JP2004239455A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】種々の加熱調理について、適切な加熱制御が可能な高周波加熱装置を提供する。
【解決手段】電子レンジの蒸し調理コースの処理では、まず、加熱時間Ｈ：ＴＭだけ、マグネトロンが高出力でマイクロ波を発振することによる加熱が行なわれる。この間、放射アンテナは、最初下位置（加熱室の局部にマイクロ波を供給させる位置）とされるが、食品に被せられた蓋の温度が９０℃に達すると、「上」位置（加熱室全体にマイクロ波を供給させる位置）に変更される。なお、放射アンテナの位置が変更される期間中は、マグネトロンによるマイクロ波の発振は停止される。そして、加熱時間Ｈ：ＴＭの高出力加熱の後は、加熱時間Ｌ：ＴＭの、低出力加熱（マグネトロンが低出力でマイクロ波を発振することによる加熱制御）が行なわれる。
【選択図】 図３２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波加熱装置に関し、特に、加熱室内に収容し食品を載置する加熱皿の表面に発熱体を備えられた高周波加熱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、マイクロ波を供給することにより被加熱物を加熱させる高周波加熱装置について、種々の技術が開示されている。特に、近年では、蒸し調理等、詳細な加熱調理を可能とする技術が開示されている。たとえば、特許文献１には、低誘電率材料によって形成した本体内に、電波を遮断する蒸気容器および蓋を入れ、当該蒸気容器および蓋内に被加熱物を収容させることにより、本体内の水を加熱して、被加熱物の過加熱および乾燥を回避しつつ蒸し調理を行なう技術が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１２１１６０号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
なお、上記したような蒸し調理について、さらに優先的に水を加熱することが切望されていた。また、高周波加熱装置において、さらに他の詳細な加熱調理についても、適切な加熱制御が切望されていた。
【０００５】
本発明は、かかる実情に鑑み考え出されたものであり、その目的は、種々の加熱調理について、適切な加熱制御が可能な高周波加熱装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のある局面に従った高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に供給するための高周波を発振するマグネトロンと、被加熱物を載置して前記加熱室内に収納される調理皿とを含み、前記調理皿は、高周波を吸収して発熱する高周波発熱体を備え、前記加熱室への前記マグネトロンの発振する高周波の供給態様を、前記調理皿上の被加熱物の加熱開始時には、前記高周波発熱体に吸収させる第１の態様とし、所定の条件が成立したことに基づいて、前記加熱室全体に高周波を供給する前記第２の態様に変更する供給態様制御部とをさらに含むことを特徴とする。
【０００７】
本発明のある局面によると、加熱開始時には、調理皿がまず加熱され、そして、所定の条件が成立した後、加熱室全体が加熱される。
【０００８】
これにより、高周波加熱装置は、調理皿に水を入れて行なわれる蒸し調理や調理皿上の被加熱物を焼く焼き調理等の、最初には調理皿のみを温めた後、加熱室全体で加熱を行なう必要のある加熱調理について、適切な加熱制御を行なうことができる。
【０００９】
また、本発明の高周波加熱装置では、前記供給態様制御部は、前記高周波の供給態様を前記第２の態様とした後、前記マグネトロンの出力を低下させることが好ましい。
【００１０】
これにより、高周波加熱装置において蒸し調理が行なわれた際、まず調理皿を中心に強力な加熱が行なわれ、そして、被加熱物に高周波を吸収させるような加熱室全体での加熱はそれよりも弱く行なわれる。つまり、調理皿の水をより早く蒸気にすることができ、かつ、被加熱物自体を強力に加熱して被加熱物が乾燥することは回避できる。
【００１１】
また、本発明の高周波加熱装置は、前記加熱室内に視野を有し、当該視野内の温度を検知できるセンサをさらに含み、前記供給態様制御部は、前記センサの検知した温度が所定の温度に到達したことにより前記所定の条件が成立したと判断することが好ましい。
【００１２】
また、本発明の高周波加熱装置は、操作されることにより情報の入力を受付ける操作部をさらに含み、前記供給態様制御部は、前記高周波の供給態様が前記第１の態様とされてから所定の時間が経過し、かつ、前記操作部に対して所定の操作がなされたことにより、前記所定の条件が成立したと判断することが好ましい。
【００１３】
これにより、高周波加熱装置において、たとえば、焼き調理が行なわれた際、まず予熱調理として調理皿を被加熱物が載置されない状態で所定の時間加熱し、そして、調理皿に食品を載置して所定の操作がなされたことにより加熱室全体での加熱を行なうことができる。つまり、焼き調理について、より適切な加熱制御が可能となる。
【００１４】
本発明の他の局面に従った高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に供給するための高周波を発振するマグネトロンと、被加熱物を載置して前記加熱室内に収納される調理皿とを含み、前記調理皿は、高周波を吸収して発熱する高周波発熱体を備え、前記加熱室への前記マグネトロンの発振する高周波の供給態様を、前記高周波発熱体に吸収させる第１の態様と前記加熱室全体に高周波を供給する第２の態様とを交互に切替えられたものとする供給態様制御部をさらに含むことを特徴とする。
【００１５】
本発明の他の局面に従うと、加熱調理において、被加熱物に加えられる熱の分布が、切替えられることになる。つまり、被加熱物がブロック肉等のかたまり物であったり大きな冷凍食品であったりしても、当該被加熱物全体をまんべんなく加熱できる。
【００１６】
これにより、高周波加熱装置は、煮物調理等の、被加熱物全体を均一に加熱する必要のある加熱調理について、適切な加熱制御を実行できる。
【００１７】
また、本発明に従った高周波加熱装置では、前記マグネトロンは、前記調理皿上の被加熱物を加熱する際、断続的に高周波を発振し、前記供給態様制御部は、前記第１の態様と前記第２の態様との間の供給態様の入替えを、前記マグネトロンの断続的な高周波の発振の中の高周波の発振が停止されている期間中に行なうことが好ましい。
【００１８】
これにより、高周波が発振されている状態で加熱室内の高周波の供給態様が変更されることによる放電の危険性を、極力抑えることができる。
【００１９】
また、本発明に従った高周波加熱装置は、前記加熱室内に前記マグネトロンの発振したマイクロ波を放射するために、当該加熱室内に設置された放射アンテナと、前記放射アンテナを移動させるアンテナ移動部とをさらに含み、前記供給態様制御部は、前記アンテナ移動部に、前記放射アンテナを第１の位置に位置させることにより前記高周波の供給態様を前記第１の態様とし、前記放射アンテナを前記第１の位置とは異なる第２の位置に位置させることにより前記高周波の供給態様を前記第２の態様とすることが好ましい。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の高周波加熱調理装置の一実施の形態である電子レンジについて、図面を参照しつつ説明する。
【００２１】
図１は、電子レンジの斜視図である。電子レンジ１は、主に、本体とドア３とからなる。本体は、その外郭を外装部４に覆われ、複数の脚８に支持されている。本体の前面には、ユーザが電子レンジ１に各種の情報を入力するための操作パネル６が備えられている。操作パネル６は、適宜情報を表示する表示部６０を含む。
【００２２】
ドア３は、下端を軸として、開閉可能に構成されている。ドア３の上部には、取っ手３Ａが備えられている。図２に、ドア３が開状態とされたときの電子レンジ１の正面図を示す。
【００２３】
外装部４の内部には、本体枠５が設置され、本体枠５の内部には、加熱室１０が形成されている。本体枠５は、その前面にであって後述する加熱室１０の開口部外周の全域に、前面板５Ｆを備えている。ここで、図３に、外装部４等の一部の部材を省略した状態での電子レンジ１の斜視図を示す。
【００２４】
ドア３の外郭は、ドア枠３Ｘに覆われている。そして、ドア３の中央部分には、ドア３が閉状態とされていても加熱室１０の内部を外部から視認できるように、耐熱ガラス３Ｂが嵌め込まれている。ドア３の、加熱室１０に対向する側の面には、加熱室１０の開口部外周の全域に渡って前面板５Ｆと接する接触面３Ｃと、マイクロ波を吸収するような樹脂からなるチョークカバー３Ｄが備えられている。接触面３Ｃと前面板５Ｆの隙間から漏れる高周波は、ドア３内で形成されチョークカバー３Ｄに覆われたチョーク構造により、加熱室１０外への漏洩を防止されている。
【００２５】
本体枠５は、上面５Ｐ、下面５Ｑ、左側面５Ｒ、右側面５Ｓおよび後面５Ｔから構成され、加熱室１０を区画している。加熱室１０は、食品等を出し入れするための開口部を有する。そして、当該開口部が、ドア３によって開閉される。加熱室１０の右方には、マグネトロン（図１１のマグネトロン１２。図３では省略。）が設置されている。そして、下面５Ｑの下方には、当該マグネトロンから供給されるマイクロ波を拡散する放射アンテナ（図１１，図１２の放射アンテナ１５。図３では省略。）が配置されている。当該放射アンテナから放射されるマイクロ波を透過する食品載置台９を配置している。つまり、電子レンジ１では、加熱室１０内へのマイクロ波の供給は、食品載置台９を介して行なわれる。また、右側面５Ｓには、後述する赤外線センサによる温度検知のための孔１０Ｘが形成されている。
【００２６】
左側面５Ｒには、レール１０１，１０２，１０５が設置され、右側面５Ｓには、レール１０３，１０４，１０６が設置されている。レール１０１〜１０６は、加熱室１０内でレンジ焼角皿を支持するために設置されている。
【００２７】
加熱室１０内で使用されるレンジ焼角皿には、図４に示すように、マイクロ波を吸収して発熱する発熱体８１を配置されたレンジ焼角皿８０（図４（Ａ）参照）と、そのような発熱体を配置されていない金属製角皿９０（図４（Ｂ）参照）とがある。使用者は、所望の調理に合わせて両者を使い分けることになる。図２および図３では、レンジ焼角皿８０を使用されている状態が示されている。
【００２８】
図５、図６は、レンジ焼角皿８０の裏面図、正面図であり、図７は、図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿う矢視断面図である。
【００２９】
レンジ焼角皿８０は、その外周に水平方向に伸びる板体である外周部８０Ｄと、底部８０Ｂとを有する。外周部８０Ｄと底部８０Ｂとは、壁部８０Ｅでつながれている。底部８０Ｂの外縁であって壁部８０Ｅとの接続部分には、底部８０Ｂの全周を囲うように、溝８０Ａが形成されている。レンジ焼角皿８０は、外周部８０Ｄをレール１０１〜１０６の中の左右１組のレールに支持されることにより、加熱室１０内に固定された状態で収容される。
【００３０】
底部８０Ｂの裏面には、発熱体８１が蒸着されている。発熱体は、たとえば、導電性材料、より具体的には、酸化スズにモリブデンを添加した導電性材料等が蒸着されることにより構成される。なお、蒸着膜の厚みとしては８×１０^−８ｍ程度、抵抗率は２〜６（Ω／ｍ）程度が好ましい。なお、図５では、便宜上、発熱体８１の表面が、ハッチングを施されて記載されている。
【００３１】
レンジ焼角皿８０の裏面の四隅には、それぞれ脚８０Ｃが形成されている。図７に示すように、レンジ焼角皿８０では、脚８０Ｃの最下部、底部８０Ｂの最下部（溝８０Ａの裏面に相当する部分）、発熱体８１の最下部の高さは、それぞれ異なり、低い方から順に、Ｚ、Ｙ、Ｘとなっている。これにより、加熱室１０内で発熱体８１が加熱され高温となった状態でレンジ焼角皿８０が加熱室１０外に取出されてテーブル等の載置面に載置される場合でも、当該発熱体８１よりも先に、脚８０Ｃまたは底部８０Ｂが当該載置面に接する。これにより、当該載置面に発熱体８１から高熱が加えられることを回避できる。レンジ焼角皿８０がこのように構成されることにより、たとえレンジ焼角皿８０が図３のように開状態にされたドア３上に載置された場合でも、高温の発熱体８１がチョークカバー３Ｄと接して当該チョークカバー３Ｄが溶解した結果、接触面３Ｃと本体枠５との隙間が広がることにより、加熱室１０内の高周波が漏洩することを回避できる。
【００３２】
また、発熱体８１は、図５に示すように、外周部８０Ｄの端部から距離Ｗ以上離れ、かつ溝８０Ａより内側の位置に蒸着されている。高周波を効率良く加熱皿８０上の送るために、距離Ｗは、加熱室１０内に供給される高周波の波長をλとした場合、λ／４（波長の１／４）以上とされることが好ましい。つまり、電子レンジ１で、高周波としてマイクロ波が発振される場合には、距離Ｗは、およそ３ｃｍ以上とされることが好ましい。
【００３３】
電子レンジ１では、レンジ焼角皿８０は、調理に使用される際、加熱室１０内で、外周部８０Ｄがレール１０１，１０２に支持される状態とされることが好ましい。このような状態では、発熱体８１は、食品載置台９から垂直方向（下方からのマイクロ波が拡散する方向）について１〜１５ｍｍの距離を有し、効率良くマグネトロン（後述する図１１のマグネトロン１２）からのマイクロ波を吸収することができる。
【００３４】
また、電子レンジ１では、レンジ焼角皿８０が調理に使用される際、図８に示すように、レンジ焼角皿８０の上に食品載置台１１０が設置され、当該食品載置台１１０の上に食品が載置され、そして、食品載置台１１０は、調理に使用される際には、図２および図３に示したように、蓋１２０に覆われる。なお、レンジ焼角皿８０、食品載置台１１０、および、蓋１２０は、図８では、大小関係およびそれぞれの構造を理解されるように、互いに上下方向に離された状態で記載されているが、実際調理に使用される際には、上下方向に重ね合わせられている。なお、食品載置板１１０について、図９（Ａ）に斜視図を、図９（Ｂ）に側面図を、それぞれ示す。
【００３５】
食品載置台１１０は、レンジ焼角皿８０の壁部８０Ｅと接するとともに当該食品載置台１１０の補強の役目を有する縁部１１１と、食品を載置する調理面１１２と、調理面１１２に設けられた複数の貫通孔１１３と、調理面１１２と縁部１１１との間で下方に凹ませた段部１１４と、当該段部１１３の一部を下方にさらに膨出させて形成しかつ当該食品載置台１１０を支持する脚部１１５と、調理面１１２の略中央部に２箇所の使用者の手の指を挿入して食品載置台１１０を持ち上げられるようにした取り出し穴１１６とから構成される。
【００３６】
なお、食品載置台１１０において、脚部１１５は、当該食品載置台１１０の各コーナー部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃ，１１０Ｄ付近の段部１１４をさらに下方に膨出されることにより形成されている。該脚部１１５の高さは、レンジ焼角皿８０に予め定められた量の水を入れたとき、その水面が調理面１１２より下方となるような高さに設定されている。このような構成とすることにより、使用者が、レンジ焼角皿８０に水を入れ、さらに食品載置台１１０を設置した状態でレンジ焼角皿８０を運んだ場合でも、レンジ焼角皿８０から水がこぼれることを抑制することができる。なお、予め定められた量の水とは、調理器の取扱説明書などに記載され、電子レンジ１における蒸し調理において推奨する水量のことを示している。
【００３７】
蓋１２０は、水平方向に延設した水平片１２１と、ミトン等を嵌めた手でも掴み易いように頂上部に設けられた取っ手１２２と、蓋１２０内の蒸気の抜き孔１２３とを備えている。蓋１２０は、金属製のほか、金属材料と樹脂とを張り合わせたものや、樹脂材に金属メッキしたもの、またはカーボンや金属パウダーを混入した樹脂などのマイクロ波を透過しない材料から形成されている。
【００３８】
図１０に、調理時における、レンジ焼角皿８０、食品載置台１１０、および、蓋１２０の、重ねられた状態での部分的な縦断面図を示す。蓋１２０は、レンジ焼角皿８０上に載置したときレンジ焼角皿８０の発熱体８１の外周位置（図１０中に一点破線で示した位置）より内側に対向する蓋内面に位置し、下方に突出した凸部１２４と、水平片１２１の全周に亘って下方に延設した垂下片１２５とを、さらに備えている。
【００３９】
このような蓋１２０の構成により、レンジ焼角皿８０に蓋１２０が被せられるときは、蓋１２０の垂下片１２５がレンジ焼角皿８０の壁部８０Ｅに沿って当接し、かつ、蓋１２０の水平片１２１が、レンジ焼角皿８０の壁部８０Ｅの上端、即ちレンジ焼角皿８０の外周部８０Ｄに当接するように、蓋１２０が載置される。前述の垂下片１２５および水平片１２１の存在により、レンジ焼角皿８０と蓋１２０とで形成される空間の機密性が高まり、蒸し調理が実現できるのである。
【００４０】
さらに、蓋１２０内面に凸部１２４が設けられることにより、食品が発し蓋１２０の裏面に結露した蒸気を、水滴として、凸部１２４を介して、発熱体８１上に滴下させて、再び蒸気として蒸し調理に寄与させることができる。このような蒸気および水滴の流れは、矢印Ｒ１，Ｒ２で示されている。このように水滴を再度蒸気とすることについて、以下に詳細に説明する。
【００４１】
蓋１２０の裏面を流れる水滴は、もし凸部１２４が蓋１２０の裏面に無ければ、レンジ焼角皿８０の中央部付近よりも壁部８０Ｅに近い垂下片１２５およびその近傍に到達する。壁部８０Ｅ付近は、発熱体８１が存在せず、レンジ焼角皿８０の中央部付近に比べて温度が低いため、流れてきた水滴は、垂下片１２５とレンジ焼角皿８０の壁部８０Ｅとの間に水滴となってたまることになる。この状態で、調理が終了し、蓋１２０をレンジ焼角皿８０から離すと、その振動で、垂下片１２５に付着した水滴が落下し、台所などの床面をぬらし、使用者が後で清掃するなどの手間をかけることになる。
【００４２】
これに対し、凸部１２４が蓋１２０の裏面に設けると、蓋１２０の裏面に結露した水滴は、凸部１２４付近でたまり、適宜、発熱体８１上に滴下する。発熱体８１上に滴下した水滴は再び蒸発して、蒸し調理の寄与することになり、調理の仕上りを良好なものとすることができる。また、垂下片１２５まで到達する水滴は、凸部１０８より下方の部分の水滴となるので、比較的少量となるため、蓋１２０をレンジ焼角皿８０から離しても、滴下するほどたまらない。特に、食品から発する蒸気は、上方に上昇するので、凸部１２４より取手１０２側により多く結露するので、さらに垂下片１２５に到達する水滴は減少する。
【００４３】
また、段部１１４は、コーナー部１１０Ａ〜１１０Ｄ以外の部分では、下方への膨出量が少ないので、食品載置台１１０とレンジ焼角皿８０との間にマイクロ波が進入できるスペースができ、ここから矢印Ｍで示すように侵入したマイクロ波がレンジ焼角皿８０内の水を加熱し、加熱を促進させることができる。
【００４４】
図１１に、図１のＸＩ−ＸＩに沿う矢視断面図を示す。また、図１２に、図１のＸＩＩ−ＸＩＩ線に沿う矢視断面図を示す。
【００４５】
図１１および図１２をさらに参照して、孔１０Ｘに接続された検知経路部材４０は、開口を有し、当該開口を孔１０Ｘに接続された箱形状を有している。なお、検知経路部材４０の、当該箱形状の底面には、赤外線センサ７が取付けられている。検知経路部材４０を構成する箱形状の底面上であって、赤外線センサ７に対向する部分には、検知窓１１が形成されている。
【００４６】
赤外線センサ７は、加熱室１０内に視野を有している。赤外線センサ７を、加熱室１０の、幅方向に角度θだけ振り、奥行き方向に角度αだけ振ることにより、視野７００が加熱室１０の底面全体をカバーしている。
【００４７】
外装部４の内部には、加熱室１０の右下に隣接するように、マグネトロン１２が備えられている。また、加熱室１０の下方には、マグネトロン１２と本体枠５の下部を接続させる導波管１９が備えられている。マグネトロン１２は、導波管１９内に位置するマグネトロンアンテナ１２Ａを備えている。マグネトロン１２は、マグネトロンアンテナ１２Ａからマイクロ波を発し、当該マイクロ波は、導波管１９を介して、加熱室１０に供給される。
【００４８】
本体枠５の底面５Ｘと食品載置台９の間には、放射アンテナ１５が備えられている。導波管１９の下方には、放射アンテナ１５の回転等の移動を制御するためのアンテナ駆動ボックス１６が備えられている。放射アンテナ１５は、軸１５Ａで、アンテナ駆動ボックス１６と接続されている。取付部材１５Ｂは、軸１５Ａを本体枠５に取付けるために設けられている。このことから、放射アンテナ１５は、取付部材１５Ｂおよび軸１５Ａにより、本体枠５に、水平方向に回転可能に、取付けられている。なお、軸１５Ａは、導波管１９と加熱室１０とをマイクロ波的に結合する作用を有する。
【００４９】
食品載置台９の外周には、シリコン９９が備えられる。シリコン９９が備えられることにより、食品載置台９の外周は、シール止めされる。
【００５０】
加熱室１０内では、食品載置台９上に、食品が載置される。マグネトロン１２の発振したマイクロ波は、導波管１９を介し、放射アンテナ１５によって拡散されつつ、加熱室１０内に供給される。これにより、食品載置台９上の食品が加熱される。
【００５１】
また、加熱室１０の後方には、ヒータユニット１３０が備えられている。ヒータユニット１３０には、ヒータ、および、当該ヒータの発する熱を加熱室１０内に効率よく送るためのファンが収納されている。
【００５２】
次に、電子レンジ１における食品載置台９の構成について、図１３を参照しつつ、詳細に説明する。図１３は、食品載置台９の平面図である。
【００５３】
食品載置台９は、透明なガラスにより構成され、その表面には、印刷が施されている。図１３では、食品載置台９において印刷の施されている部分には、斜線を施している。より詳しくは、食品載置台９の中央には、円状に黒く塗りつぶされることにより、印刷部９Ａが形成されている。そして、印刷部９Ａの外周部には、印刷の施されていない、ドーナツ状の領域である、透明部９Ｂが位置している。そして、さらに、透明部９Ｂの外側には、黒く塗りつぶされることにより、印刷部９Ｃが形成されている。食品載置台９が、このように印刷を施されていることにより、加熱室１０において、後述する座金１５Ｃ等の、調理に直接関係の無い、目障りな部品を、隠すことができる。つまり、電子レンジにおいて、底板の中央部の印刷を、底板中央よりも少し（１０ｍｍ程度）前方にズラして施すことにより、ユーザの視界から底板中央のアンテナ取付部を、より効率良く隠すことができる。このことを、図１４および図１５を参照して、より具体的に説明する。
【００５４】
図１４は、電子レンジ１においてドア３を開状態とし、本体枠５の底面を、食品載置台９を取外して、前上方から見た図である。また、図１５は、食品載置台９が取付けられた状態での、加熱室１０の底面を、前上方から見た図である。なお、図１５において、食品載置台９上の印刷を施された部分には、斜線を施している。
【００５５】
まず図１４を参照して、放射アンテナ１５は、円状の板を、複数箇所くり貫かれた形状を有している。放射アンテナ１５中央の上には、当該放射アンテナ１５と軸１５Ａとを接続させるための座金１５Ｃが取付けられている。放射アンテナ１５は、座金１５Ｃを中心として、水平面上で回転する。
【００５６】
本体枠５の底面５Ｘには、凹部５Ａが形成されている。また、凹部５Ａの外周には、食品載置台９の外周部分（食品載置台９の最外に位置する幅２〜３ｃｍ程度の部分）に対応する底板支持部５Ｂが形成されている。底板支持部５Ｂは、本体枠５の、該底板支持部５Ｂの外周側に位置する下面５Ｑに対して、食品載置台９の厚み程度だけ低くなっている。これにより、食品載置台９を、その外周部分が底板支持部５Ｂに対応するように取付けると、食品載置台９と下面５Ｑとが、同一平面を構成する。
【００５７】
放射アンテナ１５は、凹部５Ａのほぼ中央に取付けられている。ユーザが、加熱室１０を、食品載置台９を取外した状態で見た場合、座金１５Ｃを見ることになる。また、この場合、ユーザは、凹部５Ａの外周部に存在する、水抜き穴や板金のつなぎ目、および、当該つなぎ目に取付けられている複数のネジ等も、見ることになる。
【００５８】
次に、図１５を参照して、加熱室１０の底面に食品載置台９が取付けられることにより、加熱室１０の内部からは、取付部材１５Ｂ，座金１５Ｃ，凹部５Ａ外周の板金のつなぎ目，および，当該つなぎ目の複数のネジが、印刷部９Ａ，９Ｃに遮られて、見えなくなっている。なお、食品載置台９が取付けられても、加熱室１０の内部から、透明部９Ｂを介して、放射アンテナ１５の外周部分は、見ることができる。放射アンテナ１５の中で、印刷部１５Ａに遮られて見えなくなる部分は、放射アンテナ１５の中心から、当該放射アンテナ１５の半径の半分の半径を有する円内に含まれる部分である。また、図１５において、透明部９Ｂの外周円は、アンテナ取付部より、１０ｍｍ程度、中心を前にズラすことで、ドア３を開状態として前方から加熱室１０内を見るユーザの視界では、放射アンテナ１５の外周と、ほぼ一致している。つまり、このように、隠したい部品と、食品載置台９上の印刷との、垂直方向（ユーザが見る方向に交わる方向）での位置をユーザが見る側にずらすことにより、より確実に、当該印刷を当該部品に対応させることができることになるのである。
【００５９】
以上説明した電子レンジ１では、食品載置台９に、透明部９Ｂが設けられている。したがって、放射アンテナ１５の回転の様子を加熱室１０内から見ることができる。これにより、放射アンテナ１５が故障等によって、回転すべきときに停止したままである場合には、その旨を、早期に発見することができる。なお、放射アンテナ１５が加熱室１０の側方に設けられるような場合であれば、同様に、加熱室１０の側壁を、放射アンテナ１５の回転を視認できるような、透明な部分を有する板体で、構成することができる。
【００６０】
また、加熱室１０の底面に放射アンテナ１５が備えられるタイプである電子レンジ１では、被加熱物である食品をターンテーブル等で移動させなくとも、マグネトロン１２による加熱調理において、加熱むらをある程度回避できる。つまり、このような電子レンジ１において、市販されている電子レンジの加熱室に備えられているようなターンテーブルを備える必要が無い。この一方で、ユーザが、加熱室内に回転する部材を見ることができないことから、調理が十分に実行されるか、という不安感を抱く場合が考えられる。そして、電子レンジ１では、透明部９Ｂを介して放射アンテナ１５の回転を視認できることにより、ユーザに、加熱室１０内に、調理中に回転する部材がある、という安心感を与えることができる。
【００６１】
食品載置台９は、上記したように、透明な板によって構成される。その材料としては、耐熱温度が高く、熱衝撃に強く、誘電損失が低く、また、強度の高いものが好ましい。耐熱温度が高くなければ、食品が加熱された場合に、食品載置台９が破壊してしまうおそれがあるからである。
【００６２】
そして、熱衝撃が強くなければ、ある食品の加熱によって食品載置台９が高温となっているときに、次の食品の加熱を行なうために冷たい食品を食品載置台９に載置されると、食品載置台９が破壊してしまうおそれがあるからである。なお、熱衝撃性とは、たとえば、或る物質をオーブン等で熱した後、冷水に入れて算出される値によって評価される性質である。たとえば、後述する表１においては、熱衝撃が１００℃とある場合には、１１０℃に熱した後、１０℃の水の中に入れても破損しない、ということを意味する。
【００６３】
また、誘電損失が高ければ、マグネトロン１２の発振するマイクロ波を、食品載置台９が吸収し、加熱効率が低下するからである。
【００６４】
また、強度が低ければ、食品載置台９上に食品が載置されたときに、食品載置台９が破壊してしまうおそれがあるからである。
【００６５】
なお、上記した、食品載置台９に求められる特性は、放射アンテナが、加熱室の底面側以外（天面側，側方等）に設けられ、食品載置台９に対応する板体が該放射アンテナを覆うように設けられる場合でも、同様に求められる。つまり、耐熱温度や、熱衝撃については、加熱対象とされる食品が、沸騰や、ユーザの操作によって、加熱室の側面等に飛び散る場合も考えられるためである。また、誘電損失については、加熱室内にあれば、底面であっても、側面であっても、天面であっても、マイクロ波を吸収することがあるからである。また、強度についても、ユーザの操作によって、食品の容器等が、加熱室の側面等に衝突する場合が考えられるためである。
【００６６】
そして、上記した特性を満たすような材料としては、ホウケイ酸ガラスを挙げることができる。ホウケイ酸ガラスの中でも、強化されたものは、さらに好ましい。ここで、表１に、強化されたホウケイ酸ガラスの例として、パイレックス（Ｒ）強化ガラスおよびテンパックスフロート（Ｒ）強化ガラスの特性を挙げる。また、表１には、強化されたソーダガラス、ネオセラムおよびコージライトの特性も挙げる。なお、ネオセラム、コージライトは、市販の電磁調理器において、鍋を載置する板として使用されているものであって、不透明である。したがって、電子レンジ１の食品載置台９として使用するには、難しいと言える。
【００６７】
【表１】

【００６８】
表１を参照して、ホウケイ酸ガラスである、パイレックス（Ｒ）強化ガラスおよびテンパックスフロート（Ｒ）強化ガラスは、ネオセラムやコージライトに匹敵するほどの強度（曲げ強度）を有している。これに加え、誘電損失については、ネオセラムよりも圧倒的に低く、コージライトに対しても低い値を有している。
【００６９】
また、パイレックス（Ｒ）強化ガラス，テンパックスフロート（Ｒ）強化ガラスは、透明なガラスである強化されたソーダガラスと、同程度の強度（曲げ強度）を有している。そして、パイレックス（Ｒ）強化ガラス，テンパックスフロート（Ｒ）強化ガラスは、強化されたソーダガラスに対して、それぞれ、４０℃または３０℃だけ、耐熱温度が高く、熱衝撃については、それぞれ、８４℃または６０℃、高い値を有している。なお、表１には、強化されたソーダガラスの誘電損失の値は、記載されていないが、おおよそ、１００×１０^−４程度と考えられる。つまり、パイレックス（Ｒ）強化ガラス，テンパックスフロート（Ｒ）強化ガラスは、強化されたソーダガラスに対して、かなり低い誘電損失を有する。
【００７０】
以上のことより、食品載置台９の材質としては、ホウケイ酸ガラス、その中でも特に、強化されたものが好ましいといえる。
【００７１】
また、食品載置台９は、その片面に印刷される。一般に、板状の物の片面に印刷が施されると、印刷を施された面の表面に存在する微細な亀裂にインクが入り込んで、内部に浸透していく。そのため、印刷裏面からの力が加わると、該力は、亀裂が広がる方向に働くため、強度が弱い。このことを、図１６を参照して、より具体的に説明する。図１６は、図１３のＸＶＩ−ＸＶＩ線に沿う矢視断面図である。
【００７２】
食品載置台９は、印刷を施される印刷面９Ｄと、その裏側に位置する裏面９Ｅとを有している。印刷面９Ｄ上には、インク９０が塗布されている。なお、このとき、裏面９Ｅからの衝撃の強度は、印刷面９Ｄにインク９０が塗布されていない状態よりも、低下する。
【００７３】
また、印刷面９Ｄでは、図１３に示したようなパターンで印刷が施されるため、つまり、その表面にはインク９０が塗布される場所と塗布されない場所が存在するため、裏面９Ｅよりも、表面の凹凸の差が大きくなる。
【００７４】
食品載置台９は、図２等に示したように、加熱室１０内に取付けられる場合、その印刷面９Ｄを、上向きにして取付けられることもできれば、下向きにして取付けられることもできる。前者の場合、印刷面９Ｄが食品に接することになり、後者の場合、裏面９Ｅが食品に接することになる。
【００７５】
そして、食品載置台９を、印刷面９Ｄが食品に接するように取付けると、電子レンジ１において食品と接する面の強度を確保できる、という利点がある。また、この場合、食品と接する面上に凹凸があるため、食品が食品載置台９上で滑りにくくなり安全である、という利点もある。
【００７６】
その一方で、食品載置台９を、裏面９Ｅが食品に接するように取付けると、電子レンジ１において食品を載置する面に凹凸が少ないため、当該面の清掃が容易になり、衛生的である、という利点がある。
【００７７】
また、食品を食品載置台９上で滑りにくくするために、食品載置台９の、食品を載置する面に、表面がざらつくような加工を施すことが好ましい。このような加工方法としては、たとえば、食品載置台９の材料を、ローラで延ばす方法が考えられる。このような方法により、食品載置台９の表面にはローラ目が付く。このローラ目により、食品載置台９の表面は、ざらつくのである。
【００７８】
図１７は、放射アンテナ１５の平面図である。放射アンテナ１５には、軸１５Ａを通される孔１５Ｘと、開口１５Ｐ，１５Ｑ，１５Ｒとが形成されている。図１７では、開口１５Ｑと孔１５Ｘの最短経路が線Ｌ１で示され、開口１５Ｒと孔１５Ｘの最短経路が線Ｌ２で示されている。線Ｌ１および線Ｌ２の長さは、それぞれ４５ｍｍ程度である。
【００７９】
次に、放射アンテナ１５の構造について、詳細に説明する。図１８は、放射アンテナ１５の斜視図である。図１８から理解されるように、放射アンテナ１５は折り曲げられた構造を有している。図１９に、折り曲げられた線とともに記載された放射アンテナ１５の平面図を示す。また、図２０に、図１９の矢印ＸＸから見た側面図を示す。
【００８０】
放射アンテナ１５は、線１５０１，１５０３，１５０５，１５０８，１５１０，１５１２で、それぞれ、中心の孔１５Ｘから遠くなる方を下に位置するように折り曲げられている。そして、放射アンテナ１５は、孔１５Ｘに対してこれらの線よりも外側にある線１５０２，１５０４，１５０６，１５０７，１５０９，１５１１で、それぞれ、中心の孔１５Ｘから遠くなる方を元の平面に戻すように折り曲げられている。線１５０１〜１５１２で上記のように折り曲げられることにより、放射アンテナ１５は、同じ高さ位置にある平面１５１，１５２および、平面１５１，１５２よりも低い位置にある平面１５４，１５５を備えることになる。また、放射アンテナ１５は、線１５１５で山折りされ、線１５１４で谷折りされ、そして、線１５１３で山折りされている。これにより、放射アンテナ１５は、線１５１５と線１５１４に挟まれた平面１５６と、線１５１４と線１５１３に挟まれた平面１５３をさらに備えることになる。
【００８１】
次に、アンテナ駆動ボックス１６の内部を含めた、放射アンテナ１５を駆動させる機構について、説明する。図２１は、アンテナ駆動ボックス１６およびその近傍の部材の斜視図である。アンテナ駆動ボックス１６は、載置台６１を、上部にかぶせられている。軸１５Ａは、載置台６１を貫通するように、直立している。また、図１１では省略したが、載置台６１上であって、導波管１９の下方には、アンテナ回転モータ３４とアンテナ上下駆動モータ３５とが設置されている。アンテナ回転モータ３４は、放射アンテナ１５を水平面上で回転させる際に駆動されるモータである。アンテナ上下駆動モータ３５は、放射アンテナ１５を上下方向に移動させる際に駆動されるモータである。
【００８２】
アンテナ駆動ボックス１６の内部であって載置台６１の下方には、アンテナ検知スイッチ３６を含む、種々の部材が収容されている。図２２に、図２１から載置台６１を省略した場合の図を示す。また、図２３に、アンテナ駆動ボックス１６、載置台６１、アンテナ回転モータ３４、アンテナ上下駆動モータ３５、および、放射アンテナ１５が組立てられたものの分解斜視図を示す。
【００８３】
アンテナ駆動ボックス１６の内部には、複数の歯車６２〜６９が回転可能に取付けられている。
【００８４】
アンテナ回転モータ３４が駆動することにより、当該モータに接続されている歯車６６が回転する。歯車６６が回転すると、歯車６６に噛み合わされている歯車６８が回転する。歯車６８が回転すると、歯車６８と一体的に形成されている歯車６７が回転する。歯車６７が回転すると、歯車６７に噛み合わされた歯車６９が回転する。歯車６９が回転すると、歯車６９に取付けられている軸１５Ａが回転する。軸１５Ａが回転することにより、放射アンテナ１５が回転する。
【００８５】
歯車６５の上部に取付けられた回転部材７０は、楕円形の筒状であり、その外縁部の高さが、一定でなく、場所によって変化している。そして、軸１５Ａは、回転部材７０の外縁部によって、下方から支持されている。
【００８６】
アンテナ上下駆動モータ３５が駆動することにより、当該モータに接続されている歯車６２が回転する。歯車６２が回転すると、歯車６２に噛み合わされている歯車６３が回転する。歯車６３が回転すると、歯車６３と一体的に形成されている歯車６４が回転する。歯車６４が回転すると、歯車６４に噛み合わされている歯車６５が回転する。歯車６５が回転すると、回転部材７０が回転する。回転部材７０が回転すると、回転部材７０における軸１５Ａを支持する部分の高さが異なる。
【００８７】
回転部材７０における軸１５Ａを支持する部分の高さが変化すると、それに応じて、放射アンテナ１５の高さも変化する。具体的には、たとえば、図１１に示したような位置にあった放射アンテナ１５が、回転部材７０における軸１５Ａを支持する部分の高さが変化すると、図２４に示すように、高い場所に位置することになる。電子レンジ１では、回転部材７０の回転が継続されると、その期間中、放射アンテナ１５の高さ位置の変化も継続される。
【００８８】
なお、放射アンテナ１５では、図１７を参照して説明したように、軸１５Ａと接続される孔１５Ｘと線Ｌ１，Ｌ２で結ばれた位置に、開口１５Ｑ，１５Ｒの端部が位置している。なお、図１１に示した状態の電子レンジ１では、軸１５Ａ内でマイクロ波が伝播される距離と、線Ｌ１または線Ｌ２の長さとの和Ｘは、マグネトロン１２で発振されるマイクロ波の波長をλとし、ｎを整数とすると、式（１）で示される。
【００８９】
Ｘ＝２ｎ×λ／２ …（１）
また、図１１に示した状態では、放射アンテナ１５と本体枠５の底面５Ｘとの距離が比較的短く、放射アンテナ１５と底面５Ｘの間の空間におけるインピーダンスが比較的低い。これにより、放射アンテナ１５まで伝播してきたマイクロ波の、当該放射アンテナ１５の外縁部分からの加熱室１０への伝播が抑えられ、その代わりに、線Ｌ１，Ｌ２と開口１５Ｑ，１５Ｒとの交点付近（図１９で領域１５Ｍで示された領域）から多くのマイクロ波が加熱室１０へと伝播される。なお、図１１に示した状態では、本体枠５の底面５Ｘと、平面１５１，１５２との垂直方向の距離は１５ｍｍであり、平面１５４，１５５との垂直方向の距離は１０ｍｍである。
【００９０】
一方、図２４に示した状態では、放射アンテナ１５は、図１１に示された状態よりも５ｍｍ上方に位置している。つまり、図２４に示した状態では、本体枠５の底面５Ｘと、平面１５１，１５２との垂直方向の距離は２０ｍｍであり、平面１５４，１５５との垂直方向の距離は１５ｍｍである。そして、図２４に示した状態では、図１１に示した状態よりも、底面５Ｘと放射アンテナ１５との間の空間におけるインピーダンスが高くなる。これにより、放射アンテナ１５まで伝播してきたマイクロ波は、当該放射アンテナ１５の各端部から、加熱室１０へと伝播していく。
【００９１】
つまり、電子レンジ１では、加熱室１０において局所的にマイクロ波を供給する場合には、放射アンテナ１５は図１１に示した高さに位置するよう制御され、加熱室１０の全体にマイクロ波を供給する場合には、放射アンテナ１５は図２４に示した高さに位置するよう制御される。
【００９２】
なお、放射アンテナ１５の高さは、軸１５Ａが回転部材７０に支持される高さに依存する。また、軸１５Ａが回転部材７０に支持される高さは、回転部材７０の回転の停止位置に依存する。そして、回転部材７０の回転の停止位置は、アンテナ検知スイッチ３６の検知出力に基づいて制御される。図２５に、アンテナ駆動ボックス１６内の回転部材７０とアンテナ検知スイッチ３６の平面図を示す。
【００９３】
回転部材７０は、上方から見ると楕円形状を有し、中心７０Ｘを中心として回転する。アンテナ検知スイッチ３６は、ボタン３６Ａを押圧されることにより検知出力を出力する。
【００９４】
図２５では、回転の停止位置の異なる回転部材７０が、それぞれ、実線と一点破線で記載されている。このことから理解されるように、回転部材７０の回転の停止位置によって、ボタン３６Ａが回転部材７０によって押圧されたり押圧されなかったりする。したがって、電子レンジ１では、ボタン３６Ａが押圧されていることにより、回転部材７０の回転位置が特定の位置であることを認識できる。また、ボタン３６Ａが押圧されてから回転部材７０の回転を停止させるまでの時間を制御することにより、回転部材７０の回転の停止位置を制御できる。回転部材７０が回転し、使用頻度が高いと想定された予め定められた所定位置に放射暗転が位置したとき、すなわち、本実施の形態では放射アンテナ１５が最も下方に位置したとき、回転部材７０がアンテナ検知スイッチ３６のボタン３６Ａを押圧しない位置に対応するするように構成されている。このような構成により、アンテナ検知スイッチ３６のボタン３６Ａに、待機時に力が付勢されず、必要なときのみ付勢されることになるため、アンテナ検知スイッチ３６の寿命を延ばすことができるのである。
【００９５】
図２６は、電子レンジ１の制御ブロック図である。電子レンジ１は、当該電子レンジ１の動作を全体的に制御する制御回路３０を備えている。制御回路３０は、マイクロコンピュータ３００および適宜情報を記録するためのメモリ３０１を含む。
【００９６】
制御回路３０は、操作パネル６、赤外線センサ７、および、アンテナ検知スイッチ３６から種々の情報を入力される。そして、制御回路３０は、該入力された情報等に基づいて、マグネトロンファンモータ３１、庫内灯３２、マイクロ波発振回路３３、アンテナ回転モータ３４、アンテナ上下駆動モータ３５、および、表示部６０の動作を制御する。マグネトロンファンモータ３１は、マグネトロン１２を冷却するためのファンである。庫内灯３２は、加熱室１０内を照らす電灯である。マイクロ波発振回路３３は、マグネトロン１２にマイクロ波を発振させるための回路である。
【００９７】
次に、電子レンジ１において制御回路３０が実行する制御内容について、図２７〜図３１に記載されたフローチャートを参照しつつ説明する。
【００９８】
制御回路３０は、まずＳ１で、操作パネル６に対してキー入力があったか否かを判断し、あったと判断すると、処理をＳ２に進める。
【００９９】
Ｓ２で、制御回路３０は、Ｓ１で入力を確認されたキーが自動コースを実行するためのキーであったか否かを判断する。自動コースとは、赤外線センサ７等の検知出力に基づいて電子レンジ１側で被加熱物の状態を判断して加熱の終了時期を決定するような調理メニューである。そして、自動コースのためのキーであったと判断すると、Ｓ３で、自動コースに従った調理メニューを実行して、Ｓ１に処理を戻す。なお、自動コースに従った調理メニューは周知技術を利用して実行可能なため、詳細な説明は繰返さない。一方、自動コースのためのキーではなかったと判断すると、Ｓ４に処理が進められる。
【０１００】
Ｓ４で、制御回路３０は、Ｓ１で入力を確認されたキーが蒸し調理コースを実行するためのキーであるか否かを判断する。蒸し調理コースとは、図１０等を用いて説明したような、水を入れたレンジ焼角皿８０の上に食品載置台１１０を設置し、食品載置台１１０上に食品を載置し、その上に蓋１２０が被せられて、当該食品の蒸し調理を行なうための調理コースである。そして、蒸し調理コースのためのキーであったと判断すると、Ｓ５に処理を進め、蒸し調理コースのためのキーではなかったと判断すると、Ｓ３０に処理を進める。
【０１０１】
Ｓ５で、制御回路３０は、操作パネル６上のキーの１つであるスタートキーへの入力があったか否かを判断し、入力があったと判断すると、Ｓ６に処理を進める。
【０１０２】
Ｓ６で、制御回路３０は、これから説明する加熱制御で用いられる、蓋１２０についての検知温度ＴＨを設定する。検知温度ＴＨは、予め定められていても良いし、外気温度等から算出されても良いし、ユーザから調理される食品の量が入力された場合に当該入力された量に応じて算出されても良い。
【０１０３】
なお、電子レンジ１では、マグネトロン１２の出力を高出力（たとえば１０００Ｗ）と低出力（たとえば５００Ｗ）の２通りに制御可能である。また、蒸し調理コースでは、加熱開始時にはまずマグネトロン１２の出力が高出力とされ、その後、低出力とされる。そして、制御回路３０は、Ｓ７で、高出力の加熱時間Ｈ：ＴＭを設定し、次に、Ｓ８で、低出力の加熱時間Ｌ：ＴＭを設定する。加熱時間Ｈ：ＴＭ，Ｌ：ＴＭも、予め定められていても良いし、外気温度等から算出されても良いし、ユーザから調理される食品の量が入力された場合に当該入力された量に応じて算出されても良い。
【０１０４】
次に、制御回路３０は、Ｓ９で、これから説明する加熱制御で用いられるフラグＦ０，Ｆ１をリセットし、Ｓ１０で、放射アンテナ１５を図１１に示したような低い方の位置にセットする。なお、以下の説明では、放射アンテナ１５について、図１１に示したような低い位置を「下」位置、図２４に示したような高い位置を「上」位置と言う。
【０１０５】
次に、制御回路３０は、Ｓ１１で、マグネトロン１２による加熱動作を開始するための処理を実行する。具体的には、たとえば、庫内灯３２を点灯させたり、マグネトロンファンモータ３１の駆動を開始させたりする処理が含まれる。
【０１０６】
次に、制御回路３０は、Ｓ１２で、マグネトロン１２に高出力でマイクロ波を発振させる。
【０１０７】
次に、制御回路３０は、Ｓ１３で、高出力の加熱時間Ｈ：ＴＭを計時するためのタイマＨ：ＴＭをカウントダウンする。
【０１０８】
次に、制御回路３０は、Ｓ１４で、当該タイマＨ：ＴＭの値が０となったか否か、つまり、高出力の加熱が加熱時間Ｈ：ＴＭの間実行されたか否かを判断する。そして、制御回路３０は、タイマＨ：ＴＭの値が０となった、つまり、高出力の加熱が加熱時間Ｈ：ＴＭの間実行されたと判断すると、Ｓ１５に処理を進める。一方、制御回路３０は、タイマＨ：ＴＭの値が０となっていない、つまり、高出力の加熱がまだ加熱時間Ｈ：ＴＭの間実行されていないと判断すると、Ｓ１６に処理を進める。
【０１０９】
Ｓ１６で、制御回路３０は、フラグＦ０がリセットされた状態（値が０の状態）であるか否かを判断し、リセットされた状態であると判断するとＳ１７へ処理を進め、リセットされていない状態であると判断するとＳ２１へ処理を進める。
【０１１０】
Ｓ１７で、制御回路３０は、赤外線センサ７を用いて、蓋１２０の温度Ｔ０を検知する。
【０１１１】
次に、Ｓ１８で、制御回路３０は、直前に検知された温度Ｔ０がＳ６で設定された検知温度ＴＨに達したか否かを判断し、達していると判断するとＳ１９に処理を進め、まだ達していないと判断するとＳ２１に処理を進める。
【０１１２】
Ｓ１９では、制御回路３０は、放射アンテナ１５の位置を「上」位置に変更し、そして、Ｓ２０で、フラグＦ０をセットする（値を「１」とする）。
【０１１３】
そして、Ｓ２１で、制御回路３０は、フラグＦ１がリセットされているか否かを判断し、リセットされていると判断すればＳ１３に処理を戻し、リセットされていない（セットされている）と判断すればＳ２２に処理を進める。
【０１１４】
制御回路３０は、Ｓ２２で、マグネトロン１２の出力を低出力とし、Ｓ２３で、低出力の加熱時間Ｌ：ＴＭを計時するためのタイマＬ：ＴＭをカウントダウンし、Ｓ２４で、当該タイマＬ：ＴＭの値が０となったか否かを判断する。そして、制御回路３０は、まだタイマＬ：ＴＭの値が０となっていないと判断すると、処理をＳ１６に進める。一方、制御回路３０は、タイマＬ：ＴＭの値が０となったと判断すると、Ｓ２５で、マグネトロン１２の加熱動作を終了させかつそれに付随する処理（庫内等３２の消灯等）を行ない、Ｓ２６で、加熱動作の終了をブザーで報知して、ユーザの操作を待つ待機状態に入る。
【０１１５】
以上説明したＳ４〜Ｓ２１の蒸し調理コースの処理は、図３２に示すようにまとめることができる。図３２（Ａ）は当該処理中の蓋１２０の温度の、図３２（Ｂ）はマグネトロン１２の出力の、図３２（Ｃ）は放射アンテナ１５の位置の、時間による変化をそれぞれ示す図である。
【０１１６】
図３２をさらに参照して、以上説明した蒸し調理コースの処理では、まず、加熱時間Ｈ：ＴＭだけ高出力で加熱が行なわれる。この間、放射アンテナ１５は、最初「下」位置とされるが、蓋１２０の温度がＴＨ（たとえば９０℃）に達すると、放射アンテナ１５が「上」位置に変更される。なお、放射アンテナ１５の位置が変更される期間中は、マグネトロン１２によるマイクロ波の発振は停止される。そして、加熱時間Ｈ：ＴＭの高出力加熱の後は、加熱時間Ｌ：ＴＭの低出力加熱が行なわれる。
【０１１７】
また、以上説明した蒸し調理コースでは、まず、加熱室１０内の発熱体８１を局部的に加熱できる状態（放射アンテナ１５が「下」位置にある状態）で高出力加熱が行なわれるため、レンジ焼角皿８０内の水を早期に蒸気とすることができる。さらに、蓋１２０内で蒸気が少ない状態で蓋１２０内の食品が直接強力なマイクロ波で加熱されることを回避できる。
【０１１８】
なお、このとき、加熱室１０内に供給され発熱体８１に吸収されなかった微弱のマイクロ波は、図１０に矢印Ｍで示したように、レンジ焼角皿８０に侵入する。レンジ焼角皿８０内に侵入した微弱なマイクロ波は、食品の中心部を加熱する。
【０１１９】
そして、さらに、蓋１２０の温度を検知することにより、蓋１２０の内部が、食品を加熱できるだけの蒸気が存在すると考えられる状態となると、放射アンテナ１５を「上」位置として、加熱室１０全体にマイクロ波が供給される。
【０１２０】
つまり、以上説明した蒸し調理コースによると、食品を、乾燥させずふっくらと、かつ、微弱なマイクロ波で中心部まで確実に、加熱できる。具体的には、たとえば肉まんを電子レンジ１で加熱した場合、肉まんに直接マイクロ波を吸収させて加熱したところ、肉まんの水分率が加熱前よりも５％程度低減する一方で、蒸気により加熱すると、肉まんの水分率が加熱前よりも１０％程度増加する。
【０１２１】
また、蒸気で食品を加熱することにより、食品に直接マイクロ波を吸収させて加熱する場合よりも、食品の一定時間内の温度上昇量を抑えることができる。つまり、緩やかに、食品の温度を上昇させることができる。これにより、蒸し調理コースによると、電子レンジ１において卵料理がなされる際でも、食品に「す」が入ることを回避できる。
【０１２２】
なお、このような蒸し調理コースは、加熱室１０内に蒸気を急速に発生させることができるため、加熱室１０内の汚れを蒸気で浮かせる洗浄のためのコースとして利用することもできる。
【０１２３】
ここで、再度図２７〜図３１のフローチャートを参照して、Ｓ３０で、制御回路３０は、Ｓ１で入力を確認されたキーがレンジ焼きコースを実行するためのキーであるか否かを判断する。レンジ焼きコースとは、予熱処理をされたレンジ焼角皿８０の上で食品を焼く調理を行なうための調理コースである。そして、レンジ焼きコースのためのキーであったと判断すると、Ｓ３１に処理を進め、レンジ焼きコースのためのキーではなかったと判断すると、Ｓ５０に処理を進める。
【０１２４】
制御回路３０は、Ｓ３１で、予熱処理のための加熱時間である予熱時間「予熱：ＴＭ」を設定した後、Ｓ３２で、食品を焼くための加熱時間である調理時間「調理：ＴＭ」を設定し、Ｓ３３で、スタートキーへの入力の有無を判断する。そして、スタートキーへの入力があったと判断すると、処理をＳ３４に進める。予熱時間および調理時間は、ユーザによって任意に決定されても良いし、予め電子レンジ１において定められていてもよい。
【０１２５】
Ｓ３４で、制御回路３０は、放射アンテナ１５を「下」位置とし、Ｓ３５で、Ｓ１１と同様の、マグネトロン１２による加熱動作を開始するための処理を実行する。
【０１２６】
そして、制御回路３０は、Ｓ３６で、予熱処理のためにマグネトロン１２にマイクロ波を発振させ、Ｓ３７で、予熱時間「予熱：ＴＭ」を計時するためのタイマ予熱：ＴＭをカウントダウンし、Ｓ３８で、タイマ予熱：ＴＭの値が０であるか否かを判断する。ここで、タイマ予熱：ＴＭの値がまで０ではないと判断されると、処理はＳ３７に戻される。一方、タイマ予熱：ＴＭの値が０であると判断されると、処理はＳ３９に進められる。なお、ここでは、放射アンテナ１５が「下」位置とされているため、マグネトロン１２の発振したマイクロ波は、効率良く、発熱体８１に吸収される。
【０１２７】
そして、制御回路３０は、Ｓ３９で、予熱処理のためのマグネトロン１２等の動作を終了させ、Ｓ４０で、予熱処理が終了したことをブザーで報知し、Ｓ４１で、ドアの開閉等に基づく加熱の再スタート動作を行なう。なお、Ｓ４１の加熱の再スタート動作とは、たとえば、Ｓ３９で予熱処理が終了されてから、ドア３が開状態とされ、そして、閉状態とされたことを検知したことを条件として、Ｓ１１で説明したようなマグネトロン１２による加熱動作を開始するための処理を実行する。なお、このようなドア３の開閉の検知および／またはＳ３９で予熱処理が終了した後に操作パネル６に対して所定の操作がなされたことを条件として加熱の再スタート動作が行なわれてもよい。なお、このような再スタート動作は、ユーザが、予熱処理されたレンジ焼角皿８０を一度加熱室１０内から取り出し、その上に食品を載置させて、再度、加熱室１０内に戻したことに応じてなされる動作である。
【０１２８】
そして、制御回路３０は、Ｓ４２で、放射アンテナ１５を「上」位置に変更した後、Ｓ４３で、マグネトロン１２にマイクロ波を発振させる。これにより、予熱処理されたレンジ焼角皿８０の上に載置された食品は、レンジ焼角皿８０からも、マイクロ波を吸収することによっても、加熱される。
【０１２９】
そして、制御回路３０は、Ｓ４４で調理時間「調理：ＴＭ」を計時するためのタイマ調理：ＴＭをカウントダウンし、Ｓ４５で、タイマ調理：ＴＭの値が０であるか否かを判断する。そして、当該タイマの値が０になったと判断すると、制御回路３０は、Ｓ４６で、マグネトロン１２のマイクロ波の発振等を含む加熱のための動作を終了させ、Ｓ４７で、加熱が終了したことをブザーで報知して、待機状態に入る。
【０１３０】
一方、Ｓ５０では、制御回路３０は、Ｓ１で入力を確認されたキーが煮物調理コースを実行するためのキーであるか否かを判断する。煮物調理コースとは、底の比較的深い容器に収容された比較的多量な食品を煮る調理を行なうための調理コースである。そして、煮物調理コースのためのキーであったと判断すると、Ｓ５１に処理を進める。一方、蒸し調理コースのためのキーではなかったと判断すると、Ｓ８０で、Ｓ１で入力を確認されたキーに従った処理を実行した後、待機状態に入る。
【０１３１】
Ｓ５１で、制御回路３０は、スタートキーへの入力の有無を判断し、スタートキーへの入力があったと判断すると、処理をＳ５２に進める。
【０１３２】
Ｓ５２で、制御回路３０は、食品の検知温度ＴＨを設定する。食品の検知温度ＴＨとは、加熱室１０内で赤外線センサ７によって検知される食品の温度がその温度（ＴＨ）に到達するまで、食品を高出力で加熱する、という温度である。検知温度ＴＨは、たとえば、食品の量等に基づいて算出される値であっても良いし、予め定められた一定の温度であっても良い。
【０１３３】
次に、制御回路３０は、Ｓ５３で、マグネトロン１２の出力が高出力（たとえば１０００Ｗ）となるよう設定を行ない、Ｓ５４で、これからの制御で使用されるフラグをすべてリセットし、Ｓ５５で、放射アンテナ１５を「下」位置に移動させ、Ｓ５６で、Ｓ１１と同様の、マグネトロン１２による加熱動作を開始するための処理を実行し、そして、Ｓ５７で、マグネトロン１２にマイクロ波を発振させる。
【０１３４】
次に、制御回路３０は、Ｓ５８で、加熱室１０内の食品の温度Ｔ０を赤外線センサ７を用いて検知し、Ｓ５９で、直前で検知した食品の温度Ｔ０が、Ｓ５２で設定した検知温度ＴＨに到達したか否かを判断する。そして、制御回路３０は、食品の温度Ｔ０が検知温度ＴＨに到達していないと判断するとＳ５８に処理を戻し、到達していると判断するとＳ６０に処理を進める。
【０１３５】
Ｓ６０では、制御回路３０は、マグネトロン１２の低出力での加熱時間Ｌ：ＴＭを計算し、そして、設定する。なお、加熱時間Ｌ：ＴＭは、たとえば、食品が加熱され始めてから、食品の温度Ｔ０が検知温度ＴＨに到達するまでに要した時間に基づいて、計算される。また、加熱時間Ｌ：ＴＭは、当該要した時間に応じて予め定められていても良い。また、加熱時間Ｌ：ＴＭは、当該要した時間に関係になく、予め定められていても良い。
【０１３６】
そして、制御回路３０は、Ｓ６１で、Ｓ１１と同様の、マグネトロン１２による低出力（たとえば２００Ｗ）加熱動作を開始するための処理を実行し、Ｓ６２で、マグネトロン１２にマイクロ波を発振させる。
【０１３７】
そして、制御回路３０は、Ｓ６３で、Ｓ６２でマグネトロン１２にマイクロ波を発振させてから１９．６秒が経過したか否かを判断し、経過していれば、処理をＳ６４に進める。
【０１３８】
Ｓ６４では、制御回路３０は、マグネトロン１２のマイクロ波の発振を停止させ、そして、Ｓ６５で、放射アンテナ１５の位置を変更する。ここで言う位置の変更とは、「上」位置にあれば「下」位置にすることであり、「下」位置にあれば「「上」位置にすることである。つまり、放射アンテナ１５の位置を「上」位置と「下」位置の間で入れ替えることである。
【０１３９】
次に、制御回路３０は、Ｓ６６で、Ｓ６４でマイクロ波の発振を止めてから５．４秒が経過したか否かを判断し、経過したと判断すると、Ｓ６７で、タイマＬ：ＴＭをカウントダウンする。
【０１４０】
そして、制御回路３０は、Ｓ６８で、タイマＬ：ＴＭの値が０となったか否かを判断し、まだ０になっていないと判断すればＳ６２に処理を戻し、０になったと判断すれば、Ｓ６９で、放射アンテナ１５を「下」位置にした後、Ｓ７０で、マグネトロン１２による加熱動作を終了させるための処理（庫内灯３２の消灯等）をし、Ｓ７１で、加熱が終了した旨をブザーで報知して、処理を待機状態に入る。
【０１４１】
以上説明したＳ５０〜Ｓ７１の煮物調理コースの処理は、図３３に示すようにまとめることができる。図３３（Ａ）は当該処理中の加熱室１０内の食品の温度の、図３３（Ｂ）はマグネトロン１２の出力の、図３３（Ｃ）は放射アンテナ１５の位置の、時間による変化をそれぞれ示す図である。
【０１４２】
図３３をさらに参照して、以上説明した煮物調理コースの処理では、まず、食品の温度が検知温度ＴＨ（たとえば９０℃）になるまで、食品が、局部的に、高出力で、加熱される。
【０１４３】
次に、当該食品は、低出力で、加熱される。なお、電子レンジ１では、マグネトロン１２が断続的に運転されることにより、その出力を下げられている。具体的には、図３４に示すように、２００Ｗの出力を得るために、２５秒周期で、１９．６秒マグネトロン１２をＯＮした後、５．４秒マグネトロン１２がＯＦＦされている。そして、低出力の加熱の際には、マグネトロン１２がＯＦＦされるごとに、放射アンテナ１５の位置が「上」位置と「下」位置との間で入替えられている。これにより、電子レンジ１で調理される食品の全体をまんべんなくをできる。
【０１４４】
なお、図３５〜図３６を参照して、本実施の形態の煮物調理コースの処理の変形例について説明する。なお、この変形例は、比較的大量の食品を或る温度付近で保温するのにふさわしい処理であり、具体的には、図３１のＳ５０以降の処理が実行される代わりに図３５〜図３６のＳＡ５０以降の処理が実行されるものとする。
【０１４５】
煮物調理コースの処理の変形例では、制御回路３０は、ＳＡ５０で、Ｓ１で入力を確認されたキーが煮物調理コースを実行するためのキーであるか否かを判断する。そして、煮物調理コースのためのキーであったと判断すると、ＳＡ５１に処理を進める。一方、蒸し調理コースのためのキーではなかったと判断すると、ＳＡ８０で、Ｓ１で入力を確認されたキーに従った処理を実行した後、待機状態に入る。ＳＡ５１で、スタートキーへの入力の有無を判断し、スタートキーへの入力があったと判断すると、処理をＳＡ５２に進める。
【０１４６】
ＳＡ５２で、制御回路３０は、食品の検知温度ＴＨを設定する。
次に、制御回路３０は、ＳＡ５３で、マグネトロン１２の出力が高出力（たとえば１０００Ｗ）となるよう設定を行ない、ＳＡ５４で、これからの制御で使用されるフラグをすべてリセットし、ＳＡ５５で、放射アンテナ１５を「下」位置に移動させ、ＳＡ５６で、ＳＡ１１と同様の、マグネトロン１２による加熱動作を開始するための処理を実行し、そして、ＳＡ５７で、マグネトロン１２にマイクロ波を発振させる。
【０１４７】
次に、制御回路３０は、ＳＡ５８で、マグネトロン１２にマイクロ波を発振させ、かつ、フラグＦ１をリセットする。
【０１４８】
次に、制御回路３０は、ＳＡ５９で、加熱室１０内の食品の温度Ｔ０を赤外線センサ７を用いて検知し、ＳＡ６０で、直前で検知した食品の温度Ｔ０が、ＳＡ５２で設定した検知温度ＴＨに到達したか否かを判断する。そして、制御回路３０は、食品の温度Ｔ０が検知温度ＴＨに到達していないと判断するとＳＡ７３に処理を移行させ、到達していると判断するとＳＡ６１に処理を進める。
【０１４９】
ＳＡ６１では、制御回路３０は、フラグＦ１がリセットされているか否かを判断し、リセットされていると判断するとＳＡ６２に処理を進め、リセットされていないと判断するとＳＡ６４に処理を進める。
【０１５０】
ＳＡ６２では、制御回路３０は、フラグＦ０をセットし、そして、ＳＡ６３で、保温加熱のための時間Ｌ：ＴＭを計算し、設定する。なお、保温加熱のための時間Ｌ：ＴＭは、たとえば、食品が加熱され始めてから、食品の温度Ｔ０が検知温度ＴＨに到達するまでに要した時間に基づいて、計算される。また、保温加熱のための時間Ｌ：ＴＭは、当該要した時間に応じて予め定められていても良い。また、保温加熱のための時間Ｌ：ＴＭは、当該要した時間に関係になく、予め定められていても良い。
【０１５１】
ＳＡ６４で、制御回路３０は、マグネトロン１２のマイクロ波の発振を停止させ、そして、ＳＡ６５で、フラグＦ１がリセットされているか否かを判断し、リセットされていると判断するとＳＡ６６へ、リセットされていないと判断するとＳＡ６８へ、それぞれ処理を移行させる。
【０１５２】
ＳＡ６６では、制御回路３０は、Ｓ６５と同様に、放射アンテナ１５の位置を「上」位置と「下」位置の間で入れ替える処理を行ない、そして、ＳＡ６７で、フラグＦ１をセットする。
【０１５３】
そして、ＳＡ６８で、制御回路３０は、保温加熱のための時間Ｌ：ＴＭを計時するためのタイマＬ：ＴＭをカウントダウンし、ＳＡ６９で、タイマＬ：ＴＭの値が０となったか否かを判断する。そして、制御回路３０は、当該値が０となったと判断すると処理をＳＡ７０に移行させる。一方、まだ当該値が０となっていないと判断すると、処理をＳＡ５９に戻す。
【０１５４】
なお、ＳＡ７３では、制御回路３０は、フラグＦ１がリセットされているか否かを判断し、リセットされていると判断すれば処理をＳＡ７４に処理を進め、リセットされていないと判断すると処理をＳＡ５８に戻す。
【０１５５】
また、ＳＡ７４では、制御回路３０は、フラグＦ０がリセットされているか否かを判断し、リセットされていると判断すれば処理をＳＡ５９に処理を戻し、リセットされていないと判断すると処理をＳＡ６８に進める。
【０１５６】
一方、ＳＡ７０では、制御回路３０は、放射アンテナを「下」位置に移動させ、そして、ＳＡ７１で、マグネトロン１２による加熱動作を終了させるための処理（庫内灯３２の消灯等）をし、ＳＡ７２で、加熱が終了した旨をブザーで報知して、処理を待機状態に入る。
【０１５７】
以上説明したＳＡ５０〜ＳＡ７３の煮物調理コースの処理の変形例によると、食品の温度Ｔ０が食品の検知温度ＴＨに達するまでは、マグネトロン１２は、連続的にマイクロ波を発振する。そして、食品の温度Ｔ０が検知温度ＴＨに達すると、食品の温度Ｔ０が検知温度ＴＨを下回るまで、マグネトロン１２のマイクロ波の発振は停止される。なお、マグネトロン１２のマイクロ波の発振が停止されるごとに、停止されている期間内で、放射アンテナ１５の位置が「上」位置と「下」位置との間で入替えられる。これにより、食品を保温する際、当該食品内の同じ部位のみが加熱されることを回避でき、調理後の食品の品質の向上に寄与できると考えられる。
【０１５８】
なお、以上説明した本実施の形態では、電子レンジ１が待機状態となる際、常に、放射アンテナ１５は、同じ位置に位置させられていることが好ましい。このようにされることにより、放射アンテナ１５の移動制御を容易にすることができる。
【０１５９】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の高周波加熱調理装置の一実施の形態である電子レンジの斜視図である。
【図２】図１の電子レンジのドアが開状態とされた状態の正面図である。
【図３】図１の電子レンジの外装部が省略された状態での斜視図である。
【図４】図１の電子レンジの加熱室内に設置されるレンジ焼角皿の斜視図である。
【図５】図４のレンジ焼角皿の裏面図である。
【図６】図４のレンジ焼角皿の正面図である。
【図７】図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿う矢視断面図である。
【図８】図１の電子レンジにおける加熱調理に使用される、レンジ焼角皿、食品載置台、および、蓋を示す図である。
【図９】（Ａ）は図１の食品載置板の斜視図であり、（Ｂ）は当該食品載置板の側面図である。
【図１０】図１の電子レンジにおける、レンジ焼角皿、食品載置台、および、蓋の重ねられた状態での部分的な縦断面図である。
【図１１】図１のＸＩ−ＸＩ線に沿う矢視断面図である。
【図１２】図１のＸＩＩ−ＸＩＩ線に沿う矢視断面図である。
【図１３】図１の電子レンジの、底板の平面図である。
【図１４】図１の電子レンジにおいて、底板が取外された、本体枠の底面を示す図である。
【図１５】図１の電子レンジの、加熱室の底面を示す図である。
【図１６】図１３のＸＶＩ−ＸＶＩ線に沿う矢視断面図である。
【図１７】図１１の放射アンテナの平面図である。
【図１８】図１１の放射アンテナの斜視図である。
【図１９】図１１の放射アンテナの、折り曲げられた線とともに示された、平面図である。
【図２０】図１９の放射アンテナの、矢印ＸＸから見た側面図である。
【図２１】図１１のアンテナ駆動ボックスおよびその近傍の部材の斜視図である。
【図２２】図２１から載置台を省略した場合の図である。
【図２３】図１の電子レンジのアンテナ駆動ボックス、載置台、アンテナ回転モータ、アンテナ上下駆動モータ、および、放射アンテナが組立てられたものの分解斜視図である。
【図２４】図１１において、放射アンテナを上方に位置させた状態を示す図である。
【図２５】図２２のアンテナ駆動ボックス内の回転部材とアンテナ検知スイッチの平面図である。
【図２６】図１の電子レンジの制御ブロック図である。
【図２７】図１の電子レンジの制御回路が実行する処理のフローチャートである。
【図２８】図１の電子レンジの制御回路が実行する処理のフローチャートである。
【図２９】図１の電子レンジの制御回路が実行する処理のフローチャートである。
【図３０】図１の電子レンジの制御回路が実行する処理のフローチャートである。
【図３１】図１の電子レンジの制御回路が実行する処理のフローチャートである。
【図３２】（Ａ）は、図１の電子レンジでの蒸し調理処理中の蓋の温度の、（Ｂ）は、当該処理中のマグネトロンの出力の、（Ｃ）は、当該処理中の放射アンテナの位置の、時間による変化をそれぞれ示す図である。
【図３３】（Ａ）は、図１の電子レンジでの煮物調理処理中の食品の温度の、（Ｂ）は、当該処理中のマグネトロンの出力の、（Ｃ）は、当該処理中の放射アンテナの位置の、時間による変化をそれぞれ示す図である。
【図３４】図１の電子レンジのマグネトロンが、断続的にマイクロ波を発振することを示す、マグネトロンの出力の時間変化を示す図である。
【図３５】図１の電子レンジにおける煮物調理コースの処理に変形例のフローチャートである。
【図３６】図１の電子レンジにおける煮物調理コースの処理に変形例のフローチャートである。
【符号の説明】
１ 電子レンジ、３ ドア、３Ｂ 耐熱ガラス、３Ｃ 接触面、３Ｄ チョークカバー、５ 本体枠、６ 操作パネル、７ 赤外線センサ、９，１１０ 食品載置台、１０ 加熱室、１２ マグネトロン、１５ 放射アンテナ、１９ 導波管、４０ 検知経路部材、５９ オーブンサーミスタ、８０，９０ レンジ焼角皿、８０Ｅ 壁部、８１ 発熱体、１０１〜１０６ レール、１１１ 縁部、１１２ 調理面、１１３ 貫通孔、１１４ 段部、１１５ 脚部、１１６ 取り出し穴、１２０ 蓋、１２１ 水平片、１２２ 取っ手、１２３ 抜き孔、１２４凸部、１２５ 垂下片１２５。

Claims (7)

1. 被加熱物を収容する加熱室と、
   前記加熱室に供給するための高周波を発振するマグネトロンと、
   被加熱物を載置して前記加熱室内に収納される調理皿とを含み、
   前記調理皿は、高周波を吸収して発熱する高周波発熱体を備え、
   前記加熱室への前記マグネトロンの発振する高周波の供給態様を、前記調理皿上の被加熱物の加熱開始時には、前記高周波発熱体に吸収させる第１の態様とし、所定の条件が成立したことに基づいて、前記加熱室全体に高周波を供給する前記第２の態様に変更する供給態様制御部とをさらに含む、高周波加熱装置。
2. 前記供給態様制御部は、前記高周波の供給態様を前記第２の態様とした後、前記マグネトロンの出力を低下させる、請求項１に記載の高周波加熱装置。
3. 前記加熱室内に視野を有し、当該視野内の温度を検知できるセンサをさらに含み、
   前記供給態様制御部は、前記センサの検知した温度が所定の温度に到達したことにより前記所定の条件が成立したと判断する、請求項１または請求項２に記載の高周波加熱装置。
4. 操作されることにより情報の入力を受付ける操作部をさらに含み、
   前記供給態様制御部は、前記高周波の供給態様が前記第１の態様とされてから所定の時間が経過し、かつ、前記操作部に対して所定の操作がなされたことにより、前記所定の条件が成立したと判断する、請求項１または請求項２に記載の高周波加熱装置。
5. 被加熱物を収容する加熱室と、
   前記加熱室に供給するための高周波を発振するマグネトロンと、
   被加熱物を載置して前記加熱室内に収納される調理皿とを含み、
   前記調理皿は、高周波を吸収して発熱する高周波発熱体を備え、
   前記加熱室への前記マグネトロンの発振する高周波の供給態様を、前記高周波発熱体に吸収させる第１の態様と前記加熱室全体に高周波を供給する第２の態様とを交互に切替えられたものとする供給態様制御部をさらに含む、高周波加熱装置。
6. 前記マグネトロンは、前記調理皿上の被加熱物を加熱する際、断続的に高周波を発振し、
   前記供給態様制御部は、前記第１の態様と前記第２の態様との間の供給態様の入替えを、前記マグネトロンの断続的な高周波の発振の中の高周波の発振が停止されている期間中に行なう、請求項１〜請求項５のいずれかに記載の高周波加熱装置。
7. 前記加熱室内に前記マグネトロンの発振したマイクロ波を放射するために、当該加熱室内に設置された放射アンテナと、
   前記放射アンテナを移動させるアンテナ移動部とをさらに含み、
   前記供給態様制御部は、前記アンテナ移動部に、前記放射アンテナを第１の位置に位置させることにより前記高周波の供給態様を前記第１の態様とし、前記放射アンテナを前記第１の位置とは異なる第２の位置に位置させることにより前記高周波の供給態様を前記第２の態様とする、請求項１〜請求項６のいずれかに記載の高周波加熱装置。

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