JP2004207389A - 照明光学装置、露光装置、露光方法、照明光学装置の調整方法、および露光装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光量損失を良好に抑えつつ、被照射面に形成される照明領域の位置を調整することのできる照明光学装置。
【解決手段】光源（１）からの光束に基づいて被照射面（Ｍ）を照明するための照明光学装置。光源と被照射面との間の光路中に配置されて光源からの光束に基づいて二次光源を形成するためのオプティカルインテグレータ（７）と、オプティカルインテグレータと被照射面との間の光路中に配置されて二次光源からの光束を被照射面へ導くための導光光学系（９，１０，１１）とを備えている。導光光学系は、被照射面に形成される照明領域の位置を調整するために微動可能に構成された反射鏡（Ｍ２）を有する。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、照明光学装置、露光装置、露光方法、照明光学装置の調整方法、および露光装置の製造方法に関する。特に、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に好適な照明光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光束が、たとえばフライアイレンズのようなオプティカルインテグレータに入射し、その後側焦点面に多数の光源からなる二次光源を形成する。二次光源からの光束は、コンデンサー光学系により集光された後、マスク（またはレチクル）と共役な所定面に照野を形成する。この所定面の近傍には、照明視野絞りとしてのマスクブラインドが配置されている。
【０００３】
したがって、所定面に形成された照野からの光束は、照明視野絞りを介して制限された後、結像光学系を介して所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。こうして、マスク上には、照明視野絞りの開口部の像が照明領域として形成される。マスクのパターンを透過した光は、投影光学系を介して感光性基板（たとえばウェハなど）上に結像する。こうして、感光性基板上には、マスクパターンが投影露光（転写）される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
露光装置では、光源からオプティカルインテグレータ、導光光学系（コンデンサー光学系、結像光学系など）、マスク、投影光学系を介して感光性基板に至る光路は非常に長い。したがって、露光装置は複数のユニットにより構成されており、ユニット毎に組立調整した後にこれらの複数のユニットを総合的に組み合わせることにより露光装置が最終的に製造される。特に、投影光学系に許容される残存収差は非常に小さいため、マスクと投影光学系と感光性基板とは光軸に沿って高精度に位置決めされる。
【０００５】
この場合、光軸に沿って高精度に位置決めされたマスクと投影光学系と感光性基板との合成ユニットに対して、複数のユニットからなる照明光学装置を正確に組み合わせてマスク上に形成される照明領域の位置と投影光学系の視野領域の位置とを一致させることは非常に困難であった。そこで、従来技術では、上述のマスクブラインドを光軸と直交する方向に沿って移動させることにより、投影光学系の視野領域の位置に応じてマスク上に形成される照明領域の位置を調整していた。
【０００６】
しかしながら、マスクブラインドを移動させてマスク上に形成される照明領域の位置を調整する従来技術では、マスクブラインドの移動範囲に応じてマスクブラインドの開口部よりもかなり大きな領域を照明する必要がある。その結果、従来技術では、マスクブラインドにおいてある程度の光が照明に寄与することなく遮られ、このマスクブラインドにおける光量損失に起因して露光装置のスループットが低下し易いという不都合があった。
【０００７】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、光量損失を良好に抑えつつ、被照射面に形成される照明領域の位置を調整することのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、光量損失を良好に抑えつつ被照射面に形成される照明領域の位置を調整することのできる照明光学装置を用いて、高精度な投影露光を高いスループットで行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、光源からの光束に基づいて被照射面を照明するための照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置されて前記光源からの光束に基づいて二次光源を形成するためのオプティカルインテグレータと、
前記オプティカルインテグレータと前記被照射面との間の光路中に配置されて前記二次光源からの光束を前記被照射面へ導くための導光光学系とを備え、
前記導光光学系は、前記被照射面に形成される照明領域の位置を調整するために微動可能に構成された反射鏡を有することを特徴とする照明光学装置を提供する。
【０００９】
第１形態の好ましい態様によれば、前記反射鏡は平面状の反射面を有する。また、前記反射鏡は、前記導光光学系の光軸に沿って移動可能に構成されていることが好ましい。さらに、前記反射鏡は、所定の軸線を中心として回転可能に構成されていることが好ましい。
【００１０】
また、第１形態の好ましい態様によれば、前記導光光学系は、前記被照射面と光学的にほぼ共役な位置に配置されて前記被照射面に形成される照明領域の形状および大きさを規定するための視野絞りを有する。さらに、前記導光光学系は複数の反射鏡を備え、前記照明領域の位置を調整するために微動可能に構成された前記反射鏡は、前記複数の反射鏡のうち最も前記被照射面側に配置されていることが好ましい。
【００１１】
本発明の第２形態では、第１形態の照明光学装置と、前記被照射面に配置されたマスクのパターンを感光性基板に投影露光するための投影光学系とを備え、
前記照明光学装置は、前記照明領域の位置を前記投影光学系の視野領域の位置に応じて調整することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１２】
本発明の第３形態では、第１形態の照明光学装置を介してマスクを照明する照明工程と、
照明された前記マスクに形成されたパターンの像を感光性基板上に投影露光する投影露光工程とを備え、
前記照明光学装置による前記照明領域の位置は、前記投影光学系の視野領域に位置決めされていることを特徴とする露光方法を提供する。
【００１３】
本発明の第４形態では、光源からの光束に基づいて形成された二次光源からの光束を被照射面へ導くための導光光学系を備えた照明光学装置の調整方法において、
前記導光光学系の光路中に配置された反射鏡を微動させて前記被照射面に形成される照明領域の位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする調整方法を提供する。
【００１４】
第４形態の好ましい態様によれば、前記調整工程は、前記導光光学系の光軸に沿って前記反射鏡を移動させる移動工程および所定の軸線を中心として前記反射鏡を回転させる回転工程のうちの少なくとも一方の工程を含む。また、前記導光光学系は複数の反射鏡を備え、前記調整工程では、前記複数の反射鏡のうちの最も前記被照射面側に配置された前記反射鏡を微動させて前記被照射面に形成される前記照明領域の位置を調整することが好ましい。
【００１５】
本発明の第５形態では、光源からの光束に基づいて形成された二次光源からの光束をマスクへ導くための導光光学系を有する照明光学装置と、該照明光学装置により照明された前記マスクのパターンを感光性基板に投影露光するための投影光学系とを備えた露光装置の製造方法において、
前記投影光学系を所定位置に設置する第１設置工程と、
前記照明光学装置を所定位置に設置する第２設置工程と、
前記導光光学系の光路中に配置された反射鏡を微動させて前記マスクに形成される照明領域の位置を前記マスク上における前記投影光学系の視野領域に対して調整する調整工程とを含むことを特徴とする製造方法を提供する。
【００１６】
第５形態の好ましい態様によれば、前記調整工程は、前記導光光学系の光軸に沿って前記反射鏡を移動させる移動工程および所定の軸線を中心として前記反射鏡を回転させる回転工程のうちの少なくとも一方の工程を含む。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるウェハＷの法線方向に沿ってＺ軸を、ウェハ面内において図１の紙面に平行な方向にＹ軸を、ウェハ面内において図１の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定している。図１の露光装置は、露光光（照明光）を供給するための光源１として、波長が１９３ｎｍの光を供給するＡｒＦエキシマレーザー光源を備えている。
【００１８】
光源１からＹ方向に沿って射出されたほぼ平行光束は、Ｘ方向に沿って細長く延びた矩形状の断面を有し、一対のレンズ２ａおよび２ｂからなるビームエキスパンダー２に入射する。各レンズ２ａおよび２ｂは、図１において負の屈折力および正の屈折力をそれぞれ有する。また、一対のレンズ２ａおよび２ｂのうちの少なくとも一方が、光軸ＡＸに沿って移動可能に構成されている。したがって、ビームエキスパンダー２に入射した光束は、一対のレンズ２ａと２ｂとの間隔に応じて図１の紙面内において拡大され、所望の矩形状の断面を有する光束に整形される。
【００１９】
整形光学系としてのビームエキスパンダー２を介したほぼ平行光束は、折り曲げミラーでＺ方向に偏向された後、回折光学素子３を介して、アフォーカルズームレンズ４に入射する。一般に、回折光学素子は、基板に露光光（照明光）の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には、回折光学素子３は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、そのファーフィールド（またはフラウンホーファー回折領域）に円形状の光強度分布を形成する機能を有する。
【００２０】
したがって、回折光学素子３を介した光束は、アフォーカルズームレンズ４の瞳位置に円形状の光強度分布、すなわち円形状の断面を有する光束を形成する。アフォーカルズームレンズ４は、アフォーカル系（無焦点光学系）を維持しながら所定の範囲で倍率を連続的に変化させることができるように構成されている。アフォーカルズームレンズ４を介した光束は、たとえば輪帯照明用の回折光学素子５に入射する。アフォーカルズームレンズ４は、回折光学素子３の発散原点と回折光学素子５の回折面とを光学的にほぼ共役に結んでいる。そして、回折光学素子５の回折面またはその近傍の面の一点に集光する光束の開口数は、アフォーカルズームレンズ４の倍率に依存して変化する。
【００２１】
輪帯照明用の回折光学素子５は、平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドにリング状の光強度分布を形成する機能を有する。回折光学素子５を介した光束は、ズームレンズ６に入射する。ズームレンズ６の後側焦点面の近傍には、マイクロレンズアレイ（またはフライアイレンズ）７の入射面が位置決めされている。マイクロレンズアレイ７は、縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子である。一般に、マイクロレンズアレイは、たとえば平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成される。
【００２２】
ここで、マイクロレンズアレイを構成する各微小レンズは、フライアイレンズを構成する各レンズエレメントよりも微小である。また、マイクロレンズアレイは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズ（微小屈折面）が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、正屈折力を有するレンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロレンズアレイはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。なお、図１では、図面の明瞭化のために、マイクロレンズアレイ７を構成する微小レンズの数を実際よりも非常に少なく表している。
【００２３】
上述したように、回折光学素子３を介してアフォーカルズームレンズ４の瞳位置に形成される円形状の光強度分布からの光束は、アフォーカルズームレンズ４から射出された後、様々な角度成分を有する光束となって回折光学素子５に入射する。一方、回折光学素子５は、平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドにリング状の光強度分布を形成する光束変換素子としての機能を有する。したがって、回折光学素子５を介した光束は、ズームレンズ６の後側焦点面に（ひいてはマイクロレンズアレイ７の入射面に）、たとえば光軸ＡＸを中心とした輪帯状の照野を形成する。
【００２４】
マイクロレンズアレイ７の入射面に形成される輪帯状の照野の外径は、ズームレンズ６の焦点距離に依存して変化する。このように、ズームレンズ６は、回折光学素子５とマイクロレンズアレイ７の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に結んでいる。マイクロレンズアレイ７に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、光束が入射した各微小レンズの後側焦点面には光源がそれぞれ形成される。こうして、マイクロレンズアレイ７の後側焦点面には、マイクロレンズアレイ７への入射光束によって形成される照野とほぼ同じ光強度分布を有する輪帯状の実質的な面光源（以下、「二次光源」という）が形成される。
【００２５】
マイクロレンズアレイ７の後側焦点面に形成された輪帯状の二次光源からの光束は、その近傍に配置された開口絞り８に入射する。輪帯状の開口部（光透過部）を有する開口絞り８を介した二次光源からの光は、コンデンサー光学系９の集光作用を受けた後、その後側焦点面またはその近傍に配置されたマスクブラインド１０を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド１０には、マイクロレンズアレイ７を構成する各微小レンズの形状と相似な矩形状の照野が形成される。
【００２６】
マスクブラインド１０の矩形状の開口部（光透過部）を介した光束は、結像光学系１１の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。こうして、結像光学系１１は、マスクブラインド１０の矩形状の開口部の像をマスクＭ上に形成することになる。なお、結像光学系１１の光路中にはＺ方向に沿って入射する光をＹ方向に偏向するための第１平面反射鏡Ｍ１が配置されている。また、結像光学系１１とマスクＭとの間の光路中にはＹ方向に沿って入射する光をＺ方向に偏向するための第２平面反射鏡Ｍ２が配置されている。第２平面反射鏡Ｍ２の構成および作用については後述する。
【００２７】
このように、コンデンサー光学系９、マスクブラインド１０および結像光学系１１は、二次光源からの光束をマスクＭへ導くための導光光学系を構成している。マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるウェハＷ上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内においてウェハＷを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハＷの各露光領域にはマスクＭのパターンが逐次露光される。
【００２８】
なお、一括露光では、いわゆるステップ・アンド・リピート方式にしたがって、ウェハの各露光領域に対してマスクパターンを一括的に露光する。この場合、マスクＭ上での照明領域の形状は正方形に近い矩形状であり、マイクロレンズアレイ７の各微小レンズの断面形状も正方形に近い矩形状となる。一方、スキャン露光では、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、マスクおよびウェハを投影光学系に対して相対移動させながらウェハの各露光領域に対してマスクパターンをスキャン露光する。この場合、マスクＭ上での照明領域の形状は短辺と長辺との比がたとえば１：３の矩形状であり、マイクロレンズアレイ７の各微小レンズの断面形状もこれと相似な矩形状となる。
【００２９】
図２は、第２平面反射鏡の構成および作用を概略的に示す図である。図２を参照すると、第２平面反射鏡Ｍ２は、導光光学系（９，１０，１１）の光軸ＡＸに沿って移動可能に、すなわちＹ方向およびＺ方向に沿ってそれぞれ移動可能に構成されている。また、第２平面反射鏡Ｍ２は、その反射面と光軸ＡＸとの交点を通りＸ方向に沿って延びる第１軸線Ｒ１を中心として回転可能に構成されている。さらに、第２平面反射鏡Ｍ２は、その反射面と光軸ＡＸを含む平面との交差線として規定される第２軸線Ｒ２を中心として回転可能に構成されている。
【００３０】
したがって、第２平面反射鏡Ｍ２をＹ方向に沿って移動させることにより、あるいは第２平面反射鏡Ｍ２をＺ方向に沿って移動させることにより、あるいは第２平面反射鏡Ｍ２を第１軸線Ｒ１廻りに回転させることにより、マスクＭ上に形成される照明領域ＩＲをＹ方向に沿って移動させることができる。一方、第２平面反射鏡Ｍ２を第２軸線Ｒ２廻りに回転させることにより、マスクＭ上に形成される照明領域ＩＲをＸ方向に沿って移動させることができる。
【００３１】
こうして、本実施形態にかかる露光装置の製造に際して、投影光学系ＰＬを組み立てて所定位置に設置し、照明光学装置（１〜１１）を組み立てて所定位置に設置した後に、第２平面反射鏡Ｍ２を微動させてマスクＭ上に形成される照明領域ＩＲの位置をマスクＭ上における投影光学系ＰＬの視野領域に対して調整することになる。以上のように、本実施形態では、第２平面反射鏡Ｍ２を微動させることにより、マスクＭ上に形成される照明領域ＩＲの位置を調整することができる。したがって、マスクブラインドを移動させて照明領域の位置を調整する従来技術とは異なり、マスクブラインド１０において光量損失の発生を実質的に回避することができる。すなわち、本実施形態では、光量損失を良好に抑えつつ、投影光学系ＰＬの視野領域の位置に応じてマスクＭ上に形成される照明領域ＩＲの位置を調整することができ、ひいては高精度な投影露光を高いスループットで行うことができる。
【００３２】
なお、上述の実施形態では、第２平面反射鏡Ｍ２がＹ方向およびＺ方向に沿ってそれぞれ移動可能に構成されるとともに、第１軸線Ｒ１を中心として回転可能に構成されている。しかしながら、これに限定されることなく、マスクＭ上に形成される照明領域ＩＲをＹ方向に沿って移動させるには、第２平面反射鏡Ｍ２がＹ方向に沿って移動可能か、あるいはＺ方向に沿って移動可能か、あるいは第１軸線Ｒ１を中心として回転可能に構成されていればよい。
【００３３】
また、上述の実施形態では、結像光学系１１とマスクＭとの間の光路中に配置された第２平面反射鏡Ｍ２を微動させてマスクＭ上に形成される照明領域ＩＲの位置を調整している。しかしながら、これに限定されることなく、結像光学系１１の光路中に配置された第１平面反射鏡Ｍ１を微動させることにより、あるいは第２平面反射鏡Ｍ２と第１平面反射鏡Ｍ１との双方を微動させることにより、照明領域ＩＲの位置を調整することもできる。ただし、２つの平面反射鏡Ｍ１およびＭ２のうち最もマスク側に配置された第２平面反射鏡Ｍ２を微動させる方が、すなわちマスクＭに近い平面反射鏡を微動させる方が、照明領域ＩＲの位置を安定的に調整することができる。
【００３４】
さらに、上述の実施形態では、オプティカルインテグレータとしてのマイクロレンズアレイ７とマスクＭとの間の光路中に、マスクＭ上に形成される照明領域ＩＲの形状および大きさを規定するための照明視野絞りとしてのマスクブラインド１０が配置されている。しかしながら、これに限定されることなく、図３に示すようにオプティカルインテグレータとしてのマイクロレンズアレイ７とマスクＭとの間の光路中に照明視野絞りが介在しない変形例においても、マスクＭの直ぐ光源側に配置された平面反射鏡Ｍ３を微動させてマスクＭ上に形成される照明領域ＩＲの位置を調整することができる。
【００３５】
また、上述の実施形態では、輪帯照明用の回折光学素子５を用いて輪帯照明を行っているが、これに限定されることなく、回折光学素子５に代えて４極照明用の回折光学素子を照明光路中に設定することにより４極照明を行ったり、回折光学素子３を照明光路から退避させるとともに、回折光学素子５に代えて円形照明用の回折光学素子を照明光路中に設定することにより円形照明を行ったりすることもできる。
【００３６】
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク（レチクル）を照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、本実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図４のフローチャートを参照して説明する。
【００３７】
先ず、図４のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、そのｌロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、本実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
【００３８】
また、本実施形態の露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図５のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図５において、パターン形成工程４０１では、本実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程４０２へ移行する。
【００３９】
次に、カラーフィルター形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００４０】
その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【００４１】
なお、上述の実施形態では、ＡｒＦエキシマレーザー光源を用いているが、これに限定されることなく、たとえば波長が２４８ｎｍの光を供給するＫｒＦエキシマレーザー光源や波長が１５６ｎｍの光を供給するＦ₂エキシマレーザー光源のような他の適当な光源を用いることもできる。また、上述の実施形態では、照明光学装置を備えた投影露光装置を例にとって本発明を説明したが、マスク以外の被照射面を照明するための一般的な照明光学装置に本発明を適用することができることは明らかである。
【００４２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の照明光学装置では、導光光学系の光路中に配置された反射鏡を微動させることにより、被照射面上に形成される照明領域の位置を調整することができるので、視野絞りを移動させて照明領域の位置を調整する従来技術とは異なり、視野絞りにおいて光量損失の発生を実質的に回避することができる。その結果、光量損失を良好に抑えつつ、被照射面に形成される照明領域の位置を調整することができる。
【００４３】
したがって、本発明の照明光学装置を用いる露光装置および露光方法では、投影光学系の視野領域の位置に応じてマスク上に形成される照明領域の位置を調整することができ、ひいては高精度な投影露光を高いスループットで行うことができ、高いスループットで良好なデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】第２平面反射鏡の構成および作用を概略的に示す図である。
【図３】本実施形態の変形例にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図４】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法のフローチャートである。
【図５】マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法のフローチャートである。
【符号の説明】
１ 光源
３，５ 回折光学素子
４ アフォーカルズームレンズ
６ ズームレンズ
７ マイクロレンズアレイ
８ 開口絞り
９ コンデンサー光学系
１０ マスクブラインド（照明視野絞り）
１１ 結像光学系
Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３ 平面反射鏡
Ｍ マスク
ＰＬ 投影光学系
Ｗ ウェハ
ＩＲ 照明領域

Claims (13)

1. 光源からの光束に基づいて被照射面を照明するための照明光学装置において、
   前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置されて前記光源からの光束に基づいて二次光源を形成するためのオプティカルインテグレータと、
   前記オプティカルインテグレータと前記被照射面との間の光路中に配置されて前記二次光源からの光束を前記被照射面へ導くための導光光学系とを備え、
   前記導光光学系は、前記被照射面に形成される照明領域の位置を調整するために微動可能に構成された反射鏡を有することを特徴とする照明光学装置。
2. 前記反射鏡は平面状の反射面を有することを特徴とする請求項１に記載の照明光学装置。
3. 前記反射鏡は、前記導光光学系の光軸に沿って移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学装置。
4. 前記反射鏡は、所定の軸線を中心として回転可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明光学装置。
5. 前記導光光学系は、前記被照射面と光学的にほぼ共役な位置に配置されて前記被照射面に形成される照明領域の形状および大きさを規定するための視野絞りを有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の照明光学装置。
6. 前記導光光学系は複数の反射鏡を備え、
   前記照明領域の位置を調整するために微動可能に構成された前記反射鏡は、前記複数の反射鏡のうち最も前記被照射面側に配置されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学装置。
7. 請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明光学装置と、前記被照射面に配置されたマスクのパターンを感光性基板に投影露光するための投影光学系とを備え、
   前記照明光学装置は、前記照明領域の位置を前記投影光学系の視野領域の位置に応じて調整することを特徴とする露光装置。
8. 請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明光学装置を介してマスクを照明する照明工程と、
   照明された前記マスクに形成されたパターンの像を感光性基板上に投影露光する投影露光工程とを備え、
   前記照明光学装置による前記照明領域の位置は、前記投影光学系の視野領域に位置決めされていることを特徴とする露光方法。
9. 光源からの光束に基づいて形成された二次光源からの光束を被照射面へ導くための導光光学系を備えた照明光学装置の調整方法において、
   前記導光光学系の光路中に配置された反射鏡を微動させて前記被照射面に形成される照明領域の位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする調整方法。
10. 前記調整工程は、前記導光光学系の光軸に沿って前記反射鏡を移動させる移動工程および所定の軸線を中心として前記反射鏡を回転させる回転工程のうちの少なくとも一方の工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の調整方法。
11. 前記導光光学系は複数の反射鏡を備え、
    前記調整工程では、前記複数の反射鏡のうちの最も前記被照射面側に配置された前記反射鏡を微動させて前記被照射面に形成される前記照明領域の位置を調整することを特徴とする請求項９または１０に記載の調整方法。
12. 光源からの光束に基づいて形成された二次光源からの光束をマスクへ導くための導光光学系を有する照明光学装置と、該照明光学装置により照明された前記マスクのパターンを感光性基板に投影露光するための投影光学系とを備えた露光装置の製造方法において、
    前記投影光学系を所定位置に設置する第１設置工程と、
    前記照明光学装置を所定位置に設置する第２設置工程と、
    前記導光光学系の光路中に配置された反射鏡を微動させて前記マスクに形成される照明領域の位置を前記マスク上における前記投影光学系の視野領域に対して調整する調整工程とを含むことを特徴とする製造方法。
13. 前記調整工程は、前記導光光学系の光軸に沿って前記反射鏡を移動させる移動工程および所定の軸線を中心として前記反射鏡を回転させる回転工程のうちの少なくとも一方の工程を含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。

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