JP2004235212A - 気密端子とそれを用いた半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体素子搭載部と放熱部とを有するヒートシンクと、半導体素子と外部回路を接続する絶縁リードと、前記ヒートシンクと前記絶縁リードとを挿通する貫通孔が形成され第1主面と第2主面とを有するベースと、前記絶縁リードと前記ベースとを封止する封着ガラスと、前記ヒートシンクと前記ベースとを接着する金属系ろう材とからなり、ヒートシンクの放熱部が前記ベースの第2主面から外部に露出するよう形成し、半導体装置の放熱効率を向上する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は気密端子とそれを用いた半導体装置に関し、特に放熱性に優れるパッケージに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、例えば発光ダイオード(以下、LEDと呼ぶ)は、砲弾型や表面実装型など様々な形態にパッケージングされ、テレビやエアコンなどリモート・コントロール用の送信部や、LCDディスプレイやプロジェクションディスプレイなどの光源に用いられる。また、半導体レーザーは(以下、LDと呼ぶ)はCDやDVDなどの光ピックアップや、レーザーメスなどの医療用レーザー装置など広範囲な分野に利用されている(例えば、特許文献1 参照)。
【0003】
従来の半導体装置として、図5(a)は半導体装置を示した上面図、図5(b)は図5(a)のY−Y′線に沿った断面図であり、円形のベース106と、ベース106に形成された貫通孔に封着ガラス107を介して封止された絶縁リード104を備え、半導体レーザーチップ108(以下LD素子と称す)が接着される半導体素子搭載部102を備えてベース106の上面に接合されるヒートシンク101とを有する半導体装置用気密端子において、ベース106を鉄あるいは鉄系合金で形成し、ヒートシンク101を銅あるいは銅系合金で形成し、かつベース106が画く円の面積に対するベース106とヒートシンク101との接触面積の比率を7.9%以上となるよう銀ろう103で接着している。また、半導体素子搭載部102にLD素子108を搭載し、LD素子108はワイヤ109を介して絶縁リード104と導通接続している。半導体素子搭載部102を保護するようキャップ110が接着されていた。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−183440号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の構成では、LD素子108が取り付けられるヒートシンク101ならびに半導体素子搭載部102はLD素子108の発熱を効果的に冷却するために熱伝導率が394W/m*Kと高い銅製のブロックが用いられている。しかし、ベース106は絶縁リード104と封着ガラス107を介して封着するので、軟鉄系の鉄が専ら用いられている。そのため、熱伝導率が68W/m*Kと低いため軟鉄では、LD素子108の発熱を効率良く放熱することが出来ずに、LD素子108に自己発熱が滞留し、発振波長の変化、発光効率の低下などの特性劣化を引き起こすという問題がある。また、近年、青色や紫色などの高輝度、高周波数、高出力の発光素子が用いられてきており、さらなる放熱効率の向上が要求されている。
【0006】
本発明は上記問題を解決するもので、LD素子108から発生する熱を迅速に吸熱し、かつ効率良く外部に放熱することができ、LD素子108が自己発熱により発振波長の変化、発光効率の低下などの特性劣化を引き起こすことなく小型化、表面実装化も可能な気密端子とそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
従来の課題を解決するために、本発明による気密端子は、半導体素子搭載部と放熱部とを有するヒートシンクと、半導体素子と外部回路を接続する絶縁リードと、前記ヒートシンクと前記絶縁リードとを挿通する貫通孔が形成され第1主面と第2主面とを有するベースと、前記絶縁リードと前記ベースとを封止する封着ガラスと、前記ヒートシンクと前記ベースとを接着する金属系ろう材とからなり、ヒートシンクの放熱部が前記ベースの第2主面から露出している。
【0008】
これによれば、ヒートシンクの容量を大きく確保することができ、かつ放熱部の面積が確保でき、吸熱速度、放熱効率に優れるものである。
【0009】
次に、半導体素子と、前記半導体素子を取り付ける半導体素子搭載部と放熱部とを有するヒートシンクと、前記半導体素子と外部回路を接続する絶縁リードと、前記半導体素子と前記絶縁リードとを導通接続するワイヤと、前記ヒートシンクと前記絶縁リードとを挿通する貫通孔が形成されたベースと、前記絶縁リードと前記ベースとを封止するガラスと、前記ヒートシンクと前記ベースとを接着する金属系ろう材と、前記ベースの第1主面周縁部に装着するキャップとからなり、前記ヒートシンクの放熱部が前記ベースの第2主面から露出したものである。
【0010】
これによれば、半導体素子の動作時における発熱をヒートシンクで迅速に吸熱し、外部に露出している放熱部で吸熱した熱を効率よく放熱するものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態として気密端子を用いた半導体装置について図面を参照しながら説明する。
【0012】
(実施例1)
図1(a)は本発明に係る気密端子を示した斜視図、図1(b)は図1(a)のA−A′線に沿った断面図である。1はヒートシンク、2はLEDやLDなどの半導体素子を搭載する半導体素子搭載部、3は放熱部、4は金属系ろう材として例えば銀ろう、5は絶縁リード、6はアースリード、7は絶縁リード5とヒートシンク1とを挿通する貫通孔13a、13bが形成されたベース、8は絶縁リード5とベース7とを電気的に絶縁し、気密的に封着する封着ガラスである。
【0013】
この説明ではベース7が有する水平面の半導体素子搭載部2側を第1主面、放熱部3側を第2主面と称することとする。
【0014】
詳細な構成を下記に説明する。ヒートシンク1は熱伝導率が高い金属として、例えば、銅製のブロック(熱伝導率394W/m*K)からなり、半導体素子搭載部2と放熱部3とともに絶縁リード5を挿通する挿通穴14が形成されている。鉄製のベース7は封着ガラス8と絶縁リード5との封着性が良好な金属、例えば、軟鉄(熱伝導率68W/m*K)からなり、ヒートシンク1と絶縁リード5とを挿通する貫通孔13a、13bが形成されており、貫通孔13aには封着ガラス8を介して絶縁リード5が封着されている。
【0015】
ベース7の第1主面から半導体素子搭載部2が、第2主面から放熱部3が露出し、且つ挿通穴14に絶縁リード5を挿通した状態にヒートシンク1を貫通孔13bに挿通し、銀ろう4を介してベース7に接着されている。このとき、ヒートシンク1は絶縁リード5との絶縁のため、挿通穴14内で一定の間隔で保持されるよう挿通穴14の内径を設定するとともに、ベース7の外径寸法よりも、放熱部3の外径寸法を小さく設定している。
【0016】
これによれば、ヒートシンク1がベース7の第1主面から露出した半導体素子搭載部2から第2主面に露出した放熱部3までを熱伝導率の高い銅の一体構造となる。これにより、半導体素子搭載部2より熱を迅速に吸熱し、放熱部3から吸熱した熱を効果的に気密端子の外部に放熱することができるものである。さらに、ベース7の第2主面と放熱部3との間に一部隙間9を設けることで、放熱効率が一段と向上するものである。さらに、絶縁リード5のベース7の第2主面から露出した一方端は、挿通穴14から露出している。これにより、リフローで実装が可能な気密端子となる。
【0017】
また、ベース7から外部に露出しているヒートシンク1の放熱部3がアースリードの役割も果たしている。
【0018】
(実施例2)
図2(a)は本発明に係る気密端子を示した斜視図、図2(b)は図2(a)のB−B′線に沿った断面図である。1はヒートシンク、2はガリウム砒素などからなる半導体素子を搭載する半導体素子搭載部、3は放熱部、4は金属系ろう材として例えば銀ろう、5は絶縁リード、6はアースリード、7は絶縁リード5とヒートシンク1とを挿通する貫通孔13a、13bが形成されたベース、8は絶縁リード5とベース7とを電気的に絶縁し、気密的に封着する封着ガラスである。
【0019】
この説明ではベース7が有する水平面の半導体素子搭載部側を第1主面、放熱部3側を第2主面と称することとする。
【0020】
詳細な構成を下記に説明する。ヒートシンク1は熱伝導率が高い金属として、例えば、銅製のブロック(熱伝導率394W/m*K)からなり、半導体素子搭載部2と放熱部3とで形成されている。ベース7は封着ガラス8と絶縁リード5との封着性が良好な金属、例えば、鉄−ニッケル−コバルト合金(以下コバールと称する)(熱伝導率17W/m*K)からなり、ヒートシンク1と絶縁リード5とを挿通する貫通孔13a、13bが形成されており、貫通孔13aには封着ガラス8を介して絶縁リード5が封着され、貫通孔13bには銀ろう4を介して半導体素子搭載部2と放熱部3とが接着されている。
【0021】
ベース7の第1主面から半導体素子搭載部2が、第2主面から放熱部3が露出し、且つヒートシンク1を貫通孔13bに挿通し、銀ろう4を介してベース7に接着されている。このとき、ヒートシンク1はベースの外径寸法よりも、放熱部3の外径寸法を小さく設定している。
【0022】
これによれば、ヒートシンク1がベース7の第1主面から露出した半導体素子搭載部2から第2主面に露出した放熱部3までを銀ろう4を介して熱伝導率の高い銅の一体構造となる。
【0023】
これにより、半導体素子搭載部2より熱を迅速に吸熱し、放熱部3から吸熱した熱を効果的に気密端子の外部に放熱することができるものである。さらに、ベース7の第2主面と放熱部3との間に一部隙間9を設けることで、放熱効率が一段と向上するものである。さらに、絶縁リード5のベース7の第2主面から露出した一方端は、放熱部3より突出している。これにより、リフローで実装が可能な気密端子となる。
【0024】
また、ベース7から外部に露出しているヒートシンク1の放熱部3がアースリードの役割も果たしている。
【0025】
一方、半導体素子搭載部2と放熱部3とを個別に成型しているので、加工精度に優れるとともに加工コストを抑えたヒートシンク1となる。
【0026】
(実施例3)
次に、図3(a)は本発明に係る気密端子を用いた半導体装置を示した斜視図、図3(b)は図3(b)のC−C′線に沿った断面図である。10はLEDやLDなどからなる半導体素子、11は絶縁リード5と半導体素子10とを導通接続するワイヤ、12は天窓にレンズが形成されたキャップである。半導体素子10は半導体素子搭載部2に導電性ペースト(図示せず)を介して接着され、半導体素子10はワイヤ11を介して絶縁リード5と導通されている。ベース7の第1主面周縁部に天窓にレンズが形成されたキャップ12が抵抗溶接されている。
【0027】
なお、気密端子の構成は先に述べたことと同様のため、詳細な説明は省略する。
【0028】
半導体素子10はベース7の第1主面から露出したヒートシンク1の半導体素子搭載部2に導電性ペースト(図示せず)を介して搭載されている。搭載された半導体素子10は絶縁リード5と金などのワイヤ11を介して導通接続されている。キャップ12はベース7の第1主面周縁部に抵抗溶接されている。以上のように本実施形態によれば、ヒートシンク1がベース7の第1主面から露出した半導体素子搭載部2からベース7の第2主面に露出した放熱部3まで一体的に熱伝導率の高い銅で形成されている。これにより、半導体素子搭載部2に取り付けられた半導体素子10が動作時に発生する熱を素早く吸熱し、放熱部3から吸熱した熱を効果的に気密端子の外部に放熱することができ発光効率の低下を防ぐものである。さらに、絶縁リード5のベース7の第2主面から露出した一方端は、挿通穴14から露出している。これにより、リフローで実装が可能な気密端子となる。また、ベース7から外部に露出しているヒートシンク1の放熱部3がアースリードの役割も果たしている。ベース7の外径寸法よりも、放熱部3の外径寸法を小さく設定していることから、ベース7とキャップ12との抵抗溶接を可能にするものである。
【0029】
(実施例4)
次に、図4(a)は本発明に係る気密端子を用いた半導体装置を示した斜視図、図4(b)は図4(a)のD−D′線に沿った断面図である。10は半導体素子、11は絶縁リード5と半導体素子10とを導通接続するワイヤ、12は半導体素子10を外部環境から保護するなどの目的を有するキャップである。半導体素子10は半導体素子搭載部2に接着剤として例えば金−錫合金(図示せず)を介して接着され、半導体素子10はワイヤ11を介して絶縁リード5と導通されている。ベース7の第1主面周縁部にキャップ12が金−錫合金(図示せず)により溶着されている。
【0030】
なお、気密端子の構成は先に述べたことと同様のため、詳細な説明は省略する。
【0031】
半導体素子10はベース7の第1主面から露出したヒートシンク1の半導体素子搭載部2に接着剤として例えば金−錫合金(図示せず)を介して搭載されている。搭載された半導体素子10は絶縁リード5と金などのワイヤ11を介して導通接続されている。キャップ12はベース7の第1主面周縁部に金−錫合金(図示せず)により溶着されている。以上のように本実施形態によれば、ヒートシンク1がベース7の第1主面から露出した半導体素子搭載部2からベース7の第2主面に露出した放熱部3まで銀ろう4を介して一体的に熱伝導率の高い銅で形成されている。これにより、半導体素子搭載部2に取り付けられた半導体素子10が動作時に発生する熱を素早く吸熱し、放熱部3から吸熱した熱を効果的に気密端子の外部に放熱することができ発光効率や素子特性の低下を防ぐものである。さらに、絶縁リード5のベース7の第2主面から露出した一方端は、放熱部3より突出している。これにより、リフローで実装が可能な気密端子となる。また、ベース7から外部に露出しているヒートシンク1の放熱部3がアースリードの役割も果たしている。
【0032】
一方、半導体素子搭載部2と放熱部3とを個別に成型しているので、加工精度に優れるとともに加工コストを抑えたヒートシンク1となる。
【0033】
ベース7の外径寸法よりも、放熱部3の外径寸法を小さく設定していることから、ベース7とキャップ12との抵抗溶接も可能となる。
【0034】
なお、上記実施例ではLD素子について説明したが、ヒートシンク1に凹形状を設けることで、LED素子などの受発光素子においても同様の効果を発揮することはもちろんであるが、その他、動作時に高温となるガリウム砒素系の半導体素子などの搭載にも有効である。
【0035】
以上、本発明による気密端子とそれを用いた半導体装置の一実施形態について説明したが、本発明の思想に逸脱しない限り適宜変更可能である。
【0036】
【発明の効果】
以上のように、本発明の気密端子によれば、高輝度、高周波数、高出力特性を有し、かつ小型化、薄型化を実現できる気密端子とそれを用いた半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態による実施例1の
(a)は斜視図
(b)は(a)のA−A′線に沿った断面図
【図2】本発明の一実施形態による実施例2の
(a)は斜視図
(b)は(a)のB−B′線に沿った断面図
【図3】本発明の一実施形態による実施例3の
(a)は斜視図
(b)は(a)のC−C′線に沿った断面図
【図4】本発明の一実施形態による実施例4の
(a)は斜視図
(b)は(a)のD−D′線に沿った断面図
【図5】従来の半導体装置の
(a)は上面図
(b)は(a)のY−Y′線に沿った断面図
【符号の説明】
1 ヒートシンク
2 半導体素子搭載部
3 放熱部
4 銀ろう
5 絶縁リード
6 アースリード
7 ベース
8 封着ガラス
9 隙間
10 半導体素子
11 ワイヤ
12 キャップ
13a 貫通孔
13b 貫通孔
14 挿通穴
101 ヒートシンク
102 半導体素子搭載部
103 銀ろう
104 絶縁リード
105 アースリード
106 ベース
107 封着ガラス
108 LD素子
109 ワイヤ
110 キャップ
Claims (12)
- 半導体素子搭載部と放熱部とを有するヒートシンクと、半導体素子と外部回路を接続する絶縁リードと、前記ヒートシンクと前記絶縁リードとを挿通する貫通孔が形成され第1主面と第2主面とを有するベースと、前記絶縁リードと前記ベースとを封止する封着ガラスと、前記ヒートシンクと前記ベースとを接着する金属系ろう材とからなり、ヒートシンクの放熱部が前記ベースの第2主面から露出されてなる気密端子。
- 前記半導体素子搭載部と前記放熱部とが一体形成されてなる前記ヒートシンクを備えた請求項1記載の気密端子。
- 前記ヒートシンクの前記半導体素子搭載部と前記放熱部とが前記貫通孔内で、前記金属系ろう材により接合されてなるヒートシンクを備えた請求項1記載の気密端子。
- 前記放熱部に前記絶縁リードが挿通される挿通穴が形成されてなるヒートシンクを備えた請求項1、2また3記載の気密端子。
- 前記ベースの外径寸法よりも、前記ヒートシンク放熱部の外径寸法が小さいヒートシンクを備えた請求項1、2、3また4記載の気密端子。
- 前記ヒートシンクが銅または銅合金からなる請求項1、2、3、4または5記載の気密端子。
- 半導体素子と、前記半導体素子を取り付ける半導体素子搭載部と放熱部とを有するヒートシンクと、前記半導体素子と外部回路を接続する絶縁リードと、前記半導体素子と前記絶縁リードとを導通接続するワイヤと、前記ヒートシンクと前記絶縁リードとを挿通する貫通孔が形成されたベースと、前記絶縁リードと前記ベースとを封止するガラスと、前記ヒートシンクと前記ベースとを接着する金属系ろう材と、前記ベースの第1主面周縁部に装着するキャップとからなり、前記ヒートシンクの放熱部が前記ベースの第2主面から露出されてなる半導体装置。
- 前記半導体素子搭載部と前記放熱部とが一体形成されてなる前記ヒートシンクを備えた請求項7記載の半導体装置。
- 前記ヒートシンクの前記半導体素子搭載部と前記放熱部とが前記貫通孔内で、前記金属系ろう材により接合されてなるヒートシンクを備えた請求項7記載の半導体装置。
- 前記ヒートシンクに前記絶縁リードが挿通される挿通穴が形成されてなる請求項7、8または9記載の半導体装置。
- 前記ベースの外径寸法よりも、前記ヒートシンク放熱部の外径寸法が小さいヒートシンクを備えた請求項7、8、9また10記載の気密端子。
- 前記ヒートシンクが銅または銅合金からなる請求項7、8、9、10または11記載の半導体装置。
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| JP2004235212A true JP2004235212A (ja) | 2004-08-19 |
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