JP2004207453A

JP2004207453A - 回転処理装置

Info

Publication number: JP2004207453A
Application number: JP2002374117A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Nagayasu; 宏長安
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2002-12-25
Filing date: 2002-12-25
Publication date: 2004-07-22

Abstract

【課題】処理時に、被処理基板を保持する回転台の切欠部を通って巻き込まれるパーティクルの被処理基板への付着を防止すること。
【解決手段】駆動モータ２によって回転されるチャックプレート１ａと、チャックプレート１ａと共に回転すると共に、チャックプレート１ａの上方でウエハＷの周縁部を係脱可能に保持する保持部材３と、チャックプレート１ａの周縁部に設けられ、チャックプレート１ａに対してウエハＷを受け渡しする主ウエハ搬送アーム７１が昇降可能な切欠部１ｃとを具備し、チャックプレート１ａの回転によってウエハＷを回転させながら、ウエハＷに対して所定の処理を施す回転処理装置において、チャックプレート１ａに、このチャックプレート１ａの回転中に切欠部１ｃを塞ぐ閉塞手段６を設ける。これにより、処理時にチャックプレート１ａの切欠部１ｃを通るパーティクルの巻き込みが阻止され、ウエハＷへの付着が防止される。
【選択図】図６

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、回転処理装置に関するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬＣＤ基板等の基板の表裏面に所定の処理例えば洗浄処理を施す回転処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、例えば半導体ウエハやＬＣＤ基板等の半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ基板等（以下にウエハ等という）の表裏面、特に半導体デバイスが形成されるウエハ等の表面の清浄度を高く維持する必要があるため、種々の製造工程の前後でウエハ等の表裏面に例えば洗浄処理等が施されている。
【０００３】
従来のこの種の回転処理装置として、回転駆動源によって回転されるウエハ等の外径と略同径の回転台と、この回転台と共に回転し、かつ、回転台の上方でウエハ等の周縁部を保持自在な保持部材とを備え、回転台の回転によってウエハ等を回転させながら、このウエハ等に対して所定の処理例えば洗浄処理を施す回転処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１０−２０９２５４号公報（「特許請求の範囲」、段落番号００１２〜００１４、００１７〜００１９、図２、図３）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この種の回転処理装置は、ウエハ等の表裏面を適宜処理する複数の処理ユニット等を有する処理部と、各処理ユニットにウエハ等を搬送する基板搬送手段とを具備する洗浄処理システムに組み込まれて使用されている。このとき、基板搬送手段によって搬送されるウエハ等を回転処理装置の回転台に受け渡す、あるいは、回転台から基板搬送手段に受け渡す。
【０００６】
しかしながら、回転台の周縁部に切欠部が設けられていると、裏面洗浄処理中に、この切欠部からパーティクルが進入して回転台に保持されているウエハ等の下面（実際の表面）にパーティクルが付着するという問題があった。
【０００７】
この発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、処理時に、被処理基板を保持する回転台の周縁部に設けられた切欠部を閉塞手段によって閉塞することによって被処理基板へのパーティクルの付着を防止するようにした回転処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の回転処理装置は、回転駆動手段によって回転される回転台と、この回転台と共に回転すると共に、回転台の上方で被処理基板の周縁部を保持する保持部材と、上記回転台の周縁部に設けられ、かつ、回転台に対して上記被処理基板を受け渡しする切欠部とを具備し、上記回転台の回転によって上記被処理基板を回転させながら、この被処理基板に対して所定の処理を施す回転処理装置において、上記回転台に、この回転台の回転中に上記切欠部を塞ぐ閉塞手段を設けた、ことを特徴とする（請求項１）。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の回転処理装置において、上記閉塞手段は、回転台の下部において回転台の半径方向に設置されるガイド部材と、このガイド部材に摺動自在に保持される閉塞板と、この閉塞板が切欠部を開放するように弾性力を付勢するばね部材とを具備し、上記回転台の回転による遠心力によって上記ばね部材の弾性力に抗して上記閉塞板が移動し、上記切欠部を閉塞可能に形成してなる、ことを特徴とする。この場合、上記閉塞板は、上記回転台の下部において回転台の半径方向に設置されるガイド部材に摺動自在に保持されるものであれば、その形態は任意であっても差し支えないが、好ましくは、閉塞板を、切欠部を塞ぐ閉塞基部と、この閉塞基部から外方に延出されてガイド部材に摺動自在に保持される摺動翼片とで構成する方がよい（請求項３）。
【００１０】
請求項４記載の発明は、請求項１記載の回転処理装置において、上記閉塞手段は、回転台の下部に装着されるガイド部材によって回転台の半径方向に摺動自在な閉塞板と、この閉塞板に水平・垂直変換機構を介して連結され、かつ、閉塞板が切欠部を閉塞する方向へ移動する重錘と、この重錘と係脱可能に係合し、かつ、係合した状態で閉塞板が切欠部を開放する方向へ移動する開閉用昇降機構とを具備する、ことを特徴とする。この場合、上記閉塞板は、摺動軸を一体に形成し、上記水平・垂直変換機構は、上記摺動軸と重錘にそれぞれ枢支ピンを介して垂直方向に揺動自在に枢着されるリンク部材を具備し、上記ガイド部材は、上記摺動軸を摺動自在に貫通する水平ガイド部と、上記重錘を摺動自在に案内する垂直ガイド部とを具備し、かつ、垂直ガイド部に、上記リンク部材が移動可能なガイド溝を設けた構造とする方が好ましい（請求項５）。
【００１１】
請求項６記載の発明は、請求項１記載の回転処理装置において、上記閉塞手段は、回転台の下部に揺動自在に枢着され、かつ、自重により切欠部を開放する方向に揺動する閉塞板と、この閉塞板と係脱可能に係合し、かつ、弾性力の付勢によって閉塞板と係合して、切欠部を閉塞する方向に閉塞板を揺動させる開閉伝達部材と、この開閉伝達部材と係脱可能に係合し、かつ、開閉伝達部材と係合した状態で、上記閉塞板を弾性力に抗して開放位置に揺動する開閉用昇降機構とを具備する、ことを特徴とする。
【００１２】
請求項１記載の発明によれば、回転台に、この回転台の回転中に回転台の周縁部に設けられた切欠部を塞ぐ閉塞手段を設けることにより、処理中に、パーティクルが切欠部から巻き込まれるのを阻止することができる。したがって、回転台の上方に保持される被処理基板の下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。
【００１３】
また、請求項２記載の発明によれば、回転台の回転による遠心力によってばね部材の弾性力に抗して閉塞板が移動し、切欠部を閉塞するので、回転台の回転に伴って切欠部を閉塞板によって確実に閉塞することができ、被処理基板へのパーティクルの付着を防止することができる。また、回転台の回転停止時においては、ばね部材の弾性力によって閉塞板が切欠部を開放するので、切欠部を介して昇降する基板搬送手段の昇降を可能にし、回転台に対する被処理基板の受け渡しを円滑にすることができる。この場合、閉塞板を、切欠部を塞ぐ閉塞基部と、この閉塞基部から外方に延出されてガイド部材に摺動自在に保持される摺動翼片とで構成することにより、閉塞板を軽量化することができ、閉塞板の閉塞動作を更に確実にすることができる（請求項３）。
【００１４】
また、請求項４，５記載の発明によれば、重錘の自重によって閉塞板が切欠部を閉塞するので、処理中に、パーティクルが切欠部から巻き込まれるのを阻止することができ、回転台の上方に保持される被処理基板の下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。また、回転台の停止状態において、開閉用昇降機構を重錘に係合させて閉塞板を開放する方向へ移動することにより、切欠部を介して昇降する基板搬送手段の昇降を可能にし、回転台に対する被処理基板の受け渡しを円滑にすることができる。
【００１５】
請求項６記載の発明によれば、弾性力の付勢によって閉塞板と係合して、切欠部を閉塞する方向に閉塞板を揺動させる開閉伝達部材を具備するので、処理中に、パーティクルが切欠部から巻き込まれるのを阻止することができ、回転台の上方に保持される被処理基板の下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。また、回転台の停止状態において、開閉用昇降機構を開閉伝達部材に係合させて閉塞板を開放位置に揺動することにより、切欠部を介して昇降する基板搬送手段の昇降を可能にし、回転台に対する被処理基板の受け渡しを円滑にすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る回転処理装置を半導体ウエハの搬入、洗浄、乾燥及び搬出を連続して行う洗浄処理システムに適用した場合について説明する。
【００１７】
上記洗浄処理システムは、図１ないし図４に示すように、被処理基板である半導体ウエハＷ（以下にウエハＷという）に適宜洗浄処理を施す洗浄処理部１０と、洗浄処理部１０に対してウエハＷを搬入出する搬出入部２０とで主に構成されている。
【００１８】
上記搬出入部２０は、複数例えば２６枚のウエハＷを適宜間隔をおいて収容するキャリアＣを載置する載置台２１を有する搬入・搬出部２２と、キャリアＣと洗浄処理部１０との間でウエハＷの搬送を行うウエハ搬送機構２３と、このウエハ搬送機構２３のウエハ搬送路（図示せず）とを具備するインターフェース部２４とで構成されている。
【００１９】
この場合、搬入・搬出部２２に配設された載置台２１上には、例えば３個のキャリアＣを水平面のＹ方向に並べて所定位置に載置されている。また、搬入・搬出部２２とインターフェース部２４との仕切壁２５において、キャリアＣの載置場所に対応する位置には、窓部２６が形成されており、この窓部２６のインターフェース部２４側には、窓部２６をシャッタ等により開閉する窓部開閉機構２７が設けられている。
【００２０】
使用されるキャリアＣの構造は任意のもので差し支えなく、例えば、ウエハＷの搬入出口に搬入出口を開閉する蓋体Ｃａを設けたものを用いることができる。この場合、窓部開閉機構２７にキャリアＣの蓋体Ｃａを開閉する機能を持たせて、窓部２６にキャリアＣの搬入出側を向けてキャリアＣの蓋体Ｃａの開閉を行うことができる構造とする。このように窓部開閉機構２７によって、窓部２６とキャリアＣの蓋体Ｃａが開いた状態とすれば、インターフェース部２４に設けられたウエハ搬送機構２３がキャリアＣにアクセス可能となり、ウエハＷの搬送を行うことができるようになる。
【００２１】
なお、窓部２６には窓部２６を開閉するシャッタのみを配設し、キャリアＣの搬入出口に備えられた蓋体Ｃａは、載置台２１へ載置する際に、例えば、手動により操作して搬入出を開口する方法を用いてもよい。また、キャリアＣに蓋体Ｃａを設けない場合には、当然に蓋体の開閉機構を設ける必要はない。このように窓部２６の構造はキャリアＣの構造に対応させて適宜好適に設計することができる。
【００２２】
この場合、窓部開閉機構２７に、キャリアＣ内におけるウエハＷの収容状態、例えば、所定枚数のウエハＷが収容されているか否か、ウエハＷが前後（Ｘ方向）に飛び出して収容されていないかどうか、又は、ウエハＷが高さ方向（Ｚ方向）に斜めに収容されていないか等を検知するマッピングセンサ（図示せず）が設けられている。このマッピングセンサによりウエハＷの収容状態を検査した後に洗浄処理を開始することで、処理を確実に行うことが可能となる。
【００２３】
上記インターフェース部２４に配設されるウエハ搬送機構２３は、Ｙ方向に移動可能であり、載置台２１に載置された各キャリアＣにアクセス可能となっている。また、ウエハ搬送機構２３のウエハ保持アーム２３ａは、水平面のＸ方向に移動自在に構成されると共に、Ｘ−Ｙ平面内（θ方向）で回転自在に構成されており、窓部２６を通してキャリアＣとの間でウエハＷの受け渡しを行い、また、後述する洗浄処理部１０に配設されたウエハ受渡しユニット（ＴＲＳ）３０にアクセス可能に形成されている。
【００２４】
このように構成されるウエハ搬送機構２３は、搬入・搬出部２２側から洗浄処理部１０側へウエハＷを搬送したり、逆に、洗浄処理部１０側から搬入・搬出部２２側へウエハＷを搬送することができる。また、ウエハ搬送機構２３は、垂直方向（Ｚ方向）に昇降自在であり、キャリアＣ内の任意の高さ位置においてウエハＷの受け渡しを行うことが可能となっている。
【００２５】
一方、上記洗浄処理部１０には、ウエハＷの表裏面を反転させる反転部であるウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）４０と、インターフェース部２４との間でウエハＷの受け渡しを行うためにウエハＷを一時的に載置するウエハ受渡しユニット３０と、洗浄処理後のウエハＷを乾燥等する加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）５０が設けられている。また、ウエハＷにスクラブ洗浄を施すこの発明に係る回転処理装置を具備するスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）６０ａ〜６０ｄと、これらのウエハ反転ユニット４０、ウエハ受渡しユニット３０、スクラブ洗浄ユニット６０ａ〜６０ｄ及び加熱／冷却部５０の全てにアクセス可能に配設され、これら各ユニット又は各部との間でウエハＷの受け渡しを行う搬送手段である主ウエハ搬送機構７０が配設されている。
【００２６】
この場合、上記ウエハ反転ユニット４０は、２段積み重ねられて配設されている。このウエハ反転ユニット４０の下方には、ウエハ受渡しユニット３０が２段積み重ねられて配設されている。また、スクラブ洗浄ユニット６０ａ〜６０ｄも２段積み重ねられて配設されている。また、加熱／冷却部５０は、４段積み重ねられて配設されている。
【００２７】
なお、洗浄処理部１０には、洗浄処理システム全体の動作・制御を行うための電装ユニット（ＥＢ）８０と機械制御ユニット（ＭＢ）９０が配設され、スクラブ洗浄ユニット６０ａ〜６０ｄに供給する所定の洗浄液を貯蔵する薬液貯蔵ユニット（ＣＴＢ）１００が配設されている。
【００２８】
更に、洗浄処理部１０の天井部には、ウエハＷを取り扱う各ユニット及び主ウエハ搬送機構７０に、清浄な空気をダウンフローするためのファン・フィルターユニット（ＦＦＵ）２００が配設されている。
【００２９】
また、ウエハ反転ユニット４０における主ウエハ搬送機構７０側の側面中間部には、主ウエハ搬送機構７０の多段式の３本の主ウエハ搬送アーム７１（基板搬送手段）が挿入可能なように開口部７２が設けられており、その側面上部には、ファン・フィルターユニット２００からのダウンフローの一部を取り込むための流入口７３が設けられている。また、洗浄処理部１０とインターフェース部２４とは仕切壁７４によって区画されているが、仕切壁７４において、ウエハ反転ユニット４０とインターフェース部２４との境界にあたる部分の側面下部には、ファン・フィルターユニット２００からのダウンフローを排出する流出口７５と、流出口７５と連通する排気通路７５Ａが設けられており、ファン・フィルターユニット２００からの清浄な空気が流入口７３からウエハ反転ユニット４０内に取り込まれた後、流出口７５から排気通路７５Ａへ流れ、排気通路７５Ａに連通するダクト（図示せず）を介して外部へ排気されるようになっている。
【００３０】
このように構成することにより、ウエハ反転ユニット４０内が揚圧状態となり、インターフェース部２４から洗浄処理部１０へのパーティクル等の侵入が阻止され、洗浄処理部１０の清浄度が保持される。
【００３１】
また、ウエハ受渡しユニット３０における主ウエハ搬送機構７０側の側面には、主ウエハ搬送機構７０の主ウエハ搬送アーム７１が挿入可能な、かつ、ファン・フィルターユニット２００からのダウンフローの一部を取り込むように第１の開口部３１が設けられている。また、洗浄処理部１０とインターフェース部２４とを区画する仕切壁７４において、ウエハ受渡しユニット３０とインターフェース部２４との境界にあたる部分には第２の開口部３２が形成されており、この第２の開口部３２を介してウエハ搬送機構２３とウエハ受渡しユニット３０との間でウエハの搬送が可能となっている。
【００３２】
また、ウエハ受渡しユニット３０の底面の適宜位置には、上方に向かって突出するピン３３が設けられており、例えば、ウエハＷを保持したウエハ搬送機構２３のウエハ保持アーム２３ａをピン３３により上方に移動した後に、下降することで、ウエハＷがウエハ保持アーム２３ａからピン３３上に載置されるようになっている。
【００３３】
上下２段に配設されたウエハ受渡しユニット３０は、目的に応じて任意に使い分けをして用いることが可能である。例えば、下段のウエハ受渡しユニット３０はインターフェース部２４から洗浄処理部１０へ搬送される洗浄処理が行われていない未処理のウエハＷのみが載置され、上段のウエハ受渡しユニット３０は洗浄処理部１０からインターフェース部２４は搬送する洗浄処理済みのウエハＷのみが載置されるように用いることができる。この場合には、未処理のウエハＷからピン３３に付着したパーティクル等が、洗浄処理後のウエハＷに付着することがなく、ウエハＷの汚染が低減され、ウエハＷが清浄に保たれるようになる。
【００３４】
また、全くランダムに洗浄処理の進行状況に合わせて、あるときには２段ともに洗浄処理部１０は搬送する未処理のウエハＷを載置し、また別のときには２段ともにインターフェース部２４へ搬送する洗浄処理済みのウエハＷを載置するように用いることもできる。このようにすることにより、スループットが向上すると共に、生産性の向上が図れる。
【００３５】
上記主ウエハ搬送機構７０は、Ｚ方向に延在し、垂直壁７６ａ，７６ｂ及びこれらの間の側面開口７６ｃを有する筒状支持体７６と、その内側に筒状支持体７６に沿ってＺ方向に昇降自在に設けられたウエハ搬送体７７とを具備している。この場合、筒状支持体７６は、旋回モータ７８ａの回転駆動力によって旋回可能となっており、それに伴ってウエハ搬送体７７も一体的に旋回されるように構成されている。
【００３６】
この場合、ウエハ搬送体７７は、搬送基台７７ａと、この搬送基台７７ａに沿って前後に移動可能な、かつ筒状支持体７６の側面開口部７６ｃを通過可能な３本の主ウエハ搬送アーム７１とを備えている。これら主ウエハ搬送アーム７１は、搬送基台７７ａ内に内蔵された図示しなモータ及びベルト機構によりそれぞれ独立して進退移動し得るように構成されている。ウエハ搬送体７７は、筒状支持体７６の下部に配設された昇降用モータ７８ｂの駆動軸に装着される駆動プーリ７７ｂと、筒状支持体７６の上部に配設される従動プーリ７７ｃに掛け渡される駆動ベルト７７ｄに連結されており、昇降用モータ７８ｂの回転駆動によって駆動ベルト７７ｄを駆動させることによってウエハ搬送体７７が昇降するように構成されている。
【００３７】
図３に示すように、主ウエハ搬送機構７０を挟んで、ウエハ反転ユニット４０／ウエハ受渡しユニット３０の反対側には、加熱／冷却部５０が設けられている。この加熱／冷却部５０には、強制冷却を行う冷却ユニット５２が１台配設され、この冷却ユニット５２の上に強制加熱／自然冷却を行う加熱ユニット５１が３台積み重ねられて配設されている。これら各ユニットの主ウエハ搬送機構７０側には、主ウエハ搬送アーム７１の挿入・退出が可能なように開閉窓部５３が形成されている。
【００３８】
上記冷却ユニット５２は、例えば、上面に近接してウエハＷを保持するための複数のピン５４が上方に向かって突出して設けられた載置テーブル５５に、下方から窒素ガス等の冷却ガスを噴射して載置テーブル５５を冷却することでウエハＷを均一に冷却することができるように構成されている。一方、加熱ユニット５１は、ヒータ５７を内蔵して所定温度に保持されたホットプレート５８の上面に近接ウエハＷを保持することで、ウエハＷを均一に加熱できるように構成されている。また、加熱／冷却部５０は、スクラブ洗浄後の表面又は裏面が完全に乾燥していない状態のウエハＷの乾燥処理に主に用いられる。
【００３９】
上記スクラブ洗浄ユニット６０ａ〜６０ｄは、図１及び図２に示すように、上下２段に積み重ねて配設され、各段に２台ずつ計４台のスクラブ洗浄ユニット６０ａ〜６０ｄが配設されている。
【００４０】
スクラブ洗浄ユニット６０ａ〜６０ｄには、主ウエハ搬送機構７０の主ウエハ搬送アーム７１が挿入・退出可能なように、インターフェース部２４側に配置されているスクラブ洗浄ユニット６０ｂと同段に隣接されているスクラブ洗浄ユニット６０ａとでは、これらの境界壁６１（後述するシンク６２の一側面）について対称な構造となっており、スクラブ洗浄ユニット６０ｃと同段に隣接されているスクラブ洗浄ユニット６０ｄについても境界壁６１については対称な構造となっている（図２参照）。
【００４１】
この場合、上段に設けられたスクラブ洗浄ユニット６０ｃ，６０ｄは、直上に設けられたファン・フィルターユニット２００から直接に清浄な空気を取り込むことができ、内部のクリーン度を高く保つことが可能であるので、ウエハＷの表面洗浄に用いられる。なお、スクラブ洗浄ユニット６０ｃ，６０ｄは、その境界である仕切壁６１ｂに関して互いに対称な構造を有している（図２参照）。
【００４２】
一方、下段に設けられたスクラブ洗浄ユニット６０ａ，６０ｂについては、洗浄処理システムの壁面を利用して配管を設ける等してファン・フィルターユニット２００から内部に清浄な空気を引き込む必要があるため、通常、クリーン度は上段に設けられたスクラブ洗浄ユニット６０ｃ，６０ｄ程は高くならない。そこで、下段のスクラブ洗浄ユニット６０ａ，６０ｂは、この発明に係る回転処理装置を具備するウエハＷの裏面洗浄に用いられる。なお、スクラブ洗浄ユニット６０ａ，６０ｂは、その境界である仕切壁６１ａに関して互いに対称な構造を有している（図２参照）。
【００４３】
以下に、この発明に係る回転処理装置について、スクラブ洗浄ユニット６０ａを代表例として説明する。
【００４４】
◎第一実施形態
上記スクラブ洗浄ユニット６０ａは、図５及び図６に示すように、主ウエハ搬送アーム７１との間でウエハＷの受け渡しを行い、また、ウエハＷを略水平に保持する回転保持手段であるスピンチャック１が、主ウエハ搬送機構７０に近接した位置に設けられ、スピンチャック１に保持されたウエハＷの上面にブラシ６３ａ，６３ｂが当接するように駆動されるブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂの待機位置は、主ウエハ搬送機構７０から離れた位置に設けられている。
【００４５】
また、スクラブ洗浄ユニット６０ａの各構成部材は、図５及び図６に示すように、シンク６２内に配設されており、シンク６２の主ウエハ搬送機構７０との境界部分には、開閉窓６５が配設されており、この開閉窓６５を介して主ウエハ搬送アーム７１が進退出し得るようになっている。このため、ウエハＷを保持するスピンチャック１は、主ウエハ搬送機構７０に近い位置に配設されている。
【００４６】
スピンチャック１は、回転台であるチャックプレート１ａと、このチャックプレート１ａを支持する回転軸１ｂと、この回転軸１ｂを回転させる回転駆動手段である駆動モータ２とで主に構成されている。この場合、チャックプレート１ａの表面には、図示しない支持ピンが複数箇所に適宜配設されており、ウエハＷは支持ピンの頂点に接して載置されるようになっている。
【００４７】
また、チャックプレート１ａの周縁の３箇所には、ウエハＷの周縁部を係脱可能に保持する保持部材３が配設されている。ここで、図６の右側には保持部材３がウエハＷを保持した状態が示されている。また、昇降機構４により昇降自在な１枚の略馬蹄形状の連結プレート４ａ上には、保持部材３の配設位置に従って３箇所に加圧部材４ｂが配設されており、昇降機構４の駆動源であるシリンダ４ｃを駆動して連結プレート４ａを上昇させると、３箇所に配設された加圧部材４ｂは、同時に保持部材３の内周端をそれぞれチャックプレート１ａの裏面に押し付け、これにより、保持部材３の外周端が外側下方へ傾いてウエハＷの保持状態が解除されるようになっている。反対に昇降機構４により連結プレート４ａを下降させ、加圧部材４ｂを保持部材３から離隔すると、保持部材３の外周端は内周上方に傾いて、自然にウエハＷが保持部材３に保持される。
【００４８】
また、チャックプレート１ａの周縁部の複数箇所例えば３箇所には、切欠部１ｃが設けられている。この場合、切欠部１ｃは、チャックプレート１ａの周縁から略扇状に切り掛かれる拡開部１ｄと、この拡開部１ｄの中間部に略Ｕ字状に切り掛かれるガイド部１ｅとで形成されている。このように形成される切欠部１ｃを介して基板搬送手段である主ウエハ搬送アーム７１が主ウエハ搬送機構７０によって昇降可能に構成されて、主ウエハ搬送アーム７１とチャックプレート１ａとの間でウエハＷの受け渡しが行われるようになっている。
【００４９】
また、チャックプレート１ａには、このチャックプレート１ａの回転中すなわち処理中に、周縁部に設けられた切欠部１ｃからパーティクルが巻き込まれてウエハＷに付着するのを防止するために、切欠部１ｃすなわち拡開部１ｄ及びガイド部１ｅの全体を塞ぐ閉塞手段６が設けられている。
【００５０】
上記閉塞手段６は、図６及び図７に示すように、回転台であるチャックプレート１ａの下部において切欠部１ｃを挟んでチャックプレート１ａの半径方向に互いに平行に対峙した状態で設置される一対のガイド部材７と、このガイド部材７に摺動自在に保持される閉塞板８と、この閉塞板８が切欠部１ｃを開放するように弾性力を付勢するばね部材例えばコイルばね９とで主に構成されており、チャックプレート１ａの回転による遠心力によってコイルばね９の弾性力に抗して閉塞板８が移動し、切欠部１ｃを閉塞可能に形成されている。
【００５１】
また、閉塞板８は、例えばアルミニウム合金製板材にて形成されており、図１０に示すように、切欠部１ｃを塞ぐ先端がチャックプレート１ａの外周と相似形状を有する閉塞基部８ａと、この閉塞基部８ａの両端に延在する摺動翼片８ｂと、この摺動翼片８ｂの基端側に段部８ｃを介して閉塞基部８ａの両端から互いに平行に延出される一対の脚片８ｄとで構成されている。なお、脚片８ｄの基端側には、コイルばね９の一端部を繋着するばね係止片８ｅとストッパ片８ｆとが対峙した状態で起立されている（図８〜図１０参照）。
【００５２】
上記ガイド部材７は、例えばプラスチック製部材にて形成されており、図８，図９，図１１に示すように、先端側すなわちチャックプレート１ａの外周側にチャックプレート１ａの下面と共働して摺動翼片８ｂを摺動自在に貫挿する偏平状のガイド溝７ａを具備し、基端側すなわちチャックプレート１ａの中心側には、コイルばね９が伸縮自在に収容可能な凹溝７ｂを具備している。なお、ガイド溝７ａの基端側には、閉塞基部８ａの段部８ｃが係止する第１のストッパ面７ｃが形成されている。また、凹溝７ｂの先端側には、閉塞板８に設けられたストッパ片８ｆが係止する第２のストッパ面７ｄが形成されている。また、凹溝７ｂの基端側には、コイルばね９の他端部を繋着するばね係止片７ｅが設けられている。
【００５３】
上記のように構成される閉塞板８とガイド部材７のばね係止片８ｅ，７ｅにコイルばね９の両端部を繋着（張設）させると共に、閉塞板８の閉塞基部８ａの側部及び摺動翼片８ｂをガイド溝７ａ内に配設した状態で、ガイド部材７に設けられた取付孔７ｆを貫通する取付ねじ（図示せず）をチャックプレート１ａの下面に螺合して固定する。この状態においては、閉塞板８はコイルばね９の弾性力（収縮力）によって基端側に引っ張られて段部８ｃが第１のストッパ面７ｃに係止するので、切欠部１ｃが開放された状態となる（図７（ｂ）、図９参照）。また、チャックプレート１ａが回転、例えば４１８ｒｐｍ以上で回転すると、この回転によって遠心力が生じ、この遠心力によってコイルばね９の弾性力（収縮力）に抗して閉塞板８がチャックプレート１ａの外方側に移動して切欠部１ｃが塞がれる。なお、遠心力による閉塞板８の移動を円滑にするために、例えば、図１１（ｂ），（ｄ）に示すように、ガイド溝７ａの中央部にこのガイド溝７ａの長手方向に沿う先端が略円弧状の凸条７ｇを設けるか、あるいは、ガイド部材７の取付面とチャックプレート１ａの下面との間にスペーサ（図示せず）を介在させて、閉塞板８とガイド溝７ａとの摩擦抵抗を少なくする方が好ましい。
【００５４】
また、チャックプレート１ａの外周側はカップ６７によって包囲されている。この場合、カップ６７は、昇降機構６７Ａにより昇降自在となっている。なお、図６において、カップ６７の下段位置と上段位置が示されており、ウエハＷの搬出入時には、カップ６７は下段位置に位置され、洗浄中は、上段位置に位置してウエハＷの外周から外部へ飛散する洗浄液をカップ６７の内周下方へ導くようになっている。また、カップ６７には、上下２箇所に内方に向かって縮径するテーパ部６７ａが形成されており、このテーパ部６７ａによって洗浄液が外部へ飛散し難い構造となっている。更に、カップ６７の内周側底部には、ドレン６７ｂが形成されており、カップ６７内の排気及び洗浄液の排出が行われるようになっている。
【００５５】
また、スクラブ洗浄ユニット６０ａには、ウエハＷの上面に当接してスクラブ洗浄を行う２本のブラシ６３ａ，６３ｂが配設されている。このブラシ６３ａ，６３ｂは、それぞれブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂの先端に装着されており、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂの先端に配設された図示しない回転駆動機構により、垂直のＺ方向に平行な回転軸６４ｃ，６４ｄ回りに回転自在に構成されている。図５では、２本のブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂがカップ６７外の待機位置にある状態が示されており、ブラシ６３ａ，６３ｂは待機位置において、ブラシバス６８上に位置し、ブラシバス６８にブラシ６３ａ，６３ｂから垂れ落ちる洗浄液が捕集されるようになっている。
【００５６】
なお、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂの先端には、ブラシ６３ａ，６３ｂに所定の洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル（図示せず）が設けられており、ブラシ６３ａ，６３ｂを用いたスクラブ洗浄中には、ブラシ６３ａ，６３ｂに所定量の洗浄液が供給されるようになっている。
【００５７】
また、一方のブラシ保持アーム６４ａの基端部は駆動機構６９ａと連結され、駆動機構６９ａによりガイド６９ｃに沿ってＸ方向と平行にスライド自在に構成されており、他方のブラシ保持アーム６４ｂの基端部は駆動機構６９ｂと連結され、駆動機構６９ｂによりガイド６９ｄに沿ってＸ方向と平行にスライド自在に構成されている。このように、スクラブ洗浄ユニット６０ａでは、２本のブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂは独立して駆動することが可能となっている。また、これらの駆動機構６９ａ，６９ｂは、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂをＺ方向に上下させる昇降機構（図示せず）をも具備し、この昇降機構によりブラシ６３ａ，６３ｂの高さ調節を行うことができるようになっている。なお、ブラシ６３ａ，６３ｂが配設されているブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂの先端部分にブラシ６３ａ，６３ｂをＺ方向に昇降させる機構を設けることも可能である。
【００５８】
上記のように構成されるスクラブ洗浄ユニット６０ａによれば、例えば、スピンチャック１を回転させた状態で、カップ６７の外側近傍に配設されたリンスノズル３０１，３０２からウエハＷの表面の所定位置に洗浄液を供給してウエハＷ上に均一な液膜を形成しつつ、２本のブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂを同時に駆動してブラシ６３ａ，６３ｂをウエハＷの異なる位置に当接させながらＸ方向にスキャンさせて洗浄処理を行うことができ、この場合には、１枚のウエハＷの洗浄処理時間を短縮することが可能となる。
【００５９】
また、例えば、ブラシ６３ａ，６３ｂのウエハＷと当接する部分の材質を異なるものとして、一方を粗洗浄用、他方を仕上げ用として用いて、より精密な洗浄を行うこともできる。更に、一方のブラシを他方のブラシが故障等やブラシの摩耗等によって使用に支障をきたした場合に対処するための予備ブラシとして用いることも可能である。
【００６０】
なお、図５に示すように、シンク６２は、壁部６１ｃによってカップ６７が配設された洗浄処理室３０３と、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂの駆動機構６９ａ，６９ｂが配設された駆動機構配設室３０４とに区画されており、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂは、この壁部６１ｃに設けられた図示しない窓部を介してその先端側が洗浄処理室３０３に位置するように配設されている。この窓部は、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂのＺ方向の昇降とＸ方向でのスキャンに支障がないようにＺ方向に所定幅を有し、Ｘ方向に沿設されている。
【００６１】
このように、シンク６２内を洗浄処理室３０３と駆動機構配設室３０４とに区画することにより、駆動機構６９ａ，６９ｂで発生することが予想されるパーティクル等のスクラブ洗浄ユニット６０ａ内での拡散を防止して、ウエハＷに付着するのを防止することができる。また、カップ６７外へ飛散する洗浄液があった場合に、このような洗浄液が駆動機構６９ａ，６９ｂに付着して、駆動機構６９ａ，６９ｂの駆動に支障を生じさせないようになっている。
【００６２】
また、スクラブ洗浄ユニット６０ａには、ブラシ６３ａ，６３ｂを用いたスクラブ洗浄の他に、高速ジェット洗浄水又は超音波を印加した洗浄水による洗浄処理を行うための洗浄液吐出ノズル３０５が配設されている。この洗浄液吐出ノズル３０５は、ガイド６９ｃに沿って駆動機構３０７によりＸ方向にスキャン可能であり、かつ、Ｚ方向に昇降可能であるノズル保持アーム３０８の先端に取り付けられている。また、洗浄液吐出ノズル３０５は、高さ・角度調節機構３１０により、Ｚ方向高さ及びリンス液の吐出角度を変えることが可能となっている。このように、スクラブ洗浄ユニット６０ａには、異なる洗浄手段が配設されているので、ウエハＷの種類に応じていずれか一方のみ用いた洗浄処理を行ってもよく、また、両方の洗浄手段を前後して用いる洗浄処理を行うことも可能である。
【００６３】
なお、駆動機構３０７は、駆動機構配設室３０４内に配設され、ノズル保持アーム３０８は、ブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂと同様に壁部６１ｃに設けられた図示しない窓部を介してその先端側が洗浄処理室３０３に位置するように設けられている。このようにして、駆動機構３０７で発生するパーティクルが洗浄処理室３０３に飛散することが防止され、一方、カップ６７から洗浄液が駆動機構配設室３０４に飛散して駆動機構３０７に付着し、駆動機構３０７の駆動に支障をきたすのを防止する。
【００６４】
次に、上記洗浄処理システムにおけるウエハＷの裏面洗浄の処理工程について説明する。ここで、前提として、洗浄処理の手順としてウエハＷの表面の洗浄を行った後に裏面の洗浄を行うこととする処理レシピに従った場合について説明する。
【００６５】
まず、ウエハＷの裏面の洗浄を行うためには、ウエハＷを裏面が上面となるように反転させる必要があるので、ウエハＷを保持した主ウエハ搬送アーム７１を下段のウエハ反転ユニット４０に搬送し、ウエハ反転ユニット４０にウエハを受け渡した後、主ウエハ搬送アーム７１が後退する。ウエハ反転ユニット４０に搬送されたウエハＷは、図示しないセンサによってウエハＷの挟持・保持が確認された後、モータ（図示せず）が駆動して回転軸回りに１８０°回転して反転される。
【００６６】
このようにしてウエハＷの裏面が上面となった状態で、主ウエハ搬送アーム７１がウエハ反転ユニット４０内に挿入し、主ウエハ搬送アーム７１がウエハＷを受け取る。ウエハＷを受け取った主ウエハ搬送アーム７１は、裏面が上面となったウエハＷをスクラブ洗浄ユニット６０ａ，６０ｂのいずれか一方へ搬送する。
【００６７】
スクラブ洗浄ユニット６０ａにおいては、スピンチャック１は停止状態となっており、閉塞板８はコイルばね９の弾性力（収縮力）によってチャックプレート１ａの切欠部１ｃを開放した状態となっている。また、昇降機構４の駆動により、連結プレート４ａ及び加圧部材４ｂが上昇し、保持部材３の内周端をそれぞれチャックプレート１ａの裏面に押し付けて、保持部材３の外周端を外側下方へ傾いて待機させる。
【００６８】
その後、主ウエハ搬送アーム７１がチャックプレート１ａの上方へ進入し、切欠部１ｃを介してチャックプレート１ａの下方に移動してウエハＷをチャックプレート１ａの支持ピン上に載置する（図１２参照）。その後、主ウエハ搬送アーム７１はスクラブ洗浄ユニット６０ａ，６０ｂから後退する。昇降機構４の駆動により連結プレート４ａが下降して、加圧部材４ｂを保持部材３から離隔すると、保持部材３の外周端は内周上方に傾いて、自然にウエハＷの周縁部が保持部材３に保持される。
【００６９】
この状態で、駆動モータ２の駆動によりチャックプレート１ａが回転すると、遠心力が生じ、この遠心力によって、閉塞板８はコイルばね９の弾性力（収縮力）に抗して外方側に移動して、切欠部１ｃが塞がれる。この状態で、リンスノズル３０１，３０２からウエハＷの表面の所定位置に洗浄液を供給してウエハＷ上に均一な液膜を形成しつつ、２本のブラシ保持アーム６４ａ，６４ｂを同時に駆動してブラシ６３ａ，６３ｂをウエハＷの異なる位置に当接させながらＸ方向にスキャンさせて洗浄処理を行う。所定の時間洗浄処理が行われた後、リンスノズル３０１，３０２からの洗浄液の供給を停止すると共に、ブラシ６３ａ，６３ｂを待機位置に後退させた状態で、チャックプレート１ａを高速回転、例えば２０００ｒｐｍあるいは３０００ｒｐｍで回転させて、ウエハＷに付着する洗浄液を外方に飛散させて乾燥処理を行う。
【００７０】
したがって、洗浄処理及び乾燥処理中に、切欠部１ｃを介してウエハＷの下面（実際の表面）側にパーティクルが回り込むのを阻止することができ、ウエハＷへのパーティクルの付着を防止することができる。
【００７１】
洗浄処理が終了した後、スピンチャック１の回転が停止すると、コイルばね９の弾性力（収縮力）によって閉塞板８が基端側すなわちチャックプレート１ａの中心側に移動して切欠部１ｃを開放する。次に、昇降機構４の駆動により、連結プレート４ａ及び加圧部材４ｂが上昇し、加圧部材４ｂが保持部材３の内周端をそれぞれチャックプレート１ａの裏面に押し付けて、保持部材３の外周端を外側下方へ傾けてウエハＷの保持を解除する。そして、スクラブ洗浄ユニット６０ａ内に進入してきた主ウエハ搬送アーム７１にウエハＷを受け渡して洗浄処理が終了する。別の主ウエハ搬送アーム７１で続けて適宜次のウエハＷを、上述と同様に、チャックプレート１ａに受け渡し、一連の洗浄処理が行われる。
【００７２】
このようにして表裏面の洗浄処理が終了し、乾燥処理されたウエハＷは裏面が上面となっている状態にあるため、キャリアＣへ戻すためにウエハＷの表面が上面となるように反転処理を行う必要がある。そこで、ウエハＷは、主ウエハ搬送アーム７１によって上段のウエハ反転ユニット４０に搬送される。上段のウエハ反転ユニット４０においては、上述した下段のウエハ反転ユニット４０における反転動作と同様の動作によってウエハＷの上下を反転させる。このようにして、ウエハＷは、その表面が上面となった状態で、主ウエハ搬送アーム７１に戻される。
【００７３】
表面が上面となって主ウエハ搬送アーム７１に保持されたウエハＷは、上段のウエハ受渡しユニット３０ａへ搬送され、更にこのウエハ受渡しユニット３０ａ内からウエハ保持アーム２３ａによってインターフェース部２４内へ搬送された後、キャリアＣ内に収容された全てのウエハＷに付いて終了した後は、ウエハＷ収容されたキャリアＣは次の工程へと送られる。
【００７４】
◎第二実施形態
図１３は、この発明における閉塞手段の第二実施形態の切欠部の閉塞状態及び開放状態を示す断面図である。
【００７５】
第二実施形態の閉塞手段６Ａは、回転台であるチャックプレート１ａの下部に装着されるガイド部材６１０によってチャックプレート１ａの半径方向に摺動自在な閉塞板６２０と、この閉塞板６２０に水平・垂直変換機構６３０を介して連結され、かつ、閉塞板６２０が切欠部１ｃを閉塞する方向へ移動する例えば円柱状の重錘６４０と、この重錘６４０と係脱可能に係合し、かつ、係合した状態で閉塞板６２０を開放する方向へ移動する開閉用昇降機構６５０とを具備している。
【００７６】
この場合、閉塞板６２０は、基端側すなわちチャックプレート１ａの中心側に摺動軸６２１を一体に形成してなり、摺動軸６２１がガイド部材６１０に設けられた水平ガイド部６１１に摺動自在に貫通されている。
【００７７】
また、水平・垂直変換機構６３０は、摺動軸６２１と重錘６４０にそれぞれ枢支ピン６３１，６３２を介して垂直方向に揺動自在に枢着されるリンク部材６３３を具備している。
【００７８】
また、ガイド部材６１０は、摺動軸６２１を摺動自在に貫通する水平ガイド部６１１と、重錘６４０を摺動自在に案内する垂直ガイド部６１２とを具備し、かつ、垂直ガイド部６１２の側壁部に、リンク部材６３３が移動可能なスリット状のガイド溝６１３が設けられている。
【００７９】
また、開閉用昇降機構６５０は、重錘６４０の下端面に当接係合する複数例えば３個の加圧部材６５１と、これら加圧部材６５１を立設した状態で連結する連結プレート６５２と、この連結プレート６５２を昇降可能に支持する昇降駆動源例えばシリンダ６５３とで構成されている。
【００８０】
上記のように構成される閉塞手段６Ａは、重錘６４０の自重によって閉塞板６２０が切欠部１ｃを閉塞するので、処理中に、パーティクルが切欠部１ｃから巻き込まれるのを阻止することができる。したがって、チャックプレート１ａの上方に保持されるウエハＷの下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。
【００８１】
また、チャックプレート１ａの停止状態において、開閉用昇降機構６５０のシリンダ６５３の駆動により、連結プレート６５２及び加圧部材６５１が上昇し、加圧部材６５１を重錘６４０に係合させて重錘６４０を上方へ押し上げると、重錘６４０の上昇に伴って水平・垂直変換機構６３０のリンク部材６３３の上端側すなわち摺動軸６２１の枢支ピン６３１がチャックプレート１ａの中心側に移動して、閉塞板６２０が切欠部１ｃを開放する方向へ移動される。これにより、切欠部１ｃを介して昇降する主ウエハ搬送アーム７１の昇降が可能となり、スピンチャック１に対するウエハＷの受け渡しを行うことができる。なお、この場合、上記昇降機構４の駆動源であるシリンダ４ｃ及び連結プレート４ａと開閉用昇降機構６５０のシリンダ６５３及び連結プレート６５２とを共通にすることも可能である。このように構成することによって構成部材の削減が図れると共に、装置の小型化が図れる。
【００８２】
なお、第二実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００８３】
◎第三実施形態
図１４は、この発明における閉塞手段の第三実施形態の切欠部の閉塞状態及び開放状態を示す断面図である。
【００８４】
第三実施形態の閉塞手段６Ｂは、回転台であるチャックプレート１ａの下部に揺動自在に枢着され、かつ自重により開放する閉塞板６２０Ｂと、この閉塞板６２０Ｂと係脱可能に係合し、かつ、弾性力例えば圧縮コイルばね６６０の弾発力の付勢によって閉塞板６２０Ｂと係合して、切欠部１ｃを閉塞する方向に閉塞板６２０Ｂを揺動させる開閉伝達部材６７０と、この開閉伝達部材６７０と係脱可能に係合し、かつ、開閉伝達部材６７０と係合した状態で、閉塞板６２０Ｂを圧縮コイルばね６６０の弾性力（弾発力）に抗して開放位置に揺動する開閉用昇降機構６５０Ｂとを具備する。
【００８５】
この場合、閉塞板６２０Ｂは、チャックプレート１ａの下面に装着される一対のブラケット６２２間に枢支ピン６２３を介して垂直方向に揺動（回動）自在に枢着される断面クランク状の板部材にて形成されている。この閉塞板６２０Ｂの枢着部側端面すなわちチャックプレート１ａの中心側面に、下向き傾斜面６７１が形成されている。
【００８６】
また、開閉伝達部材６７０は、スピンチャック１の中心側との間に縮設された圧縮コイルばね６６０を介しチャックプレート１ａの下面部に装着されている。この開閉伝達部材６７０の先端面すなわちチャックプレート１ａの外周側面には、閉塞板６２０Ｂに形成された下向き傾斜面６７１に摺接係合可能な上向き傾斜面６７１が形成されている。また、開閉伝達部材６７０の下面中央部には係合脚片６７２が垂下されており、この係合脚片６７２の下面に、チャックプレート１ａの外方側に係合傾斜受け面６７３が形成されている。
【００８７】
一方、開閉用昇降機構６５０Ｂは、開閉伝達部材６７０の下端面に形成された係合傾斜受け面６７３に摺接係合し、かつ上端面に、チャックプレート１ａの中心側に係合傾斜面６５４を有する複数例えば３個の加圧部材６５１Ｂと、これら加圧部材６５１Ｂを立設した状態で連結する略馬蹄形状の連結プレート６５２Ｂと、この連結プレート６５２Ｂを昇降可能に支持する昇降駆動源例えばシリンダ６５３Ｂとで構成されている。
【００８８】
上記のように構成される閉塞手段６Ｂは、図１４（ａ）に示すように、圧縮コイルばね６６０の弾性力（弾発力）によって閉塞板６２０Ｂが切欠部１ｃを閉塞するので、処理中に、パーティクルが切欠部１ｃから巻き込まれるのを阻止することができる。したがって、チャックプレート１ａの上方に保持されるウエハＷの下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。
【００８９】
また、チャックプレート１ａの停止状態において、開閉用昇降機構６５０Ｂのシリンダ６５３Ｂの駆動により、連結プレート６５２Ｂ及び加圧部材６５１Ｂが上昇し、加圧部材６５１Ｂの係合傾斜面６５４と開閉伝達部材６７０の係合傾斜受け面６７３とが係合して、開閉伝達部材６７０を圧縮コイルばね６６０の弾性力（弾発力）に抗してチャックプレート１ａの中心側に移動すると、開閉伝達部材６７０の上向き傾斜面６７１と、閉塞板８の下向き傾斜面６７１との係合が解かれる。更に、連結プレート６５２Ｂ及び加圧部材６５１Ｂを上昇させると、係合傾斜面６５４と係合傾斜受け面６７３との係合が解かれ、加圧部材６５１Ｂが係合脚片６７２の外側面に係合して、開閉伝達部材６７０の外方側への移動を阻止する（図１４（ｃ）参照）。この状態で、閉塞板８は自重により先端側が下方に揺動して切欠部１ｃを開放する。これにより、切欠部１ｃを介して昇降する主ウエハ搬送アーム７１の昇降が可能となり、スピンチャック１に対するウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００９０】
なお、この場合、第二実施形態と同様に、上記昇降機構４の駆動源であるシリンダ４ｃ及び連結プレート４ａと開閉用昇降機構６５０Ｂのシリンダ６５３及び連結プレート６５２Ｂとを共通にすることも可能であり、これによって構成部材の削減が図れると共に、装置の小型化が図れる。
【００９１】
なお、第三実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００９２】
◎第四実施形態
図１５は、この発明における閉塞手段の第四実施形態の切欠部の閉塞状態及び開放状態を示す断面図である。
【００９３】
第四実施形態の閉塞手段６Ｃは、第三実施形態と同様に、回転台であるチャックプレート１ａの下部に揺動自在に枢着され、かつ自重により切欠部１ｃを開放する閉塞板６２０Ｃと、この閉塞板６２０Ｃと係脱可能に係合し、かつ、弾性力例えばねじりコイルばね６８０の弾発力の付勢によって閉塞板６２０Ｃと係合して、切欠部１ｃを閉塞する方向に閉塞板６２０Ｃを揺動させる開閉伝達部材６７０Ｃと、この開閉伝達部材６７０Ｃと係脱可能に係合し、かつ、開閉伝達部材６７０Ｃと係合した状態で、閉塞板６２０Ｃをねじりコイルばね６８０の弾性力（弾発力）に抗して開放位置に揺動する開閉用昇降機構６５０Ｃとを具備する。
【００９４】
この場合、閉塞板６２０Ｃは、チャックプレート１ａの下面に装着される一対のブラケット６２２Ｃ間に枢支ピン６２３Ｃを介して垂直方向に揺動（回動）自在に枢着されており、閉塞状態における枢着部側下面に、開閉伝達部材６７０と係合可能な係合段部６２５が形成されると共に、この係合段部６２５の反対側面すなわちチャックプレート１ａの外周側面に、係合段部６２５から先端側に向かって下り勾配となる係合傾斜面６２６が形成されている。
【００９５】
また、開閉伝達部材６７０Ｃは、チャックプレート１ａの下面に装着された一対のブラケット６７４に枢支ピン６７５を介して垂直方向に揺動（回動）自在に枢着されると共に、枢支ピン６７５との間に介在されるねじりコイルばね６８０の弾性力（弾発力）によって閉塞板６２０Ｃの係合段部６２５と係合する方向（図において時計方向）に揺動（回動）し得るように取り付けられている。この開閉伝達部材６７０Ｃの先端面すなわちチャックプレート１ａの外周側面には、閉塞板６２０Ｃに形成された係合段部６２５に係合可能な係合突片６７６が形成されている。また、開閉伝達部材６７０Ｃの下部には、チャックプレート１ａの中心側に向かって傾斜する垂下片部６７７と、この垂下片部６７７の下端から水平に折曲する水平片部６７８とからなる係合脚片６７９が垂下されている。
【００９６】
一方、開閉用昇降機構６５０Ｃは、開閉伝達部材６７０Ｃの係合脚片６７９の下面及び側面すなわち水平片部６７８及び垂下片部６７７に摺接係合可能な水平頭部６５５を有する側面視略逆Ｌ字状の複数例えば３個の加圧部材６５１Ｃと、これら加圧部材６５１Ｃを立設した状態で連結する連結プレート６５２Ｃと、この連結プレート６５２Ｃを昇降可能に支持する昇降駆動源例えばシリンダ６５３Ｃとで構成されている。
【００９７】
上記のように構成される閉塞手段６Ｃは、図１５（ａ）に示すように、ねじりコイルばね６８０の弾性力（弾発力）によって開閉伝達部材６７０Ｃが閉塞板６２０Ｃと係合して、閉塞板６２０Ｃが切欠部１ｃを閉塞するので、処理中に、パーティクルが切欠部１ｃから巻き込まれるのを阻止することができる。したがって、チャックプレート１ａの上方に保持されるウエハＷの下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。
【００９８】
また、チャックプレート１ａの停止状態において、図１５（ｂ）に示すように、開閉用昇降機構６５０Ｃのシリンダ６５３Ｃの駆動によって連結プレート６５２Ｃ及び加圧部材６５１Ｃが上昇し、加圧部材６５１Ｃの水平頭部６５５と開閉伝達部材６７０Ｃの係合脚片６７９とが係合して、開閉伝達部材６７０Ｃをねじりコイルばね６８０の弾性力（弾発力）に抗して閉塞板６２０Ｃとの係合を解除する方向（図において反時計方向）に移動する。すると、閉塞板６２０Ｃは自重により先端側が下方に揺動して切欠部１ｃを開放する（図１５（ｃ）参照）。これにより、切欠部１ｃを介して昇降する主ウエハ搬送アーム７１の昇降が可能となり、スピンチャック１に対するウエハＷの受け渡しを行うことができる。再び、切欠部１ｃを閉塞する場合は、図１５（ｃ）に示す状態から開閉用昇降機構６５０Ｃのシリンダ６５３Ｃを駆動して、連結プレート６５２Ｃ及び加圧部材６５１Ｃを下降させると、加圧部材６５１Ｃの水平頭部６５５と開閉伝達部材６７０Ｃの係合脚片６７９との係合が解かれる。すると、ねじりコイルばね６８０の弾性力（弾発力）によって開閉伝達部材６７０Ｃが図において時計方向に回転し、係合突片６７６が閉塞板６２０Ｃの係合傾斜面６２６に摺接することによって閉塞板６２０Ｃが図において時計方向に揺動（回動）する。更に、係合突片６７６は係合段部６２５側に移動して係合段部６２５と係合することによって、閉塞板６２０Ｃが切欠部１ｃを閉塞する（図１５（ａ）参照）。
【００９９】
なお、第四実施形態においても、第二実施形態と同様に、上記昇降機構４の駆動源であるシリンダ４ｃ及び連結プレート４ａと開閉用昇降機構６５０Ｃのシリンダ６５３Ｃ及び連結プレート６５２Ｃとを共通にすることも可能であり、これによって構成部材の削減が図れると共に、装置の小型化が図れる。
【０１００】
なお、第四実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【０１０１】
◎その他の実施形態
なお、上記実施形態では、この発明に係る回転処理装置をウエハの洗浄処理システムに適用する場合について説明したが、この発明に係る回転処理装置は必ずしも半導体ウエハの洗浄処理のみに適用されるものではなく、例えば、ＬＣＤ基板やＣＤ基板の洗浄処理に適用してもよく、また、洗浄処理以外の基板の回転処理にも適用できるものである。
【０１０２】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような優れた効果が得られる。
【０１０３】
１）請求項１記載の発明によれば、被処理基板を保持する回転台に、この回転台の回転中に回転台の周縁部に設けられた切欠部を塞ぐ閉塞手段を設けることにより、処理中に、パーティクルが切欠部から巻き込まれるのを阻止することができるので、回転台の上方に保持される被処理基板の下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。したがって、製品歩留まりの向上が図れると共に、装置の信頼性の向上が図れる。
【０１０４】
２）請求項２記載の発明によれば、回転台の回転による遠心力によってばね部材の弾性力に抗して閉塞板が切欠部を閉塞するので、上記１）に加えて回転台の回転に伴って切欠部を閉塞板によって確実に閉塞することができ、被処理基板へのパーティクルの付着を防止することができる。また、回転台の回転停止時においては、ばね部材の弾性力によって閉塞板が切欠部を開放するので、切欠部を介して昇降する基板搬送手段の昇降を可能にし、回転台に対する被処理基板の受け渡しを円滑にすることができる。この場合、閉塞板は、切欠部を塞ぐ閉塞基部と、この閉塞基部の両端から外方に延出されてガイド部材に摺動自在に保持される摺動翼片とを具備することにより、閉塞板を軽量化することができ、閉塞板の閉塞動作を確実にすることができる（請求項３）。
【０１０５】
３）請求項４，５記載の発明によれば、重錘の自重によって閉塞板が切欠部を閉塞するので、上記１）に加えて処理中に、パーティクルが切欠部から巻き込まれるのを阻止することができ、回転台の上方に保持される被処理基板の下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。また、回転台の停止状態において、開閉用昇降機構を重錘に係合させて閉塞板を開放する方向へ移動することにより、切欠部を介して昇降する基板搬送手段の移動を可能にし、回転台に対する被処理基板の受け渡しを円滑にすることができる。
【０１０６】
４）請求項６記載の発明によれば、弾性力の付勢によって常時閉塞板と係合して、切欠部を閉塞する方向に閉塞板を揺動させる開閉伝達部材と、この開閉伝達部材と係脱可能に係合し、かつ、開閉伝達部材と係合した状態で、閉塞板を弾性力に抗して開放位置に揺動する開閉用昇降機構とを具備するので、上記１）に加えて処理中に、パーティクルが切欠部から巻き込まれるのを阻止することができ、回転台の上方に保持される被処理基板の下面にパーティクルが付着するのを防止することができる。また、回転台の停止状態において、開閉用昇降機構を開閉伝達部材に係合させて閉塞板を開放位置に揺動することにより、切欠部を介して昇降する基板搬送手段の移動を可能にし、回転台に対する被処理基板の受け渡しを円滑にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る回転処理装置を適用する半導体ウエハ洗浄処理システムを示す概略平面図である。
【図２】図１の側面図である。
【図３】この発明における反転部、基板搬送手段及び処理部を示す概略断面図である。
【図４】上記反転部、基板搬送手段及び処理部におけるファン・フィルターユニットからのダウンフローの流を示す概略断面図である。
【図５】この発明に係る回転処理装置を具備するスクラブ洗浄ユニットを示す概略平面図である。
【図６】上記スクラブ洗浄ユニットの概略断面図である。
【図７】この発明における閉塞手段の第一実施形態の閉塞状態を示す概略底面図（ａ）及び開放状態を示す概略底面図（ｂ）である。
【図８】第一実施形態の閉塞手段の閉塞状態を示す要部底面図（ａ）及び（ａ）のＩ−Ｉ線に沿う断面図（ｂ）である。
【図９】上記閉塞手段の開放状態を示す要部底面図（ａ）及び（ａ）のII−II線に沿う断面図（ｂ）である。
【図１０】上記閉塞手段を構成する閉塞板を示す斜視図である。
【図１１】上記閉塞手段を構成するガイド部材の平面図（ａ）、底面図（ｂ）、側断面図（ｃ）及び（ｂ）のIII−III線に沿う拡大断面図（ｄ）である。
【図１２】この発明におけるチャックプレートと主ウエハ搬送アームのウエハを受け渡し状態を示す概略側面図（ａ）及びウエハの回転処理状態を示す概略側面図（ｂ）である。
【図１３】この発明における閉塞手段の第二実施形態の閉塞状態を示す概略断面図（ａ）及び開放状態を示す概略断面図（ｂ）である。
【図１４】この発明における閉塞手段の第三実施形態の閉塞状態を示す概略断面図（ａ）、開放途中の状態を示す概略断面図（ｂ）及び開放状態を示す概略断面図（ｃ）である。
【図１５】この発明における閉塞手段の第四実施形態の閉塞状態を示す概略断面図（ａ）、開放途中の状態を示す概略断面図（ｂ）及び開放状態を示す概略断面図（ｃ）である。
【符号の説明】
Ｗ半導体ウエハ（被処理基板）
１スピンチャック（回転保持手段）
１ａチャックプレート（回転台）
１ｃ切欠部
２駆動モータ（回転駆動手段）
３保持部材
４昇降機構
６，６Ａ，６Ｂ，６Ｃ閉塞手段
７ガイド部材
８閉塞板
９コイルばね（ばね部材）
７０主ウエハ搬送機構（搬送手段）
７１主ウエハ搬送アーム
６１０ガイド部材
６１１水平ガイド部
６１２垂直ガイド部
６１３ガイド溝
６２０，６２０Ｂ，６２０Ｃ閉塞板
６２１摺動軸
６３０水平・垂直変換機構
６４０重錘
６５０，６５０Ｂ，６５０Ｃ開閉用昇降機構
６６０圧縮コイルばね
６７０，６７０Ｃ開閉伝達部材
６８０ねじりコイルばね

Claims

回転駆動手段によって回転される回転台と、この回転台と共に回転すると共に、回転台の上方で被処理基板の周縁部を保持する保持部材と、上記回転台の周縁部に設けられ、かつ、回転台に対して上記被処理基板を受け渡しする基板搬送手段が昇降可能な切欠部とを具備し、
上記回転台の回転によって上記被処理基板を回転させながら、この被処理基板に対して所定の処理を施す回転処理装置において、
上記回転台に、この回転台の回転中に上記切欠部を塞ぐ閉塞手段を設けた、ことを特徴とする回転処理装置。
請求項１記載の回転処理装置において、
上記閉塞手段は、回転台の下部において回転台の半径方向に設置されるガイド部材と、このガイド部材に摺動自在に保持される閉塞板と、この閉塞板が切欠部を開放するように弾性力を付勢するばね部材とを具備し、上記回転台の回転による遠心力によって上記ばね部材の弾性力に抗して上記閉塞板が移動し、上記切欠部を閉塞可能に形成してなる、ことを特徴とする回転処理装置。
請求項２記載の回転処理装置において、
上記閉塞板は、切欠部を塞ぐ閉塞基部と、この閉塞基部から外方に延出されてガイド部材に摺動自在に保持される摺動翼片とで構成される、ことを特徴とする回転処理装置。
請求項１記載の回転処理装置において、
上記閉塞手段は、回転台の下部に装着されるガイド部材によって回転台の半径方向に摺動自在な閉塞板と、この閉塞板に水平・垂直変換機構を介して連結され、かつ、閉塞板が切欠部を閉塞する方向へ移動する重錘と、この重錘と係脱可能に係合し、かつ、係合した状態で閉塞板が切欠部を開放する方向へ移動する開閉用昇降機構とを具備する、ことを特徴とする回転処理装置。
請求項４記載の回転処理装置において、
上記閉塞板は、摺動軸を一体に形成し、
上記水平・垂直変換機構は、上記摺動軸と重錘にそれぞれ枢支ピンを介して垂直方向に揺動自在に枢着されるリンク部材を具備し、
上記ガイド部材は、上記摺動軸を摺動自在に貫通する水平ガイド部と、上記重錘を摺動自在に案内する垂直ガイド部とを具備し、かつ、垂直ガイド部に、上記リンク部材が移動可能なガイド溝を設けた、
ことを特徴とする回転処理装置。
請求項１記載の回転処理装置において、
上記閉塞手段は、回転台の下部に揺動自在に枢着され、かつ、自重により切欠部を開放する方向に揺動する閉塞板と、この閉塞板と係脱可能に係合し、かつ、弾性力の付勢によって閉塞板と係合して、切欠部を閉塞する方向に閉塞板を揺動させる開閉伝達部材と、この開閉伝達部材と係脱可能に係合し、かつ、開閉伝達部材と係合した状態で、上記閉塞板を弾性力に抗して開放位置に揺動する開閉用昇降機構とを具備する、ことを特徴とする回転処理装置。