JP2004286604A

JP2004286604A - Ｉｃｐ分析装置のスプレーチャンバ装置

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Publication number: JP2004286604A
Application number: JP2003079353A
Authority: JP
Inventors: Satoru Tanaka; 悟田中; Hidehiro Daidoji; 英弘大道寺
Original assignee: Horiba Ltd
Current assignee: Horiba Ltd
Priority date: 2003-03-24
Filing date: 2003-03-24
Publication date: 2004-10-14
Anticipated expiration: 2023-03-24
Also published as: JP4235015B2

Abstract

【課題】スプレーチャンバ内の洗浄に要する時間を可及的に少なくしつつ洗浄を確実に行うことができるようにして、複数の試料溶液の分析や複数回の試料分析を効率よく行うことのできるＩＣＰ分析装置のスプレーチャンバ装置を提供すること。
【解決手段】スプレーチャンバ１に二つの液導入部１２，１３を設け、一方の液導入部１２を試料溶液導入用とし、他方の液導入部１３を洗浄液導入用とした。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ＩＣＰ（高周波誘導結合プラズマ）分析装置のスプレーチャンバ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特開平８−３０４２８６号公報
ＩＣＰ分析装置においては、例えば前記特許文献１に記載されているように、プラズマトーチに分析対象の試料（サンプル）を供給するのに、プラズマトーチの前段に、スプレーチャンバ装置を設け、サンプル溶液をネブライザによってスプレーチャンバ内に吹きつけて霧化し、この霧化されたサンプルを選別してプラズマトーチにサンプルガスとして供給している。このスプレーチャンバ装置として、サイクロン型チャンバやスコット型チャンバがある。サイクロン型チャンバは、サンプル溶液の導入効率が高いといった特性を有する反面、前記サンプル溶液の導入濃度が高くなるとチャンバ内壁にサンプル溶液が付着しやすく、所謂サンプル溶液導入によるメモリ効果が大きくなり、特に、Ｂ（ホウ素）やＨｇ（水銀）などを含むサンプル溶液を霧化した後においては、洗浄液（リンス）による洗浄時間を長くしてやる必要がある。なお、スコット型チャンバにおいては、洗浄が効率的に行えず、前記メモリ効果が大きくなる。
【０００３】
そして、従来のスプレーチャンバ装置においては、チャンバにはネブライザが一つだけしか設けられていないため、例えば、図７（Ａ）に示すように、ネブライザによってチャンバ内に試料（図中では、サンプルと表記している。以下同じ）１を供給して所定の分析を行った後、ネブライザを介してチャンバ内に洗浄液（図中では、リンスと表記している。以下同じ）を送給して当該チャンバ内の洗浄を行っていた。そして、例えば、ＩＣＰ発光分光分析装置における分析においては、通常、検出器の出力が一定になったとき（定常状態）の所定時間の出力をサンプリングし、このサンプリングされた検出器出力に基づいて元素など分析対象成分の濃度を求めるようにしていた。なお、前記図７（Ａ）において、Ｔａは１回の分析に要する時間（分析時間）、Ｔｂは分析後の洗浄を含む分析間隔、Ｔｓは信号サンプリング時間である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のように、従来のスプレーチャンバ装置においては、検出器出力がゼロになるまでチャンバ内に洗浄液を送給し当該チャンバ内の洗浄を行っていたため、前記図７（Ａ）からも理解されるように、一つの分析を行って次の分析を行うまでに、チャンバ内洗浄のための時間がそのまま必要になり、それだけ一つの分析から次の分析までの分析間隔Ｔｂが大きくならざるを得ず、多くの異なる試料を順次分析する場合、全分析に要する時間が大きくなり、分析効率が悪いといった課題があった。
【０００５】
この発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的は、スプレーチャンバ内の洗浄に要する時間を可及的に少なくしつつ洗浄を確実に行うことができるようにして、複数の試料溶液の分析や複数回の試料分析を効率よく行うことのできるＩＣＰ分析装置のスプレーチャンバ装置（以下、単にスプレーチャンバ装置という）を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に係る発明におけるスプレーチャンバ装置は、スプレーチャンバに二つの液導入部を設け、一方の液導入部を試料溶液導入用とし、他方の液導入部を洗浄液導入用としている。ここで、液導入部としてネブライザを好適に用いることができる。
【０００７】
上記スプレーチャンバ装置においては、図７（Ｂ）に示すように、一方の液導入部（試料溶液導入部）を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行う。この分析が終了すると同時に、前記一方の液導入部から洗浄液をスプレーチャンバに導入する。これにより、一方の液導入部に連なる液流路およびチャンバ内が洗浄される。この一方の液導入部からのスプレーチャンバへの洗浄液の導入とともに、他方の液導入部（洗浄液導入部）を介して洗浄液をスプレーチャンバ内に供給する。これにより、スプレーチャンバ内が洗浄される。したがって、洗浄効率が高められるとともに洗浄に要する時間が短縮され、一つの分析から次の分析までの分析間隔Ｔｂが短縮される。
【０００８】
また、前記目的を達成するため、請求項２に係る発明におけるスプレーチャンバ装置は、スプレーチャンバに二つの液導入部を設け、一方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行い、この分析の終了後、前記一方の液導入部を介して洗浄液を供給してスプレーチャンバ内を洗浄し、この洗浄液導入から所定時間経過後、他方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行わせるようにしている。ここで、液導入部としてネブライザを好適に用いることができる。
【０００９】
上記スプレーチャンバ装置においては、一方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行い、この分析が終了すると同時に、一方の液導入部を介して洗浄液を供給してスプレーチャンバ内を洗浄する。そして、この洗浄液導入から所定時間経過後、他方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行わせる。そして、この分析が終了すると同時に、他方の液導入部を介して洗浄液を供給してスプレーチャンバ内を洗浄する。そして、この洗浄液導入から所定時間経過後、一方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行わせる。このスプレーチャンバ装置においては、図７（Ｃ）に示すように、洗浄液の導入と試料溶液の導入とをオーバーラップさせることができ、試料溶液導入を従来より前倒しした状態で開始することができるので、一つの分析終了から次の分析開始までの時間を短縮することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の詳細を、図を参照しながら説明する。図１および図２は、この発明の第１の実施の形態を示すもので、この実施の形態におけるＩＣＰ分析装置は、ＩＣＰ発光分光分析装置である。図１および図２において、１１はスプレーチャンバで、この実施の形態においてはサイクロン型チャンバよりなり、ガラス製である。１２，１３はこのスプレーチャンバ１１に設けられる液導入部で、この実施の形態においては、図２に示すように、点対称の位置に気（液）密かつ着脱自在であって、さらにそれらの噴霧方向がスプレーチャンバ１１の周方向に沿いかつ互いに反対方向となるように設けられている。そして、１４，１５はスプレーチャンバ１１の上部、下部に形成される霧状試料導出口、ドレン排出口である。
【００１１】
前記両液導入部１２，１３は、いずれも、例えば同軸型ネブライザよりなり、一方の液導入部１２は、その内側のノズル１２ａに可撓性のチューブよりなる液供給路１６が接続され、外側のノズル１２ｂにキャリアガス導入管１７が接続され、スプレーチャンバ１１内に試料溶液（サンプル）を霧化して導入するための試料溶液導入部に構成されている。また、他方の液導入部１３は、その内側のノズル１３ａに可撓性のチューブよりなる液供給路１８が接続され、外側のノズル１３ｂにキャリアガス導入管１９が接続され、スプレーチャンバ１１内に洗浄液（リンス）を霧化して導入するための洗浄液導入部に構成されている。なお、図示していないが、キャリアガス導入管１７，１９には流量調整機構がそれぞれ設けられており、キャリアガスの流量制御やその供給、停止の制御を行うことができるようにしてある。
【００１２】
そして、この実施の形態においては、試料溶液導入部１２に接続される液供給路１６の上流側にはペリスタポンプ２０が設けられ、さらに、このペリスタポンプ２０には試料溶液供給源としての試料容器２１と洗浄液供給源としての洗浄液容器２２とが択一的に接続されるようにしてある。すなわち、ペリスタポンプ２０の上流側の液流路２３の端部を、図２中の実線または仮想線で示すように、試料容器２１または洗浄液容器２２に対して手動によって択一的に接続することにより、試料容器２１内の試料溶液Ｓまたは洗浄液容器２２内の洗浄液Ｒのいずれかをペリスタポンプ２０によって試料溶液導入部１２側に送給できるように構成されている。
【００１３】
また、前記洗浄液導入部１３に接続される液供給路１８にはペリスタポンプ２４が設けられ、さらに、このペリスタポンプ２４には洗浄液供給源としての洗浄液容器２５が液流路２６を介して接続され、洗浄液容器２４内の洗浄液Ｒを洗浄液導入部１３側に送給できるように構成されている。なお、前記液流路２３，２６は、例えば、試験担当者が容器２１，２２，２５と接続・分離を自在に行うことができるように、例えば、適宜の素材よりなる可撓性のチューブで構成されている。
【００１４】
そして、前記霧状試料導出口１４は、接続管２７を介してプラズマトーチ２８に接続されている。このプラズマトーチ２８は、プラズマ２９を発生させるもので、スプレーチャンバ１１より上方に位置するように設けられており、このプラズマトーチ２８には、スプレーチャンバ１１において生じた霧状試料とキャリアガスが流れるプラズマガス流路３０、補助ガスが流れる補助ガス流路３１および冷却ガスが流れる冷却ガス流路３２がこの順に内部から外部に同心配置されるとともに、その先端部近傍の外周には高周波電源（図示していない）に接続された誘導コイル３３が周設されており、この誘導コイル３３による高周波磁界によって、プラズマトーチ２８に供給される霧状試料がプラズマ化し、プラズマ発光する。このプラズマ発光は、分光分析部（図示していない）に設けられた分光器を経て検出器によって検出される。
【００１５】
また、前記ドレン排出口１５には、ドレン回収路３４が接続され、このドレン回収路３４の下端は、回収されたドレン３５を収容するドレン回収容器３６に接続されている。
【００１６】
なお、上記ＩＣＰ発光分光分析装置の各部は、図示していない制御部によって所定の手順で制御されるように構成されている。
【００１７】
上記第１の実施の形態におけるスプレーチャンバ装置の作動を、図７（Ｂ）をも参照しながら説明する。一つの試料溶液Ｓの分析を行うに際して、まず、試料容器２１を液流路２３を介してペリスタポンプ２０に接続して、試料容器２１を試料溶液導入部１２と連通させ、試料溶液導入部１２にキャリアガスを供給している状態で、ペリスタポンプ２０を動作させる。これにより、試料容器２２内の試料溶液Ｓが試料溶液導入部１２に入り、前記キャリアガスの作用によりスプレーチャンバ１１内に噴霧供給され（図７（Ｂ）におけるサンプル１ＩＮ）、この噴霧によって、図２において矢印３７で示すようにスプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして反時計回り方向に旋回する霧状試料が生ずる。そして、この霧状試料のうち所定の径より小さいものが接続管２７を介してプラズマトーチ２８に対してキャリアガスとともに供給され、プラズマトーチ２８におけるプラズマ２９中でプラズマ発光し、この発光は分光分析部に導入され、分光分析に供される。他方、前記霧状試料のうち所定の径より大きいものはドレン３５としてドレン排出口１５から排出され、ドレン回収路３４を経てドレン回収容器３６内に回収される。
【００１８】
前記分光分析部における検出器において所定の信号のサンプリングが終了すると、一つの試料溶液Ｓに関する分析が終了する。
【００１９】
そして、前記一つの分析が終了すると同時に、例えば試験担当者が液流路２３を試料容器２１から外して、図２において仮想線２３で示すように、液流路２３を洗浄液容器２２に接続することにより、洗浄液容器２２をペリスタポンプ２０を介して試料溶液導入部１２と連通させ、試料溶液導入部１２にキャリアガスを供給している状態で、ペリスタポンプ２０を動作させる。これにより、洗浄液容器２２内の洗浄液Ｒが試料溶液導入部１２に入り、前記キャリアガスの作用によりスプレーチャンバ１１内に噴霧供給され（図７（Ｂ）におけるリンスＩＮ_１）、この噴霧によって、図２において矢印３８で示すように、スプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして洗浄液Ｒが反時計回り方向に旋回する。この洗浄液Ｒの試料溶液導入部１２への供給およびスプレーチャンバ１１内への導入によって、液流路２３内、液供給路１６内および試料溶液導入部１２内の洗浄並びにスプレーチャンバ１１内の洗浄が行われる。この試料溶液導入部１２からのスプレーチャンバ１１への洗浄液Ｒの導入とともに、洗浄液導入部１３にキャリアガスの供給を開始するとともに、洗浄液供給路１８側のペリスタポンプ２４を動作させて、洗浄液容器２５内の洗浄液Ｒを洗浄液導入部１３側に送給する。この洗浄液導入部１３においては、前記キャリアガスの作用によりスプレーチャンバ１１内に洗浄液Ｒが噴霧供給され（図７（Ｂ）にリンスＩＮ_２）、これによって、洗浄液Ｒは、図２において矢印３９で示すようにスプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして反時計回り方向に霧状態となって旋回し、前記試料溶液導入部１２からの洗浄液Ｒと共働してスプレーチャンバ１１の内壁面を隈なく洗浄する。この場合、洗浄液導入部１３が試料溶液導入部１２に対して点対称の位置に設けられているので、前記霧状の洗浄液Ｒの旋回方向は、前記分析における霧状試料の旋回方向３７と同方向となり、その結果、前記内壁面の全面を短時間で洗浄することができる。
【００２０】
以下、上述のようにして、試料溶液導入部１２および洗浄液導入部１３へのキャリアガスの供給、ペリスタポンプ２０，２４による試料溶液導入部１２および洗浄液導入部１３への試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒの供給制御を行うことにより、二つの液導入部１２，１３によって、スプレーチャンバ１１内への試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒの噴霧供給を交互に行うことができるとともに、分析後のスプレーチャンバ１１内の洗浄を確実に行うことができる。
【００２１】
上記スプレーチャンバ装置における分析とその後に行われる洗浄の時間的関係は、図７（Ｂ）に示すようになり、洗浄に要する時間は、同図（Ａ）に示す従来のスプレーチャンバ装置における前記時間よりかなり短縮される。したがって、一つの分析から次の分析までの時間間隔Ｔｂが短縮されることが分かる。
【００２２】
図３は、この発明の第２の実施の形態を示すもので、この実施の形態においては、スプレーチャンバ１１に互いに点対称の位置に設けられるネブライザよりなる二つの液導入部１２，１３のそれぞれに、流路切換え部を備えた液供給路を接続し、前記各流路切換え部に試料液供給源および洗浄液供給源を接続している。すなわち、図３において、４０，４１は二つの液導入部１２，１３に対する液供給路１６，１８に設けられる三方電磁弁などの流路切換え装置で、これらの流路切換え部４０，４１の上流側には、ストップ弁４２，４３，４４，４５を介して試料溶液供給源４６，４７と洗浄液供給源４８，４９がそれぞれ接続されている。なお、試料溶液供給源４６，４７は、例えば、前記第１の実施の形態におけるペリスタポンプ２０と試料容器２１とを組み合わせたものより構成され、また、洗浄液供給源４８，４９は、例えば、前記第１の実施の形態におけるペリスタポンプ２４と洗浄液容器２５とを組み合わせたものより構成されている。
【００２３】
上記第２の実施の形態におけるスプレーチャンバ装置の作動を、図７（Ｃ）をも参照しながら説明する。一つの試料溶液Ｓの分析を行うに際して、まず、一方の液導入部１２にキャリアガスを供給している状態で、液導入部１２に接続されている三方電磁弁４０をオンするとともにストップ弁４２を開いて、試料溶液供給源４６を一方の液導入部１２に連通させる。これにより、試料溶液Ｓが液導入部１２に入り、前記キャリアガスの作用によりスプレーチャンバ１１内に噴霧供給され（図７（Ｃ）におけるサンプル１ＩＮ）、この噴霧によって、図３において矢印５０で示すようにスプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして反時計回り方向に旋回する霧状試料が生ずる。そして、この霧状試料のうち所定の径より小さいものが第１および第２の実施の形態と同様にプラズマトーチ２８に対して供給され、所定の分析（第１番目の分析）が行われる。
【００２４】
そして、前記第１番目の分析における検出器において所定の信号のサンプリングが終了すると同時に、三方電磁弁４０をオフするとともにストップ弁４３を開く。これにより、試料溶液供給源４６が一方の液導入部１２と非連通となり、第１番目の分析が終了するとともに、洗浄液供給源４８が一方の液導入部１２に連通されることにより、洗浄液Ｒが液導入部１２を介してスプレーチャンバ１１内に噴霧供給される（図７（Ｃ）におけるリンスＩＮ）。この洗浄液Ｒの導入により、液供給路１６および液導入部１２内が洗浄されるとともに、スプレーチャンバ１１内への噴霧によって、図３において矢印５１で示すようにスプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして反時計回り方向に洗浄液Ｒが旋回し、この旋回する洗浄液Ｒによってスプレーチャンバ１１の内壁面が隈なく洗浄される。
【００２５】
そして、前記洗浄液Ｒの導入から所定時間経過後、他方の液導入部１３にキャリアガスを供給し、その状態で、液導入部１３に接続されている三方電磁弁４１をオンするとともにストップ弁４４を開いて、試料溶液供給源４７を他方の液導入部１３に連通させる。これにより、試料溶液Ｓが液導入部１３に入り、前記キャリアガスの作用によりスプレーチャンバ１１内に噴霧供給され（図７（Ｃ）におけるサンプル２ＩＮ）、この噴霧によって、図３において矢印５２で示すようにスプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして反時計回り方向に旋回する霧状試料が生ずる。そして、このように、液導入部１３から試料溶液Ｓを継続するとともに、前の測定における試料溶液Ｓが十分に洗浄された後、前記洗浄液Ｒの導入を停止する（図７（Ｃ）におけるリンス１ＯＵＴ）。その後、この霧状試料のうち所定の径より小さいものが前記第１および第２の実施の形態と同様にプラズマトーチ２８に対して供給され、所定の分析（第２番目の分析）が行われる。
【００２６】
そして、前記第２番目の分析における検出器において所定の信号のサンプリングが終了すると同時に、三方電磁弁４１をオフするとともにストップ弁４４を開く。これにより、試料溶液供給源４７が他方の液導入部１３と非連通となり、第２番目の分析が終了するとともに、洗浄液供給源４９が他方の液導入部１３に連通されることにより、洗浄液Ｒが液導入部１３を介してスプレーチャンバ１１内に噴霧供給される（図７（Ｃ）におけるリンス２ＩＮ）、この洗浄液Ｒの導入により、液供給路１８および液導入部１３内が洗浄されるとともに、スプレーチャンバ１１内への噴霧によって、図３において矢印５３で示すようにスプレーチャンバ１１の内壁面に沿うようにして反時計回り方向に洗浄液Ｒが旋回し、この旋回する洗浄液Ｒによってスプレーチャンバ１１の内壁面が隈なく洗浄される。
【００２７】
以下、上述のようにして、三方電磁弁４０，４１の切換え制御およびストップ弁４２〜４５の開閉制御を行うことにより、二つの液導入部１２，１３に、それぞれ、試料溶液供給部と洗浄液供給部の双方の機能をもたせることができ、スプレーチャンバ１１内への試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒの噴霧供給を交互に行うことができ、分析後のスプレーチャンバ１１内の洗浄を確実に行うことができる。
【００２８】
そして、上記第２の実施の形態におけるスプレーチャンバ装置における分析とその後に行われる洗浄の時間的関係は、図７（Ｃ）に示すようになる。すなわち、分析時間Ｔａ_２の前半を洗浄時間内にオーバーラップさせ、試料溶液導入を従来より前倒しした状態で開始することができるので、一つの分析から次の分析までの時間間隔を短縮することができる。
【００２９】
図４および図５は、この発明の第３の実施の形態を示すもので、この実施の形態においては、洗浄液導入部１３側のペリスタポンプ２４においても、前記第１の実施の形態における試料溶液導入部１２側のペリスタポンプ２０に対するのと同様に、試料溶液Ｓと洗浄液Ｒとを手動によって択一的に供給できるように構成されている。すなわち、試料容器２５と並列的に試料容器５４を設け、図５中の実線または仮想線で示すように、ペリスタポンプ２４に対して洗浄液容器２５または試料容器５４に試験担当者が手動によって択一的に接続することにより、洗浄液容器２５内の洗浄液Ｒまたは試料容器４０内の試料溶液Ｓのいずれかをペリスタポンプ２４によって洗浄液導入部１３側に送給できるように構成されている。
【００３０】
上記第３の実施の形態におけるスプレーチャンバ装置の二つの液導入部１２，１３に対して試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒを切換え供給するようにした構成および試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒを切換え供給する手順は、前記第２の実施の形態のものと同じであり、第２の実施の形態においては、二つの液導入部１２，１３に対応するようにして設けられた三方電磁弁よりなる流路切換え装置４０，４１によって、前記試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒを切換え供給するのに対して、上記図４および図５に示す第３の実施の形態においては、前記試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒを切換え供給を試験担当員によって行う点がことなるだけであり、その動作シーケンスは、図７（Ｃ）と同じであるので、この第３の実施の形態の作動の説明については省略する。
【００３１】
この発明は、上述した各実施の形態に限定されるものではなく、種々に変形して実施することができる。例えば、スプレーチャンバ１１に設けられる二つの液導入部１２，１３の配置関係は、互いに点対称の位置であることは必ずしも必要ではなく、スプレーチャンバ１１内への試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒの噴霧方向が同じになるように設けてあればよい。また、場合によっては、前記噴霧方向が逆になるように、液導入部１２，１３を設けてもよい。
【００３２】
さらに、上述した各実施の形態においては、スプレーチャンバ１１がサイクロン型チャンバよりなるものであったが、図６に示す第４の実施の形態のように、スコット型チャンバにおいても同様に適用することができる。すなわち、図６において、６０はスコット型チャンバで、その一端側に二つの液導入部６１，６２が並設されている。これらの液導入部６１，６２は、いずれも、同軸型ネブライザよりなり、一方の液導入部６１には、例えば図１に示した液供給路１６と同様構成の供給路６３が接続され、他方の液導入部６２には、例えば図１に示した液供給路１８と同様構成の液供給路６４が接続されている。なお、６５，６６はキャリアガス導入管である。また、６７は霧状試料導出口、６８はドレン排出口である。
【００３３】
前記第４の実施の形態においても、第１の実施の形態におけるスプレーチャンバ装置と同様に、二つの液導入部６１，６２によって、スプレーチャンバ１１内への試料溶液Ｓおよび洗浄液Ｒの噴霧供給を交互に行うことができるとともに、分析後のスプレーチャンバ１１内の洗浄を確実に行うことができる。
【００３４】
ところで、上述の第１〜第４の実施の形態においては、液導入部１２，１３，６１，６２として同軸型ネブライザを用いていたが、これに代えて、クロスフロー型ネブライザなどを用いてもよい。そして、第１および第４の実施の形態のように、二つの液導入部１２，６１，１３，６２のうちのいずれか一方を試料溶液導入部とし、いずれか他方を洗浄液導入部というようにその役割が固定的に定まるものにおいては、試料溶液導入部となるものについてのみ流量調整できるネブライザを用いる必要があるが、洗浄液導入部については高度に流量調整できる構成のネブライザを必ずしも用いる必要はない。
【００３５】
また、流路切換え装置４０，４１としては、三方コックなどの他の切換え装置を用いてもよい。さらに、上述の各実施の形態においては、ＩＣＰ分析装置としてＩＣＰ発光分光分析装置を例示していたが、この発明は、これに限られるものではなく、ＩＣＰ質量分析装置においても同様に適用することができる。
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明のスプレーチャンバ装置によれば、スプレーチャンバ内の洗浄を確実に行うことができ、複数の異なる試料溶液を連続的に行う場合におけるコンタミネーションを確実に防止することができる。そして、洗浄液によるスプレーチャンバ内の洗浄を従来に比べて短縮することができるので、複数の試料溶液の分析や複数回の試料分析を効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態のスプレーチャンバ装置の構成を概略的に示す側面図である。
【図２】前記スプレーチャンバ装置の平面構成を概略的に示す図である。
【図３】第２の実施の形態のスプレーチャンバ装置の平面構成を概略的に示す図である。
【図４】第３の実施の形態のスプレーチャンバ装置の構成を概略的に示す側面図である。
【図５】前記スプレーチャンバ装置の平面構成を概略的に示す図である。
【図６】第４の実施の形態のスプレーチャンバ装置の構成を概略的に示す側面図である。
【図７】この発明の作用を説明するための図で、（Ａ）は従来技術の作用説明図、（Ｂ）は第１の実施の形態の作用説明図、（Ｃ）は第２および第３の実施の形態の作用説明図である。
【符号の説明】
１１…スプレーチャンバ、１２，１３…液導入部、４０，４１…流路切換え装置、４６，４７…試料液供給源、４８，４９…洗浄液供給源、６０…スプレーチャンバ、６１，６２…液導入部、６３，６４…液供給路、Ｓ…試料溶液、Ｒ…洗浄液。

Claims

スプレーチャンバに二つの液導入部を設け、一方の液導入部を試料溶液導入用とし、他方の液導入部を洗浄液導入用としたことを特徴とするＩＣＰ分析装置のスプレーチャンバ装置。
スプレーチャンバに二つの液導入部を設け、一方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行い、この分析の終了後、前記一方の液導入部を介して洗浄液を供給してスプレーチャンバ内を洗浄し、この洗浄液導入から所定時間経過後、他方の液導入部を介して試料溶液をスプレーチャンバに導入して所定の分析を行わせることを特徴とするＩＣＰ分析装置のスプレーチャンバ装置。
スプレーチャンバに二つの液導入部を設け、これらの液導入部のそれぞれに流路切換え部を備えた液供給路を接続し、前記各流路切換え部に試料液供給源および洗浄液供給源を接続したことを特徴とするＩＣＰ分析装置のスプレーチャンバ装置。