JP2003258337A - レーザ装置用筐体の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ装置用筐体を効率的に、かつ徹底的に
洗浄するレーザ装置用筐体の洗浄方法を提供する。 【解決手段】 レーザ光(21)が内部を透過するレーザ装
置用筐体の洗浄方法において、内部に光学部品を設置し
ない状態で、酸素を含む酸素混合ガス雰囲気中で洗浄レ
ーザ光(59)を筐体内部に照射する酸素添加洗浄工程(S1
7)と、光学部品を筐体に組み込む光学部品組込工程(S2
3)と、筐体内部を大気から封止した状態で保管する保管
工程(S24)と、有機物及び水分のうち少なくともいずれ
か一方を吸着する吸着材を筐体の内部に組み込む吸着材
組込工程(S25)と、紫外線波長の光を発生する紫外線ラ
ンプを筐体内部に照射するランプ照射工程(S50)と、酸
素を含まないパージガス雰囲気中で洗浄レーザ光(59)を
筐体内部に照射する酸素無添加洗浄工程(S39)とを備え
たことを特徴とするレーザ装置用筐体の洗浄方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ装置用筐体
の洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、レーザ光を照射して光学部品
を洗浄する洗浄装置が知られており、例えば特開２００
０−８２８５６号公報に示されている。図１６は、同公
報に開示された洗浄装置を表しており、以下図１６に基
づいて従来技術を説明する。図１６において、洗浄装置
は、紫外領域の波長を有する洗浄レーザ光１０２を発振
するレーザ発振器１０１と、光学部品１０４を入れる収
容室１０３と、収容室１０３に所定のガスを供給するガ
ス導入機構１０５と、収容室１０３内のガスを排気する
ガス排気機構１０６とを備えている。

【０００３】洗浄の際には、密閉された収容室１０３に
光学部品１０４を設置し、ガス導入機構１０５から酸素
ガスを収容室１０３に導入しながら、ガス排気機構１０
６によってこれを排気する。そして、レーザ発振器１０
１から発振した洗浄レーザ光１０２を、ビーム整形手段
１０８で整形し、窓１０７，１０７を介して光学部品１
０４に照射する。これにより、酸素からオゾンや酸素ラ
ジカルが生じて、光学部品１０４に付着している有機物
等の汚染物質が酸化分解し、排気されて洗浄される。こ
のような洗浄を行なうことにより、光学部品１０４の透
過率を向上させ、その寿命を長くしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開２０００−８２８５６号公報に開示された従来技術に
は、次に述べるような問題がある。図１７に、エキシマ
レーザ装置１０９の概略構成図を示す。エキシマレーザ
装置１０９は、レーザチャンバ１１２と、フロントミラ
ー１１５と、レーザ光１１１を狭帯域化する狭帯域化ユ
ニット１２０と、レーザ光１１１の特性を測定するモニ
タモジュール１１６とを備えている。狭帯域化ユニット
１２０は、狭帯域化ボックス１２１を備えており、その
内部に光学部品１１３を設置している。また、モニタモ
ジュール１１６はモニタボックス１１７を備えており、
その内部に光学部品１１４を設置している。さらに、レ
ーザ光１１１の光路は、レーザ光１１１が外部に漏れる
のを防ぐための光路カバー１１９によって覆われてい
る。以下、これらのレーザ光１１の光路を覆うモニタボ
ックス１１７、光路カバー１１９、及び狭帯域化ボック
ス１２１を、筐体１１７，１１９，１２１と総称する。

【０００５】レーザ光１１１は、光学部品１１３，１１
４の表面で乱反射したり、内部で屈折したりして、筐体
１１７，１１９，１２１の内壁に当たる。このとき、筐
体１１７，１１９，１２１の内壁にも、有機物等の汚染
物質が付着している。従って、筐体１１７，１１９，１
２１の内壁に付着した汚染物質が化学反応を起こして気
化し、光学部品１１３，１１４に付着してこれを汚損す
るという問題がある。しかも、筐体１１７，１１９，１
２１の内壁は、光学部品１１３，１１４に比較して表面
積が大きく、付着している汚染物質の量も多い。従っ
て、光学部品１１３，１１４を洗浄するのみではなく、
筐体１１７，１１９，１２１の内壁からも汚染物質を除
去する必要が生じている。さらには、筐体１１７，１１
９，１２１の内部には、光学部品１１３，１１４を光軸
合わせのために移動したり固定したりするための、図示
しないホルダが設置されている。ホルダは、形状が複雑
で表面積も大きく、その表面にも多くの汚染物質が付着
している。従って、ホルダをも洗浄する必要がある。

【０００６】また従来技術においては、被洗浄物を収容
室１０３に入れて、洗浄レーザ光１０２を照射するよう
にしている。ところが、筐体１１７，１１９，１２１は
光学部品１１３，１１４に比較してかなり大きく、これ
を入れるためには巨大な収容室１０３が必要となる。し
かも、筐体１１７，１１９，１２１の外壁には、美観の
ための塗装が施されたり、使用方法の注意を促すための
シール等が貼られたりしている。従って、仮に筐体１１
７，１１９，１２１を収容室１０３に入れてレーザ光を
照射したとしても、外壁から大量の有機物が発生し、か
えって内壁や内部の光学部品１１３，１１４を汚損する
ことがある。

【０００７】本発明は、上記の問題に着目してなされた
ものであり、レーザ装置用筐体を効率的に、かつ徹底的
に洗浄するレーザ装置用筐体の洗浄方法を提供すること
を目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、本発明は、レーザ光が内部を透過
するレーザ装置用筐体の洗浄方法において、筐体内部を
酸素を含む酸素混合ガス雰囲気とし、光学部品を設置し
ない状態で洗浄レーザ光を筐体内部に照射する酸素添加
洗浄工程を備えている。これにより、紫外線光である洗
浄レーザ光と、酸素から発生したオゾン及び酸素ラジカ
ルとにより、拭き掃除や超音波洗浄では除去されなかっ
た付着物が筐体の内壁から遊離し、除去される。

【０００９】また本発明は、前記酸素添加洗浄工程の後
に、光学部品を筐体内部に組み込む光学部品組込工程を
備えている。これにより、筐体が洗浄された後に光学部
品を組み込むので、筐体から不純物が発生して光学部品
が汚れることが、少なくなる。

【００１０】また本発明は、前記光学部品組込工程の後
に、筐体内部に低反応性のパージガスを封止して保管す
る保管工程を備えている。これにより、洗浄された清浄
な状態を保って、光学部品及び筐体を保管するので、使
用時に再洗浄をする必要がない。

【００１１】また本発明は、前記光学部品組込工程の後
に、酸素を含まないパージガス雰囲気中で洗浄レーザ光
を筐体内部に照射する酸素無添加洗浄工程を備えてい
る。酸素なしで洗浄レーザ光を照射することにより、光
学部品に付着している不純物を、光学部品を損傷させる
ことなしに、除去することができる。このときの光学部
品とは、酸素から発生するオゾンによって損傷を受ける
ような素子を意味している。例えば反射防止膜をコーテ
ィングされたプリズムや、その他、種々の光学薄膜をコ
ーティングされたグレーティングやミラーなどの部品が
該当する。

【００１２】また本発明は、前記光学部品組込工程の後
に、紫外線波長の光を発生する紫外線ランプを筐体内部
に照射するランプ照射工程を備えている。これにより、
酸素無添加洗浄工程でも洗浄しきれない、光学部品の裏
などに付着した不純物を除去することができる。

【００１３】また本発明は、前記酸素添加洗浄工程の際
に、散乱光学部品を用いて洗浄レーザ光を筐体内部に散
乱させている。これにより、洗浄レーザ光が筐体内部の
すみずみに届くので、筐体内壁に残存する不純物が、非
常に少なくなる。

【００１４】また本発明は、前記酸素添加洗浄工程の際
に、筐体内部の有機物及び水分のうち少なくとも一方の
量を検出し、この検出値が所定の許容範囲内になるまで
洗浄レーザ光の照射を行なっている。これにより、不純
物を充分に除去でき、しかも長過ぎない適切な照射時間
を得ることができる。

【００１５】また本発明は、有機物及び水分のうち少な
くともいずれか一方を吸着する吸着材を筐体の内部に組
み込む吸着材組込工程を備えている。これにより、筐体
から発生した不純物を吸着するので、不純物が筐体内部
に残らず、光学部品に付着するようなことが少ない。そ
して、洗浄レーザ光を照射した際に発生した不純物が筐
体に再付着したり、保管中に筐体から染み出してきた不
純物が光学部品に付着したりするのを、防ぐことができ
る。

【００１６】また本発明は、筐体内部の有機物の量を測
定する有機物量測定工程を備え、有機物の量が所定の値
を越えない場合には、筐体内部に光学部品を組み付ける
光学部品組付工程と、前記光学部品組込工程の後に、酸
素を含まないパージガス雰囲気中で洗浄レーザ光を筐体
内部に照射する酸素無添加洗浄工程とを備えている。こ
れにより、筐体内部の不純物を酸素無添加洗浄工程によ
って除去できるので、洗浄が短縮される。

【００１７】また本発明は、前記有機物量測定工程にお
いて、有機物の量が所定の値を越えた場合には、内部の
光学部品を取り外す光学部品除去工程と、光学部品を設
置しない状態で、酸素を含む酸素混合ガス雰囲気中で洗
浄レーザ光を筐体内部に照射する酸素添加洗浄工程とを
備えている。これにより、酸素無添加洗浄工程によって
除去できなかった不純物を、確実に除去可能である。

【００１８】また本発明は、前記有機物がシリコン系物
質及び硫黄化合物のうち少なくとも一方である。これに
より、内部の有機物が、酸素無添加洗浄工程で除去でき
るか否かを確実に判定でき、その状態に合わせた適切な
洗浄が可能である。特に、シリコン系物質は、微量であ
っても洗浄レーザ光を照射するとＳiＯ2を発生して光学
部品に付着する。そのため、予めその量を測定してお
き、洗浄レーザ光照射時に、筐体内部に所定量以下であ
るようにしておくことにより、光学部品への付着を防止
できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。図１は、一般的なエ
キシマレーザ装置又はフッ素分子レーザ装置の構成図を
示している。図１において、レーザ装置１１は、レーザ
ガスを封止するレーザチャンバ１２を備えている。レー
ザチャンバ１２の内部には一対の主電極１４，１５が図
１中紙面と垂直に対向して配置され、図示しない高圧電
源から主電極１４，１５間に放電を起こすことにより、
レーザガスを励起してレーザ光２１を発生させる。１
７，１９は、レーザ光２１を透過するウィンドウであ
る。

【００２０】発生したレーザ光２１は、レーザチャンバ
１２の後方（図１中左方）に配置された狭帯域化ボック
ス３１に、入射口３７から入射する。狭帯域化ボックス
３１の内部には、プリズム３２，３２と、グレーティン
グ３３とが設置されている。３８は、光学部品を保持す
るホルダ３８である。レーザ光２１は、プリズム３２，
３２によってビーム幅を広げられ、グレーティング３３
によって所定波長を回折されて狭帯域化され、入射方向
に反射する。そして、フロントミラー１６とグレーティ
ング３３との間で往復するうち、フロントミラー１６を
部分透過し、前方に出射する。

【００２１】出射したレーザ光２１の光軸上には、モニ
タボックス３９が設置されている。ビームスプリッタ２
２で、図１中下方に反射されたレーザ光２１の一部は、
ビームスプリッタ４０及び反射ミラー４１で反射され、
それぞれパルスエネルギー測定装置４２及び波長測定装
置４３に入射し、パルスエネルギー及び波長特性を測定
される。ビームスプリッタ２２を透過したレーザ光２１
は、光路ミラー４４Ａ，４４Ｂで反射され、ステッパな
どの露光機２５に入射する。レーザチャンバ１２と狭帯
域化ボックス３１との間、レーザチャンバ１２とモニタ
ボックス３９との間、モニタボックス３９と露光機２５
との間、及びその他のレーザ光２１が通過する光路は、
それぞれ光路カバー４５Ａ〜４５Ｃによって囲繞されて
いる。

【００２２】光路カバー４５Ａ〜４５Ｃには、清浄で低
反応性のパージガスを封入したパージボンベ４６が接続
されている。パージボンベ４６からは、光路カバー４５
Ａ〜４５Ｃ、狭帯域化ボックス３１、及びモニタボック
ス３９の内部に、連続的にパージガスが送り込まれ、そ
れらの内部から酸素や有機物を追い出すようにしてい
る。パージガスとしては、窒素が好適であるが、ヘリウ
ムなどの不活性ガスを用いてもよい。本発明において
は、このようなエキシマレーザ装置１１又はフッ素分子
レーザ装置において、狭帯域化ボックス３１、モニタボ
ックス３９、及び光路カバー４５Ａ〜４５Ｃなどの筐体
の内壁や、筐体の内部に配置された光学部品などを光洗
浄する技術について、説明する。

【００２３】尚、以下の各実施形態においては、洗浄対
象である筐体として、狭帯域化ボックス３１を例に取っ
て説明するが、モニタボックス３９や光路カバー４５Ａ
〜４５Ｃなど、他の筐体に関しても全く同様である。そ
して、筐体がモニタボックス３９であるような場合に
は、例えばビームスプリッタ２２、ビームスプリッタ４
０、反射ミラー４１、パルスエネルギー測定装置４２及
び波長測定装置４３などが、説明中の光学部品に該当す
る。また、筐体が光路カバー４５Ａ〜４５Ｃであるよう
な場合には、例えばフロントミラー１６や光路ミラー４
４Ａ，４４Ｂなどが、光学部品に該当する。

【００２４】まず、第１実施形態を説明する。図２に、
第１実施形態に係る洗浄の手順を、フローチャートで示
す。まず、狭帯域化ボックス３１などの筐体と、光学部
品３２，３３を保持するホルダ３８などの構造部品と
を、純水及び洗剤を用いて表面を拭き掃除し、純水中で
超音波洗浄を行なう（ステップＳ１１）。これにより、
狭帯域化ボックス３１の内壁表面に付着していた、微細
な塵や、狭帯域化ボックス３１を製造する際の加工油が
除去される。

【００２５】次に、狭帯域化ボックス３１の内部に窒素
ガスを充満させた状態で、狭帯域化ボックス３１をオー
ブンによって加熱し、乾燥させる（ステップＳ１２）。
これにより、ステップＳ１１の洗浄時に用いた水分が除
去される。そして、構造部品３８のみを狭帯域化ボック
ス３１に組み付ける（ステップＳ１３）。このように、
ステップＳ１１〜Ｓ１３は、狭帯域化ボックス３１の内
部を、大気に開放した状態で行なわれる。

【００２６】そして、狭帯域化ボックス３１を洗浄装置
３５に装着する（ステップＳ１４）。図３に、ステップ
Ｓ１４において、狭帯域化ボックス３１を洗浄装置３５
に装着した際の構成図を示す。図３において洗浄装置３
５は、洗浄レーザ光５９を発振する洗浄レーザ装置３６
を備えている。洗浄レーザ装置３６としては、紫外線レ
ーザ光を発生する、エキシマレーザ装置又はフッ素分子
レーザ装置が好適である。このとき、洗浄レーザ装置３
６は、波長を狭帯域化する必要はないので、例えば図１
に示したエキシマレーザ装置又はフッ素分子レーザ装置
において、モニタボックス３９内にはパルスエネルギー
測定装置４２のみを設置し、狭帯域化ボックス３１の代
わりに全反射ミラー４１を備えたような構成が好適であ
る。

【００２７】洗浄レーザ装置３６と狭帯域化ボックス３
１との間は、洗浄カバー４８によって囲繞されており、
その内部は窒素ガスが連続的に供給されている。狭帯域
化ボックス３１の入射口３７には手動で開閉自在のゲー
トバルブ４７が設けられている。ゲートバルブ４７を開
くと、洗浄レーザ光５９をその図示しない開口部から、
狭帯域化ボックス３１内部に入射させることができる。
また、ゲートバルブ４７には、図示しないＯリングが組
み込まれ、ゲートバルブ４７を閉じると、狭帯域化ボッ
クス３１の内部は封止されるようになっている。洗浄レ
ーザ装置３６から出射した洗浄レーザ光５９は、入射口
３７から、洗浄対象である狭帯域化ボックス３１の内部
に入射する。狭帯域化ボックス３１には、内部の有機物
の量を検出する有機物検出器５２と、水分量を検出する
水分検出器５３と、内部の酸素濃度を検出する酸素濃度
検出器５４とが接続されている。さらに狭帯域化ボック
ス３１には、内部の気体を排気する真空ポンプ４９と、
窒素に酸素を所定の比率で混合した酸素混合ガスを封入
した酸素混合ボンベ５１と、窒素ボンベ５０とが接続さ
れている。

【００２８】図３に示したように、狭帯域化ボックス３
１を洗浄装置３５に装着した状態で、ゲートバルブ４７
を開き、狭帯域化ボックス３１内部に窒素ガスボンベか
ら窒素を連続的に供給する（ステップＳ１５）。これに
より、ステップＳ１４で狭帯域化ボックス３１を洗浄装
置３５に装着する前に、狭帯域化ボックス３１内部の空
気の中に混じっていた不純物が除去される。或いはこの
とき、真空ポンプ４９で狭帯域化ボックス３１の内部を
排気し、窒素を充満させるという工程を繰り返すように
すれば、不純物をより徹底的に除去することができる。

【００２９】そして、有機物検出器５２及び水分検出器
５３の出力に基づき、狭帯域化ボックス３１内部の有機
物、水分、及び酸素の量又は濃度を検出し、これらの不
純物の量又は濃度が許容範囲内か否かを判定する（ステ
ップＳ１６）。このとき、有機物としては、シリコン系
物質であるシロキサンや、硫黄化合物について検出を行
なう。特に、シリコン系物質に洗浄レーザ光５９が照射
されると、Ｓiが分解され、他の有機物や水分から出て
きた酸素と結合して、ＳiＯ2が発生する。このＳiＯ2
は、微量であっても、白い粉状となって光学部品表面に
固着し、光学部品の屈折率を変化させるなどの悪影響を
及ぼすため、洗浄レーザ光５９の照射前に、念入りに除
去しておくことが必要である。

【００３０】ステップＳ１６において、有機物及び水分
の濃度のうち、１つの項目でも許容範囲外であれば、ス
テップＳ１５に戻って窒素供給を続ける。また、すべて
の項目が許容範囲内であれば、狭帯域化ボックス３１内
部に、窒素及び酸素の酸素混合ガスを供給し、洗浄レー
ザ光５９を狭帯域化ボックス３１内部に照射する（ステ
ップＳ１７）。このとき、酸素濃度検出器５４により、
狭帯域化ボックス３１内部の酸素の濃度を検出し、例え
ば窒素ボンベ５０から窒素を同時に供給するなどして、
酸素濃度が所定の濃度となるようにガス制御を行なう必
要がある。即ち、洗浄レーザ光５９として、ＫｒＦやＡ
ｒＦエキシマレーザ光を用いる場合には、酸素の濃度は
濃くともよく、例えば２０％程度でもよい。しかしなが
ら、例えばフッ素分子レーザ光などの真空紫外レーザ光
を洗浄レーザ光５９として用いる場合には、酸素に洗浄
レーザ光５９が吸収されるのを避けるために、酸素の濃
度を約１０００ppm以下に抑える必要がある。

【００３１】狭帯域化ボックス３１内部には、洗浄レー
ザ光５９を散乱させる、散乱光学部品５５が設置されて
いる。洗浄レーザ光５９は、散乱光学部品５５に当たっ
てその表面で散乱し、狭帯域化ボックス３１の内壁全体
に照射される。これにより、紫外線光である洗浄レーザ
光５９と、酸素から発生したオゾン及び酸素ラジカルに
より、狭帯域化ボックス３１の内壁及びホルダから、ス
テップＳ１１の洗浄時に除去されなかった付着物が遊離
する。尚、散乱光学部品５５としては、図示したような
反射形ではなく、拡散板のように洗浄レーザ光５９を透
過させて散乱させるものでもよい。

【００３２】そして、洗浄レーザ光５９を照射しなが
ら、水分検出器５３によって狭帯域化ボックス３１内部
の水分量を検出し、これが許容範囲内となるまで照射を
続ける（ステップＳ１８）。水分量が許容範囲になれば
洗浄レーザ光５９を停止して（ステップＳ１９）、ゲー
トバルブ４７を閉じて狭帯域化ボックス３１内部を真空
引きした後、内部に窒素を充満させる（ステップＳ２
０）。そして、有機物検出器５２によって、狭帯域化ボ
ックス３１内部の有機物の量を測定し、これが許容範囲
か否かを判定する（ステップＳ２１）。ステップＳ２１
で許容範囲外であれば、ステップＳ１７に戻って酸素を
再供給し、洗浄レーザ光５９を再照射する。ステップＳ
２１で、許容範囲内であれば、洗浄レーザ光５９を止
め、ゲートバルブ４７を閉じて、狭帯域化ボックス３１
を封止された状態で、洗浄装置３５から取り外す（ステ
ップＳ２２）。

【００３３】尚、ステップＳ１８において、水分量のみ
を洗浄レーザ光５９を停止するか否かの判定に用いるの
は、洗浄レーザ光５９照射中には内部にオゾンが発生
し、酸素検出器及び有機物検出器５２による検出が、精
度良く行なえないためである。そのため、本フローチャ
ートにおいては、ステップＳ２０、Ｓ２１において、狭
帯域化ボックス３１内部を真空引きして窒素を封入し、
有機物の量を検出して、不純物が内部に残存していない
ことをより確実にしている。しかしながら、ステップＳ
２０、Ｓ２１を行なわず、ステップＳ１８における水分
量のみを判定の基準として、洗浄レーザ光５９による洗
浄工程を終えるようにしてもよい。

【００３４】そして、狭帯域化ボックス３１を、例えば
クリーンルームのように清浄な空間内に持ち込み、ゲー
トバルブ４７を外して狭帯域化ボックス３１の内部のホ
ルダ３８に、グレーティング３３やプリズム３２，３２
などの光学部品３２，３３を組み付ける（ステップＳ２
３）。そして、入射口３７を、ゲートバルブ４７の代わ
りにプレートなどで塞いで、狭帯域化ボックス３１の内
部を排気し、窒素を充填した状態で保管する（ステップ
Ｓ２４）。或いは、ステップＳ２４において、入射口３
７を開いた状態で、狭帯域化ボックス３１を、内部が真
空引き及び窒素充填可能な保管庫に入れ、保管庫内部を
窒素充填した状態で保管するようにしてもよい。

【００３５】以上説明したように、第１実施形態によれ
ば、筐体３１の内部に酸素を含んだ酸素混合ガスを入
れ、筐体３１内壁及び構造部品３８に対して、紫外線で
ある洗浄レーザ光５９を照射している。これにより、洗
浄レーザ光５９によって筐体３１内壁及び構造部品３８
に付着している有機物や水分が遊離するのに加え、酸素
から発生するオゾンや酸素ラジカルによっても有機物等
が酸化分解し、遊離する。従って、筐体３１内部を排気
することによって、遊離した不純物を除去することがで
き、筐体３１内壁及び構造部品３８を、より清浄に洗浄
することが可能である。

【００３６】特に、洗浄レーザ光５９がＡｒＦエキシマ
レーザ光である場合には、酸素が添加された状態で洗浄
を行なうことにより、酸素が添加されない状態では分解
されなかった有機物を、好適に分解することが可能とな
っている。図４〜図６に、ＡｒＦエキシマレーザ光を洗
浄レーザ光５９として用いた場合の、有機物の分解結果
をグラフで示す。図４〜図６において、横軸が洗浄レー
ザ光５９の照射時間であり、縦軸がそれぞれ、ｎ−ヘキ
サン、トルエン、シロキサンの残存量を示している。図
４〜図６中、破線が酸素を添加しない窒素のみの場合、
実線が窒素に酸素を２０％添加した場合である。図４〜
図６に示すように、酸素を添加することにより、添加し
ない窒素のみの場合に比べて、多大な効果が現れてい
る。

【００３７】また、フッ素分子レーザ光を洗浄レーザ光
５９として用いる場合にも、酸素添加の効果が、実験結
果に現れている。ＡｒＦエキシマレーザ光よりも、短波
長のフッ素分子レーザ光の照射によっても、トルエン
等、比較的分解の遅い物質がある。図７に、フッ素分子
レーザ光を洗浄レーザ光５９として用いた場合の、有機
物の分解結果をグラフで示す。図７において、横軸が洗
浄レーザ光５９の照射時間であり、縦軸が、トルエンの
残存量を示している。図７中、破線が酸素を添加しない
場合、実線が酸素を１０００ppm添加した場合である。
図７に示すように、酸素を添加することにより、添加し
ない場合には分解が遅かったトルエンを分解することが
可能となっている。

【００３８】このような第１実施形態に係る洗浄は、例
えばＫｒＦエキシマレーザ装置のように、有機物の存在
がそれほどレーザ光２１のパルスエネルギーや波長に影
響を与えないようなレーザ装置１１の、筐体３１に対し
て行なうとよい。即ち、第１実施形態によれば、光学部
品３２，３３に対する洗浄を行なっておらず、また、洗
浄後に大気中で筐体３１内部に光学部品３２，３３を組
み付けているので、微量の酸素や水分が、筐体３１内部
に残存することがある。また、このような洗浄を可能に
するためには、光学部品３１が、組み付け前に非常に清
浄な状態で製造され、保管されている必要がある。この
ような条件を満たす場合には、以下に説明する各実施形
態に比べて、第１実施形態は洗浄の手間が比較的かから
ないという利点がある。

【００３９】次に、第２実施形態を説明する。図８に、
第２実施形態に係る洗浄の手順を、フローチャートで示
す。ステップＳ１１〜Ｓ２３は、第１実施形態と同様で
あり、説明を省略する。そして、ステップＳ２３で光学
部品３２，３３をホルダ３８に組み付けた後、モレキュ
ラーシーブ（又はモレキュラーシーブス）などの吸着材
を、筐体３１内部に設置する（ステップＳ２５）。そし
て、入射口３７を、ゲートバルブ４７の代わりにプレー
トなどで塞いで、狭帯域化ボックス３１の内部を排気
し、窒素を充填した状態で保管する（ステップＳ２
４）。

【００４０】以上説明したように第２実施形態によれ
ば、洗浄後に、水分や有機物を吸着する吸着材を筐体３
１内に設置し、その状態で筐体３１を保管している。即
ち、洗浄後に、ステップＳ２３において筐体３１内部を
清浄な大気に開放した状態で光学部品３２，３３を組み
付けている。この際に、空気中から不純物が筐体３１内
部に混入して残存したり、或いは洗浄しきれなかった不
純物が筐体３１内壁から染み出してくることがある。こ
のような場合に、モレキュラーシーブによってこれらの
不純物を吸着し、光学部品３２，３３の汚損を防止する
ことができる。尚、どのような物質を吸着させるかは、
モレキュラーシーブの種類を選定することにより、決定
することができる。

【００４１】次に、第３実施形態について、説明する。
図９に、第３実施形態に係る洗浄の手順を、フローチャ
ートで示す。ステップＳ１１〜Ｓ２２は、第１実施形態
と同様であり、説明を省略する。まず、ステップＳ２２
で封止された状態で洗浄装置３５から取り外した狭帯域
化ボックス３１を、グローブボックス５６の内部のテー
ブル６０に載置する（ステップＳ３１）。図１０に、グ
ローブボックス５６の説明図を示す。図１０においてグ
ローブボックス５６には、例えば少なくとも１側面がガ
ラスやアクリル樹脂などの透明な壁で構成されており、
作業員は、透明な側面に設けられたグローブ５７，５７
を介して、内部の狭帯域化ボックス３１にアクセスする
ことが可能である。また、グローブボックス５６には、
その内部に清浄な窒素などのパージガスを導入するため
のグローブボックスボンベ５８が接続されている。さら
にグローブボックス５６には、その内部の酸素及び水分
の量を測定することのできる、酸素濃度検出器５４及び
水分検出器５３が付設されている。

【００４２】このようなパージガスをグローブボックス
５６の内部に供給し（ステップＳ３２）、酸素濃度検出
器５４及び水分検出器５３によって、グローブボックス
５６内部の酸素濃度及び水分量を検出して、これが所定
の許容範囲内か否かを判定する（ステップＳ３３）。そ
して、酸素濃度及び水分量が許容範囲内になると、グロ
ーブ５７，５７を介して狭帯域化ボックス３１の例えば
上蓋を開き、モレキュラーシーブ（図示せず）及び光学
部品３２，３３を狭帯域化ボックス３１に組み付ける
（ステップＳ３４）。このとき、モレキュラーシーブ及
び光学部品３２，３３は、例えばステップＳ３１で狭帯
域化ボックス３１をグローブボックス５６の内部に入れ
る際に、同時に搬入してもよいし、予めグローブボック
ス５６の内部に置いておいてもよい。

【００４３】組み付けが終わると、狭帯域化ボックス３
１のゲートバルブ４７を閉じて狭帯域化ボックス３１を
封止し（ステップＳ３５）、狭帯域化ボックス３１を洗
浄装置３５に装着する（ステップＳ３６）。そして、ゲ
ートバルブ４７を開いてパージボンベ４６から狭帯域化
ボックス３１内にパージガスを供給する（ステップＳ３
７）。狭帯域化ボックス３１に付設された酸素濃度検出
器５４及び水分検出器５３によって、狭帯域化ボックス
３１内部の酸素濃度及び水分量が許容範囲内になったこ
とを確認し（ステップＳ３８）、洗浄レーザ光５９を照
射する（ステップＳ３９）。酸素が狭帯域化ボックス３
１内部に残存していると、洗浄レーザ光５９の照射によ
ってオゾンが発生し、光学部品３２，３３の表面のコー
ティングが汚損されることがあるため、ステップＳ３８
では酸素が殆んど残っていないようにする。

【００４４】図１１に、ステップＳ３９において、狭帯
域化ボックス３１を洗浄装置３５に装着し、洗浄レーザ
光５９を照射した際の構成図を示す。洗浄レーザ光５９
は、レーザ光２１と同様にプリズム３２，３２で幅を広
げられ、グレーティング３３に入射する。これにより、
洗浄レーザ光５９が照射されたプリズム３２，３２及び
グレーティング３３の表面から、有機物や水分などの不
純物が遊離する。尚、図１１において洗浄レーザ光５９
の光路に図示しない拡散板を配置し、洗浄レーザ光５９
を拡散させることにより、光学部品３２，３３の洗浄レ
ーザ光５９が通過しない部位をも洗浄するようにすると
よい。そして、水分検出器５３によって、狭帯域化ボッ
クス３１内部の水分量が所定の値以下になったか否かを
判定し（ステップＳ３８）、水分量が許容範囲内になる
と、洗浄レーザ光５９を停止する（ステップＳ４０）。

【００４５】その後、ゲートバルブ４７を閉じて狭帯域
化ボックス３１内部を真空引きした後、内部に窒素を充
満させる（ステップＳ４２）。そして、有機物検出器５
２によって、狭帯域化ボックス３１内部の有機物の量を
測定し、これが許容範囲か否かを判定する（ステップＳ
４３）。ステップＳ４３で許容範囲外であれば、ステッ
プＳ３９に戻って、洗浄レーザ光５９を再照射する。ス
テップＳ４３で許容範囲内であれば、洗浄レーザ光５９
を止め、ゲートバルブ４７を閉じて、狭帯域化ボックス
３１を封止された状態で、洗浄装置３５から取り外し、
そのまま保管する（ステップＳ４４）。

【００４６】以上説明したように、第３実施形態によれ
ば、ステップＳ１７で酸素を添加して洗浄レーザ光５９
を照射した後、パージガスを充満させたグローブボック
ス５６の内部で、狭帯域化ボックス３１に光学部品３
２，３３を組み付けている。これにより、狭帯域化ボッ
クス３１を開いた際に、空気が狭帯域化ボックス３１の
内部に混入することが非常に少なくなるので、狭帯域化
ボックス３１の内壁やホルダ３８に水分や有機物などが
付着することが少なく、光学部品３２，３３の汚損が起
きにくい。またこのとき、狭帯域化ボックス３１の内部
に、モレキュラーシーブを組み付けている。これによ
り、ステップＳ３９で洗浄レーザ光５９によって内壁や
ホルダ３８から不純物が遊離したり、或いはステップＳ
１７で除去しきれなかった不純物が徐々に遊離する場合
にも、これを確実に捕捉して、光学部品３２，３３の汚
損を防止できる。

【００４７】また、酸素添加状態で洗浄レーザ光５９を
照射した後に光学部品３２，３３を組み付け、酸素を無
添加状態にして、洗浄レーザ光５９を再照射している。
光学部品３２，３３は、オゾンによって表面のコーティ
ングなどが汚損されることがある。従って、酸素を含ま
ないガス中で洗浄レーザ光５９を照射することにより、
光学部品３２，３３を汚損させることなく、紫外線光に
よる効果的な洗浄が可能である。

【００４８】次に、第４実施形態について、説明する。
図１２に、第４実施形態に係る洗浄の手順を、フローチ
ャートで示す。ステップＳ１１〜Ｓ３４は、第３実施形
態と同様であり、説明を省略する。そして、ステップＳ
３４で、狭帯域化ボックス３１の上蓋を開いてモレキュ
ラーシーブ及び光学部品３２，３３を狭帯域化ボックス
３１に組み付けた後、グローブボックス５６の内部で、
狭帯域化ボックス３１の内部にキセノン（Ｘｅ）ランプ
を照射する（ステップＳ５０）。図１３に、キセノンラ
ンプ６１を照射することの可能な、キセノンランプ６１
付グローブボックス５６の構成図を示す。図１３に示す
ように、グローブボックス５６の天井からは、高さ方向
に可動自在のキセノンランプ６１が吊り下げられてい
る。照射する際には、図示しないグローブを介してキセ
ノンランプ６１を下降させて点灯し、光学部品３２，３
３を組み付けた状態の狭帯域化ボックス３１に、上蓋を
開いた状態で上方から照射する。

【００４９】即ち、グレーティング３３などの、洗浄レ
ーザ光５９を透過しないような光学部品では、洗浄レー
ザ光５９の照射時に、洗浄レーザ光５９がグレーティン
グ３３の背面などに回らず、背面が照射されずに洗浄が
不十分な場合がある。これを補うために、本実施形態で
は、キセノンランプ６１を光学部品３２，３３に照射
し、洗浄レーザ光５９だけでは洗浄しきれない部位を洗
浄している。これによって洗浄レーザ光５９と同様に、
有機物や水分などの不純物を遊離させることが可能であ
る。

【００５０】キセノンランプ６１の照射は、グローブボ
ックス５６に付設した水分検出器５３によって、水分量
が許容範囲以内か否かを判定し（ステップＳ５１）、許
容範囲内になるまで行なうようにしてもよいし、或いは
所定の照射時間を定めてもよい。そして、狭帯域化ボッ
クス３１の上蓋を閉め、ゲートバルブ４７を閉じて狭帯
域化ボックス３１を封止する（ステップＳ３５）。以下
のステップＳ３６〜Ｓ４４については、第３実施形態と
同様であり、説明を省略する。

【００５１】以上説明したように第４実施形態によれ
ば、キセノンランプ６１を光学部品３２，３３に照射し
ている。これにより、光学部品３２，３３の、洗浄レー
ザ光５９が届かない部位にまで紫外線が照射され、より
徹底的な洗浄が行なわれる。また、キセノンランプ６１
から発生する紫外線光の波長は１７２nmであり、ＫｒＦ
エキシマレーザ光（２４８nm）やＡｒＦエキシマレーザ
光（１９３nm）よりも短波長である。従って、有機物を
分解して遊離させる洗浄能力がより強くなる。尚、上記
フローチャートにおいては、光学部品３２，３３を組み
付けた状態で、キセノンランプ６１を照射するように説
明したが、例えば組み付ける前の光学部品３２，３３
に、予めキセノンランプ６１を照射しておくようにして
もよい。これにより、光学部品３２，３３の洗浄を、さ
らに徹底的に行なうことができ、不純物の付着がより少
なくなる。尚、本実施形態は、キセノンランプ６１に限
られるものではなく、同様の紫外線波長を有するランプ
であればよい。

【００５２】図１４に、図１２に示したフローチャート
において、モレキュラーシーブを組み込むタイミングを
変えた洗浄手順を示す。図１４において、モレキュラー
シーブを狭帯域化ボックス３１内部に組み付けるタイミ
ングとしては、例えばＡ１〜Ａ４の４通りが考えられ
る。第１の例としては、矢印Ａ１で示したように、ステ
ップＳ１３において、狭帯域化ボックス３１に構造部品
３８を組み付けた後でモレキュラーシーブを組み付け
る。これにより、狭帯域化ボックス３１の初期状態か
ら、内部に付着している不純物を予め吸着除去できるの
で、比較的清浄な状態で洗浄レーザ光５９の照射を行な
え、例えば洗浄レーザ光５９の照射時間が短くなる。ま
た、狭帯域化ボックス３１内部に、不純物が飽和してそ
れ以上遊離しなくなるというようなことが少なく、確実
に不純物が除去できる。

【００５３】第２の例としては、矢印Ａ２で示したよう
に、ステップＳ１７における酸素添加状態での洗浄レー
ザ光５９照射の直前に、狭帯域化ボックス３１内部にモ
レキュラーシーブを組み付けるものである。これによ
り、洗浄レーザ光５９照射時に遊離した有機物や水分な
どの不純物を吸着することができるので、洗浄レーザ光
５９の照射を止めた直後に不純物が筐体３１内壁に再付
着するようなことが少なく、確実な除去が可能である。
第３の例としては、図１２のフローチャートにおいても
示したように（矢印Ａ３）、ステップＳ３４で光学部品
３２，３３と一緒にモレキュラーシーブを組み込む場合
がある。第４の例としては、矢印Ａ４に示したように、
ステップＳ３５で狭帯域化ボックス３１を封止する直前
に、モレキュラーシーブを組み込む場合がある。これに
より、ステップＳ３９において、狭帯域化ボックス３１
に無酸素状態で洗浄レーザ光５９を照射する際に発生す
る不純物を、モレキュラーシーブによって吸着できる。
その結果、洗浄レーザ光５９の照射を止めた直後に、不
純物が内壁に再付着するようなことが少なく、確実な除
去が可能である。

【００５４】尚、上記実施形態においては、酸素添加の
場合と無添加の場合の洗浄レーザ装置３６を共通にする
ように説明したが、これに限られるものではない。例え
ばステップＳ１７のように、筐体３１内部及び構造部品
３８に、酸素を添加して洗浄レーザ光５９を照射する場
合には、その筐体３１を用いるレーザ装置１１から発振
するレーザ光２１と同じか、或いはより短い波長の洗浄
レーザ光５９を発振する洗浄レーザ装置３６を用いるの
がよい。即ち、洗浄レーザ光５９は波長が短いほどその
エネルギーが大きいので、短波長の洗浄レーザ光５９を
用いることにより、より徹底的な洗浄を行なうことがで
きる。一方、長い波長の洗浄レーザ光５９を用いると、
筐体３１や構造部品３８をレーザ装置１１に組み付けて
レーザ光２１を照射した際に、洗浄レーザ光５９では遊
離しなかった有機物などが、レーザ光２１のより大きな
エネルギーによって遊離し、光学部品３２，３３に付着
するようなことがある。

【００５５】一方、ステップＳ３９のように、光学部品
３２，３３を組み付けて酸素無添加で洗浄レーザ光５９
を照射する場合には、光学部品３２，３３を使用するレ
ーザ装置１１の種類と、同じ洗浄レーザ装置３６を用い
るのがよい。即ち、レーザ光２１よりも短い波長の洗浄
レーザ光５９を用いた場合には、洗浄レーザ光５９のエ
ネルギーが大き過ぎて、光学部品３２，３３の表面のコ
ーティング等が破損するおそれがある。一方、レーザ光
２１よりも長い波長の洗浄レーザ光５９を用いた場合に
は、洗浄レーザ光５９のエネルギーが小さ過ぎて、充分
な洗浄が行なえないことがある。

【００５６】図１５に、第５実施形態に係る洗浄の手順
を、フローチャートで示す。第５実施形態は、特に、フ
ッ素分子レーザ装置に用いられる筐体３１及び光学部品
３２，３３について説明する。上述したように、フッ素
分子レーザ装置１１に用いる筐体３１及び光学部品３
２，３３に対しては、洗浄レーザ光５９として、フッ素
分子レーザ装置を用いることになる。フッ素分子レーザ
光は波長が短いために洗浄力が非常に強く、酸素を添加
しないでも、筐体３１内壁に付着した有機物のうち、シ
リコン系物質及び硫黄化合物を除いて、殆んどを除去す
ることが可能である。そのため、本実施形態では、筐体
３１内部にシリコン系物質及び硫黄化合物が殆んど存在
しない場合においては、酸素を添加せずに洗浄レーザ光
５９を照射して洗浄を行なうだけに留めている。

【００５７】ステップＳ１１〜Ｓ１３については、上記
各実施形態と同様であり、説明を省略する。そして、ス
テップＳ１３において構造部品３８を組み付けた狭帯域
化ボックス３１に、光学部品３２，３３及びモレキュラ
ーシーブを組み付け（ステップＳ６１）、狭帯域化ボッ
クス３１を洗浄装置３５に装着する（ステップＳ６
２）。そして、ゲートバルブ４７を開いて狭帯域化ボッ
クス３１内部に窒素ガスボンベから窒素を連続的に供給
する（ステップＳ６３）。これにより、狭帯域化ボック
ス３１内部に入っていた空気の中に混じっていた不純物
が除去される。そして、有機物検出器５２及び水分検出
器５３の出力に基づき、狭帯域化ボックス３１内部の有
機物、水分、及び酸素の量又は濃度を検出し、所定時間
までに（ステップＳ６４）、これらの不純物が許容範囲
内になったか否かを判定する（ステップＳ６５）。この
とき、有機物としては、シリコン系物質であるシロキサ
ンや、硫黄化合物について、特に精密に検出を行なう。
この理由は、ステップＳ１６と同様である。

【００５８】そして上述したように、ステップＳ６５で
狭帯域化ボックス３１内部にシリコン系物質及び硫黄化
合物が検出されない状態になったら、次に酸素無添加状
態で、洗浄レーザ光５９を照射する（ステップＳ６
６）。そして、所定時間又は所定発振パルス数内に（ス
テップＳ６７）、狭帯域化ボックス３１内部の水分量、
酸素濃度、及び有機物濃度が許容範囲内になるまで照射
を続ける（ステップＳ６８）。尚、ステップＳ６７にお
ける有機物は、トルエン等の芳香族やｎ−ヘキサンなど
の高分子化合物である。そして不純物が許容範囲内にな
れば、ゲートバルブ４７を閉じて狭帯域化ボックス３１
を洗浄装置３５から取り外し（ステップＳ６９）、保管
する（ステップＳ７０）。

【００５９】一方、ステップＳ６５、Ｓ６７において、
所定時間が過ぎても不純物が許容範囲内にならない場合
には、酸素無添加の洗浄レーザ光５９の照射のみでは、
完全な洗浄が行なえないと判定する。そして、狭帯域化
ボックス３１を洗浄装置３５から取り外し、内部の光学
部品３２，３３をホルダ３８から取り去る（ステップＳ
７１）。そして、光学部品３２，３３を内部に配置しな
い狭帯域化ボックス３１を洗浄装置３５に装着し（ステ
ップＳ７２）、ゲートバルブ４７を開いて狭帯域化ボッ
クス３１内部に窒素を供給する（ステップＳ７３）。窒
素の供給は、内部の不純物が許容範囲内となるまで続け
る（ステップＳ７４）。そして、例えば図１２における
ステップＳ１７に移り、狭帯域化ボックス３１内部に、
窒素及び酸素からなる酸素混合ガスを供給し、洗浄レー
ザ光５９を狭帯域化ボックス３１内部に照射する。以下
のステップは、図１２に示したものと同様である。この
とき、他の実施形態で説明したように、キセノンランプ
６１による洗浄（ステップＳ５０）や、グローブボック
ス５６の使用（ステップＳ３１）を省略してもよい。

【００６０】以上説明したように第５実施形態によれ
ば、フッ素分子レーザ装置に用いられる筐体３１の洗浄
において、シリコン系物質及び硫黄化合物が発見されな
い場合に限り、酸素添加状態での洗浄レーザ光５９の照
射を省略している。これにより、洗浄工程が短縮され
る。尚、上記各実施形態の説明では、洗浄レーザ光５９
照射時に、筐体内部に封入するガスとして窒素を例示し
たが、例えばヘリウムなどの不活性ガスでもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的なエキシマレーザ装置又はフッ素分子レ
ーザ装置の構成図。

【図２】第１実施形態に係る洗浄の手順を示すフローチ
ャート。

【図３】狭帯域化ボックスを装着した洗浄装置の構成
図。

【図４】ＡｒＦエキシマレーザ光による有機物の分解結
果を示すグラフ。

【図５】ＡｒＦエキシマレーザ光による有機物の分解結
果を示すグラフ。

【図６】ＡｒＦエキシマレーザ光による有機物の分解結
果を示すグラフ。

【図７】フッ素分子レーザ光による有機物の分解結果を
示すグラフ。

【図８】第２実施形態に係る洗浄の手順を示すフローチ
ャート。

【図９】第３実施形態に係る洗浄の手順を示すフローチ
ャート。

【図１０】グローブボックスの説明図。

【図１１】狭帯域化ボックスを装着した洗浄装置の構成
図。

【図１２】第４実施形態に係る洗浄の手順を示すフロー
チャート。

【図１３】キセノンランプ付グローブボックスの構成
図。

【図１４】モレキュラーシーブを組み込むタイミングを
変えた洗浄手順のフローチャート。

【図１５】第５実施形態に係る洗浄の手順を示すフロー
チャート。

【図１６】従来技術に係る光学部品の洗浄装置の構成
図。

【図１７】エキシマレーザ装置の概略構成図。

【符号の説明】

１１：エキシマレーザ装置、１２：レーザチャンバ、１
４：主電極、１５：主電極、１６：フロントミラー、１
７：フロントウィンドウ、１９：リアウィンドウ、２
１：レーザ光、２２：ビームスプリッタ、２５：露光
機、３１：狭帯域化ボックス、３２：プリズム、３３：
グレーティング、３５：洗浄装置、３６：洗浄レーザ装
置、３７：入射口、３８：ホルダ、３９：モニタボック
ス、４０：ビームスプリッタ、４１：反射ミラー、４
２：パルスエネルギー測定装置、４３：波長測定装置、
４４：光路ミラー、４５：光路カバー、４６：パージボ
ンベ、４７：ゲートバルブ、４８：洗浄カバー、４９：
真空ポンプ、５０：窒素ボンベ、５１：酸素混合ボン
ベ、５２：有機物検出器、５３：水分検出器、５４：酸
素濃度検出器、５５：散乱光学部品、５６：グローブボ
ックス、５７：グローブ、５８：グローブボックスボン
ベ、５９：洗浄レーザ光、６０：テーブル、６１：キセ
ノンランプ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 住谷 明 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 内野 郁夫 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 渡部 武人 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 若林 理 神奈川県平塚市万田1200 ギガフォトン株 式会社内 Ｆターム(参考） 3B116 AA26 AB53 BC01 5F072 AA04 AA06 JJ20 KK07 KK15 KK18 KK21 RR05 SS06

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザ光(21)が内部を透過するレーザ装
   置用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 筐体(31,39,45)内部を酸素を含む酸素混合ガス雰囲気と
   し、光学部品(32,33)を設置しない状態で洗浄レーザ光
   (59)を筐体(31,39,45)内部に照射する酸素添加洗浄工程
   (S17)を備えたことを特徴とするレーザ装置用筐体(31,3
   9,45)の洗浄方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のレーザ装置用筐体(31,
   39,45)の洗浄方法において、 前記酸素添加洗浄工程(S17)の後に、 光学部品(32,33)を筐体(31,39,45)内部に組み込む光学
   部品組込工程(S23)を備えたことを特徴とするレーザ装
   置用筐体(31,39,45)の洗浄方法。
3. 【請求項３】 請求項２に記載のレーザ装置用筐体(31,
   39,45)の洗浄方法において、 前記光学部品組込工程(S23)の後に、筐体(31,39,45)内
   部に低反応性のパージガスを封止して保管する保管工程
   (S24)を備えたことを特徴とするレーザ装置用筐体(31,3
   9,45)の洗浄方法。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載のレーザ
   装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 前記光学部品組込工程(S23)の後に、 酸素を含まないパージガス雰囲気中で洗浄レーザ光(59)
   を筐体(31,39,45)内部に照射する酸素無添加洗浄工程(S
   39)を備えたことを特徴とするレーザ装置用筐体(31,39,
   45)の洗浄方法。
5. 【請求項５】 請求項４に記載のレーザ装置用筐体(31,
   39,45)の洗浄方法において、 前記光学部品組込工程(S23)の後に、 紫外線波長の光を発生する紫外線ランプを筐体(31,39,4
   5)内部に照射するランプ照射工程(S50)を備えたことを
   特徴とするレーザ装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載のレーザ
   装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 前記酸素添加洗浄工程(S17)の際に、散乱光学部品(55)
   を用いて洗浄レーザ光(59)を筐体(31,39,45)内部に散乱
   させることを特徴とするレーザ装置用筐体(31,39,45)の
   洗浄方法。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載のレーザ
   装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 前記酸素添加洗浄工程(S17)又は酸素無添加洗浄工程(S3
   9)の際に、 筐体(31,39,45)内部の有機物及び水分のうち少なくとも
   一方の量を検出し、この検出値が所定の許容範囲内にな
   るまで洗浄レーザ光(59)の照射を行なうことを特徴とす
   るレーザ装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法。
8. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載のレーザ
   装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 有機物及び水分のうち少なくともいずれか一方を吸着す
   る吸着材を筐体(31,39,45)内部に組み込む吸着材組込工
   程(S25)を備えたことを特徴とするレーザ装置用筐体(3
   1,39,45)の洗浄方法。
9. 【請求項９】 フッ素分子レーザ光(21)が内部を透過す
   るレーザ装置用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 筐体(31,39,45)内部の有機物の量を測定する有機物量測
   定工程(S65)を備え、 有機物の量が所定の値を越えない場合には、 筐体(31,39,45)内部に光学部品(32,33)を組み付ける光
   学部品(32,33)組付工程(S61)と、 前記光学部品組込工程(S61)の後に、筐体(31,39,45)内
   部を酸素を含まないパージガス雰囲気とし、洗浄レーザ
   光(59)を筐体(31,39,45)内部に照射する酸素無添加洗浄
   工程(S66)とを備えたことを特徴とするレーザ装置用筐
   体(31,39,45)の洗浄方法。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載のレーザ装置用筐体(3
    1,39,45)の洗浄方法において、 前記有機物量測定工程(S65)において、有機物の量が所
    定の値を越えた場合には、筐体(31,39,45)内部の光学部
    品(32,33)を取り外す光学部品除去工程(S71)と、 筐体(31,39,45)内部を酸素を含む酸素混合ガス雰囲気と
    し、光学部品(32,33)を設置しない状態で、洗浄レーザ
    光(59)を筐体(31,39,45)内部に照射する酸素添加洗浄工
    程(S17)とを備えたことを特徴とするレーザ装置用筐体
    (31,39,45)の洗浄方法。
11. 【請求項１１】 請求項９又は１０に記載のレーザ装置
    用筐体(31,39,45)の洗浄方法において、 前記有機物がシリコン系物質及び硫黄化合物のうち少な
    くとも一方であることを特徴とするレーザ装置用筐体(3
    1,39,45)の洗浄方法。