JP2004284000A - 真直度制御ステージ - Google Patents

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JP2004284000A
JP2004284000A JP2003082289A JP2003082289A JP2004284000A JP 2004284000 A JP2004284000 A JP 2004284000A JP 2003082289 A JP2003082289 A JP 2003082289A JP 2003082289 A JP2003082289 A JP 2003082289A JP 2004284000 A JP2004284000 A JP 2004284000A
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Makoto Harada
真 原田
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Abstract

【課題】比較的簡単にステージの真直運動精度を凹凸に制御する。
【解決手段】真直度制御ステージを、中央部が架台10に固定され、両端部が変位可能とされたベースプレート12と、該ベースプレート12に固定されたリニアガイド14と、該リニアガイド14上を移動するトップテーブル16と、該トップテーブル16を駆動する駆動手段(18、20)と、前記ベースプレート12の両端部の架台10との間隔を変化させるための加圧装置22を用いて構成し、該加圧装置22により前記リニアガイド14の撓みを制御可能とする。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真直度制御ステージに係り、特に、リニアガイドやボールねじ等で構成され、工作機械等に用いるのに好適な、比較的簡単にステージの真直運動精度を凹凸に制御することが可能な真直度制御ステージに関する。
【0002】
【従来の技術】
機械部品においては、度々、その部品の真直度を中凹あるいは中凸(数μm〜数百μm程度)に仕上げる必要が生じる。そこで従来は、同時2軸制御、あるいは、部品自身を撓ませて固定し加工する等の方法が用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、同時2軸制御ではそれほど高速な加工が困難であり、部品自身を撓ませて固定して加工する方法も、部品を毎回変形させて固定する必要があり、多大な手間がかかるという問題点を有していた。
【0004】
一方、本発明に関連するものとして、特許文献1には、超磁歪アクチュエータの微小変位を利用して姿勢制御プレートを微小回転するようにした姿勢制御装置を精密加工装置に設けることが記載されているが、本発明のように、板の弾性を利用してガイド部材を撓ませるものではなかった。
【0005】
【特許文献1】
特開2002−127003号公報
【0006】
本発明は、前記従来の問題点を解決するべくなされたもので、比較的簡単にステージの真直運動精度を凹凸に制御可能とすることを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、真直度制御ステージにおいて、所定位置が架台に固定され、他の部分が変位可能とされたベースプレートと、該ベースプレートに固定されたリニアガイドと、該リニアガイド上を移動するトップテーブルと、該トップテーブルを駆動する駆動手段と、前記ベースプレートの前記他の部分の架台との間隔を変化させるための加圧手段とを備え、前記加圧手段により前記リニアガイドの撓みを制御可能とすることにより、前記課題を解決したものである。
【0008】
又、前記間隔を検出するための変位センサを備えたものである。
【0009】
本発明は、又、前記の真直度制御ステージを備えたことを特徴とする加工装置を提供するものである。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【0011】
本実施形態の真直度制御ステージは、図1に示す如く、中央が架台10に固定され、両端部が変位可能とされたベースプレート12と、該ベースプレート12に固定されたリニアガイド14と、該リニアガイド14上を図の矢印Aに示す方向に往復移動するトップテーブル16と、該トップテーブル16を駆動する駆動手段であるサーボモータ18及びボールねじ20と、前記ベースプレート12の両端部の架台10との間隔を変化させるための、例えばベースプレート12の四隅にそれぞれ設けられた加圧装置22と、該加圧装置22によるベースプレート12の四隅の変位を検出するための、同じくベースプレート12の四隅にそれぞれ設けられた4個の変位センサ24とを備えている。
【0012】
前記加圧装置22としては、例えばエアシリンダや油圧シリンダを用いることができ、その圧力を調整して、所定の変位を得る。
【0013】
前記変位センサ24としては、例えば電気マイクロメータや渦電流式センサ等を用いることができる。
【0014】
所望の真直度を得たい場合、例えばトップテーブル16上に固定される部品の真直度を中凹とするため、トップテーブル16を図2に実線Bで示す如く中凸に移動したい場合には、加圧装置22によりベースプレート12の四隅を図1中の矢印Bに示す如く下方向に変位させ、ベースプレート12を弾性変形させる。この際、変位センサ24で検出される変位量が所定量となるように加圧装置22の圧力を調整する。
【0015】
逆に、トップテーブル16上に固定される部品の真直度を中凸としたい場合には、図2に破線Cで示す如く、ステージの真直度を中凹とする。
【0016】
加圧装置22によりベースプレート12を加圧したときのベースプレート12の加圧量は、図3に示す如く、自由端に集中荷重を受ける片持ちばり13の撓みとして単純化することができる。即ち、集中荷重をW、縦弾性係数をE、断面2次モーメントをIとすると、自由端に集中荷重を受ける長さlの片持ちばり13の端部からの距離がxの位置での撓みyは、次式で表わされる。
【0017】
y={W/(6EI)}(x−3lx+2l) …(1)
【0018】
従って、端部位置lにおける最大撓みymaxは次式で表わされる。
【0019】
max=Wl/(3EI) …(2)
【0020】
この(2)式を変形することによって、必要な集中荷重Wは、次式で表わされる。
【0021】
W=ymax×3EI/l …(3)
【0022】
例えばベースプレート12が幅(b)500×長さ1000×厚み(h)30mmであるとすると、断面2次モーメントIは
Figure 2004284000
となる。従って、100μmの撓みとしたい場合には、前記(3)式の関係を用いて、
Figure 2004284000
の加圧をすればよいことになる。
【0023】
一方、ステージ中央位置のトップテーブル16の上面の変位は、例えば図4に示すようになる。即ち、ステージ中央位置(l=0)の上下変位量δ≒yであり、ステージ中央位置からlだけ離れた点の変位yは、次式で表わされる。
【0024】
y={W/(6EI)}(l−3Ll+2L) …(4)
【0025】
従って、l=L/2のとき、次式のようになる。
【0026】
Figure 2004284000
【0027】
よって、トップテーブル16のリニアガイド14支持点の長さがベースプレート12の半分であった場合、その変位量としては、ベースプレート12の撓みの約30%程度となる(リニアガイド平均化効果と称する)。従って、例えば、ステージ中央位置に設けられた回転砥石30により加工するとき、ベースプレート12に100μmの中凹の撓みを与えれば、トップテーブル16に固定されたワーク32を、図5に実線Dで示す如く、中凸約30μmの真直度で加工することができる。逆に、ベースプレート12に中凸の撓みを与えれば、ワーク32を、図5に破線Eで示す如く、中凹の真直度で加工することができる。
【0028】
本実施形態においては、全ての加圧装置22に変位センサ24を設けているので、ベースプレート12の変位を正確に制御できる。なお、必要精度によっては、変位センサ24を省略したり、数を減らすこともできる。
【0029】
又、前記実施形態においては、ベースプレート12の中央が架台10に固定され、両端部が加圧装置22により上下方向に変位可能とされていたが、ベースプレート12を変位させる方法はこれに限定されず、逆にベースプレート12の両端部を架台10に固定し、中央部に加圧装置22を設けて中央部を上下方向に変位可能とすることも可能である。
【0030】
又、駆動手段の構成もサーボモータとボールねじの組合せに限定されず、例えばリニアモータを用いることもできる。加工手段も回転砥石に設定されない。
【0031】
なお、前記実施形態においては、本発明が、工作機械における真直度補正に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定されず、例えば熱膨張で変形した移動ガイド一般の補正にも同様に適用可能である。
【0032】
【発明の効果】
本発明によれば、比較的簡単にステージの真直運動精度を凹凸に制御することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の構成を示す斜視図
【図2】前記実施形態におけるベースプレートの撓みを示す線図
【図3】同じくベースプレートの撓み量の計算モデルを示す線図
【図4】同じく運動真直度の計算例(リニアガイド平均化効果)を説明するための線図
【図5】同じく加工されたワーク形状の例を示す正面図
【符号の説明】
10…架台
12…ベースプレート
14…リニアガイド
16…トップテーブル
18…サーボモータ
20…ボールねじ
22…加圧装置
24…変位センサ
30…回転砥石
32…ワーク

Claims (3)

  1. 所定位置が架台に固定され、他の部分が変位可能とされたベースプレートと、
    該ベースプレートに固定されたリニアガイドと、
    該リニアガイド上を移動するトップテーブルと、
    該トップテーブルを駆動する駆動手段と、
    前記ベースプレートの前記他の部分の架台との間隔を変化させるための加圧手段とを備え、
    前記加圧手段により前記リニアガイドの撓みが制御可能とされていることを特徴とする真直度制御ステージ。
  2. 前記間隔を検出するための変位センサを備えたことを特徴とする請求項1に記載の真直度制御ステージ。
  3. 請求項1又は2に記載の真直度制御ステージを備えたことを特徴とする加工装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110345157A (zh) * 2019-06-14 2019-10-18 广东工业大学 一种多驱动多测刚柔耦合复合控制实验平台
CN111060056A (zh) * 2019-12-17 2020-04-24 天津大学 一种平行轮廓精确重构的重构装置及重构方法
CN111060055A (zh) * 2019-12-17 2020-04-24 天津大学 一种平行轮廓的无数据处理误差重构装置和重构方法
KR102582283B1 (ko) * 2023-06-13 2023-09-25 주식회사 디에이치테크 드라이브 샤프트의 하우징과 플랜지 조립장치

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CN111060056B (zh) * 2019-12-17 2021-07-27 天津大学 一种平行轮廓精确重构的重构装置及重构方法
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