕なお、基材３の材料としては、特
に限定は無いが、通常、透明性及び機械的強度を有する
ものが使用される。例えば、基材３としては、ガラス、
樹脂等である。樹脂としては熱可塑性樹脂が代表的であ
り、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル−
（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等のアクリル樹脂
〔但し、（メタ）アクリルとはアクリル、或いはメタク
リルを意味する。〕、ポリカーボネート樹脂、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子
（代表的にはノルボルネン系樹脂等があるが、例えば、
日本ゼオン株式会社製の製品名「ゼオノア」、ＪＳＲ株
式会社製の「アートン」等がある）等のポリオレフィン
系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重
合体、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、セル
ロース系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリウレタン等が挙げられる。なお、基材３
は、用途に応じて、多層構造や、その他構成要素を有す
る構造等、用途に応じた物となる。また、基材の形状
は、フィルム（或いはシート）、板、三次元形状等、用
途に応じた形状となる。 【００８３】〔接着層〕接着層４は、樹脂成形物１と基
材３とが直接には接着し難い場合に、設けるのが好まし
い。接着層は、公知の接着剤、或いはシランカップリン
グ剤等の接着強化処理剤等を用いて、ロールコート等の
従来公知の塗工法等により形成する。接着層の厚みは通
常１〜１０μｍ程度である。また、接着層４は、樹脂成
形物を転写形成する場合に、転写層として樹脂成形物と
共に転写したり、或いは基材側に予め形成しておく事も
ある。なお、上記接着剤としては、アクリル樹脂等の熱
可塑性樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは電
離放射線硬化性樹脂等が用いられる。なお、接着層も、
光透過率に注目する場合には、基材或いは樹脂成形物と
の屈折率差を極力小さくするのが好ましい事は、前記し
た如くである。 【００８４】〔反射防止物品の用途〕本発明の反射防止
物品は、形状は、フィルム（或いはシート）、板、三次
元形状等任意であり、用途も特に限定れるものでは無
い。但し、その反射防止表面は、耐擦傷性及び耐汚染性
を良くしてあるとは言え、その微細凹凸は、極めて微細
であるが故に、やはり汚れや傷に対して注意するに越し
たことは無いので、微細凹凸は好ましくは外面には露出
させず、内面に設けられる用途、或いは、装置内部に設
けられる用途等が好適である。なお、本発明が適用し得
る用途は、これから例示される用途に限定されるもので
はない。 【００８５】例えば、携帯電話等の各種機器に於ける表
示部の窓材である。これら表示部では、ＬＣＤ等の表示
パネルの前面に、板や成形品等となった樹脂製の窓材が
配置される。窓材としての反射防止物品は、外側は露出
する為に傷や汚れへの耐性の点で本発明特有の微細凹凸
は設けず、内側の裏面の側に該微細凹凸を設けたものと
すると良い。なお、表示部は、ＬＣＤ等の表示パネル以
外に、時計に代表される機械式アナログメータ等の様な
機械的手段で表示するものでもよく、これらの窓材でも
良い。なお、窓材は、平板状もあるが、組み付けやデザ
イン上の観点から周囲に突起等有するものもあり、この
様な複雑形状のものは、射出成形同時転写法によれば基
材成形と同時に樹脂成形物を設けることができる。 【００８６】なお、上記の様な窓付き表示部を有する機
器としては、携帯電話、時計の外にも、パーソナルコン
ピュータ、電子手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末、電
卓、或いは、ＣＤプレーヤー、ＤＶＤプレーヤ、ＭＤプ
レーヤ、半導体メモリ方式音楽プレーヤ等の各種携帯型
音楽プレーヤ、或いは、ビデオテープレコーダ、ＩＣレ
コーダ、ビデオカメラ、デシタルカメラ、ラベルプリン
タ等の電子機器、或いは、電気炊飯器、電子ポット、洗
濯機等の電気製品等がある。 【００８７】また、フィルム（或いはシート）や板状の
反射防止物品に於いては、透明タッチパネル等に使用す
る、透明電極フィルムや透明板等の透明基材が挙げられ
る。透明タッチパネルは、表示部に入力機能を付加する
ものであるが、該製品組立上、ＬＣＤ、ＣＲＴ等の表示
パネルと別部品として組み付けるので、表示パネルと透
明タッチパネル間に空隙が残り、光反射が生じる。そこ
で、透明タッチパネルの裏面側を成す透明基材を、その
裏面を本発明特有の微細凹凸を設けた反射防止物品とす
れば、光反射が防げる。 【００８８】なお、透明タッチパネルは、例えば、電子
手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末（機器）、或いは、
カーナビゲーションシステム、ＰＯＳ（販売時点情報管
理）端末、携帯型オーダー入力端末、ＡＴＭ（現金自動
預金支払兼用機）、ファクシミリ、固定電話端末、携帯
電話機、デシタルカメラ、ビデオカメラ、パソコン、パ
ソコン用ディスプレイ、テレビジョン受像機、テレビ用
モニターディスプレイ、券売機、計測機器、電卓、電子
楽器等の電子機器、複写機、ＥＣＲ（金銭登録機）等の
事務器、或いは、洗濯機、電子レンジ等の電気製品に使
用される。また、本発明の反射防止物品は、レンズ、プ
リズム等の光学素子としての用途も挙げられる。すなわ
ち、レンズ、プリズム等の本体が基材となり、その所望
の表面に樹脂成形物を形成する。 【００８９】 【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳述する。 【００９０】〔実施例１〕厚さ３ｍｍのガラス基板上に
スピンコート法により感光性樹脂（ＳｉｐｌｅｙＣ
ｏ．，Ｉｎｃ．製、商品名「Ｍｉｃｒｏｐｏｓｉｔ Ｓ
１８０５」）の厚さ６００ｎｍのレジスト層を形成し、
レーザ干渉露光装置により、アルゴンイオンレーザーを
５０°の入射角度で２方向から露光する操作を、ガラス
基板の９０度回転させて２回行った。次いで、現像液で
現像してレジストパターン層を形成した。 【００９１】次に、ドライエッチング法によりガラス基
板の腐蝕を行って、所望の微細凹凸形状が形成されたガ
ラス基板からなる原版（マザー版）を作製した。このマ
ザー版から、電気めっき法によって、厚さ８０μｍのニ
ッケルめっきプレートのマスター版を賦形型として作製
した。 【００９２】そして、上記シート状で可撓性を有する賦
形型の賦形面に、シリコーンアクリレートプレポリマー
（平均分子量：２２５００、１分子中の官能基数１１）
を含有する電離放射線硬化性樹脂をスリットリバースコ
ート法によって１５ｇ／ｍ²塗布し後、該賦形型をその
塗布面側で、接着面をシランカップリング剤で接着強化
処理を施して接着層を形成した厚さ１．５ｍｍの透明な
アクリル樹脂板からなる基材の該接着層側に押圧ローラ
でラミネートした。次いで、高圧水銀灯で紫外線を基材
側から照射して、電離放射線硬化性樹脂を架橋硬化させ
た後、賦形型を剥離して、図１（Ｂ）の断面図の様な所
望の反射防止物品１０を得た。該反射防止物品１０は、
基材３として透明なアクリル樹脂板の片面に、接着層４
を介して、所望の微細凹凸２が表面に賦形された樹脂成
形物１が形成された構成のものである。 【００９３】そして、上記反射防止物品の微細凹凸２
は、原子間力顕微鏡での観察により、高さＨ_MINが２０
０ｎｍ、周期Ｐ_MAXが３００ｎｍの、図２の如き形状が
多数縦横に正方格子状に規則的に配列された微細凹凸で
あった。 【００９４】〔比較例１〕実施例１において、樹脂成形
物の電離放射線硬化性樹脂として、シリコーンアクリレ
ートを含有しない樹脂（ウレタンアクリレート系電離放
射線硬化性樹脂）を用いた他は、実施例１と同様にして
反射防止物品を作製した。 【００９５】〔性能評価〕先ず、上記反射防止物品につ
いて、可視光帯域での光の透過率と反射率を測定した。
その結果、透過率は９５％、反射率は０．３％であっ
た。なお、微細凹凸を設けなかった反射防止加工が未加
工の単なる透明板では、透過率９１％、反射率４％であ
り、反射防止効果が認められた。また、反射防止された
光は拡散せず、その分、透過率が向上している事も認め
られた。 【００９６】一方、耐汚染性について、微細凹凸が賦形
された表面に、油性の黒マジックインキでマーキング
し、二時間放置した後、エタノールを湿らせた脱脂綿で
ふき取り、黒マジックインキの残り具合を観察すること
で評価した。汚れが観察されないものは良好、観察され
たものは不良とした。その結果、実施例１では良好であ
ったが、比較例１は汚れが残り不良となった。 【００９７】 【発明の効果】本発明の反射防止物品によれば、物品表
面の光反射が微細凹凸によって防止される。しかも、こ
の様な微細凹凸を設けた本反射防止物品が備える反射防
止機能は、梨地処理等の様な鏡面乱反射によって光反射
を低減するものでは無く、物品表面と空気との界面の急
激な屈折率変化を緩和する事によって実現している為
に、光反射率が低減した分、光透過率が向上する。従っ
て、ディスプレイ等の表示部の窓材等に使用時に、表示
の視認性を向上させると共に、表示光の光の利用効率も
上げられる物品となる。更に、微細凹凸による反射防止
面の耐擦傷性と耐汚染性も良い。従って、傷や汚れが付
き難く、反射防止性能が低下し難い。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の反射防止物品をその２形態について例
示する断面図。 【図２】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図（その１）。 【図３】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図（その２）。 【図４】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図（その３）。 【図５】微細凹凸の（垂直）断面形状の幾つかを例示す
る断面図。 【図６】微細凹凸の水平面内での配置の幾つかを例示す
る断面図。 【図７】樹脂成形物の形成に使用し得る賦形シートの一
例を示す断面図。 【図８】樹脂成形物の形成に使用し得る転写シートの一
例を示す断面図。 【符号の説明】 １ 微細凹凸 １Ａ （離型性シート上の）微細凹凸 １ｔ （微細凹凸２の）最凸部 ２ 樹脂成形物 ３ 基材 ４ 接着層 １０ 反射防止物品 ２０ 賦形型（賦形シート） ２１ 微細凹凸 ２２ 賦形層 ２３ 素材シート ３０ 転写シート ３１ 離型性シート ３２ 転写層（樹脂成形物） ｎ 屈折率 ｎ_a 屈折率（空気） ｎ_b 屈折率（樹脂成形物） ｎ₀ 屈折率 ｎ₁ 屈折率 ｎ_ef（Ｚ） 有効屈折率 Ｈ_MIN （微細凹凸の）最小高さ Ｐ_MAX 周期 Ｒ 反射率 λ_MIN 最小波長 λ_MAX 最大波長

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA20 2H091 FA31X FA37X FB04 FC23 FD04 FD06 LA02 LA03 2K009 AA12 CC24 CC42 DD05 EE05 4F100 AK01B AK25B AK25J AK52B AK52J AT00A BA02 BA10A BA10B DD07B EJ08B GB41 JB14B JN06

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 表面に微細凹凸を有する樹脂成形物が基
   材上に形成されて成る、反射防止物品であって、 該微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小
   波長をλ_MIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をＰ_MAX
   としたときに、 Ｐ_MAX≦λ_MIN なる関係を有し、 且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断した
   と仮定したときの断面内に於ける樹脂成形物の材料部分
   の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行
   くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、 且つ、樹脂成形物がシリコーンアクリレートを含有する
   電離放射線硬化性樹脂の架橋硬化物から成る、反射防止
   物品。