JP2003295169A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
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-
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- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 リバースツイストの発生を防止して、広視野
角特性を有し表示ムラのない良好な画像表示を可能とす
る液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 液晶表示装置１を、基板面と平行に設け
られた画素電極２７および共通電極２３を有する電極基
板２１と、カラーフィルタ基板１１との間に液晶物質を
挟持して形成した液晶層５とを備えるものとし、カラー
フィルタ基板はブラックマトリックス１３、複数色の着
色パターンからなるカラーフィルタ１４、上記ブラック
マトリックスおよびカラーフィルタを覆うように形成さ
れた保護層を有するものとし、ブラックマトリックスの
電気伝導度を９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下、着色パター
ンの電気伝導度を２．０×１０-10Ｓ／ｃｍ以下とす
る。
角特性を有し表示ムラのない良好な画像表示を可能とす
る液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 液晶表示装置１を、基板面と平行に設け
られた画素電極２７および共通電極２３を有する電極基
板２１と、カラーフィルタ基板１１との間に液晶物質を
挟持して形成した液晶層５とを備えるものとし、カラー
フィルタ基板はブラックマトリックス１３、複数色の着
色パターンからなるカラーフィルタ１４、上記ブラック
マトリックスおよびカラーフィルタを覆うように形成さ
れた保護層を有するものとし、ブラックマトリックスの
電気伝導度を９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下、着色パター
ンの電気伝導度を２．０×１０-10Ｓ／ｃｍ以下とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特にＩＰＳ (In-Plane Switching) 液晶モードの液
晶表示装置に関する。
り、特にＩＰＳ (In-Plane Switching) 液晶モードの液
晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、フラットディスプレイとして、カ
ラーの液晶表示装置が注目されている。カラー液晶表示
装置の一例として、ブラックマトリックス、複数の色
（通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色）から
なるカラーフィルタおよび共通電極を備えたカラーフィ
ルタ基板と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ素子）等の半導
体駆動素子と画素電極とを備えた電極基板とを所定の間
隙をもたせて向かい合わせ、この間隙部にＴＮ（捩れネ
マティック）液晶を注入して液晶層としたＴＦＴ方式の
カラー液晶表示装置がある。このようなカラー液晶表示
装置では、両基板の対向する電極によって液晶層に電界
を印加するので、液晶層に印加される電界の方向は基板
の界面にほぼ垂直な方向となる。しかし、このようなＴ
Ｎモードのカラー液晶表示装置は視野角が狭く、表示面
に対して斜めの方向から観察すると階調反転や色変化が
起こり画質が劣化するという問題がある。
ラーの液晶表示装置が注目されている。カラー液晶表示
装置の一例として、ブラックマトリックス、複数の色
（通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色）から
なるカラーフィルタおよび共通電極を備えたカラーフィ
ルタ基板と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ素子）等の半導
体駆動素子と画素電極とを備えた電極基板とを所定の間
隙をもたせて向かい合わせ、この間隙部にＴＮ（捩れネ
マティック）液晶を注入して液晶層としたＴＦＴ方式の
カラー液晶表示装置がある。このようなカラー液晶表示
装置では、両基板の対向する電極によって液晶層に電界
を印加するので、液晶層に印加される電界の方向は基板
の界面にほぼ垂直な方向となる。しかし、このようなＴ
Ｎモードのカラー液晶表示装置は視野角が狭く、表示面
に対して斜めの方向から観察すると階調反転や色変化が
起こり画質が劣化するという問題がある。
【０００３】一方、近年、ＩＰＳ (In-Plane Switchin
g) 液晶モードのカラー液晶表示装置が注目されてい
る。これは、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の透明薄膜
（厚み２００〜２０００Å）からなる画素電極と共通電
極とを基板面と平行に櫛歯状に形成した電極基板を使用
することにより、基板の界面とほぼ平行な方向の横電界
を液晶層に印加する方式であり、いわゆる広視野角特性
を有するものである。従来のＩＰＳ液晶モードのカラー
液晶表示装置は、上記のように櫛歯状に形成された画素
電極と共通電極とにより横電界を液晶層に印加してい
る。しかし、斜め方向の電界が存在すると、液晶分子が
本来予定している方向とは逆回転（リバースツイスト）
を生じることがある。このようなリバースツイストが生
じると、正回転する領域とリバースツイストする領域と
の境界部分では液晶分子の配向に時間がかかるため、応
答速度が遅くなり、また残像が生じて画像品質の低下を
来たすことになる。
g) 液晶モードのカラー液晶表示装置が注目されてい
る。これは、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の透明薄膜
（厚み２００〜２０００Å）からなる画素電極と共通電
極とを基板面と平行に櫛歯状に形成した電極基板を使用
することにより、基板の界面とほぼ平行な方向の横電界
を液晶層に印加する方式であり、いわゆる広視野角特性
を有するものである。従来のＩＰＳ液晶モードのカラー
液晶表示装置は、上記のように櫛歯状に形成された画素
電極と共通電極とにより横電界を液晶層に印加してい
る。しかし、斜め方向の電界が存在すると、液晶分子が
本来予定している方向とは逆回転（リバースツイスト）
を生じることがある。このようなリバースツイストが生
じると、正回転する領域とリバースツイストする領域と
の境界部分では液晶分子の配向に時間がかかるため、応
答速度が遅くなり、また残像が生じて画像品質の低下を
来たすことになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなリバースツ
イストの発生を低減するために、カラーフィルタ基板を
構成する材料に着目して、ブラックマトリックスの材質
や比抵抗値を規定する提案がなされている（特開平９−
４３５９０号）。また、電極基板の電極構造を改良する
ことが提案されている（特開２０００−１９５５８号公
報）。しかしながら、従来のＩＰＳ液晶モードのカラー
液晶表示装置では、リバースツイストの発生防止効果は
未だ十分ではない。
イストの発生を低減するために、カラーフィルタ基板を
構成する材料に着目して、ブラックマトリックスの材質
や比抵抗値を規定する提案がなされている（特開平９−
４３５９０号）。また、電極基板の電極構造を改良する
ことが提案されている（特開２０００−１９５５８号公
報）。しかしながら、従来のＩＰＳ液晶モードのカラー
液晶表示装置では、リバースツイストの発生防止効果は
未だ十分ではない。
【０００５】本発明は、上記のような実情に鑑みてなさ
れたものであり、リバースツイストの発生を防止して、
広視野角特性を有し表示ムラのない良好な画像表示を可
能とする液晶表示装置を提供することを目的とする。
れたものであり、リバースツイストの発生を防止して、
広視野角特性を有し表示ムラのない良好な画像表示を可
能とする液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明はブラックマトリックス、複数色の着
色パターンからなるカラーフィルタ、前記ブラックマト
リックスおよびカラーフィルタを覆うように形成された
保護層を有するカラーフィルタ基板と、基板面と平行に
設けられた画素電極および共通電極を有する電極基板
と、該電極基板と前記カラーフィルタ基板との間に液晶
物質を挟持して形成した液晶層とを備える液晶表示装置
において、ブラックマトリックスの電気伝導度は９．０
×１０-9Ｓ／ｃｍ以下であり、着色パターンの電気伝導
度は２．０×１０-10Ｓ／ｃｍ以下であるような構成と
した。本発明の他の態様としては、前記ブラックマトリ
ックスが樹脂成分中に高抵抗カーボンブラックおよび酸
化チタンのいずれかを含有するような構成とした。
るために、本発明はブラックマトリックス、複数色の着
色パターンからなるカラーフィルタ、前記ブラックマト
リックスおよびカラーフィルタを覆うように形成された
保護層を有するカラーフィルタ基板と、基板面と平行に
設けられた画素電極および共通電極を有する電極基板
と、該電極基板と前記カラーフィルタ基板との間に液晶
物質を挟持して形成した液晶層とを備える液晶表示装置
において、ブラックマトリックスの電気伝導度は９．０
×１０-9Ｓ／ｃｍ以下であり、着色パターンの電気伝導
度は２．０×１０-10Ｓ／ｃｍ以下であるような構成と
した。本発明の他の態様としては、前記ブラックマトリ
ックスが樹脂成分中に高抵抗カーボンブラックおよび酸
化チタンのいずれかを含有するような構成とした。
【０００７】このような本発明では、カラーフィルタ基
板を構成するブラックマトリックスおよびカラーフィル
タ（着色パターン）に低い電気伝導度をもたせることに
より、画素電極と共通電極により形成される基板の界面
とほぼ平行な方向の横電界の安定性が増し、リバースツ
イストを防止することができる。
板を構成するブラックマトリックスおよびカラーフィル
タ（着色パターン）に低い電気伝導度をもたせることに
より、画素電極と共通電極により形成される基板の界面
とほぼ平行な方向の横電界の安定性が増し、リバースツ
イストを防止することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて図面を参照して説明する。図１は本発明のＩＰＳ
液晶モードの液晶表示装置の１実施形態を示す１画素分
の断面図であり、図２は図１に示される液晶表示装置を
構成する電極基板の平面図であり、Ａ−Ａ線における縦
断面が図１の電極基板の断面に相当する。図１および図
２において、液晶表示装置１はカラーフィルタ基板１１
と電極基板２１とを所定の間隔で対向させ、両基板間に
液晶物質を挟持して液晶層５を形成したものである。
ついて図面を参照して説明する。図１は本発明のＩＰＳ
液晶モードの液晶表示装置の１実施形態を示す１画素分
の断面図であり、図２は図１に示される液晶表示装置を
構成する電極基板の平面図であり、Ａ−Ａ線における縦
断面が図１の電極基板の断面に相当する。図１および図
２において、液晶表示装置１はカラーフィルタ基板１１
と電極基板２１とを所定の間隔で対向させ、両基板間に
液晶物質を挟持して液晶層５を形成したものである。
【０００９】液晶表示装置１を構成するカラーフィルタ
基板１１は、基板１２と、この基板１２の一方の面に画
素領域を区画するように形成されたブラックマトリック
ス１３と、各画素領域に形成された赤色パターン、緑色
パターンおよび青色パターンからなるカラーフィルタ１
４（図示例では赤色パターン１４Ｒが示されている）
と、これらを覆うように形成された保護層１５とを備え
ている。尚、カラーフィルタ基板１１の基板１２のカラ
ーフィルタ形成面と反対側には偏光板（図示せず）が設
けられ、また、保護層１５上には配向膜（図示せず）が
設けられている。一方、液晶表示装置１を構成する電極
基板２１は、基板２２と、この基板２２上に所定のパタ
ーンで形成された共通電極２３、走査配線２４および共
通配線２５と、絶縁層２６を介して所定のパターンで形
成された画素電極２７、信号配線２８と、これらを覆う
ように形成された保護層２９とを備えている。尚、電極
基板２１の基板２２の電極形成面と反対側には偏光板
（図示せず）が設けられ、また、保護層２９上には配向
膜（図示せず）が設けられている。
基板１１は、基板１２と、この基板１２の一方の面に画
素領域を区画するように形成されたブラックマトリック
ス１３と、各画素領域に形成された赤色パターン、緑色
パターンおよび青色パターンからなるカラーフィルタ１
４（図示例では赤色パターン１４Ｒが示されている）
と、これらを覆うように形成された保護層１５とを備え
ている。尚、カラーフィルタ基板１１の基板１２のカラ
ーフィルタ形成面と反対側には偏光板（図示せず）が設
けられ、また、保護層１５上には配向膜（図示せず）が
設けられている。一方、液晶表示装置１を構成する電極
基板２１は、基板２２と、この基板２２上に所定のパタ
ーンで形成された共通電極２３、走査配線２４および共
通配線２５と、絶縁層２６を介して所定のパターンで形
成された画素電極２７、信号配線２８と、これらを覆う
ように形成された保護層２９とを備えている。尚、電極
基板２１の基板２２の電極形成面と反対側には偏光板
（図示せず）が設けられ、また、保護層２９上には配向
膜（図示せず）が設けられている。
【００１０】上記の共通電極２３は、共通配線２５から
画素領域内に延在するように基板面上に設けられてお
り、また、画素電極２７は、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）部３１のソース電極に接続され、画素領域をほぼ２
分するように画素領域内に延在して基板面と平行に形成
されている。尚、上記の共通電極２３の幅は２〜１０μ
ｍ、画素電極２７の幅は２〜８μｍの範囲で設定でき、
共通電極２３と画素電極２７との間隔は１０〜３０μｍ
の範囲で設定できる。上記の走査配線２４の所定位置に
はアモルファスシリコンａ−Ｓｉからなる半導体活性層
３０が形成されており、この半導体活性層３０上には、
画素電極２７に接続されたソース電極２７s と信号配線
２８から延在して形成されたドレイン電極２８ｄとが若
干離間されて配設され薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）部３
１が形成されている。また、画素電極２７の先端部は絶
縁層２６を介して共通配線２５と重畳されて付加容量を
形成している。
画素領域内に延在するように基板面上に設けられてお
り、また、画素電極２７は、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）部３１のソース電極に接続され、画素領域をほぼ２
分するように画素領域内に延在して基板面と平行に形成
されている。尚、上記の共通電極２３の幅は２〜１０μ
ｍ、画素電極２７の幅は２〜８μｍの範囲で設定でき、
共通電極２３と画素電極２７との間隔は１０〜３０μｍ
の範囲で設定できる。上記の走査配線２４の所定位置に
はアモルファスシリコンａ−Ｓｉからなる半導体活性層
３０が形成されており、この半導体活性層３０上には、
画素電極２７に接続されたソース電極２７s と信号配線
２８から延在して形成されたドレイン電極２８ｄとが若
干離間されて配設され薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）部３
１が形成されている。また、画素電極２７の先端部は絶
縁層２６を介して共通配線２５と重畳されて付加容量を
形成している。
【００１１】上述のような本発明の液晶表示装置では、
カラーフィルタ基板１１を構成するブラックマトリック
ス１３の電気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下、好
ましくは１．０×１０-15〜９．０×１０-9Ｓ／ｃｍの
範囲であり、カラーフィルタ１４を構成する各色の着色
パターンの電気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／ｃｍ以
下、好ましくは１．０×１０-15〜２．０×１０-10Ｓ／
ｃｍの範囲である。ここで、本発明における電気伝導度
は、以下の方法によって測定したものであり、比抵抗値
ρの逆数である比電気伝導度σとは異なるものである。
カラーフィルタ基板１１を構成するブラックマトリック
ス１３の電気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下、好
ましくは１．０×１０-15〜９．０×１０-9Ｓ／ｃｍの
範囲であり、カラーフィルタ１４を構成する各色の着色
パターンの電気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／ｃｍ以
下、好ましくは１．０×１０-15〜２．０×１０-10Ｓ／
ｃｍの範囲である。ここで、本発明における電気伝導度
は、以下の方法によって測定したものであり、比抵抗値
ρの逆数である比電気伝導度σとは異なるものである。
【００１２】（電気伝導度の測定方法）クロム薄膜を形
成したガラス基板のクロム薄膜上に、測定対象の材料を
用いてカラーフィルタ形成と同様の工程で成膜する。こ
の膜上に蒸着法により金電極を形成し、この金電極と上
記のクロム薄膜との間で、Solartron社製IMPEDANCE／GA
IN-PHASE ANALYZER SI1260, DIELECTRIC INTERFACE 129
6を使用して測定する。測定は１Ｈｚ〜１ＭＨｚにスイ
ープし、３Ｖにて行う。そして、１ｋＨｚにおける測定
結果を電気伝導度とする。
成したガラス基板のクロム薄膜上に、測定対象の材料を
用いてカラーフィルタ形成と同様の工程で成膜する。こ
の膜上に蒸着法により金電極を形成し、この金電極と上
記のクロム薄膜との間で、Solartron社製IMPEDANCE／GA
IN-PHASE ANALYZER SI1260, DIELECTRIC INTERFACE 129
6を使用して測定する。測定は１Ｈｚ〜１ＭＨｚにスイ
ープし、３Ｖにて行う。そして、１ｋＨｚにおける測定
結果を電気伝導度とする。
【００１３】このようにブラックマトリックス１３およ
びカラーフィルタ１４（着色パターン）に低い電気伝導
度をもたせることにより、共通電極２３と画素電極２７
との間に形成される電気力線がカラーフィルタ基板１１
から受ける影響を大幅に低減することができる。その結
果、形成される電界パターンは基板２２の界面とほぼ平
行な方向の安定した横電界となり、液晶層５の液晶分子
のリバースツイストを防止することができる。ブラック
マトリックス１３の電気伝導度が９．０×１０ -9Ｓ／ｃ
ｍを超えたり、カラーフィルタ１４を構成する各色の着
色パターンの電気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／ｃｍを
超えると、上記の横電界がカラーフィルタ基板１１の影
響を受けやすくなり、液晶分子のリバースツイストを有
効に防止することが困難となる。
びカラーフィルタ１４（着色パターン）に低い電気伝導
度をもたせることにより、共通電極２３と画素電極２７
との間に形成される電気力線がカラーフィルタ基板１１
から受ける影響を大幅に低減することができる。その結
果、形成される電界パターンは基板２２の界面とほぼ平
行な方向の安定した横電界となり、液晶層５の液晶分子
のリバースツイストを防止することができる。ブラック
マトリックス１３の電気伝導度が９．０×１０ -9Ｓ／ｃ
ｍを超えたり、カラーフィルタ１４を構成する各色の着
色パターンの電気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／ｃｍを
超えると、上記の横電界がカラーフィルタ基板１１の影
響を受けやすくなり、液晶分子のリバースツイストを有
効に防止することが困難となる。
【００１４】上述のカラーフィルタ基板１１と電極基板
２１を構成する基板１２，２２としては、石英ガラス、
パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓
性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィル
ム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブ
ル材を用いることができる。この中で特にコーニング社
製７０５９ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法
安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、ま
た、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラ
スであるため、ＩＰＳ液晶モードのカラー液晶表示装置
に適している。
２１を構成する基板１２，２２としては、石英ガラス、
パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓
性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィル
ム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブ
ル材を用いることができる。この中で特にコーニング社
製７０５９ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法
安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、ま
た、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラ
スであるため、ＩＰＳ液晶モードのカラー液晶表示装置
に適している。
【００１５】カラーフィルタ基板１１を構成するブラッ
クマトリックス１３は、各画素領域に形成された赤色パ
ターン、緑色パターンおよび青色パターンからなるカラ
ーフィルタ１４の画素領域の間およびカラーフィルタ１
４の形成領域の外側に設けられている。このようなブラ
ックマトリックス１３は、遮光性粒子を含有させた樹脂
層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したも
の、遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、こ
の感光性樹脂層をパターニングして形成したもの、遮光
性粒子を含有させた樹脂組成物を用いて所望のパターン
で印刷して形成したもの、とすることができる。ブラッ
クマトリックス１３の電気伝導度を９．０×１０-9Ｓ／
ｃｍ以下とするためには、使用する遮光性粒子として、
例えば、高抵抗カーボンブラック、酸化チタン、銅−鉄
−マンガンの複合酸化物、銅−クロム−マンガンの複合
酸化物等の金属酸化物等を挙げることができる。また、
使用する樹脂成分としては、ポリイミド樹脂、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、等を挙げることができる。
クマトリックス１３は、各画素領域に形成された赤色パ
ターン、緑色パターンおよび青色パターンからなるカラ
ーフィルタ１４の画素領域の間およびカラーフィルタ１
４の形成領域の外側に設けられている。このようなブラ
ックマトリックス１３は、遮光性粒子を含有させた樹脂
層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したも
の、遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、こ
の感光性樹脂層をパターニングして形成したもの、遮光
性粒子を含有させた樹脂組成物を用いて所望のパターン
で印刷して形成したもの、とすることができる。ブラッ
クマトリックス１３の電気伝導度を９．０×１０-9Ｓ／
ｃｍ以下とするためには、使用する遮光性粒子として、
例えば、高抵抗カーボンブラック、酸化チタン、銅−鉄
−マンガンの複合酸化物、銅−クロム−マンガンの複合
酸化物等の金属酸化物等を挙げることができる。また、
使用する樹脂成分としては、ポリイミド樹脂、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、等を挙げることができる。
【００１６】上記のようなブラックマトリックス１３の
厚みは、例えば、０．５〜２．０μｍの範囲で適宜設定
することができ、ブラックマトリックス１３に含有され
る遮光性粒子の量は、使用する材料に応じて３０〜６０
重量％の範囲で適宜設定することができる。また、カラ
ーフィルタ基板１１を構成するカラーフィルタ１４は、
赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンが所望
のパターン形状で配列されており、所望の着色材を含有
した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成するこ
とができ、さらに、印刷法、電着法、転写法、染色法等
の公知の方法により形成することができる。いずれの形
成方法によりカラーフィルタ１４を形成する場合も、各
色の着色パターンの電気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／
ｃｍ以下となるように、使用する樹脂材料、顔料、染料
等を適宜設定する必要がある。
厚みは、例えば、０．５〜２．０μｍの範囲で適宜設定
することができ、ブラックマトリックス１３に含有され
る遮光性粒子の量は、使用する材料に応じて３０〜６０
重量％の範囲で適宜設定することができる。また、カラ
ーフィルタ基板１１を構成するカラーフィルタ１４は、
赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンが所望
のパターン形状で配列されており、所望の着色材を含有
した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成するこ
とができ、さらに、印刷法、電着法、転写法、染色法等
の公知の方法により形成することができる。いずれの形
成方法によりカラーフィルタ１４を形成する場合も、各
色の着色パターンの電気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／
ｃｍ以下となるように、使用する樹脂材料、顔料、染料
等を適宜設定する必要がある。
【００１７】このようなカラーフィルタ１４の厚みは、
例えば、１．０〜３．０μｍの範囲で適宜設定すること
ができ、また、カラーフィルタ１４を、例えば、赤色パ
ターンが最も薄く、緑色パターン、青色パターンの順に
厚くすることにより、カラーフィルタ１４の各色ごとに
最適な液晶層厚み（セル・ギャップ）を設定するように
してもよい。
例えば、１．０〜３．０μｍの範囲で適宜設定すること
ができ、また、カラーフィルタ１４を、例えば、赤色パ
ターンが最も薄く、緑色パターン、青色パターンの順に
厚くすることにより、カラーフィルタ１４の各色ごとに
最適な液晶層厚み（セル・ギャップ）を設定するように
してもよい。
【００１８】カラーフィルタ基板１１を構成する保護層
１５は、カラーフィルタ１４に含有される成分の液晶層
への溶出を防止するために設けられたものである。この
保護層１５は樹脂材料を用いて形成され、電気伝導度が
高い顔料等を含有していないため、共通電極２３と画素
電極２７との間に形成される電気力線に与える影響を無
視することができる。このような保護層１５の厚みは、
使用される材料の光透過率、カラーフィルタ基板１１の
表面状態等考慮して設定することができ、例えば、０．
２〜３．０μｍの範囲で設定することができる。電極基
板２１を構成する共通電極２３、走査配線２４、共通配
線２５は、例えば、スパッタリング等により酸化インジ
ウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電膜あるいは金属導電膜
を成膜し、これを所定のレジストパターンを介してエッ
チングすることにより形成することができる。
１５は、カラーフィルタ１４に含有される成分の液晶層
への溶出を防止するために設けられたものである。この
保護層１５は樹脂材料を用いて形成され、電気伝導度が
高い顔料等を含有していないため、共通電極２３と画素
電極２７との間に形成される電気力線に与える影響を無
視することができる。このような保護層１５の厚みは、
使用される材料の光透過率、カラーフィルタ基板１１の
表面状態等考慮して設定することができ、例えば、０．
２〜３．０μｍの範囲で設定することができる。電極基
板２１を構成する共通電極２３、走査配線２４、共通配
線２５は、例えば、スパッタリング等により酸化インジ
ウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電膜あるいは金属導電膜
を成膜し、これを所定のレジストパターンを介してエッ
チングすることにより形成することができる。
【００１９】電極基板２１を構成する絶縁層２６は、Ｃ
ＶＤ法による窒化シリコン薄膜の成膜等により形成する
ことができる。また、アモルファスシリコンａ−Ｓｉか
らなる半導体活性層３０は、この絶縁層２６と同一の工
程で形成することができる。また、電極基板２１を構成
する画素電極２７、信号配線２８は、例えば、スパッタ
リング等によりＩＴＯ等の透明導電膜あるいは金属導電
膜を成膜し、これを所定のレジストパターンを介してエ
ッチングすることにより形成することができる。電極基
板２１を構成する保護層２９は、電極基板２１の表面を
平坦化するために設けられたものである。この保護層２
９の厚みは、使用される材料の光透過率、電極基板２１
の表面状態等考慮して設定することができ、例えば、
０．２〜３．０μｍの範囲で設定することができる。
ＶＤ法による窒化シリコン薄膜の成膜等により形成する
ことができる。また、アモルファスシリコンａ−Ｓｉか
らなる半導体活性層３０は、この絶縁層２６と同一の工
程で形成することができる。また、電極基板２１を構成
する画素電極２７、信号配線２８は、例えば、スパッタ
リング等によりＩＴＯ等の透明導電膜あるいは金属導電
膜を成膜し、これを所定のレジストパターンを介してエ
ッチングすることにより形成することができる。電極基
板２１を構成する保護層２９は、電極基板２１の表面を
平坦化するために設けられたものである。この保護層２
９の厚みは、使用される材料の光透過率、電極基板２１
の表面状態等考慮して設定することができ、例えば、
０．２〜３．０μｍの範囲で設定することができる。
【００２０】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
【００２１】カラーフィルタ基板の作製
［試料Ａ］カラーフィルタ基板用の基板として厚さ０．
７ｍｍのガラス基板（コーニング社製７０５９ガラス）
を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、
基板の片側全面に、高抵抗カーボンブラックを含有した
ブラックマトリックス用組成物Ａ（東京応化工業（株）
製ＢＫ７６０シリーズ）を塗布し、所定のフォトマスク
を介して露光した後、現像し加熱焼成してブラックマト
リックス（厚み１．３μｍ）を形成した。
７ｍｍのガラス基板（コーニング社製７０５９ガラス）
を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、
基板の片側全面に、高抵抗カーボンブラックを含有した
ブラックマトリックス用組成物Ａ（東京応化工業（株）
製ＢＫ７６０シリーズ）を塗布し、所定のフォトマスク
を介して露光した後、現像し加熱焼成してブラックマト
リックス（厚み１．３μｍ）を形成した。
【００２２】上記のブラックマトリックスの電気伝導度
を下記の条件で測定し、結果を下記の表１に示した。 （電気伝導度の測定方法）クロム薄膜を形成したガラス
基板のクロム薄膜上に、測定対象の材料を用いてカラー
フィルタ形成と同様の工程で成膜する。この膜上に蒸着
法により金電極を形成し、この金電極と上記のクロム薄
膜との間で、Solartron社製IMPEDANCE／GAIN-PHASE ANA
LYZER SI1260, DIELECTRIC INTERFACE 1296を使用して
測定する。測定は１Ｈｚ〜１ＭＨｚにスイープし、３Ｖ
にて行う。そして、１ｋＨｚにおける測定結果を電気伝
導度とする。
を下記の条件で測定し、結果を下記の表１に示した。 （電気伝導度の測定方法）クロム薄膜を形成したガラス
基板のクロム薄膜上に、測定対象の材料を用いてカラー
フィルタ形成と同様の工程で成膜する。この膜上に蒸着
法により金電極を形成し、この金電極と上記のクロム薄
膜との間で、Solartron社製IMPEDANCE／GAIN-PHASE ANA
LYZER SI1260, DIELECTRIC INTERFACE 1296を使用して
測定する。測定は１Ｈｚ〜１ＭＨｚにスイープし、３Ｖ
にて行う。そして、１ｋＨｚにおける測定結果を電気伝
導度とする。
【００２３】また、上記のブラックマトリックスの比抵
抗値ρを下記の条件で測定し、結果を下記の表１に示し
た。 （比抵抗値の測定方法）クロム薄膜を形成したガラス基
板のクロム薄膜上に、測定対象の材料を用いてカラーフ
ィルタ形成と同様の工程で成膜する。この膜を三菱化学
（株）製Hiresta-UP(MCP-HT450)を使用して測定する。
抗値ρを下記の条件で測定し、結果を下記の表１に示し
た。 （比抵抗値の測定方法）クロム薄膜を形成したガラス基
板のクロム薄膜上に、測定対象の材料を用いてカラーフ
ィルタ形成と同様の工程で成膜する。この膜を三菱化学
（株）製Hiresta-UP(MCP-HT450)を使用して測定する。
【００２４】次に、下記組成の赤色パターン用、緑色パ
ターン用、青色パターン用の各塗布液を調製し、これら
を用いて公知の顔料分散法にしたがって画素領域に赤色
パターン、緑色パターン、青色パターン（厚み１．７μ
ｍ）をそれぞれ形成してカラーフィルタとした。
ターン用、青色パターン用の各塗布液を調製し、これら
を用いて公知の顔料分散法にしたがって画素領域に赤色
パターン、緑色パターン、青色パターン（厚み１．７μ
ｍ）をそれぞれ形成してカラーフィルタとした。
【００２５】
（赤色パターン用塗布液の組成）
・ＰＲ２５４分散液 … ３３重量部
・感光性樹脂組成物Ｉ … ６７重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… ４００重量部
（緑色パターン用塗布液の組成）
・ＰＧ７／ＰＧ１５０分散液 … ３１重量部
・感光性樹脂組成物Ｉ … ６９重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… ４００重量部
（青色パターン用塗布液の組成）
・ＰＢ１５：６／ＰＶ２３分散液 … １７重量部
・感光性樹脂組成物II … ８３重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… ４００重量部
【００２６】尚、上記の感光性樹脂組成物Ｉ、感光性樹
脂組成物IIは、それぞれ下記の組成を有するものであ
り、以下の実施例においても同様である。 （感光性樹脂組成物Ｉ） ・メタクリル酸−スチレン−アクリル酸ラジカル共重合体 … ４２重量部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … ３２重量部 ・エピコート１８０Ｓ７０（三菱油化シェル（株）製） … １８重量部 ・2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1 （チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製） … ８重量部
脂組成物IIは、それぞれ下記の組成を有するものであ
り、以下の実施例においても同様である。 （感光性樹脂組成物Ｉ） ・メタクリル酸−スチレン−アクリル酸ラジカル共重合体 … ４２重量部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … ３２重量部 ・エピコート１８０Ｓ７０（三菱油化シェル（株）製） … １８重量部 ・2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1 （チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製） … ８重量部
【００２７】
（感光性樹脂組成物II）
・メタクリル酸−スチレン−アクリル酸ラジカル共重合体 … ４２重量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … ３２重量部
・エポリードＧＴ４０１（ダイセル化学工業（株）製） … １８重量部
・2-メチル-1-[4-(メチルチオ）フェニル]-2-モルフォリノプロパン
-1-オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）… ８重量部
【００２８】次に、上記の各色の着色パターンについ
て、上記と同様にして電気伝導度と比抵抗値を測定し、
結果を下記の表１に示した。次いで、ポリイミド樹脂の
希釈液を基板上に塗布、乾燥して保護層を形成し、さら
に、この保護層上にポリイミド樹脂の希釈液を塗布、乾
燥して配向層を形成してカラーフィルタ基板（試料Ａ）
を作製した。
て、上記と同様にして電気伝導度と比抵抗値を測定し、
結果を下記の表１に示した。次いで、ポリイミド樹脂の
希釈液を基板上に塗布、乾燥して保護層を形成し、さら
に、この保護層上にポリイミド樹脂の希釈液を塗布、乾
燥して配向層を形成してカラーフィルタ基板（試料Ａ）
を作製した。
【００２９】［試料Ｂ］高抵抗カーボンブラックを含有
するブラックマトリックス用組成物Ａに代えて、チタン
ブラックを含有する下記組成のブラックマトリックス用
組成物Ｂを使用した他は、上記の試料Ａと同様にして、
カラーフィルタ基板（試料Ｂ）を作製した。 （ブラックマトリックス用組成物Ｂ） ・チタンブラック（三菱マテリアル（株）製１３Ｍ） … ６１重量部 ・感光性樹脂組成物Ｉ … ３９重量部 ・メトキシブチルアセテート … ３００重量部 尚、上記のブラックマトリックスの電気伝導度と比抵抗
値を試料Ａの場合と同様に測定し、結果を下記の表１に
示した。
するブラックマトリックス用組成物Ａに代えて、チタン
ブラックを含有する下記組成のブラックマトリックス用
組成物Ｂを使用した他は、上記の試料Ａと同様にして、
カラーフィルタ基板（試料Ｂ）を作製した。 （ブラックマトリックス用組成物Ｂ） ・チタンブラック（三菱マテリアル（株）製１３Ｍ） … ６１重量部 ・感光性樹脂組成物Ｉ … ３９重量部 ・メトキシブチルアセテート … ３００重量部 尚、上記のブラックマトリックスの電気伝導度と比抵抗
値を試料Ａの場合と同様に測定し、結果を下記の表１に
示した。
【００３０】［比較試料Ａ］上記の試料Ａと同様にブラ
ックマトリックス用組成物Ａを使用してガラス基板上に
ブラックマトリックスを形成した。次に、下記組成の赤
色パターン用、緑色パターン用、青色パターン用の各塗
布液を調製し、これらを用いて公知の顔料分散法にした
がって画素領域に赤色パターン、緑色パターン、青色パ
ターン（厚み１．７μｍ）をそれぞれ形成してカラーフ
ィルタとした。
ックマトリックス用組成物Ａを使用してガラス基板上に
ブラックマトリックスを形成した。次に、下記組成の赤
色パターン用、緑色パターン用、青色パターン用の各塗
布液を調製し、これらを用いて公知の顔料分散法にした
がって画素領域に赤色パターン、緑色パターン、青色パ
ターン（厚み１．７μｍ）をそれぞれ形成してカラーフ
ィルタとした。
【００３１】
（赤色パターン用塗布液の組成）
・ＰＲ２５４分散液 … ３３重量部
・感光性樹脂組成物Ｉ … ６７重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… ４００重量部
（緑色パターン用塗布液の組成）
・ＰＧ３６／ＰＹ１５０分散液 … ３２重量部
・感光性樹脂組成物Ｉ … ６８重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… ４００重量部
（青色パターン用塗布液の組成）
・ＰＢ１５：６／ＰＶ２３分散液 … １７重量部
・感光性樹脂組成物II … ８３重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… ４００重量部
【００３２】上記の各色の着色パターンについて、試料
Ａと同様にして電気伝導度と比抵抗値を測定し、結果を
下記の表１に示した。次いで、ポリイミド樹脂の希釈液
を基板上に塗布、乾燥して保護層を形成し、さらに、こ
の保護層上にポリイミド樹脂の希釈液を塗布、乾燥して
配向層を形成してカラーフィルタ基板（比較試料Ａ）を
作製した。
Ａと同様にして電気伝導度と比抵抗値を測定し、結果を
下記の表１に示した。次いで、ポリイミド樹脂の希釈液
を基板上に塗布、乾燥して保護層を形成し、さらに、こ
の保護層上にポリイミド樹脂の希釈液を塗布、乾燥して
配向層を形成してカラーフィルタ基板（比較試料Ａ）を
作製した。
【００３３】［比較試料Ｂ］上記の試料Ｂの作製に使用
したのと同じブラックマトリックス用組成物Ｂを使用し
た他は、上記の比較試料Ａと同様にして、カラーフィル
タ基板（比較試料Ｂ）を作製した。
したのと同じブラックマトリックス用組成物Ｂを使用し
た他は、上記の比較試料Ａと同様にして、カラーフィル
タ基板（比較試料Ｂ）を作製した。
【００３４】［比較試料Ｃ］高抵抗カーボンブラックを
含有するブラックマトリックス用組成物Ａに代えて、カ
ーボンブラックを含有するブラックマトリックス用組成
物Ｃ（東京応化工業（株）製ＢＫ４５０シリーズ）を使
用した他は、上記の試料Ａと同様にして、カラーフィル
タ基板（比較試料Ｃ）を作製した。尚、上記のブラック
マトリックスの電気伝導度と比抵抗値を試料Ａの場合と
同様に測定し、結果を下記の表１に示した。
含有するブラックマトリックス用組成物Ａに代えて、カ
ーボンブラックを含有するブラックマトリックス用組成
物Ｃ（東京応化工業（株）製ＢＫ４５０シリーズ）を使
用した他は、上記の試料Ａと同様にして、カラーフィル
タ基板（比較試料Ｃ）を作製した。尚、上記のブラック
マトリックスの電気伝導度と比抵抗値を試料Ａの場合と
同様に測定し、結果を下記の表１に示した。
【００３５】電極基板の作製
電極基板用の基板として厚さ０．７ｍｍのガラス基板
（コーニング社製７０５９ガラス）を準備した。この基
板を定法にしたがって洗浄した後、スパッタリングによ
り酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の薄膜（厚み１０００
Å）を形成し、その後、パターニングして図３に示され
るような櫛歯状の電極パターン５１，５２を形成した。
この櫛歯状の電極パターン５１、５２を構成する各電極
５１ａ，５２ａの間隔Ｐは１００μｍとした。次いで、
ポリイミド樹脂の希釈液を基板上に塗布、乾燥して保護
層を形成し、さらに、この保護層上にポリイミド樹脂の
希釈液を塗布、乾燥して配向層を形成して電極基板を得
た。
（コーニング社製７０５９ガラス）を準備した。この基
板を定法にしたがって洗浄した後、スパッタリングによ
り酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の薄膜（厚み１０００
Å）を形成し、その後、パターニングして図３に示され
るような櫛歯状の電極パターン５１，５２を形成した。
この櫛歯状の電極パターン５１、５２を構成する各電極
５１ａ，５２ａの間隔Ｐは１００μｍとした。次いで、
ポリイミド樹脂の希釈液を基板上に塗布、乾燥して保護
層を形成し、さらに、この保護層上にポリイミド樹脂の
希釈液を塗布、乾燥して配向層を形成して電極基板を得
た。
【００３６】評価
上記のように作製した各カラーフィルタ基板（試料Ａ、
試料Ｂ、比較試料Ａ〜Ｃ）と電極基板との５種（試料１
〜５）の組み合わせについて、液晶セルを組み、駆動試
験を行った。評価方法 色ムラ、残像の有無を目視により観察し、下記の基準で
評価する。 （評価基準） 〇：色ムラ、残像が見られない ×：色ムラ、残像が見られる。
試料Ｂ、比較試料Ａ〜Ｃ）と電極基板との５種（試料１
〜５）の組み合わせについて、液晶セルを組み、駆動試
験を行った。評価方法 色ムラ、残像の有無を目視により観察し、下記の基準で
評価する。 （評価基準） 〇：色ムラ、残像が見られない ×：色ムラ、残像が見られる。
【００３７】
【表１】
【００３８】表１に示されるように、ブラックマトリッ
クスの電気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下であ
り、かつ、カラーフィルタの電気伝導度が２．０×１０
-10Ｓ／ｃｍ以下であるカラーフィルタ基板（試料Ａ、
試料Ｂ）を使用した場合（試料１、試料２）、横電界は
安定したものとなり、これらのカラーフィルタ基板を使
用することにより液晶分子のリバースツイストが防止さ
れ、表示画像品質が良好な液晶表示装置が得られること
が確認された。
クスの電気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下であ
り、かつ、カラーフィルタの電気伝導度が２．０×１０
-10Ｓ／ｃｍ以下であるカラーフィルタ基板（試料Ａ、
試料Ｂ）を使用した場合（試料１、試料２）、横電界は
安定したものとなり、これらのカラーフィルタ基板を使
用することにより液晶分子のリバースツイストが防止さ
れ、表示画像品質が良好な液晶表示装置が得られること
が確認された。
【００３９】これに対して、ブラックマトリックスの電
気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下（比抵抗値は１
０6Ω・ｃｍ以上）であるものの、カラーフィルタの電
気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／ｃｍを超えるカラーフ
ィルタ基板（比較試料Ａ、比較試料Ｂ）を使用した場合
（試料３、試料４）、横電界の安定性は不十分なもので
あった。また、カラーフィルタの電気伝導度が２．０×
１０-10Ｓ／ｃｍ以下であるものの、ブラックマトリッ
クスの電気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍを超えるカ
ラーフィルタ基板（比較試料Ｃ）を使用した場合（試料
５）も、横電界の安定性は不十分なものであった。
気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下（比抵抗値は１
０6Ω・ｃｍ以上）であるものの、カラーフィルタの電
気伝導度が２．０×１０-10Ｓ／ｃｍを超えるカラーフ
ィルタ基板（比較試料Ａ、比較試料Ｂ）を使用した場合
（試料３、試料４）、横電界の安定性は不十分なもので
あった。また、カラーフィルタの電気伝導度が２．０×
１０-10Ｓ／ｃｍ以下であるものの、ブラックマトリッ
クスの電気伝導度が９．０×１０-9Ｓ／ｃｍを超えるカ
ラーフィルタ基板（比較試料Ｃ）を使用した場合（試料
５）も、横電界の安定性は不十分なものであった。
【００４０】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればカ
ラーフィルタ基板を構成するブラックマトリックスの電
気伝導度を９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下とし、カラーフ
ィルタ（着色パターン）の電気伝導度を２．０×１０
-10Ｓ／ｃｍ以下とするので、画素電極と共通電極とで
形成する基板の界面とほぼ平行な方向の横電界の安定性
が大幅に向上し、液晶分子の逆回転（リバースツイス
ト）が格段に低減され、広視野角特性を有し表示ムラの
ない良好な画像表示が可能な液晶表示装置が得られる。
ラーフィルタ基板を構成するブラックマトリックスの電
気伝導度を９．０×１０-9Ｓ／ｃｍ以下とし、カラーフ
ィルタ（着色パターン）の電気伝導度を２．０×１０
-10Ｓ／ｃｍ以下とするので、画素電極と共通電極とで
形成する基板の界面とほぼ平行な方向の横電界の安定性
が大幅に向上し、液晶分子の逆回転（リバースツイス
ト）が格段に低減され、広視野角特性を有し表示ムラの
ない良好な画像表示が可能な液晶表示装置が得られる。
【図１】本発明のＩＰＳ液晶モードの液晶表示装置の１
実施形態を示す１画素分の断面図である。
実施形態を示す１画素分の断面図である。
【図２】図１に示される液晶表示装置を構成する電極基
板の平面図であり、Ａ−Ａ線における縦断面が図１の電
極基板の断面に相当する。
板の平面図であり、Ａ−Ａ線における縦断面が図１の電
極基板の断面に相当する。
【図３】実施例における電極基板の櫛歯状の電極を示す
平面図である。
平面図である。
【符号の説明】
１…液晶表示装置
５…液晶層
１１…カラーフィルタ基板
１２…基板
１３…ブラックマトリックス
１４…カラーフィルタ
１４Ｒ…赤色着色パターン ２１…電極基板
２２…基板
２３…共通電極
２７…画素電極
３１…薄膜トランジスタ部
Claims (2)
- 【請求項１】 ブラックマトリックス、複数色の着色パ
ターンからなるカラーフィルタ、前記ブラックマトリッ
クスおよびカラーフィルタを覆うように形成された保護
層を有するカラーフィルタ基板と、基板面と平行に設け
られた画素電極および共通電極を有する電極基板と、該
電極基板と前記カラーフィルタ基板との間に液晶物質を
挟持して形成した液晶層とを備える液晶表示装置におい
て、 ブラックマトリックスの電気伝導度は９．０×１０-9Ｓ
／ｃｍ以下であり、着色パターンの電気伝導度は２．０
×１０-10Ｓ／ｃｍ以下であることを特徴とする液晶表
示装置。 - 【請求項２】 前記ブラックマトリックスは、樹脂成分
中に高抵抗カーボンブラックおよび酸化チタンのいずれ
かを含有するものであることを特徴とする請求項１に記
載の液晶表示装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002103481A JP2003295169A (ja) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | 液晶表示装置 |
| US10/406,528 US20040017533A1 (en) | 2002-04-05 | 2003-04-03 | Liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002103481A JP2003295169A (ja) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003295169A true JP2003295169A (ja) | 2003-10-15 |
Family
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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