JP2003270409A - 光拡散フイルム、反射防止フイルム、偏光板および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像表示装置の広視野角化、特に液晶表
示装置のパネル下方向の階調反転および外光の写り込み
防止を高度に実現しする。さらに、高精細液晶表示装置
でも呆けのない画像を実現する。 【解決手段】 透明基材および光拡散層を有する光拡散
フイルムにおいて、光拡散層を、ゴニオフォトメータの
散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０
°の散乱光強度が０．０１乃至０．２％の範囲となるよ
うに調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明基材および光
拡散層を有する光拡散フイルムに関する。また、本発明
は、透明基材、光拡散層および低屈折率層を、この順序
で有する反射防止フイルムにも関する。さらに、本発明
は、偏光膜の両面に保護膜が設けられている偏光板にも
関する。さらにまた、本発明は、光拡散フイルム、反射
防止フイルムまたは偏光板を用いた画像表示装置にも関
する。

【０００２】

【従来の技術】一般に液晶表示装置は、偏光板と液晶セ
ルから構成されている。液晶表示装置の表示品位上の欠
点は、視野角と外光の写り込みである。視野角に関して
は、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置にお
いて、特開平８−５０２０６号公報、特開平７−１９１
２１７号公報、およびに欧州特許０９１１６５６Ａ２号
明細書に記載のように光学補償フイルムを偏光板と液晶
セルの間に挿入し、極めて広視野角の液晶表示装置が実
現されている。ところが、上記液晶表示装置はパネルの
下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。こ
の問題に対して、特許第２８２２９８３号公報には光拡
散手段を、特開２００１−３３７８３号公報には光軸変
換板を、そして特開２００１−５６４６１号公報には出
射光を拡散する光学手段を、視認側表面に設けることで
著しく表示品位が改善されることが提案されている。し
かしながら、これらに記載の具体的手段は高度に制御さ
れたレンズ構造、あるいは回折構造を有する光拡散手段
であり、高価、かつ大量生産が非常に困難であった。

【０００３】特開平６−１８７０６号、同１０−２０１
０３号の各公報には、透明基材フイルムの表面に、フィ
ラー（例、二酸化ケイ素（シリカ））を含む樹脂を塗工
して形成した安価、かつ大量生産可能な光拡散フイルム
が開示されている。特開平１１−１６０５０５号、同１
１−３０５０１０号、同１１−３２６６０８号、特開２
０００−１２１８０９号、同２０００−１８０６１１
号、および同２０００−３３８３１０号の各公報には、
その他の光拡散フイルムが開示されている。これらの光
拡散フイルムを用いても、表示品位の向上は不充分であ
った。近年では、液晶表示装置が画素が細かい高精細モ
ニター用途に用いられることが多くなっている。光拡散
フイルムを高精細モニターで使用すると、画像の呆けが
生じやすいとの別の大きな問題にも直面している。

【０００４】一方、外光の写り込みに関しては、反射防
止フイルムが一般に用いられる。反射防止フイルムは、
外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防
止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減す
るディスプレイの最表面に配置される。しかしながら、
従来の反射防止フイルムには上述のような視野角の問題
を解決しうるものではなく、外光の写り込みに優れ、か
つ視野角の問題を解決できるような反射防止フイルムが
望まれていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示装置の広視野角化、特にパネル下方向の階調反転お
よび外光の写り込み防止を高度に実現することである。
また、本発明の目的は、高精細液晶表示装置でも呆けの
ない画像を実現することでもある。さらに、本発明の目
的は、液晶パネルの厚みを厚くすることなく、視野角
（特に下方向視野角）を拡大することでもある。さらに
また、本発明の目的は、視角変化による、コントラスト
低下、階調または黒白反転、あるいは色相変化の発生を
防止することでもある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（５）の光拡散フイルム、下記（６）、（７）
の反射防止フイルム、下記（８）〜（１０）の偏光板、
および下記（１１）、（１２）の画像表示装置により達
成された。 （１）透明基材および光拡散層を有する光拡散フイルム
であって、光拡散層が、０．０１乃至０．２％の範囲
に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角
０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を有すること
を特徴とする光拡散フイルム。

【０００７】（２）光拡散層が、０．０２％以下の範囲
に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角
０°の光強度に対する６０°の散乱光強度を有する
（１）に記載の光拡散フイルム。 （３）光拡散層が、４０乃至９０％の範囲に、全ヘイズ
値を有する（１）に記載の光拡散フイルム。 （４）光拡散層が、３０乃至８０％の範囲に、内部拡散
ヘイズ値を有する（１）に記載の光拡散フイルム。 （５）光拡散層が、透光性樹脂および透光性微粒子から
なり、透光性微粒子が、透光性樹脂の屈折率とは異なる
屈折率を有する（１）に記載の光拡散フイルム。

【０００８】（６）透明基材、光拡散層および低屈折率
層を、この順序で有する反射防止フイルムであって、光
拡散層が、０．０１乃至０．２％の範囲に、ゴニオフォ
トメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に
対する３０°の散乱光強度を有し、反射防止フイルム
が、２．５％以下の範囲に、５度入射における鏡面反射
率の４５０乃至６５０ｎｍの波長領域での平均値を有す
ることを特徴とする反射防止フイルム。 （７）光拡散層が、０．０２％以下の範囲に、ゴニオフ
ォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度
に対する６０°の散乱光強度を有する（６）に記載の反
射防止フイルム。

【０００９】（８）偏光膜の両面に保護膜が設けられて
いる偏光板であって、保護膜の一方が（１）〜（５）に
記載の光拡散フイルムあるいは（６）または（７）に記
載の反射防止フイルムであることを特徴とする偏光板。 （９）（１）〜（５）に記載の光拡散フイルムあるいは
（６）または（７）に記載の反射防止フイルム、偏光膜
および液晶性化合物からなる光学異方性層を、この順序
で有する偏光板。 （１０）液晶性化合物がディスコティック化合物である
（９）に記載の偏光板。 （１１）（１）〜（５）に記載の光拡散フイルム、
（６）または（７）に記載の反射防止フイルムあるいは
（８）〜（１０）に記載の偏光板をディスプレイの最表
層に用いたことを特徴とする画像表示装置。 （１２）画像表示装置がＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣ
Ｂモード、ＩＰＳモードあるいはＥＣＢモードの液晶表
示装置である（１１）に記載の画像表示装置。

【００１０】

【発明の効果】本発明者は、ゴニオフォトメータで測定
される散乱光の強度分布と視野角改良効果に相関にある
ことを突き止めた。本発明者は、さらに研究を進め、ヘ
イズ値を制御し、特定の低屈折率層を積層した反射防止
フイルムにすることで、画像の呆けを犠牲にせずに、外
光の写り込みと視野角改良を達成した。すなわち、バッ
クライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置
された光拡散フイルムで拡散されればされるほど視野角
特性が良くなる。しかし、あまり拡散されすぎると、後
方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する。また、散乱
が大きすぎると、画像鮮明性が劣化する問題が生じる。
従って、散乱光強度分布をある範囲に制御することが必
要となる。

【００１１】本発明者がさらに検討した結果、所望の視
認特性を達成するには、散乱光プロファイルの出射角０
°の光強度に対して、特に視野角改良効果と相関ある３
０°の散乱光強度を一定の範囲に制御すれば良いことが
判明した。また、画像鮮明性の観点からは、画像の呆け
と相関がある６０°方向の散乱光強度を制御すれば良い
ことも判明した。以上の結果、本発明によれば、液晶表
示装置の広視野角化、特にパネル下方向の階調反転およ
び外光の写り込み防止を高度に実現できる。また、本発
明によれば、高精細液晶表示装置でも呆けのない画像を
実現することもできる。さらに、本発明によれば、液晶
パネルの厚みを厚くすることなく、視野角（特に下方向
視野角）を拡大することもできる。さらにまた、本発明
によれば、視角変化による、コントラスト低下、階調ま
たは黒白反転、あるいは色相変化の発生を防止すること
もできる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明では、所望の視認特性を達
成するために、散乱光プロファイルの出射角０°の光強
度に対して、特に視野角改良効果と相関ある３０°の散
乱光強度を０．０１乃至０．２％の範囲に調整する。３
０°の散乱光強度は、０．０２乃至０．１５％の範囲で
あることが好ましく、０．０３乃至０．１％の範囲であ
ることがさらに好ましい。また、画像鮮明性の観点から
は、画像の呆けと相関がある６０°方向の散乱光強度を
制御することがより好ましい。具体的には、散乱光プロ
ファイルの出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光
強度が、０．０２％以下であることが好ましく、０．０
１％以下であることがさらに好ましく、０．００５％以
下であることが最も好ましい。散乱光プロファイルは、
作成した光散乱フイルムについて、市販の自動変角光度
計（ＧＰ−５型、（株）村上色彩技術研究所製）を用い
て測定できる。

【００１３】視野角特性の改良には、ヘイズ値の調整も
重要である。内部散乱ヘイズとして、３０％乃至８０％
が好ましく、３５％乃至７０％が更に好ましく、４０％
乃至６０％が最も好ましい。内部散乱ヘイズを上昇させ
る方法としては、粒径が０．５乃至２．０μｍである粒
子濃度を上げる、もしくは膜厚を厚くする、さらには該
粒子の屈折率を上げるなどの方法がある。内部散乱ヘイ
ズとは別に、視認性の観点から表面凹凸により表面ヘイ
ズを設けることも必要であり、該内部散乱ヘイズと表面
ヘイズが存在する状態で、全ヘイズ値として４０％以上
であることで視野角改良効果が発揮され、４０％乃至９
０％が好ましく、４５％乃至８０％が更に好ましく、５
０％乃至７０％が最も好ましい。

【００１４】［光拡散フイルムの基本構成］図１は、光
拡散フイルムの基本構成を示す断面模式図である。図１
に示す光拡散フイルム（１０）は、透明基材フイルム
（２０）、光拡散層（３０）および低屈折率層（５０）
とを積層してなる。光拡散層（３０）は、透光性樹脂
（３１）中に、第１の透光性微粒子（４１）及び第２の
透光性微粒子（４２）とを含む。光拡散層（３０）は複
数の層からなっていてもよい。種類以上の透光性微粒子
を用いてもよい。

【００１５】光拡散層（３０）の透光性樹脂（３１）の
屈折率は、１．５１〜２．００であることが好ましい。
低屈折率層（５０）の屈折率は、１．３５〜１．４５で
あることが好ましい。透明基材フイルム（２０）として
好ましく用いられるトリアセチルセルロースの屈折率
は、１．４８である。光拡散層の屈折率を高くすること
で、低屈折率層の屈折率が１．３５〜１．４５の範囲で
あっても、優れた反射防止効果が得られる。光拡散層の
屈折率が小さすぎると、反射防止効果が低下する。光拡
散層の屈折率が大きすぎると、反射光の色味が強くな
る。

【００１６】［光拡散層］光拡散層は、透光性粒子と透
光性樹脂からなる。透光性粒子と透光性樹脂により散乱
光プロファイル及びヘイズ値を調整する。本発明では、
２種類以上の粒径の透光性微粒子を用いることが好まし
い。

【００１７】二種類以上の透光性微粒子は、いずれも、
光拡散層全体を構成する透光性樹脂との屈折率の差が
０．０２乃至０．２０であることが好ましい。屈折率差
が０．０２未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎ
て、光拡散効果が得られない。屈折率差が０．２０より
も大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フイルム全体が
白化する。屈折率差は、０．０３乃至０．１５がさらに
好ましく、０．０４乃至０．１３が最も好ましい。ま
た、前記透光性微粒子（４２）の粒子径は、０．５μｍ
乃至２．０μｍであることが好ましい。粒子径の調整に
より、前述した光散乱の角度分布を得ることができる。

【００１８】本発明では、表示品位を上げる（下方向視
野角改善）ために、ある程度入射した光を拡散させる事
が必要である。拡散効果が大きければ大きい程、視角特
性は向上する。しかし、表示品位という点で正面の明る
さを維持するためには、出来る限り透過率を高めること
が必要である。前記粒子径を０．５μｍ以下とした場
合、散乱の効果が大きく、視角特性は飛躍的に向上する
が、後方散乱が大きくなり明るさの減少が激しい。一
方、２．０μｍ以上とした場合は、散乱効果が小さくな
り、視角特性の向上は小さくなる。従って、前記粒子径
は、０．６μｍ乃至１．８μｍが好ましく、０．７μｍ
乃至１．７μｍが最も好ましい。

【００１９】また、前記透光性微粒子（４１）の粒子径
は２．５μｍ乃至５．０μｍであることが好ましい。こ
れにより、本発明に適した表面散乱を得ることができ
る。良好な表示品位を達成するには、外光の写り込みを
防止する事も必要である。表面のヘイズ値は、低いほど
表示のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得る
ことができるが、ヘイズ値が低すぎると映り込み及び面
ギラ（シンチレーション）と呼ばれるキラキラ光る輝き
が発生する。逆に、高すぎると白っぽくなり（白化；黒
濃度低下）、表面ヘイズ値ｈsは０．５＜ｈs＜３０が好
ましく、３≦ｈs≦２０が更に好ましく、７≦ｈs≦１５
が最も好ましい。この表面ヘイズ値を制御するには、微
粒子により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることが好ま
しい形態として用いられる。ヘイズ値（曇価）は、ＪＩ
Ｓ−Ｋ−７１０５に準じ村上色彩技術研究所製ＨＲ−１
００を用いてを測定出来る。

【００２０】前記粒子径を２．５μｍ以下とした場合、
表面凸凹は小さくなり、表面散乱の効果が小さく、外光
による写り込みを十分に抑えることが出来ない。一方、
５．０μｍ以上とした場合は、表面凸凹が大きくなり、
写り込みは抑えられるが、著しく白化し逆に表示品位を
落とすことになる。従って、前記粒子径は、２．２μｍ
乃至４．７μｍが好ましく、２．４μｍ乃至４．５μｍ
が最も好ましい。表面凸凹は、表面粗さＲａが１．２μ
ｍ以下であることが好ましく、０．８μｍ以下であるこ
とが更に好ましく、最も好ましくは、０．５μｍ以下で
ある。表面粗さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉ
ｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８０
０Ｎ、セイコーインスツルメント（株）製）を用いてを
測定出来る。

【００２１】前記透光性微粒子において、２種類以上の
粒子径の異なる透光性微粒子を用い、それら透光性微粒
子の混合を行なうことにより、表示品位に関わる視角特
性と外光の写り込みを各々独自に最適化することがで
き、透光性微粒子の混合比により細かい設定が可能とな
り、１種類の場合よりも制御が可能となり、様々な設計
が容易となる。

【００２２】前記透光性微粒子（４１）および（４２）
は、単分散の有機微粒子であっても、無機微粒子であっ
てもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばら
つきが少なくなり、曇価の設計が容易となる。前記透光
性微粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、
特に透明度が高く、透光性樹脂との屈折率差が前述のよ
うな数値になるものが好ましい。有機微粒子としては、
ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、
アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５
４）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボ
ネートビーズ（屈折率１．５７）、スチレンビーズ（屈
折率１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．
６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベ
ンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈
折率１．６８）等が用いられる。無機微粒子としては、
シリカビーズ（屈折率１．４４）、アルミナビーズ（屈
折率１．６３）等が用いられる。

【００２３】透光性微粒子の粒径は、前述のように０．
５〜５μｍのものを適宜選択して用いるとよく、透光性
樹脂１００質量部に対して５〜３０質量部含有させると
よい。

【００２４】上記のような透光性微粒子の場合には、樹
脂組成物（透光性樹脂）中で透光性微粒子が沈降し易い
ので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加
してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透
光性微粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に
悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ
以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して塗膜の透明
性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させ
るとよい。

【００２５】透光性樹脂としては、主として紫外線・電
子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹
脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合
したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。又、光
拡散層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好
ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜
１０μｍ、最も好ましくは３μｍ乃至７μｍとすると良
い。透光性樹脂の屈折率は、好ましくは１．５１〜２．
００であり、より好ましくは１．５１〜１．９０であ
り、更に好ましくは１．５１〜１．８５であり、特に好
ましくは１．５１〜１．８０である。なお、透光性樹脂
の屈折率は、透光性微粒子を含まずに測定した値であ
る。屈折率が小さすぎると反射防止性が低下する。さら
に、これが大きすぎると、反射光の色味が強くなり、好
ましくない。

【００２６】該透光性樹脂に用いるバインダーは、飽和
炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマ
ーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有
するポリマーであることがさらに好ましい。また、バイ
ンダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

【００２７】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−
シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウ
レタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレー
ト）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニル
ベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチ
ルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビ
ニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミ
ド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリ
ルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３
つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレ
ートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有す
るアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点
で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
トとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合
物が市販されており、特に好ましく用いられる。

【００２８】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶
解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応
により硬化することができる。

【００２９】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応に
より、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性
官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジ
リジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル
基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基およ
び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無
水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル
化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキ
シシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入
するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシ
アナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示
す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架
橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、
分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら
架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱するこ
とによって架橋構造を形成することができる。

【００３０】透光性樹脂は、上記バインダポリマーに加
えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成される
ことが好ましい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４
−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナ
フタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロ
キシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテル等
が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例
には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウ
ム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくと
も一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましく
は５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高
屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚ
ｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくと
も１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例とし
ては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｚｎ
Ｏ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これ
らの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。高屈
折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光
性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好まし
く、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

【００３１】透光性樹脂と透明基材フイルムが接する場
合、透光性樹脂を形成するための塗布液の溶剤は、防眩
性の発現および支持体と防眩層間との密着性の両立を図
るために、透明基材フイルム（例えばトリアセチルセル
ロース支持体）を溶解する少なくとも一種類以上の溶剤
と、透明基材フイルムを溶解しない少なくとも一種類以
上の溶剤から構成する。より好ましくは、透明基材フイ
ルムを溶解しない溶剤のうちのすくなくとも一種類が、
透明基材フイルムを溶解する溶剤うちの少なくとも一種
類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましく
は、透明基材フイルムを溶解しない溶剤のうち最も沸点
の高い溶剤と、透明基材フイルムを溶解する溶剤のう
ち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０℃以上で
あることであり、最も好ましくは５０℃以上であること
である。

【００３２】透明基材フイルム（好ましくはトリアセチ
ルセルロース）を溶解する溶剤として、炭素子数が３〜
１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジ
メトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタ
ン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３
−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒド
ロフラン、アニソールおよびフェネトール等、炭素数が
３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエ
チルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイ
ソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキ
サノン等、炭素数が３〜１２のエステル類：具体的に
は、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢
酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラク
トン等、２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的
には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチ
ル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン
酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエ
タノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセト
キシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコー
ル、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等が挙
げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み
合わせて用いることができる。透明基材を溶解する溶剤
としてはケトン系溶剤が好ましい。

【００３３】透明基材フイルム（好ましくはトリアセチ
ルセルロース）を溶解しない溶剤として、メタノール、
エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１
−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノー
ル、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、
シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチ
ルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキ
サノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタ
ノン、４−ヘプタノンが挙げられる。これらは１種単独
であるいは２種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【００３４】透明基材フイルムを溶解する溶剤の総量
（Ａ）と透明基材フイルムを溶解しない溶剤の総量
（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０
が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０で
あり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。

【００３５】上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物
の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物
の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によ
って硬化することができる。

【００３６】例えば、電子線硬化の場合には、コックロ
フワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア
変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各
種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、
好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する
電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノ
ンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫
外線等が利用できる。

【００３７】[低屈折率層]低屈折率層は、反射防止能付
与する目的で、支持体上に光拡散層を設けた側の最外層
に反射防止層として設けられる。低屈折率層の屈折率
は、上述のとおり好ましくは１．３５〜１．４５であ
る。低屈折率層の屈折率は、下記数式（Ｉ）を満すこと
が好ましい。 （ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３ ……数式（Ｉ） 式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₁は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４
５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。なお、上記数
式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式
（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在す
ることを意味している。

【００３８】本発明の低屈折率層には、熱硬化性または
電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物が硬化した含
フッ素樹脂が用いられる。これにより、フッ化マグネシ
ウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最
外層として用いても耐傷性に優れている。熱硬化性また
は電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物の屈折率と
しては１．３５以上１．４５以下が好ましい。硬化した
含フッ素樹脂の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜
０．１５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０
度である。このような架橋性含フッ素化合物としては、
パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘ
プタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）ト
リエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性
基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重
合体が挙げられる。

【００３９】含フッ素モノマー単位の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。

【００４０】架橋性基付与のためのモノマーとしてはグ
リシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架
橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの
他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スル
ホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例
えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレ
ート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリ
ルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、
架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号
公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示
されている。

【００４１】また、低屈折率層には、上記含フッ素モノ
マーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体だけ
でなく、これにその他のモノマーが共重合したポリマー
を用いてもよい。共重合してもよいその他のモノマーに
は特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プ
ロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン
等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチ
ルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エ
チレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導
体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α
−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニ
ルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類
（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘ
キシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アク
リロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００４２】低屈折率層に用いる含フッ素樹脂には、耐
傷性を付与するために、平均粒径が好ましくは０．１μ
ｍ以下、より好ましくは０．００１〜０．０５μｍのＳ
ｉの酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。反
射防止性の観点からは屈折率が低いほど好ましいが、含
フッ素樹脂の屈折率を下げていくと耐傷性が悪化する。
そこで、含フッ素樹脂の屈折率とＳｉの酸化物超微粒子
の添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率の
バランスの最も良い点を見出すことができる。Ｓｉの酸
化物超微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシ
リカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シ
リカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。

【００４３】反射防止フイルムは、トリアセチルセルロ
ース（ＴＡＣ）あるいはポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）のいずれかに対して常温常湿で測定した垂直
剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²〜＋
２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²であることが好ま
しい。より好ましくは−１００ｐｃ／ｃｍ〜＋１００ｐ
ｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ²
〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ましくは０ｐｃ／
ｃｍ²である。ここで、単位のｐｃ（ピコクーロン）
は、１０^-12クーロンである。さらに好ましくは、常温
１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−１００ｐｃ／ｃ
ｍ²〜＋１００ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−
５０ｐｃ／ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ま
しくは０ｐｃ／ｃｍ²である。

【００４４】垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りであ
る。測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で
２時間以上放置しておく。測定装置は測定サンプルを置
く台と相手のフイルムを保持して測定サンプルに上から
圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに
帯電量を測定するエレクトロメーターがつながってい
る。測定する防眩性反射防止フイルムを台に乗せ、ヘッ
ドにＴＡＣあるいはＰＥＴを装着する。測定部分を除電
したのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させる
ことを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯
電の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サ
ンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥
離帯電とする。

【００４５】相手フイルムや測定サンプルの種類によっ
てプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があ
るが、問題となるのは絶対値の大きさである。また、一
般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくな
る。本発明の防眩性反射防止フイルムはこの絶対値も小
さい。

【００４６】反射防止フイルムは、常温常湿及び常温１
０％ＲＨでの垂直剥離帯電の絶対値が小さいので防塵性
に優れる。垂直剥離帯電の値を上記の範囲とするには、
反射防止フイルム表面の各種元素の割合を調節すること
によって行われる。

【００４７】反射防止フイルムの表面抵抗値は、１×１
０¹¹Ω／□以上、好ましくは１×１０¹²Ω／□以上であ
る。表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されている円
電極法である。即ち、電圧印加後、１分後の電流値を読
み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。本発明では、表面抵
抗値を小さくすること、例えば１×１０¹⁰Ω／□以下に
することで防塵性（ゴミ付着防止性）を良くする方法と
は考え方が根本的に異なる。この方法は画像表示品位が
落ちるため採用せず、本発明では上記した方法で垂直剥
離帯電の絶対値を小さくしているので、表面抵抗値を小
さくする必要がなく、表面抵抗値を１×１０¹¹Ω／□以
上とすることができ画像表示品位が落ちない。

【００４８】反射防止フイルムは、５度入射における鏡
面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域で
の平均値が２．５％以下であり、１．２％以下が好まし
く、より好ましくは１．１％以下である。また、５度入
射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまで
の波長領域での平均値が２．５％以下であることが好ま
しく、より好ましくは２．３％以下である。

【００４９】上記５度入射における鏡面反射率、および
５度入射について説明する。５度入射における鏡面反射
率は、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対す
る法線方向−５度で反射した光の強度の割合であり、背
景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。防眩性反射
防止フイルムに適用する場合には、防眩性付与のために
設けた表面凹凸に起因する散乱光の分だけ、法線方向−
５度で反射した光の強度は弱くなる。従って、鏡面反射
率は防眩性と反射防止性の両方の寄与を反映する測定法
といえる。

【００５０】一方、５度入射における積分反射率とは、
サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する全て
の方向に反射した光の強度の積分値の割合である。反射
防止フイルムに適用する場合には、防眩性による反射光
の減少が起こらないため、反射防止性だけを反映する測
定が可能である。従って、上記の両方の反射率の４５０
ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値をそれぞ
れ２．５％以下（鏡面反射率）、２．５％以下（積分反
射率）とすることにより、防眩性と反射防止性を同時に
満足させることが可能になる。

【００５１】反射防止フイルムの５度入射における鏡面
反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での
平均値が２．５％を越えると、背景の映り込みが気にな
り、表示装置の表面フイルムに適用したときの視認性が
低下する。一方、反射防止フイルムの５度入射における
積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域
での平均値が２．５％を越えると、表示装置のコントラ
スト改善効果が少なくなり、防眩性付与のための表面凹
凸起因の散乱光により表示画面が白化し、表示装置の表
示品位が低下する。

【００５２】反射防止フイルムは、ＣＩＥ標準光源Ｄ６
５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９
７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊、ａ＊、ｂ＊値で定量化
したときに、それぞれＬ＊≦１０、０≦ａ＊≦２、−５
≦ｂ＊≦２の範囲内に入るように設計されていることが
好ましい。これを満たす正反射光の色味はニュートラル
な色味である。ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対
する正反射光の色味は、５度入射における波長３８０ｎ
ｍから７８０ｎｍの領域における鏡面反射率の実測値と
光源Ｄ６５の各波長における分光分布の積を算出して得
られた分光反射スペクトルから、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ
＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値をそれぞれ算出
することで定量化することができる。Ｌ＊値が１０より
大きいと、反射防止性が十分でない。ａ＊値が２より大
きいと反射光の赤むらさき色が強く、０未満では逆に緑
色が強くなり好ましくない。また、ｂ＊値が−５未満で
は青味が強く、２より大きいと黄色が強くなり好ましく
ない。

【００５３】このようなニュートラルな色味の反射光を
有し、且つ低反射率を有する反射防止フイルムは、低屈
折率層の屈折率と防眩層のバインダ素材の屈折率のバラ
ンスを最適化することで得られる。一般に３層以上の蒸
着、スパッタ等による光学薄膜による反射防止膜は、鏡
面反射率の平均値を０．３％以下まで低減でき、従って
Ｌ＊値も３以下にまで低減できるが、ａ＊値が１０以
上、ｂ＊値が−１０未満の値となり、反射光の色味が非
常に強いものとなっていたが、本発明の防眩性反射防止
フイルムではこの反射光の色味の点で大幅に改善されて
いる。

【００５４】［透明基材］透明基材の素材としては、透
明樹脂フイルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガ
ラスがある。透明樹脂フイルムとしては、トリアセチル
セルロース（ＴＡＣ）フイルム（屈折率１．４８）、ポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルム、ジアセ
チレンセルロースフイルム、アセテートブチレートセル
ロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイルム、ポリ
アクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂フイル
ム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフイル
ム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイルム、ポ
リメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトンフイル
ム、（メタ）アクリルニトリルフイルム等が使用でき
る。又、厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とす
る。透明基材は、偏光板の最表面に用いるため、偏光板
の保護フイルムとして一般に用いられているセルロース
アセテートフイルムを使用する事が好ましい。光散乱フ
イルムの透明基材フイルムとしては、透明性が高く、表
面が平滑なセルロースアセテートフイルムが好ましい。

【００５５】本発明では透明基材フイルムに、酢化度が
５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートを
使用することが特に好ましい。酢化度とは、セルロース
単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、Ａ
ＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の
試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従
う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、
２５０以上であることが好ましく、２９０以上であるこ
とがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロー
スエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数
平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体
的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７である
ことが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさら
に好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好まし
い。

【００５６】一般に、セルロースアシレートの２，３，
６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配さ
れるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾
向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸
基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル
基で置換されていることが好ましく、更には３３％以
上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセル
ロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以
上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以
外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブ
チロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイ
ル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測
定は、ＮＭＲによって求める事ができる。本発明のセル
ロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号に記
載の「００４３」〜「００４４」「実施例」［合成例
１］、「００４８」〜「００４９」［合成例２］、「０
０５１」〜「００５２」［合成例３］の方法で得られた
セルロースアセテートを用いることができる。

【００５７】ソルベントキャスト法によりセルロースア
セテートフイルムを製造することが好ましい。ソルベン
トキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に
溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素
原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２
のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭
化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテ
ル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していても
よい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すな
わち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれか
を二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いること
ができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他
の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有
する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官
能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

【００５８】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。

【００５９】二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例
には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエ
タノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハ
ロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であるこ
とが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン
化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。
ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換され
ている割合は、２５乃至７５モル％であることが好まし
く、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３
５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃
至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロ
リドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以
上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

【００６０】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。非塩素系溶媒を用いることもでき、それについて
は公開技報２００１−１７４５に記載されているものが
あげられる。セルロースアセテートの量は、得られる溶
液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セ
ルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％である
ことがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後
述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、
常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶
媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃
度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。
具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧
容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点
以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら
攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ま
しくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０
乃至１１０℃である。

【００６１】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

【００６２】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。

【００６３】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、
冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時
間で割った値である。

【００６４】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／
分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１００
０℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

【００６５】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただ
し、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢
化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒に
より異なる。

【００６６】調製したセルロースアセテート溶液（ドー
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６
０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同
２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０
６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１
号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５
４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４
号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。

【００６７】調製したセルロースアシレート溶液（ドー
プ）を用いて２層以上の流延でフイルム化することも出
来る。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロー
スアシレートフイルムを作製することが好ましい。ドー
プは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させ
てフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が
１０〜４０％となるように濃度を調整することが好まし
い。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げて
おくことが好ましい。

【００６８】２層以上の複数のセルロースアシレート液
を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流
延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて
設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶
液をそれぞれ流延させて積層させながらフイルムを作製
してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開
平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、
などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口か
らセルロースアシレート溶液を流延することによっても
フイルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７
５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９
４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６
１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、に記
載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１
７号に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを
低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その
高，低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出す
セルロースアシレートフイルム流延方法でもよい。

【００６９】或いはまた２個の流延口を用いて、第一の
流延口により支持体に成型したフイルムを剥ぎ取り、支
持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでよ
り、フイルムを作製することでもよく、例えば特公昭４
４−２０２３５号に記載されている方法である。流延す
るセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、
異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定され
ない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせる
ために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液
を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロ
ースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、
染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収
層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。

【００７０】単層液では、必要なフイルム厚さにするた
めには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押
出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート
溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となっ
たり、平面性が不良であったりして問題となることが多
い。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液
を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時
に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた
面状のフイルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセル
ロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化
が達成でき、フイルムの生産スピードを高めることがで
きる。

【００７１】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。

【００７２】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。

【００７３】セルロースアセテートフイルムは、表面処
理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ
放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカ
リ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開
平７−３３３４３３号明細書に記載のように、下塗り層
を設けることも好ましく利用される。フイルムの平面性
を保持する観点から、これら処理においてセルロースア
セテートフイルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０
℃以下とすることが好ましい。偏光板の透明保護膜とし
て使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理
またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに
対するケン化処理を実施することが特に好ましい。表面
エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、
６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好
ましい。

【００７４】以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に
説明する。フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、
酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われ
ることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリ
ウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イ
オンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好
ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ま
しい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好
ましく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。生産性の
観点から、アルカリ液を塗布し、鹸化処理後に水洗によ
りフイルム表面よりアルカリ除去する事が好ましい。濡
れ性の観点から、塗布溶媒としてはＩＰＡ、ｎ−ブタノ
ール、メタノール、エタノール等のアルコール類が好ま
しく、アルカリ溶解の助剤として水、プロピレングリコ
ール、エチレングリコール、等を加える事が好ましく用
いられる。固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応
用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記
載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求
めることができる。本発明のセルロースアセテートフイ
ルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的
には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロ
ースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイル
ム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム
表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、
計算によりフイルムの表面エネルギーを算出出来る。

【００７５】［液晶化合物からなる光学異方性層］光学
異方性層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶でも、デ
ィスコティック液晶でも良く、またそれらが高分子液
晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋
され液晶性を示さなくなったものも含む。本発明の液晶
性化合物として最も好ましいのは、ディスコティック液
晶である。

【００７６】棒状液晶の好ましい例としては、特開２０
００−３０４９３２号公報に記載のものがあげられる。
本発明のディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅ
ｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１
巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン
誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈ
ｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９
０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎ
ｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０
頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及
びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏ
ｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎ
ｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６
巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザク
ラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを
挙げることができる。上記ディスコティック液晶は、一
般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基
やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖
として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示
す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向
を付与できるものであれば上記記載に限定されるもので
はない。また、本発明において、円盤状化合物から形成
したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要は
なく、例えば、前記低分子ディスコティツク液晶が熱、
光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反
応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失っ
たものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好まし
い例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。

【００７７】光学異方層は、ディスコティック構造単位
を有する化合物からなる複屈折を有する層であって、そ
してディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に
対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透
明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に変
化していることが好ましい。

【００７８】上記ディスコティック構造単位の面の角度
（傾斜角）は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光
学異方層の底面からの距離の増加と共に増加または減少
している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加するこ
とが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増
加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加
と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠
的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方
向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜
角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加
または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全
体として増加していることが好ましく、特に連続的に変
化することが好ましい。

【００７９】上記光学異方層は、一般にディスコティッ
ク化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜
上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチッ
ク相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコテ
ィックネマチック相）を維持して冷却することにより得
られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティッ
ク化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマ
ー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に
塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相
形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等に
より）、さらに冷却することにより得られる。本発明に
用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティッ
クネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０〜
３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。

【００８０】例えば、支持体側のディスコティック単位
の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配
向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理
方法の選択することにより、調整することができる。ま
た、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角
は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコテ
ィック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑
剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択
することにより調整することができる。更に、傾斜角の
変化の程度も上記選択により調整することができる。

【００８１】上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマ
ーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、
液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えら
れるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化
合物も使用することができる。これらの中で、重合性モ
ノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル
基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。
上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に
１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて
使用される。更に、好ましい重合性モノマーの例として
は、多官能アクリレートが挙げられる。官能基の数は３
官能以上が好ましく、４官能以上が更に好ましい。最も
好ましいのは６官能モノマーである。６官能モノマーの
好ましい例としては、ジペンタエリストリトールヘキサ
アクリレートが挙げられる。また、これら官能基数の異
なる多官能モノマーを混合して使用することも可能であ
る。

【００８２】上記ポリマーとしては、ディスコティック
化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物
に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマー
でも使用することができる。ポリマー例としては、セル
ロースエステルを挙げることができる。セルロースエス
テルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピ
ルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙
げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコテ
ィック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティ
ック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好まし
くは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量に
て使用される。本発明では、セルロースアセテートフイ
ルム、その上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成さ
れたディスコティック液晶からなり、配向膜が架橋され
たポリマーからなるラビング処理された膜であることが
好ましい。

【００８３】[配向膜]配向膜は、架橋された２種のポリ
マーからなる層である。少なくとも１種のポリマーが、
それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋剤により
架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。
上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマ
ーに官能基を導入したものを、光、熱、ＰＨ変化等によ
り、ポリマー間で反応させて形成するか；あるいは、反
応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に
架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋
することにより形成することができる。

【００８４】このような架橋は、通常上記ポリマーまた
はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持
体上に塗布したのち、加熱等を行なうことにより実施さ
れるが、最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いの
で、配向膜を透明支持体上に塗設した後から、最終の光
学補償シートを得るまでのいずれの段階で架橋させる処
理を行なっても良い。配向膜上に形成される円盤状構造
を有する化合物（光学異方層）の配向性を考えると、円
盤状構造を有する化合物の配向させたのちに、充分架橋
を行なうことも好ましい。すなわち、透明支持体上に、
ポリマー及び該ポリマーを架橋することができる架橋剤
を含む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後（一般に
架橋が行なわれるが、加熱温度が低い場合にはディスコ
ティックネマチック相形成温度に加熱された時に更に架
橋が進む）、ラビング処理を行なって配向膜を形成し、
次いでこの配向膜上に円盤状構造単位を有する化合物を
含む塗布液を塗布し、ディスコティックネマチック相形
成温度以上に加熱した後、冷却して光学異方層を形成す
る。

【００８５】本発明の配向膜に使用されるポリマーは、
それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋
されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論
両方可能なポリマーもある。上記ポリマーの例として
は、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリ
ル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポ
リビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポ
リ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニ
ルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビ
ニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボ
キシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン
及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリ
ング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリ
マーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビ
ルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性
ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール
及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビ
ルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げるこ
とができる。

【００８６】上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコー
ル又は変性ポリビニルアルコールが好ましく、重合度の
異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコ
ールを２種類併用することが最も好ましい。ポリビニル
アルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のも
のであり、一般に鹸化度８０〜１００％のものであり、
より好ましくは鹸化度８５乃至９５％のものである。重
合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。
変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したも
の（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）
₃ 、Ｎ（ＣＨ₃ ）₃ ・Ｃｌ、Ｃ₉ Ｈ₁₉ＣＯＯ、ＳＯ₃Ｎ
ａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅等が導入される）、連鎖移動により変性し
たもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ
₁₂Ｈ₂₅等が導入されている）、ブロック重合による変性
をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮ
Ｈ₂ 、ＣＯＯＲ、Ｃ₆ Ｈ₅ 等が導入される）等のポリビ
ニルアルコールの変性物を挙げることができる。これら
の中で、鹸化度８０〜１００％の未変性乃至変性ポリビ
ニルアルコールであり、より好ましくは鹸化度８５乃至
９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアル
コールである。これら変性ポリマーの合成方法、可視吸
収スペクトル測定、および導入率ｙの決定方法等は、特
開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載がある。

【００８７】上記ポリビニルアルコール等のポリマーと
共に使用される架橋剤の具体例として、下記のものを挙
げることができるが、これらは上記水溶性ポリマー、特
にポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール
（上記特定の変性物も含む）、と併用する場合に好まし
い。例えば、アルデヒド類（例、ホルムアルデヒド、グ
リオキザール及びグルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロー
ル化合物（例、ジメチロール尿素及びメチロールジメチ
ルヒダントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジ
ヒドロキシジオキサン）、カルボキシル基を活性化する
ことにより作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナ
フタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−
クロロピリジニウム及び１−モルホリノカルボニル−３
−（スルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物
（例、１、３、５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ
−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン及びＮ，
Ｎ’−メチレンビス−［βー（ビニルスルホニル）プロ
ピオンアミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４−
ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン）、イソオ
キサゾール類、及びジアルデヒド澱粉、などを挙げるこ
とができる。これらは、単独または組合せて用いること
ができる。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアル
デヒド類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好まし
い。

【００８８】架橋剤としては、特に限定はなく、添加量
は、耐湿性に関しては、多く添加した方が良化傾向にあ
る。しかし、配向膜としての配向能が、ポリマーに対し
て５０質量％以上添加した場合に低下することから、
０．１〜２０質量％が好ましく、特に０．５〜１５質量
％が好ましい。本発明の配向膜は、架橋反応が終了した
後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる
が、その架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下で
あることが好ましく、特に０．５質量％以下であること
が好ましい。配向膜中に１．０質量を超える量で架橋剤
が含まれていると、充分な耐久性が得られない。即ち、
液晶表示装置に使用した場合、長期使用、あるいは高温
高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、レチキュレー
ションが発生することがある。

【００８９】配向膜は、基本的に、配向膜形成材料であ
る、上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布し
た後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理すること
により形成することができ、架橋反応は、前記のよう
に、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって
も良い。そして、前記のポリビニルアルコール等の水溶
性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗
布液は消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒と水の混
合溶媒とすることが好ましく、その比率は質量比で水：
メタノールが０：１００〜９９：１が一般的であり、
０：１００〜９１：９であることが好ましい。これによ
り、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の
層表面の欠陥が著しく減少する。塗布方法としては、ス
ピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテ
ンコーティング法、エクストルージョンコーティング
法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることが
できる。特にＥ型塗布法が好ましい。また、膜厚は０．
１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は２０℃ないし１１
０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成させるた
めには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１０
０℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうこ
とができる。好ましくは５分間乃至３０分間である。ｐ
Ｈも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ま
しく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．
５〜５．５で、特に５が好ましい。

【００９０】配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上
に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架
橋したのち、表面をラビング処理することにより得るこ
とができる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディ
スコティック化合物の配向方向を規定するように機能す
る。

【００９１】前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処
理工程として広く採用されている処理方法を利用するこ
とができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェ
ルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを
用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用い
ることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊
維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビング
を行うことにより実施される。

【００９２】［光学異方性層を塗設する透明支持体］透
明支持体は、高透過率なプラスティックフイルムであれ
ば特に制限はないが、偏光板の保護フイルムであるセル
ロースアセテートを用いることが好ましい。光学的に１
軸性でも二軸性であってもよい。光学異方性層を塗設す
る透明支持体は、それ自身が光学的に重要な役割を果た
すため、本発明の透明支持体のＲｅレターデーション値
を０乃至２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーシ
ョン値が７０乃至４００ｎｍに調節される事が好まし
い。液晶表示装置に二枚の光学的異方性セルロースアセ
テートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレター
デーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好まし
い。液晶表示装置に一枚の光学的異方性セルロースアセ
テートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレター
デーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ま
しい。

【００９３】なお、セルロースアセテートフイルムの複
屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００乃至０．００
２であることが好ましい。また、セルロースアセテート
フイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−
ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４であることが好まし
い。レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算
出する。 レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ 式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率
（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率である。 （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ 式（II）には、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最
大となる方向）の屈折率である。ｎｙは、フイルム面内
の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率であ
る。ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率である。ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。

【００９４】［偏光板］偏光板は、偏光膜およびその両
側に配置された二枚の保護フイルムからなる。一方の保
護フイルムとして、本発明の光拡散フイルム、反射防止
フイルムを用いることができる。他方の保護フイルム
は、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよ
い。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる
染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光
膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール
系フイルムを用いて製造する。光拡散フイルムの透明基
材やセルロースアセテートフイルムの遅相軸と偏光膜の
透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。偏光
板の生産性には保護フイルムの透湿性が重要であること
がわかった。 偏光膜と保護フイルムは水系接着剤で貼
り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フイルム中
を拡散することで、乾燥される。保護フイルムの透湿性
が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上す
るが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高
湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低
下する。

【００９５】偏光板の透湿性は、透明基材、ポリマーフ
イルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、
親疎水性、等により決定される。本発明の光拡散フイル
ム、反射防止フイルムを偏光板の保護フイルムとして用
いる場合、透湿性は１００乃至１０００ｇ／ｍ^２・２４
ｈｒｓである事が好ましく、３００乃至７００ｇ／ｍ^２
・２４ｈｒｓである事が更に好ましい。透明基材の厚み
は、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるい
は、延伸、圧縮により調整する事が出来る。使用する主
素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好まし
い範囲にすることが可能である。透明基材の自由体積
は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することが
出来る。この場合もまた、使用する主素材により透湿性
が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にする
ことが可能である。透明基材の親疎水性は、添加剤によ
り調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加
剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加
剤を添加することで透湿性を低くすることが出来る。上
記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有
する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能と
なる。

【００９６】本発明においては本発明の光拡散フイルム
あるいは反射防止フイルム、偏光子、液晶性化合物から
なる光学異方性層をこの順に積層した偏光板が好まし
い。光学異方性層は、ポリマーフイルム上に円盤状化合
物（ディスコティック化合物）、もしくは棒状液晶化合
物を含む層として形成されていても良い。本発明におい
ては液晶性化合物がディスコティック化合物であること
が好ましい。光学異方性層は、円盤状化合物（もしくは
棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定する
ことにより形成することが好ましい。円盤状化合物は、
一般に大きな複屈折率を有する。また、円盤状化合物に
は、多様な配向形態がある。従って、円盤状化合物を用
いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることが
できない光学的性質を有する光学異方層とすることがで
きる。円盤状化合物を用いた光学異方層については、特
開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９
号、同５６４６７０３号、西独特許公報３９１１６２０
Ａ１号の各明細書に記載がある。

【００９７】［Ｇぞう表示装置］本発明の光拡散フイル
ム、反射防止フイルム、または偏光板は、画像表示装置
に有利に用いられ、ディスプレイの最表層に用いること
が好ましい。画像表示装置には、液晶表示装置、有機エ
レクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレ
イパネルや陰極管表示装置が含まれる。液晶表示装置に
用いると、特に有効である。ＴＮ、ＶＡ、ＯＣＢ、ＩＰ
Ｓ及びＥＣＢモードの液晶表示装置は、液晶セルおよび
その両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セル
は、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。液晶表
示装置においては光学異方性層が、液晶セルと一方の偏
光板との間に、一枚配置されるか、あるいは液晶セルと
双方の偏光板との間に二枚配置される。

【００９８】液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、
またはＴＮモードであることが好ましい。ＶＡモードの
液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的
に垂直に配向している。

【００９９】ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液
晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電
圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモード
の液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加
えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチド
メイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９
７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９
７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加
時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチ
ドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶
セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）
記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セ
ル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれ
る。

【０１００】ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分
子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対
称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用い
た液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同
５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液
晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向して
いるため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補
償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ
(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれ
る。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速
いとの利点がある。

【０１０１】ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃
至１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セ
ルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用さ
れており、多数の文献に記載がある。

【０１０２】

【実施例】［実施例１］光拡散層を構成する透光性樹脂
はシリカ超微粒子分散物含有ハードコート液（デソライ
トＺ７５２６ ＪＳＲ（株）製、屈折率１．５１）を１
００質量部、透光性微粒子として架橋ポリスチレンビー
ズ（綜研化学製 ＳＸ１３０Ｈ、粒径１．３μｍ、屈折
率１．６１）を２５質量部、架橋ポリスチレンビーズ
（綜研化学製 ＳＸ３５０Ｈ、粒径３．５μｍ、屈折率
１．６１）を６質量部、これらを混合してメチルエチル
ケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）
により固形分４５％になるように調整したものを、トリ
アセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）
製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、１．３μｍ架橋ポリスチレン
ビーズの塗布量が１．１ｇ／ｍ²になるように塗工、溶
剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ光拡散フイルムＡ−０１を作製し
た。このフイルムの光拡散層乾燥膜厚は３．５μｍであ
った。

【０１０３】（低屈折率層用塗布液の調製）屈折率１．
４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、Ｊ
ＳＲ（株）製）９３ｇにＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜
２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチ
ルエチルケトン（ＭＥＫ）分散物、日産化学（株）製）
８ｇ、およびメチルエチルケトン１００ｇを添加、攪拌
の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【０１０４】［実施例２］光拡散フイルムＡ−０１の光
拡散層上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを
用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１
０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形
成し、光拡散フイルムＡ−０２を作製した。

【０１０５】［実施例３］１．３μｍ架橋ポリスチレン
ビーズの塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＡ−０
２と同様に光拡散フイルムＡ−０３〜Ａ−０７を作製し
た。塗布量は第１表に示す通りである。

【０１０６】［実施例４］１．３μｍ架橋ポリスチレン
ビーズを１．５μｍシリカビーズ（日本触媒製シーホス
ターＫＥ−Ｐ１５０ 屈折率１．４４）に変更し、塗布
量を変更した以外は光拡散フイルムＡ−０２と同様に光
拡散フイルムＡ−０８〜Ａ−０９を作製した。塗布量は
第１表に示す通りである。

【０１０７】［実施例５］光拡散層を構成する透光性樹
脂は、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコー
ト塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）
製）を１００部、透光性樹脂（日本化薬製 ＤＰＨＡ
）を５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／
メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶
解した後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率
は１．６１であった。この溶液に透光性微粒子として、
ポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製 ＭＸ
１５０、粒径１．５μｍ、屈折率１．４９）を１７質量
部、およびポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化
学製、ＭＸ３００ 粒径３．０μｍ、屈折率１．４９）
を７質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メ
チルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形
分５０％になるように調整したものを、トリアセチルセ
ルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−
８０Ｕ）上に、１．５μｍポリメチルメタクリレート系
ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ²になるように塗工、溶
剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ光拡散フイルムＢ−０１を作製し
た。このフイルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであ
った。

【０１０８】［実施例６］光拡散フイルムＢ−０１の光
拡散層上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを
用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１
０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形
成し、光拡散フイルムＢ−０２を作製した。

【０１０９】［実施例７］１．５μｍポリメチルメタク
リレート系ビーズの塗布量を変更した以外は光拡散フイ
ルムＢ−０２と同様に光拡散フイルムＢ−０３〜Ｂ−０
６を作製した。塗布量は第２表に示す通りである。

【０１１０】［実施例８］１．５μｍポリメチルメタク
リレート系ビーズを５．０μｍポリメチルメタクリレー
ト系ビーズに変更した以外は光拡散フイルムＢ−０２と
同様に光拡散フイルムＢ−０７を作製した。

【０１１１】［実施例９］１．５μｍポリメチルメタク
リレート系ビーズを１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズ
に変更し、塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＢ−
０２と同様に光拡散フイルムＢ−０８〜Ａ−０９を作製
した。塗布量は第２表に示す通りである。

【０１１２】［実施例１０］１．５μｍポリメチルメタ
クリレート系ビーズをメラミンホルムアルデヒド系ビー
ズ（日本触媒製、粒径０．５μｍ、屈折率１．６８）に
変更し、塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＢ−０
２と同様に光拡散フイルムＢ−１０を作製した。塗布量
は第２表に示す通りである。

【０１１３】（光拡散フイルムの評価）得られた光拡散
フイルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を
第１表及び第２表に示す。

【０１１４】（１）鏡面反射率 分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプタ
ーＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波
長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡
面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を
算出し、反射防止性を評価した。

【０１１５】（２）ヘイズ 得られたフイルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。

【０１１６】（３）散乱光プロファイルの評価 自動変角光度計ＧＰ−５型（(株)村上色彩技術研究所
製）を用いて、入射光に対して光拡散フイルムを垂直に
配置し、全方位に渡って散乱光プロファイルを測定し
た。出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度、
出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光強度を求め
た。図２は、実施例２で作製した光拡散フイルム（Ａ−
０２）の散乱プロファイルである。図２において、同心
円状の間隔は対数である。

【０１１７】次に、上記実施例の光拡散フイルムを用い
て偏光板を作成し、液晶表示装置での評価を実施した。

【０１１８】（視認側偏光板の作製）延伸したポリビニ
ルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作
製した。光拡散フイルムＡ−０１〜０９及びＢ−０１〜
１０に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤
を用いて、光拡散フイルムの透明基材（トリアセチルセ
ルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り
付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有
する光学補償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイル
ム製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着
剤を用いて、フイルム支持体が偏光膜側となるように反
対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板ＰＡ−
０１〜０９及びＰＢ−０１〜１０を作製した。

【０１１９】（バックライト側偏光板の作製）延伸した
ポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏
光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフイル
ム（富士写真フイルム製 フジタックＴＤ８０）に鹸化
処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、
偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からな
る光学異方性層を有する光学補償フイルムＷＶＳＡ１２
Ｂ（富士写真フイルム製）にケン化処理を行い、ポリビ
ニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテー
トフイルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付け
た。このようにしてバックライト側偏光板を作製した。

【０１２０】［実施例１１］ＴＮ型液晶セルを使用した
液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設け
られている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板ＰＡ
−０１〜０９及びＰＢ−０１〜１０を、それぞれ光学補
償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、
観察者側に貼り付けた。またバックライト側には、光学
補償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して
バックライト側偏光板を貼り付けた。観察者側の偏光板
の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏ
モードとなるように配置した。作製した液晶表示装置に
ついて、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ
社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）ま
での８段階で視野角を測定した。

【０１２１】また、液晶表示装置に画像を表示させ、下
記の３段階で画像の呆けを評価した。 画像の呆けが全く判らない：Ａ 画像がわずかに呆ける： Ｂ 画像の呆けが認識できる： Ｃ 結果を第１表及び第２表に示す。

【０１２２】

【表１】

【０１２３】

【表２】

【０１２４】

【表３】

【０１２５】

【表４】

【０１２６】第１表及び第２表に示された結果から以下
のことが明らかである。３０°／０°の散乱光強度比が
０．０１％以上の光拡散フイルムは、偏光板加工して液
晶表示装置に用いると、顕著な視野角改良効果が得られ
た。特に下方向及び左右方向の視野角が改良されている。
但し、３０°／０°の散乱光強度比が０．２％を越える
と視野角拡大効果は大きいが、画像に呆けがみられるよ
うになる。従って、３０°／０°の散乱光強度比が０．
０１％乃至０．２％の光拡散フイルムにより画像の呆け
が無く、液晶表示装置の広視野角化が達成できた。

【０１２７】更に表から明らかなように、低屈折率層を
積層して反射防止処理を施した光拡散フイルムは鏡面反
射率が２．５％以下と低く、優れた反射防止性を示して
いる。このように本発明の光拡散フイルム、反射防止フ
イルム、偏光板、液晶表示装置においては優れた視認性
を示している。

【図面の簡単な説明】

【図１】光拡散フイルムの基本構成を示す断面模式図で
ある。

【図２】実施例２で作製した光拡散フイルム（Ａ−０
２）の散乱プロファイルである。

【符号の説明】

１０ 光拡散フイルム ２０ 透明支持体 ３０ 光拡散層 ４１ マット粒子１ ４２ マット粒子２ ５０ 低屈折率層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA12 BA14 BA20 2H049 BA02 BA06 BA27 BA42 BB33 BB43 BB49 BB63 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA41Z GA06 GA13 GA16 LA16 2K009 AA04 AA12 BB28 CC09 CC24 4F100 AA20 AK12 AK17 AR00A AR00B AR00C AR00D BA02 BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D GB41 JN01A JN10D JN18C JN30B YY00B

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基材および光拡散層を有する光拡散
   フイルムであって、光拡散層が、０．０１乃至０．２％
   の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの
   出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を有す
   ることを特徴とする光拡散フイルム。
2. 【請求項２】 透明基材、光拡散層および低屈折率層
   を、この順序で有する反射防止フイルムであって、光拡
   散層が、０．０１乃至０．２％の範囲に、ゴニオフォト
   メータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対
   する３０°の散乱光強度を有し、反射防止フイルムが、
   ２．５％以下の範囲に、５度入射における鏡面反射率の
   ４５０乃至６５０ｎｍの波長領域での平均値を有するこ
   とを特徴とする反射防止フイルム。
3. 【請求項３】 偏光膜の両面に保護膜が設けられている
   偏光板であって、保護膜の一方が請求項１に記載の光拡
   散フイルムまたは請求項２に記載の反射防止フイルムで
   あることを特徴とする偏光板。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の光拡散フイルム、請求
   項２に記載の反射防止フイルムあるいは請求項３に記載
   の偏光板をディスプレイの最表層に用いた画像表示装
   置。