JP2003277380A - 光学活性３−キヌクリジノールの製造方法 - Google Patents
光学活性３−キヌクリジノールの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エナンチオ選択的に還元しうる錯体触媒を利
用し、３−キヌクリジノンから望ましい光学異性体の含
有率の高い３−キヌクリジノールを製造する方法を提供
する。 【解決手段】 ３−キヌクリジノンを還元して光学活性
３−キヌクリジノールを製造するに際して、光学活性２
座のホスフィン配位子とともに一般式（１） 【化１】 （但し式中Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって水素原子又は
アルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は同一又は異
なって水素原子、それぞれ置換基を有していてもよいア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Ｒ4と
Ｒ5は互いに連結してアルキレン基を形成してもよ
い。）で示される光学活性な１，２−エチレンジアミン
型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体と塩基
の存在下で水素添加することを特徴とする光学活性３−
キヌクリジノールの製造方法。
用し、３−キヌクリジノンから望ましい光学異性体の含
有率の高い３−キヌクリジノールを製造する方法を提供
する。 【解決手段】 ３−キヌクリジノンを還元して光学活性
３−キヌクリジノールを製造するに際して、光学活性２
座のホスフィン配位子とともに一般式（１） 【化１】 （但し式中Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって水素原子又は
アルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は同一又は異
なって水素原子、それぞれ置換基を有していてもよいア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Ｒ4と
Ｒ5は互いに連結してアルキレン基を形成してもよ
い。）で示される光学活性な１，２−エチレンジアミン
型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体と塩基
の存在下で水素添加することを特徴とする光学活性３−
キヌクリジノールの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品中間体とし
て有用な光学活性３−キヌクリジノールを安全且つ高収
率で製造する方法に関するものである。
て有用な光学活性３−キヌクリジノールを安全且つ高収
率で製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】天然に存在する有機化合物は、光学活性
体であるものが多く存在する。そのなかでも生理活性を
有する化合物では、望ましい活性は一方の光学異性体の
みが有することが多い。さらに、望ましい活性を有しな
い一方の光学異性体は、生体にとって有用な生理活性を
有しないばかりでなく、むしろ生体に対し毒性を有する
場合があることも知られている。そのため、安全な医薬
品の合成法として、目的化合物或いはその中間体として
高い光学純度を有する化合物を合成する方法の開発が望
まれている。
体であるものが多く存在する。そのなかでも生理活性を
有する化合物では、望ましい活性は一方の光学異性体の
みが有することが多い。さらに、望ましい活性を有しな
い一方の光学異性体は、生体にとって有用な生理活性を
有しないばかりでなく、むしろ生体に対し毒性を有する
場合があることも知られている。そのため、安全な医薬
品の合成法として、目的化合物或いはその中間体として
高い光学純度を有する化合物を合成する方法の開発が望
まれている。
【０００３】３−キヌクリジノールは、種々の医薬中間
体として用いられている化合物であるが、不斉炭素を有
するため、光学異性体が存在する。
体として用いられている化合物であるが、不斉炭素を有
するため、光学異性体が存在する。
【０００４】現在、光学活性な３−キヌクリジノール
は、３−キヌクリジノンのケトンを還元することにより
得られるラセミ体の３−キヌクリジノールの光学分割に
よる製造方法が主たるものであった。ラセミ体を光学分
割するため、望ましいエナンチオマーの収率は、最大で
もケトン体から50%の収率でしか得られず、望まないエ
ナンチオマーは、廃棄物となるなどの問題があった。
は、３−キヌクリジノンのケトンを還元することにより
得られるラセミ体の３−キヌクリジノールの光学分割に
よる製造方法が主たるものであった。ラセミ体を光学分
割するため、望ましいエナンチオマーの収率は、最大で
もケトン体から50%の収率でしか得られず、望まないエ
ナンチオマーは、廃棄物となるなどの問題があった。
【０００５】また、特開平9-194480号公報には、ロジウ
ム−ホスフィン錯体による３−キヌクリジノンの還元例
が開示されている。しかしながら同号公報においても３
−キヌクリジノンを特定の誘導体に転換しない場合に
は、同号公報に開示された技術を用いても、その光学収
率が1％以下しか得られず、また３−キヌクリジノンを
特定の誘導体に転換した場合にも、煩雑な製造工程が必
要であった。従って、簡便でしかも高収率で３−キヌク
リジノンから光学活性３−キヌクリジノールの製造方法
が求められていた。
ム−ホスフィン錯体による３−キヌクリジノンの還元例
が開示されている。しかしながら同号公報においても３
−キヌクリジノンを特定の誘導体に転換しない場合に
は、同号公報に開示された技術を用いても、その光学収
率が1％以下しか得られず、また３−キヌクリジノンを
特定の誘導体に転換した場合にも、煩雑な製造工程が必
要であった。従って、簡便でしかも高収率で３−キヌク
リジノンから光学活性３−キヌクリジノールの製造方法
が求められていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記課題を解
決するものであり、その目的とするところは、エナンチ
オ選択的に還元しうる錯体触媒を利用し、３−キヌクリ
ジノンから望ましい光学異性体の含有率の高い３−キヌ
クリジノールを製造する方法を提供することにある。
決するものであり、その目的とするところは、エナンチ
オ選択的に還元しうる錯体触媒を利用し、３−キヌクリ
ジノンから望ましい光学異性体の含有率の高い３−キヌ
クリジノールを製造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、３−
キヌクリジノンを還元して光学活性３−キヌクリジノー
ルを製造するに際して、光学活性２座のホスフィン配位
子とともに一般式（１）
キヌクリジノンを還元して光学活性３−キヌクリジノー
ルを製造するに際して、光学活性２座のホスフィン配位
子とともに一般式（１）
【０００８】
【化３】
【０００９】（但し式中Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって
水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
は同一又は異なって水素原子、それぞれ置換基を有して
いてもよいアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示し、Ｒ4とＲ5は互いに連結してアルキレン基を形成し
てもよい。）で示される光学活性な１，２−エチレンジ
アミン型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体
と塩基の存在下で水素添加することを特徴とする光学活
性３−キヌクリジノールの製造方法に関するものであ
る。
水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
は同一又は異なって水素原子、それぞれ置換基を有して
いてもよいアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示し、Ｒ4とＲ5は互いに連結してアルキレン基を形成し
てもよい。）で示される光学活性な１，２−エチレンジ
アミン型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体
と塩基の存在下で水素添加することを特徴とする光学活
性３−キヌクリジノールの製造方法に関するものであ
る。
【００１０】より好ましくは、上記発明における光学活
性ルテニウム（II）錯体が、一般式（２）
性ルテニウム（II）錯体が、一般式（２）
【００１１】
【化４】
【００１２】（但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び
Ｒ6は前記定義と同義であり、Ｒ7は置換基を有してもよ
いアリール基、Ｒ8、Ｒ9は同一または異なって水素原子
又はアルキル基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、
アシルオキシ基又はアセトアセトネート基を示す。）で
示される光学活性ルテニウム（II）錯体であるであるこ
とを特徴とする光学活性３−キヌクリジノールの製造方
法に関するものである。
Ｒ6は前記定義と同義であり、Ｒ7は置換基を有してもよ
いアリール基、Ｒ8、Ｒ9は同一または異なって水素原子
又はアルキル基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、
アシルオキシ基又はアセトアセトネート基を示す。）で
示される光学活性ルテニウム（II）錯体であるであるこ
とを特徴とする光学活性３−キヌクリジノールの製造方
法に関するものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる基質は、化学
式（３）
式（３）
【００１４】
【化５】
【００１５】により示される３−キヌクリジノンであ
る。本発明に用いられる基質として、３−キヌクリジノ
ンは、塩酸塩などの無機塩、および酢酸塩などの有機塩
であってもよい。本発明に用いる錯体触媒の構造は、
（１）光学活性なジホスフィン型配位子部位、（２）II
価ルテニウム部位および（３）光学活性な１，２−エチ
レンジアミン誘導体部位の３つの部位に分けることがで
きる。
る。本発明に用いられる基質として、３−キヌクリジノ
ンは、塩酸塩などの無機塩、および酢酸塩などの有機塩
であってもよい。本発明に用いる錯体触媒の構造は、
（１）光学活性なジホスフィン型配位子部位、（２）II
価ルテニウム部位および（３）光学活性な１，２−エチ
レンジアミン誘導体部位の３つの部位に分けることがで
きる。
【００１６】本発明の錯体触媒の１，２−エチレンジア
ミン誘導体部位は一般式（１）
ミン誘導体部位は一般式（１）
【００１７】
【化６】
【００１８】（但し式中Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって
水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
は同一又は異なって水素原子、それぞれ置換基を有して
いてもよいアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示し、Ｒ4とＲ5は互いに連結してアルキレン基を形成し
てもよい。）で示される。
水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
は同一又は異なって水素原子、それぞれ置換基を有して
いてもよいアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示し、Ｒ4とＲ5は互いに連結してアルキレン基を形成し
てもよい。）で示される。
【００１９】光学活性な１，２−エチレンジアミン型配
位子のＲ1及びＲ2は、同一または異なって水素原子又は
炭素数１〜６のアルキル基を示す。
位子のＲ1及びＲ2は、同一または異なって水素原子又は
炭素数１〜６のアルキル基を示す。
【００２０】前記一般式（１）中の、光学活性な１，２
−エチレンジアミン誘導体部位のＲ 3，Ｒ4，Ｒ5および
Ｒ6で表される部分は、置換基を有していてもよいアル
キル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Ｒ3，
Ｒ4，Ｒ5及びＲ6におけるアルキル基としては、炭素数
１〜１０のアルキル基が挙げられ、また「置換基」とし
ては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペ
ントキシ、ヘキソキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ
基、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子などが挙げ
られる。
−エチレンジアミン誘導体部位のＲ 3，Ｒ4，Ｒ5および
Ｒ6で表される部分は、置換基を有していてもよいアル
キル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Ｒ3，
Ｒ4，Ｒ5及びＲ6におけるアルキル基としては、炭素数
１〜１０のアルキル基が挙げられ、また「置換基」とし
ては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペ
ントキシ、ヘキソキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ
基、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子などが挙げ
られる。
【００２１】Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5及びＲ6における「置換基を
有していてもよいアリール基」としては、たとえばフェ
ニル、ナフチルなどがあげられ、その「置換基」として
は、たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ、ペントキシ、ヘキソキシなど炭素数１〜６のアルコ
キシ基、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなど炭素数１〜６のアルキル基、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子などがあげられる。
有していてもよいアリール基」としては、たとえばフェ
ニル、ナフチルなどがあげられ、その「置換基」として
は、たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ、ペントキシ、ヘキソキシなど炭素数１〜６のアルコ
キシ基、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなど炭素数１〜６のアルキル基、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子などがあげられる。
【００２２】置換基の数は特に限定されないが、通常１
〜３個が適当である。「置換基を有していてもよいアリ
ール基」として特に好ましいものは、フェニル基、炭素
数１〜６個のアルキル基または炭素数１〜６個のアルコ
キシ基で置換されたフェニル基があげられ、具体的なも
のとして２−，３−または４−メチルフェニル、２,３
−、３，４−または３,５−ジメチルフェニルなどをあ
げることができる。
〜３個が適当である。「置換基を有していてもよいアリ
ール基」として特に好ましいものは、フェニル基、炭素
数１〜６個のアルキル基または炭素数１〜６個のアルコ
キシ基で置換されたフェニル基があげられ、具体的なも
のとして２−，３−または４−メチルフェニル、２,３
−、３，４−または３,５−ジメチルフェニルなどをあ
げることができる。
【００２３】Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5およびＲ6における「置換基
を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」
としては、たとえばフェニル、ナフチルなどの炭素数６
〜１０のアリール基を有する、たとえばメチル、エチ
ル、プロピルなど炭素数１〜３のアルキル基があげら
れ、具体的にはベンジル、フェネチル、フェニルプロピ
ル、ナフチルメチルなどがあげられる。
を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」
としては、たとえばフェニル、ナフチルなどの炭素数６
〜１０のアリール基を有する、たとえばメチル、エチ
ル、プロピルなど炭素数１〜３のアルキル基があげら
れ、具体的にはベンジル、フェネチル、フェニルプロピ
ル、ナフチルメチルなどがあげられる。
【００２４】その「置換基」としては、たとえばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘ
キソキシなど炭素数１〜６のアルコキシ基、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなど炭素
数１〜６のアルキル基、塩素、臭素、ヨウ素などのハロ
ゲン原子などがあげられる。
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘ
キソキシなど炭素数１〜６のアルコキシ基、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなど炭素
数１〜６のアルキル基、塩素、臭素、ヨウ素などのハロ
ゲン原子などがあげられる。
【００２５】更にＲ4およびＲ5は互いに連結して、たと
えば炭素数４〜５のアルキレン、すなわちブチレン、ペ
ンチレンにより環構造を形成してもよい。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ
5およびＲ6として特に好ましいものは、水素、炭素数１
〜３のアルキル基、フェニル基、４−メトキシフェニル
基またはナフチル基などである。
えば炭素数４〜５のアルキレン、すなわちブチレン、ペ
ンチレンにより環構造を形成してもよい。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ
5およびＲ6として特に好ましいものは、水素、炭素数１
〜３のアルキル基、フェニル基、４−メトキシフェニル
基またはナフチル基などである。
【００２６】光学活性な１，２−エチレンジアミン型配
位子の好適例を示せば、１，２−ジフェニルエチレンジ
アミン、２，３−ジメチル−２,３−ブタンジアミン、
２，２−ジフェニル−１−メチルエチレンジアミン、
２，２−ジフェニル−１−イソプロピルエチレンジアミ
ン、２，２−ジフェニル−１−イソブチルエチレンジア
ミン、２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−１−メチ
ルエチレンジアミン、２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニ
ル）−１−イソプロピルエチレンジアミン、２，２−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）−１−イソブチルエチレンジ
アミン、１−ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェ
ニル）エチレンジアミン、２，２−ジナフチル−１−メ
チルエチレンジアミン、２，２−ジナフチル−１−イソ
プロピルエチレンジアミン、２，２−ジナフチル−１−
イソブチルエチレンジアミン、１，２−シクロヘキサン
ジアミン、１，２−シクロヘプタンジアミン等を挙げる
ことができる。
位子の好適例を示せば、１，２−ジフェニルエチレンジ
アミン、２，３−ジメチル−２,３−ブタンジアミン、
２，２−ジフェニル−１−メチルエチレンジアミン、
２，２−ジフェニル−１−イソプロピルエチレンジアミ
ン、２，２−ジフェニル−１−イソブチルエチレンジア
ミン、２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−１−メチ
ルエチレンジアミン、２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニ
ル）−１−イソプロピルエチレンジアミン、２，２−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）−１−イソブチルエチレンジ
アミン、１−ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェ
ニル）エチレンジアミン、２，２−ジナフチル−１−メ
チルエチレンジアミン、２，２−ジナフチル−１−イソ
プロピルエチレンジアミン、２，２−ジナフチル−１−
イソブチルエチレンジアミン、１，２−シクロヘキサン
ジアミン、１，２−シクロヘプタンジアミン等を挙げる
ことができる。
【００２７】光学活性なジホスフィン型配位子部位は光
学活性２座のホスフィン配位子であり、１，１’−ビナ
フチル−２，２’−ビスジフェニルホスフィン（通称Ｂ
ＩＮＡＰ）類、４−ジシクロホスフィノ−２−ジフェニ
ルホスフィノメチルメチル−Ｎ−メチル−１−ピロリジ
ンカルボキシアミド（通称ＭＣＣＰＭ）類、１−（１−
ジメチルアミノエチル）−１’，２−ビスジフェニルホ
スフィノフェロセン類等が挙げられるが、光学活性２座
のホスフィン配位子として１，１’−ビナフチル−２，
２’−ビスジフェニルホスフィン（ＢＩＮＡＰ類）の入
手が容易であり、１，１’−ビナフチル−２，２’−ビ
スジフェニルホスフィン（ＢＩＮＡＰ類）を導入した、
前記一般式（２）で表される１，１’−ビナフチル−
２，２’−ビスジフェニルホスフィンルテニウムハライ
ド（II）１，２−エチレンジアミン誘導体の錯体が最も
好ましい。
学活性２座のホスフィン配位子であり、１，１’−ビナ
フチル−２，２’−ビスジフェニルホスフィン（通称Ｂ
ＩＮＡＰ）類、４−ジシクロホスフィノ−２−ジフェニ
ルホスフィノメチルメチル−Ｎ−メチル−１−ピロリジ
ンカルボキシアミド（通称ＭＣＣＰＭ）類、１−（１−
ジメチルアミノエチル）−１’，２−ビスジフェニルホ
スフィノフェロセン類等が挙げられるが、光学活性２座
のホスフィン配位子として１，１’−ビナフチル−２，
２’−ビスジフェニルホスフィン（ＢＩＮＡＰ類）の入
手が容易であり、１，１’−ビナフチル−２，２’−ビ
スジフェニルホスフィン（ＢＩＮＡＰ類）を導入した、
前記一般式（２）で表される１，１’−ビナフチル−
２，２’−ビスジフェニルホスフィンルテニウムハライ
ド（II）１，２−エチレンジアミン誘導体の錯体が最も
好ましい。
【００２８】光学活性な１，１’−ビナフチル−２，
２’−ビスジフェニルホスフィン部分の具体的なものと
しては、１，１’−ビナフチル−２，２’−ビスジフェ
ニルホスフィンおよび１，１’−ビナフチル−２，２’
−ビス（ビス−４−メチルフェニル）ホスフィンなどを
挙げることができる。
２’−ビスジフェニルホスフィン部分の具体的なものと
しては、１，１’−ビナフチル−２，２’−ビスジフェ
ニルホスフィンおよび１，１’−ビナフチル−２，２’
−ビス（ビス−４−メチルフェニル）ホスフィンなどを
挙げることができる。
【００２９】光学活性な１，１’−ビナフチル−２，
２’−ビスジアリールホスフィン部分と光学活性な１，
２−エチレンジアミン誘導体部分の組み合わせによる種
々の錯体があり、一般式（２）
２’−ビスジアリールホスフィン部分と光学活性な１，
２−エチレンジアミン誘導体部分の組み合わせによる種
々の錯体があり、一般式（２）
【００３０】
【化７】
【００３１】（但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び
Ｒ6は前記定義と同義であり、Ｒ7は置換基を有してもよ
いアリール基、Ｒ8、Ｒ9は同一または異なって水素原子
又はアルキル基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、
アシルオキシ基又はアセトアセトネート基を示す。）で
示される。
Ｒ6は前記定義と同義であり、Ｒ7は置換基を有してもよ
いアリール基、Ｒ8、Ｒ9は同一または異なって水素原子
又はアルキル基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、
アシルオキシ基又はアセトアセトネート基を示す。）で
示される。
【００３２】前記一般式（２）において、Ｒ7で表され
る置換基を有していてもよいアリール基としては、たと
えばフェニル、ナフチルなどがあげられ、その「置換
基」としては、たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシなど炭素数１〜
６のアルコキシ基、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなど炭素数１〜６のアルキル
基、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子などがあげ
られる。置換基の数は特に限定されないが、通常１〜３
個が適当である。Ｒ7として特に好ましいものは、フェ
ニル基、炭素数１〜６個のアルキル基または炭素数１〜
６個のアルコキシ基で置換されたフェニル基があげら
れ、具体的なものとして２−，３−または４−メチルフ
ェニル、２,３−、３，４−または３,５−ジメチルフェ
ニルなどをあげることができる。
る置換基を有していてもよいアリール基としては、たと
えばフェニル、ナフチルなどがあげられ、その「置換
基」としては、たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシなど炭素数１〜
６のアルコキシ基、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなど炭素数１〜６のアルキル
基、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子などがあげ
られる。置換基の数は特に限定されないが、通常１〜３
個が適当である。Ｒ7として特に好ましいものは、フェ
ニル基、炭素数１〜６個のアルキル基または炭素数１〜
６個のアルコキシ基で置換されたフェニル基があげら
れ、具体的なものとして２−，３−または４−メチルフ
ェニル、２,３−、３，４−または３,５−ジメチルフェ
ニルなどをあげることができる。
【００３３】前記一般式（２）中の１，１’−ビナフチ
ル−２，２’−ビスジアリールホスフィン部位のＲ8及
びＲ9で示される置換基は、例えばアルキル基であり、
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素数１〜６のアルキル
基があげられ、特に炭素数１〜３のアルキル基が好まし
い。
ル−２，２’−ビスジアリールホスフィン部位のＲ8及
びＲ9で示される置換基は、例えばアルキル基であり、
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素数１〜６のアルキル
基があげられ、特に炭素数１〜３のアルキル基が好まし
い。
【００３４】前記一般式（２）において、ルテニウムハ
ライド（II）部位のＸで示される「ハロゲン原子」とし
ては、たとえばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが、
「アシルオキシ基」としては炭素数１〜１２程度の脂肪
族または芳香族カルボン酸から誘導されるアシルオキシ
基、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ベンゾ
イルオキシなどがあげられる。
ライド（II）部位のＸで示される「ハロゲン原子」とし
ては、たとえばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが、
「アシルオキシ基」としては炭素数１〜１２程度の脂肪
族または芳香族カルボン酸から誘導されるアシルオキシ
基、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ベンゾ
イルオキシなどがあげられる。
【００３５】前記一般式（２）で示される１，１’−ビ
ナフチル−２，２’−ビスジフェニルホスフィンルテニ
ウムハライド（II）１，２−エチレンジアミン錯体の好
適例としては、ジクロロ［（Ｓ）−２，２'−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）−１，１'−ビナフチル］
［（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエタンジアミン］ル
テニウム（II）が挙げられる。１，２−エチレンジアミ
ン誘導体として１，１−ビス（ｐ−メトキシフェニル）
−２−イソプロピルエタン−１，２−ジアミンを有する
ジクロロ［（Ｓ）−２，２'−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）−１，１'−ビナフチル］［（Ｓ）１，１−ビス
（ｐ−メトキシフェニル）−２−イソプロピルエタン−
１，２−ジアミン］ルテニウム（II）を用いることもで
き、これらのルテニウム錯体は、商業的に例えば関東化
学社から入手可能である。
ナフチル−２，２’−ビスジフェニルホスフィンルテニ
ウムハライド（II）１，２−エチレンジアミン錯体の好
適例としては、ジクロロ［（Ｓ）−２，２'−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）−１，１'−ビナフチル］
［（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエタンジアミン］ル
テニウム（II）が挙げられる。１，２−エチレンジアミ
ン誘導体として１，１−ビス（ｐ−メトキシフェニル）
−２−イソプロピルエタン−１，２−ジアミンを有する
ジクロロ［（Ｓ）−２，２'−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）−１，１'−ビナフチル］［（Ｓ）１，１−ビス
（ｐ−メトキシフェニル）−２−イソプロピルエタン−
１，２−ジアミン］ルテニウム（II）を用いることもで
き、これらのルテニウム錯体は、商業的に例えば関東化
学社から入手可能である。
【００３６】１，１’−ビナフチル−２，２’−ビスジ
フェニルホスフィンルテニウムハライド（II）１，２−
エチレンジアミン錯体として、ジクロロ［（Ｓ）−２，
２'−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１'−ビナフ
チル］［（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエタンジアミ
ン］ルテニウム（II）及びホスフィン、ジアミンそれぞ
れの鏡像体の組み合わせにより得られる錯体がとりわけ
好ましい。
フェニルホスフィンルテニウムハライド（II）１，２−
エチレンジアミン錯体として、ジクロロ［（Ｓ）−２，
２'−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１'−ビナフ
チル］［（Ｓ，Ｓ）−１，２−ジフェニルエタンジアミ
ン］ルテニウム（II）及びホスフィン、ジアミンそれぞ
れの鏡像体の組み合わせにより得られる錯体がとりわけ
好ましい。
【００３７】この反応で用いられる錯体触媒は、反応条
件、スケール、経済性により異なるが、基質である３−
キヌクリジノンに対して、当量比で約１／１０００〜１
／１００００００当量であり、好ましくは１／５０００
〜１／３００００当量である。
件、スケール、経済性により異なるが、基質である３−
キヌクリジノンに対して、当量比で約１／１０００〜１
／１００００００当量であり、好ましくは１／５０００
〜１／３００００当量である。
【００３８】添加する触媒の量が基質に対して１／１０
００当量より多く添加されても反応は完結するがその添
加効果は鈍化して経済的ではなく、又反応液から光学活
性３−キヌクリジノールを取り出す工程が困難になるた
め好ましくない。添加する触媒量が基質に対して１／１
００００００より少ない量では、３−キヌクリジノンか
ら３−キヌクリジノールへの反応が完結しないため好ま
しくない。
００当量より多く添加されても反応は完結するがその添
加効果は鈍化して経済的ではなく、又反応液から光学活
性３−キヌクリジノールを取り出す工程が困難になるた
め好ましくない。添加する触媒量が基質に対して１／１
００００００より少ない量では、３−キヌクリジノンか
ら３−キヌクリジノールへの反応が完結しないため好ま
しくない。
【００３９】反応に使用される塩基としては、アルカリ
金属の水酸化物或いは、アルカリ金属のアルコキシドが
用いられ、具体的には、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、ＫＯＣ
Ｈ3、ＫＯＣＨ（ＣＨ3）2、ＫＯＣ（ＣＨ3）3、ＮａＯ
Ｈ、Ｎａ2ＣＯ3、ＮａＯＣＨ3、ＮａＯＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2、ＮａＯＣ（ＣＨ3）3、ＬｉＯＨ、ＬｉＯＣ
Ｈ3、ＬｉＯＣＨ（ＣＨ3）2、ＬｉＯ（ＣＨ3）3などを
あげられる、得に好ましくはＫＯＨ、ＫＯＣ（Ｃ
Ｈ3）3、ＮａＯＨであり、これらの塩基の使用量は、基
質に対して当量比で０．０１〜１０当量であり、より好
ましくは０．０２〜０．５当量である。
金属の水酸化物或いは、アルカリ金属のアルコキシドが
用いられ、具体的には、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、ＫＯＣ
Ｈ3、ＫＯＣＨ（ＣＨ3）2、ＫＯＣ（ＣＨ3）3、ＮａＯ
Ｈ、Ｎａ2ＣＯ3、ＮａＯＣＨ3、ＮａＯＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2、ＮａＯＣ（ＣＨ3）3、ＬｉＯＨ、ＬｉＯＣ
Ｈ3、ＬｉＯＣＨ（ＣＨ3）2、ＬｉＯ（ＣＨ3）3などを
あげられる、得に好ましくはＫＯＨ、ＫＯＣ（Ｃ
Ｈ3）3、ＮａＯＨであり、これらの塩基の使用量は、基
質に対して当量比で０．０１〜１０当量であり、より好
ましくは０．０２〜０．５当量である。
【００４０】添加塩基は、本発明の必須要件であり、基
質に対する添加当量比が０．０１当量を下回ると高い収
率で光学活性３−キヌクリジノールを得ることが出来ず
好ましくない。添加塩基量が基質に対して１０当量より
多く添加した場合、反応生成物の中和を含めた３−キヌ
クリジノールの取出が困難になり好ましくない。
質に対する添加当量比が０．０１当量を下回ると高い収
率で光学活性３−キヌクリジノールを得ることが出来ず
好ましくない。添加塩基量が基質に対して１０当量より
多く添加した場合、反応生成物の中和を含めた３−キヌ
クリジノールの取出が困難になり好ましくない。
【００４１】本発明は通常溶媒の存在下行われる。使用
される溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プ
ロパノール、ブタノールなどのアルコール類であるが、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジクロロメタンなどとの混合溶媒を用い
ることも可能である。より好ましくは２−プロパノール
であり、理由は不明だが他の溶媒を使用するときより反
応収率が良い。
される溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プ
ロパノール、ブタノールなどのアルコール類であるが、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジクロロメタンなどとの混合溶媒を用い
ることも可能である。より好ましくは２−プロパノール
であり、理由は不明だが他の溶媒を使用するときより反
応収率が良い。
【００４２】溶媒の使用量としては、基質である３−キ
ヌクリジノンに対して１〜５００倍の容量であるが、好
ましくは２〜１０倍の容量である。
ヌクリジノンに対して１〜５００倍の容量であるが、好
ましくは２〜１０倍の容量である。
【００４３】また、反応温度は、通常−３０〜１００℃
であり、好ましくは０℃〜７０℃である。
であり、好ましくは０℃〜７０℃である。
【００４４】水素の圧力は、常圧から10ＭＰａの範囲で
任意に選択されるが、経済性および効率性の面からも、
0.3ＭＰa〜7.0ＭＰａが好ましい反応後は、常法、例え
ば抽出、再結晶、クロマトグラフィーなどの操作により
３−キヌクリジノールを単離精製することができる。
任意に選択されるが、経済性および効率性の面からも、
0.3ＭＰa〜7.0ＭＰａが好ましい反応後は、常法、例え
ば抽出、再結晶、クロマトグラフィーなどの操作により
３−キヌクリジノールを単離精製することができる。
【００４５】
【実施例】本発明の内容を実施例により更に詳細に説明
する。 実施例１ 200mlオートクレーブに、３−キヌクリジノン 5.0g (3
9.9 mmol)、t-BuOK 90mg (0.8mmol)、脱ガスした2-プロ
パノール 95mlおよび（Ｓ）−１，１'−ビナフチル−
２，２'−ビス（ジフェニル）ホスフィンルテニウムク
ロリド（II）（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−ジフェニルエチ
レンジアミン錯体 20.1mg（20μmol，S/C=2,000）を加
えた後に窒素ガスで容器内を置換した。次に容器内に水
素ガスを8.0MPa充填し、反応混合物を30℃で14時間攪拌
した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣に水及びトルエン
をそれぞれ30ml加え、抽出後、水層を濃縮乾固し、３−
キヌクリジノール 4.99gを得た。得られた生成物を分析
したところ、旋光度 +0.4905(C=2, 1mol/L HCl)、鏡像
体過剰率：53.1%ee(S)であった。
する。 実施例１ 200mlオートクレーブに、３−キヌクリジノン 5.0g (3
9.9 mmol)、t-BuOK 90mg (0.8mmol)、脱ガスした2-プロ
パノール 95mlおよび（Ｓ）−１，１'−ビナフチル−
２，２'−ビス（ジフェニル）ホスフィンルテニウムク
ロリド（II）（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−ジフェニルエチ
レンジアミン錯体 20.1mg（20μmol，S/C=2,000）を加
えた後に窒素ガスで容器内を置換した。次に容器内に水
素ガスを8.0MPa充填し、反応混合物を30℃で14時間攪拌
した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣に水及びトルエン
をそれぞれ30ml加え、抽出後、水層を濃縮乾固し、３−
キヌクリジノール 4.99gを得た。得られた生成物を分析
したところ、旋光度 +0.4905(C=2, 1mol/L HCl)、鏡像
体過剰率：53.1%ee(S)であった。
【００４６】実施例２
200mlオートクレーブに、３−キヌクリジノン 5.0g (3
9.9 mmol)、t-BuOK 90mg (0.8mmol)、脱ガスした2-プロ
パノール 95mlおよび（Ｓ）−１，１'−ビナフチル−
２，２'−ビス（ジフェニル）ホスフィンルテニウムク
ロリド（II）（Ｓ）−１，１−ビス（ｐ−メトキシフェ
ニル）−２−イソプロピルエタン−１，２−ジアミン錯
体 10.1mg（20μmol，S/C=4,385）を加えた後に窒素ガ
スで容器内を置換した。次に容器内に水素ガスを8.0MPa
充填し、反応混合物を30℃で63時間攪拌した。反応液を
減圧下で濃縮し、残渣に水及びトルエンをそれぞれ30ml
加え、抽出後、水層を濃縮乾固し、３−キヌクリジノー
ル 5.06gを得た。得られた生成物を分析したところ、旋
光度 +0.3925 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：42.5
%ee (S)であった。
9.9 mmol)、t-BuOK 90mg (0.8mmol)、脱ガスした2-プロ
パノール 95mlおよび（Ｓ）−１，１'−ビナフチル−
２，２'−ビス（ジフェニル）ホスフィンルテニウムク
ロリド（II）（Ｓ）−１，１−ビス（ｐ−メトキシフェ
ニル）−２−イソプロピルエタン−１，２−ジアミン錯
体 10.1mg（20μmol，S/C=4,385）を加えた後に窒素ガ
スで容器内を置換した。次に容器内に水素ガスを8.0MPa
充填し、反応混合物を30℃で63時間攪拌した。反応液を
減圧下で濃縮し、残渣に水及びトルエンをそれぞれ30ml
加え、抽出後、水層を濃縮乾固し、３−キヌクリジノー
ル 5.06gを得た。得られた生成物を分析したところ、旋
光度 +0.3925 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：42.5
%ee (S)であった。
【００４７】実施例３
錯体触媒の使用量を2.0mg（2μmol，S/C=20,000）とす
る以外は、実施例１と同様の操作を行い、20時間攪拌
し、後処理後、３−キヌクリジノール 5.0gを得た。得
られた生成物を分析したところ、旋光度 +0.4772 (C=2,
1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：51.7%ee(S)であった。
る以外は、実施例１と同様の操作を行い、20時間攪拌
し、後処理後、３−キヌクリジノール 5.0gを得た。得
られた生成物を分析したところ、旋光度 +0.4772 (C=2,
1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：51.7%ee(S)であった。
【００４８】実施例４
反応温度を８０℃とする以外は、実施例１と同様の操作
を行い、14時間攪拌し、後処理後、３−キヌクリジノー
ル 5.05gを得た。得られた生成物を分析したところ、旋
光度 +0.4225 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：45.8
%ee(S)であった。
を行い、14時間攪拌し、後処理後、３−キヌクリジノー
ル 5.05gを得た。得られた生成物を分析したところ、旋
光度 +0.4225 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：45.8
%ee(S)であった。
【００４９】実施例５
反応に使用したルテニウム錯体触媒を（Ｒ）−１，１'
−ビナフチル−２，２'−ビス（ジフェニル）ホスフィ
ンルテニウムクロリド（II）（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−
ジフェニルエチレンジアミン錯体とする以外は、実施例
１と同様の操作を行い、6.7時間攪拌し、後処理後、３
−キヌクリジノール 4.98gを得た。得られた生成物を分
析したところ、旋光度 -0.5015 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡
像体過剰率：54.3%ee(R)であった。
−ビナフチル−２，２'−ビス（ジフェニル）ホスフィ
ンルテニウムクロリド（II）（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−
ジフェニルエチレンジアミン錯体とする以外は、実施例
１と同様の操作を行い、6.7時間攪拌し、後処理後、３
−キヌクリジノール 4.98gを得た。得られた生成物を分
析したところ、旋光度 -0.5015 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡
像体過剰率：54.3%ee(R)であった。
【００５０】実施例６
反応に使用した溶媒をＭｅＯＨに変更した以外は実施例
１と同条件で行った。得られた生成物を分析したとこ
ろ、旋光度 +0.1470 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰
率：53.1%ee(S)であった。
１と同条件で行った。得られた生成物を分析したとこ
ろ、旋光度 +0.1470 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰
率：53.1%ee(S)であった。
【００５１】比較例１
反応系内にt-BuOKを添加しない以外は、実施例１と同様
の操作を行い、１３時間反応を行った。ガスクロマトグ
ラフにより分析したところ、ほとんど反応が進行してい
なかった。
の操作を行い、１３時間反応を行った。ガスクロマトグ
ラフにより分析したところ、ほとんど反応が進行してい
なかった。
【００５２】比較例２
200mlオートクレーブに、３−キヌクリジノン 5.0g (3
9.9 mmol)、脱ガスしたメタノール45mlを加えた。ここ
に、[RuCl2COD]と（S）−BINAPをトリエチルアミン存在
下、DMF溶媒により調製されるRuCl2[(S)-BINAP]TEA、34
mg（20μmol，S/C=2,000）を加え、系内の窒素置換を行
った。次に容器内に水素ガスを9.0MPa充填し、反応混合
物を70℃で7時間反応させた。反応液を減圧下で濃縮
し、残渣に水及びトルエンをそれぞれ30ml加え、抽出
後、水層を濃縮乾固し、３−キヌクリジノール 5.0gを
得た。旋光度 +0.0295 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰
率：3.2%ee(S)であった。
9.9 mmol)、脱ガスしたメタノール45mlを加えた。ここ
に、[RuCl2COD]と（S）−BINAPをトリエチルアミン存在
下、DMF溶媒により調製されるRuCl2[(S)-BINAP]TEA、34
mg（20μmol，S/C=2,000）を加え、系内の窒素置換を行
った。次に容器内に水素ガスを9.0MPa充填し、反応混合
物を70℃で7時間反応させた。反応液を減圧下で濃縮
し、残渣に水及びトルエンをそれぞれ30ml加え、抽出
後、水層を濃縮乾固し、３−キヌクリジノール 5.0gを
得た。旋光度 +0.0295 (C=2, 1mol/L HCl)、鏡像体過剰
率：3.2%ee(S)であった。
【００５３】比較例３
200mlオートクレーブに、３−キヌクリジノン 5.0g (3
9.9 mmol)、脱ガスしたメタノール45mlを加えた。別の
容器で脱ガスしたメタノール５ｍｌにフェロセン骨格を
有するジホスフィン配位子ＢＰＰＦＯＨと[RuCl2COD]を
添加し、室温で１５分攪拌することにより調製した錯体
触媒の溶液を添加し、反応系内の窒素置換を行った。次
に容器内に水素ガスを0.5ＭＰａ充填し、80℃で5時間反
応させた。反応液を減圧下で濃縮し、残渣に水及びトル
エンをそれぞれ30ml加え、抽出後、水層を濃縮乾固し、
３−キヌクリジノール 4.90gを得た。旋光度 +0.0434
(C=2,1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：4.7%ee(S)であっ
た。
9.9 mmol)、脱ガスしたメタノール45mlを加えた。別の
容器で脱ガスしたメタノール５ｍｌにフェロセン骨格を
有するジホスフィン配位子ＢＰＰＦＯＨと[RuCl2COD]を
添加し、室温で１５分攪拌することにより調製した錯体
触媒の溶液を添加し、反応系内の窒素置換を行った。次
に容器内に水素ガスを0.5ＭＰａ充填し、80℃で5時間反
応させた。反応液を減圧下で濃縮し、残渣に水及びトル
エンをそれぞれ30ml加え、抽出後、水層を濃縮乾固し、
３−キヌクリジノール 4.90gを得た。旋光度 +0.0434
(C=2,1mol/L HCl)、鏡像体過剰率：4.7%ee(S)であっ
た。
【００５４】比較例４〜６
これらの比較例は、市販されているジホスフィン配位子
を用いて、実施例２と同様に行ったものである。
を用いて、実施例２と同様に行ったものである。
【００５５】以上の実施例１〜６及び比較例１〜６の結
果を下の表１に示した。
果を下の表１に示した。
【００５６】
【表１】
【００５７】配位子略号の表記
DPEN:1,2-ジフェニルエチレンジアミン
DAIPEN：1,1-ビス（p-メトキシフェニル）-2-イソプロ
ピルエタン-1,2-ジアミン （R）-(S)-BPPFA： (R)-N，N-ジメチル-1-[(S)-１'，２
-ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル]エチルア
ミン MCCPM：（２S，４S）-1-N-メチルカルボキシアミド-[4-
ジシクロヘキシルホスフィノ-2-(ジフェニルホスフィ
ノ)メチル]ピロリジン (R)-(S)-BPPFA： (R)-１-[(S)-１'，２-ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）フェロセニル]エタノール
ピルエタン-1,2-ジアミン （R）-(S)-BPPFA： (R)-N，N-ジメチル-1-[(S)-１'，２
-ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル]エチルア
ミン MCCPM：（２S，４S）-1-N-メチルカルボキシアミド-[4-
ジシクロヘキシルホスフィノ-2-(ジフェニルホスフィ
ノ)メチル]ピロリジン (R)-(S)-BPPFA： (R)-１-[(S)-１'，２-ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）フェロセニル]エタノール
【００５８】実施例１と比較例１を比較すると、塩基成
分が添加されない比較例１は、反応収率が極端に低下し
て、反応が進行しないことが分かる。
分が添加されない比較例１は、反応収率が極端に低下し
て、反応が進行しないことが分かる。
【００５９】実施例６と比較例２を比較すると、反応は
進行するが、光学活性な１，２−エチレンジアミン型配
位子を持たない比較例２の鏡像体過剰率が極めて低い値
であることが分かる。
進行するが、光学活性な１，２−エチレンジアミン型配
位子を持たない比較例２の鏡像体過剰率が極めて低い値
であることが分かる。
【００６０】更に比較例２〜６と実施例を比較すると、
他の基質では優れた性能を発揮するジホスフィン型配位
子であるが、１，２−エチレンジアミン型配位子を有し
ていないため、３−キヌクリジンの還元においては、鏡
像体過剰率を上げることができないことが分かる。
他の基質では優れた性能を発揮するジホスフィン型配位
子であるが、１，２−エチレンジアミン型配位子を有し
ていないため、３−キヌクリジンの還元においては、鏡
像体過剰率を上げることができないことが分かる。
【００６１】更に実施例１と実施例６を比較した場合、
鏡像体過剰率はほぼ同等であるが、溶媒に選択により３
−キヌクリジノンのコンバージョン収率が変化すること
が分かる。本発明の最適な実施形態は、光学活性２座の
ホスフィン配位子と共に光学活性な１，２−エチレンジ
アミン型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体
と塩基の存在下で水素添加する際、溶媒として２−プロ
パノールを用いることであることが分かる。
鏡像体過剰率はほぼ同等であるが、溶媒に選択により３
−キヌクリジノンのコンバージョン収率が変化すること
が分かる。本発明の最適な実施形態は、光学活性２座の
ホスフィン配位子と共に光学活性な１，２−エチレンジ
アミン型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体
と塩基の存在下で水素添加する際、溶媒として２−プロ
パノールを用いることであることが分かる。
【００６２】
【発明の効果】本発明により、エナンチオ選択的に還元
しうる錯体触媒を利用し、３−キヌクリジノンから望ま
しい光学異性体の含有率の高い３−キヌクリジノールを
製造することができる。
しうる錯体触媒を利用し、３−キヌクリジノンから望ま
しい光学異性体の含有率の高い３−キヌクリジノールを
製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 ３−キヌクリジノンを還元して光学活性
３−キヌクリジノールを製造するに際して、光学活性２
座のホスフィン配位子とともに一般式（１） 【化１】 （但し式中Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって水素原子又は
アルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は同一又は異
なって水素原子、それぞれ置換基を有していてもよいア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Ｒ4と
Ｒ5は互いに連結してアルキレン基を形成してもよ
い。）で示される光学活性な１，２−エチレンジアミン
型配位子を有する光学活性ルテニウム（II）錯体と塩基
の存在下で水素添加することを特徴とする光学活性３−
キヌクリジノールの製造方法。 - 【請求項２】 光学活性ルテニウム（II）錯体が、一般
式（２） 【化２】 （但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記定義
と同義であり、Ｒ7は置換基を有してもよいアリール
基、Ｒ8、Ｒ9は同一または異なって水素原子又はアルキ
ル基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アシルオキ
シ基又はアセトアセトネート基を示す。）で示される光
学活性ルテニウム（II）錯体であることを特徴とする請
求項１記載の光学活性３−キヌクリジノールの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002077662A JP2003277380A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 光学活性３−キヌクリジノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002077662A JP2003277380A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 光学活性３−キヌクリジノールの製造方法 |
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