JP2004307845A - 透明複合体組成物 - Google Patents

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澄夫 柴原
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渉 岡
Hiromitsu Kuramoto
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Abstract

【課題】 線膨張係数が小さく、光学特性に優れ、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機EL表示素子基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに適用できるガラスに代替可能な透明複合体組成物を提供する。
【解決手段】 透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなり、曇度計でのHAZEが5以下であることを特徴とする透明複合体組成物。透明樹脂(a)の屈折率と前記ガラスフィラー(b)の屈折率との差が0.01以下であることが望ましく、透明樹脂(a)のアッベ数が45以上であることが望ましい。


Description

本発明は、線膨張係数が小さく、光学特性に優れ、ガラスに代替可能な透明複合体組成物に関する。本発明の透明複合体組成物は、例えば、液晶表示素子用基板、カラーフィルター用基板、有機EL表示素子用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに好ましい。
一般に、液晶表示素子や有機EL表示素子用の表示素子基板(特にアクティブマトリッ
クスタイプ)、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等としては、ガラス板が広く用い
られている。しかしながらガラス板は、割れ易い、曲げられない、比重が大きく軽量化に不向きなどの理由から、近年、その代替としてプラスチック素材が検討されている。
例えば、特許文献1や特許文献2には、エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤及び硬化触媒を含むエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化体からなる液晶表示素子用透明樹脂基板が記載されている。 しかしながら、これら従来のガラス代替用プラスチック材料は、ガラス板に比べ線膨張係数が大きく、特に、アクティブマトリックス表示素子基板に用いるとその製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じ、これら用途への使用は困難である。したがって、表示素子基板、特にアクティブマトリックス表示素子用基板に要求される、透明性、耐熱性等を満足しつつ線膨張係数の小さなプラスチック素材が求められている。
線膨張係数を低減するため、樹脂にガラス繊維等の無機フィラーを複合化することがよく行われている。しかしながら、これら樹脂と無機フィラーとの複合化では、通常透明な複合材料は得られない。これは無機フィラーの屈折率と樹脂の屈折率とが異なるため、樹脂中を透過する光が乱屈折することが主な原因である。
特許文献3には、樹脂に無機酸化物が分散された基材層を少なくとも有する粒子分散系樹脂シートが記載されている。しかしながら、ここで用いられている無機酸化物の平均粒子径は1〜100nmであるため、添加に伴い粘度が上昇し、量産時に生産性良く無機酸化物を多量に複合させることが困難で、効果的に線膨張係数を下げる事ができなかった。また、特許文献4には、平均粒子径が100nmより大きく100μm以下である無機酸化物が分散された基材層を有する粒子分散樹脂シートが記載されている。しかしながら、ここで示されている無機酸化物は、樹脂との屈折率を合わせていないため、全光線透過率は高いものの平行光線透過率が低く、HAZEも大きく、表示材料として使用するには用途が限定されていた。
このような問題を解決するため、樹脂とガラス繊維との屈折率をあわせて透明化することが種々検討されている。例えば、特許文献5や特許文献6には、環状オレフィン樹脂とガラス繊維との屈折率差を小さくすることにより、透明な複合材料が得られることが示されている。また、非特許文献1には、エポキシ樹脂とその屈折率に近いガラス繊維を用いて透明な複合体が得られることが示されている。しかしながら、これら材料は特定波長の屈折率が一致していることが示されているだけである。屈折率の波長依存性は、一般に樹脂とフィラーでは異なるため、例えば、ナトリウムD線(589nm)では屈折率が一致していてもその他の波長ではずれているため曇度計でのHAZEが大きく、これら材料を液晶表示用素子基板などに用いるとコントラストが低下する恐れがあった。
特開平6−337408号公報 特開平7−210740号公報 特開2002−351353号公報 特開2003−183521号公報 特開平6−256604号公報 特開平6−305077号公報 複合材料シンポジウム講演要旨集、22、86(1997)
本発明は、線膨張係数が小さく、HAZEが小さいなどの光学特性に優れ、ガラスに代替可能な透明複合体組成物を提供するものである。アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、カラーフィルター用基板、有機EL素子用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに好適に用いられる。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した。その結果、透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなり、曇度計でのHAZEが5以下であることを特徴とする透明複合体組成物が、光学特性に優れ、線膨張係数が小さく、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、カラーフィルター用基板、有機EL素子用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに好適に用いられることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、
(1) 透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなり、曇度計でのHAZEが5以下であることを特徴とする透明複合体組成物、
(2) 前記透明樹脂(a)の屈折率と前記ガラスフィラー(b)の屈折率との差が0.01以下である(1)の透明複合体組成物、
(3) 前記透明樹脂(a)のアッベ数が45以上である(1)または(2)の透明複合体組成物、
(4) 前記透明樹脂(a)が硬化したエポキシ樹脂である(1)〜(3)いずれかの透明複合体組成物、
(5) 前記透明樹脂(a)が架橋したアクリル樹脂である(1)〜(3)いずれかの透明複合体組成物、(6) 前記ガラスフィラー(b)の屈折率が1.45〜1.55である(1)〜(5)いずれかの透明複合体組成物、
(7)前記ガラスフィラー(b)がガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布から選ばれた1種以上を含む(1)〜(6)いずれかの透明複合体組成物。
(8) 30〜150℃における平均線膨張係数が40ppm以下である(1)〜(7)いずれかの透明複合体組成物、
(9) シートの厚みが50〜2000μmである(1)〜(8)いずれかの透明複合体組成物、(10) 波長550nmでの平行光線透過率が80%以上である(1)〜(9)いずれかの透明複合体組成物、
(11) 波長400nmでの平行光線透過率が75%以上である(1)〜(10)いずれかの透明複合体組成物、
(12) 透明複合体組成物が、表示素子用プラスチック基板、又はアクティブマトリックス表示素子用基板である(1)〜(11)いずれかの透明複合体組成物、である。
本発明の透明複合体組成物は、線膨張係数が小さく、かつHAZEが小さいなどの光学特性に優れ、例えば、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機EL表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネルに好適に利用できる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明では、透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなる透明複合体組成物は、曇度計でのHAZEが5以下であることを特徴とし、さらに好ましくは4以下であり、最も好ましくは3以下である。
HAZEが5以上の場合はコントラストが低下し、例えば液晶表示素子基板として用いた場合に表示品位が低下する恐れがある。本発明者らは曇度計でのHAZEを詳細に解析した結果、このHAZEが透明樹脂とガラスフィラーの屈折率の違いや透明樹脂とガラスフィラーのアッベ数の違いに影響されることを見出した。
ここでいうHAZE(H)とは試験片を通過する透過光のうち、前方散乱によって、入射光から0.044rad(2.5°)以上それた透過光の百分率を示すもので、H=[(τ4/τ2)−τ3(τ2/τ1)]×100で求めることができる。ここでτ1、τ2、τ3、τ4は、それぞれ入射光の光線、試験片を通過した全光束、装置で拡散した光束、装置および試験片で拡散した光束である。
透明樹脂(a)の硬化後の屈折率とガラスフィラー(b)の屈折率の差は優れたHAZEを実現するため0.01以下であることが好ましく、0.005以下がより好ましい。屈折率の差が0.01より大きい場合には得られる透明複合体組成物のHAZEが大きくなる可能性がある。
透明樹脂(a)の硬化後のアッベ数は45以上が好ましく、50以上がより好ましい。アッベ数が45以下では得られる透明複合体組成物のHAZEが劣る傾向がある。ここでいうアッベ数(νD)とは、屈折率の波長依存性を示すもので、νD=(nD−1)/(nF−nC)で求めることができる。ここで、nC、nD、nFはそれぞれブラウンホーファーの線のC線(波長656nm)、D線(589nm)、F線(486nm)に対する屈折率である。
本発明で用いるガラスフィラー(b)の屈折率は特に制限されないが、1.45〜1.55であることが好ましく、より好ましくは1.50〜1.54であり、もっとも好ましくは1.50〜1.52である。ガラスフィラー(b)の屈折率が1.55以上では、同じ屈折率でアッベ数が45以上の樹脂を選択するのが困難であり、1.45以下では特殊な構成のガラスフィラー(b)となり、コスト的に不利である、特に1.50〜1.54の範囲であれば、SガラスやNEガラスなどの一般的なガラスフィラーが適用でき、かつ同じ屈折率でアッベ数が45以上の樹脂の選択も可能である。
本発明で用いるガラスフィラー(b)としては、ガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ミルドガラスなどがあげられ、中でも線膨張係数の低減効果が高いことから、ガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布が好ましく、ガラスクロスが最も好ましい。
ガラスの種類としてはEガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Dガラス、NEガラス、Tガラス、石英ガラス等があげられ、なかでもアッベ数が45以上の樹脂と屈折率を一致させることができ、かつ入手が容易なSガラス、Tガラス、NEガラスが好ましい。
ガラスフィラーの含有量(b)は、1〜90重量%、好ましくは10〜80重量%、より好ましくは30〜70重量%である、ガラスフィラーの含有量が1重量%以下では、複合化による低線膨張化の効果が認められず、90重量%以上では成形が困難となる。
アッベ数が45以上の透明樹脂の例としては、PMMAなどの熱可塑性のアクリル樹脂、2つ以上の官能基を有する(メタ)アクリレートを主成分とする架橋したアクリレート樹脂、2つ以上のエポキシ基を有する化合物を硬化させたエポキシ樹脂、ノルボルネン誘導体やシクロヘキサンジエン誘導体を重合したシクロオレフィン樹脂、オレフィン−マレイミド交互共重合体、ポリ−4−メチルペンテン−1などのオレフィン樹脂、CR−39などの光学レンズ用の熱硬化性樹脂、などをあげることができる。これらの中でも、耐熱性や耐薬品性が優れることから、2つ以上の官能基を有する(メタ)アクリレートを主成分とする架橋したアクリレート樹脂や2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を主成分とする硬化したエポキシ樹脂が好ましい。硬化後のアッベ数が45以上となるエポキシ樹脂としては、用いる硬化剤によっても異なるが、例えば酸無水物系硬化剤の場合には、式(1)〜(6)で示される脂環式エポキシ樹脂や式(7)で示されるトリグリシジルイソシアヌレートなどが好ましいものとして例示できる。なかでも耐熱性が優れていることから一般式(4)で示される脂環式エポキシ樹脂及び一般式(7)で示されるトリグリシジルイソシアヌレートを用いることがより好ましい。
これらエポキシ樹脂は、ガラス繊維と屈折率を合わすことができれば単独で用いても良いが、屈折率を調整する目的で他のエポキシ樹脂も含めて2種以上を併用することが好ましい。また、柔軟性を付与するなどの目的で、要求される特性を極端に損なうことのない範囲で、単官能のエポキシ化合物を併用しても良い。 本発明に用いるエポキシ樹脂(a)は、硬化剤もしくは重合開始剤存在下、加熱もしくは活性エネルギー線を照射し、硬化して用いる。用いる硬化剤は、特に限定されないが、優れた透明性の硬化物が得られやすいことから、酸無水物系硬化剤やカチオン系触媒が好ましい。
酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチル水添無水ナジック酸、水添無水ナジック酸などがあげられ、なかでも透明性が優れることからメチルヘキサヒドロ無水フタル酸やメチル水添無水ナジック酸が好ましい。
酸無水物系硬化剤を使用する場合は、硬化促進剤を併用することが好ましい。この硬化促進剤としては、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン等の三級アミン類、2−エチル−4−メチルイミダゾールや1−ベンジル−2
−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のリン化合物、四級アンモニウム塩、有機金属塩類、およびこれらの誘導体等があげられ、これらのなかでも透明性が優れることからリン化合物や1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類が好ましい。これら硬化促進剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いても良い。
エポキシ樹脂(a)と酸無水物系硬化剤との配合割合は、エポキシ樹脂(a)中のエポキシ基1当量に対して、酸無水物系硬化剤における酸無水物基が0.5〜1.5当量に設定することが好ましく、0.7〜1.2当量がより好ましい。
カチオン系触媒としては、酢酸、安息香酸、サリチル酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、三フッ化ホウ素アミン錯体、三フッ化ホウ素のアンモニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨウドニウム塩、アルミニウム錯体を含有するカチオン系触媒等をあげることができ、これらのなかでもアルミニウム錯体を含有するカチオン系触媒が好ましい。
架橋した樹脂のアッベ数が45以上となる2つ以上の官能基を有する(メタ)アクリレートとしては、脂環式(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンのアセタール化合物のジ(メタ)アクリレートなどの環状エーテル型ジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAエチレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレートなどがあげられるが、耐熱性が高いことから式(8)及び(9)で示される脂環式(メタ)アクリレート、式(10)で示されるヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンのアセタール化合物のジ(メタ)アクリレートなどの環状エーテル型ジ(メタ)アクリレートが好ましい。
これら(メタ)アクリレートは、屈折率がガラス繊維と合えば単独で用いても良いが、屈折率を調整する目的で、他の(メタ)アクリレートを含め2種以上を併用することが好ましい。また、柔軟性を付与するなどの目的で、要求された特性を極端に損なうことがない範囲で、単官能の(メタ)アクリレートを併用することもできる。 2つ以上の官能基を有する(メタ)アクリレートを架橋させる方法としては、活性エネルギー線により硬化させる方法、熱をかけて熱重合させる方法等があり、これらを併用することもできる。特に、反応の完結、リターデーション値を低くする、線膨張係数を低減する等の目的で、活性エネルギー線による硬化及び/又は熱をかけて熱重合させる工程の後に、さらに高温での熱処理を併用することが好ましい。使用する活性エネルギー線としては、紫外線が好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、例えば、メタルハライドタイプ、高圧水銀灯ランプ等が挙げられる。
複合体組成物を紫外線等の活性エネルギー線により硬化させる場合は、複合体組成物中にラジカルを発生する光重合開始剤を含有させることが好ましい。その際に用いる光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドが挙げられる。これらの光重合開始剤は2種以上を併用しても良い。
光重合開始剤の複合体組成物中における含有量は、適度に硬化させる量であればよく、
2つ以上の官能基を有する(メタ)アクリレートの合計100重量部に対し、0.01〜2重量部が好ましく、さらに好ましくは、0.02〜1重量部であり、最も好ましくは、0.1〜0.5重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎると、重合が急激に進行し、複屈折の増大、着色、硬化時の割れ等の問題が発生する。また、少なすぎると組成物を十分に硬化させることができず、架橋後に型に付着して取れない等の問題が発生する。
活性エネルギー線による硬化及び/又は熱重合による架橋後に高温で熱処理する場合は、その熱処理工程の中に、線膨張係数を低減する等の目的で、窒素雰囲気下又は真空状態で、250℃〜300℃、1〜24時間の熱処理工程を含ませることが好ましい。
本発明の透明複合体組成物においては、ガラス繊維と樹脂とが密着しているほど、表示素子用プラスチック基板など複合体組成物の透明性がよくなるため、ガラス繊維表面をシランカップリング剤などの公知の表面処理剤で処理するのが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂の場合はエポキシ基を有するシラン化合物で、アクリル樹脂の場合はアクリル基を有するシラン化合物で処理するのが好ましい。
また、本発明の複合体組成物中には、必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱
性等の特性を損なわない範囲で、少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、他
の無機フィラー等の充填剤等を含んでいても良い。
本発明の透明複合体組成物の成形方法に制限はなく、例えば、透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)とを直接混合し、必要な型に注型したのち架橋させる方法、透明樹脂(a)を溶剤に溶解し、ガラスフィラー(b)を分散させ、キャストした後、架橋させる方法、透明樹脂(a)をガラスクロスやガラス不織布(b)に含浸させる方法などがあげられる。
本発明の透明複合体組成物を、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機EL表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル等の用途として用いる場合、基板の厚さは好ましくは50〜2000μmであり、より好ましくは50〜1000μmである。基板の厚さがこの範囲にあると平坦性に優れ、ガラス基板と比較して基板の軽量化を図ることができる。
また、この透明複合体組成物を前記光学用途として用いる場合、30〜150℃における平均線膨張係数が40ppm以下であることが好ましく、より好ましくは30ppm以下、最も好ましくは20ppm以下である。例えば、この透明複合体組成物をアクティブマトリックス表示素子基板に用いた場合、この上限値を越えると、その製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じる恐れがある。
本発明の透明複合体組成物を、液晶表示用プラスチック基板などの表示用基板として用いる場合、波長550nmの平行光線透過率が80%であることが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。また、波長400nmの平行光線透過率は、75%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。光線透過率がこれよりさらに低いと光の利用効率が低下し、光効率が重要な用途には好ましくない。
表示素子用プラスチック基板とする場合、平滑牲を向上させるために両面に樹
脂のコート層を設けても良い。かかる樹脂は優れた透明性、耐熱性、耐薬品性を
有していることが好ましく、具体的にはエポキシ樹脂や多官能アクリレートなど
が好ましい。コート層の厚みは0.1〜50μmが好ましく、0.5〜30μmが
より好ましい。
本発明の表示素子用プラスチック基板は、必要に応じて水蒸気や酸素に対する
ガスバリア層や透明電極層を設けても良い。
以下に本発明を実施例及び比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明は これらにより限定されるものではない。
(実施例1)
100μmのNEガラス系ガラスクロス(日東紡製、屈折率1.510)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このクロスにトリグリシジルイソシアヌレート(日産化学工業製TEPIC)100重量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製リカシッドMH−700)147重量部、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP−PB)2重量部を110℃で溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロス2枚を積層して離型処理したガラス板に挟み込み、オーブン中で100℃*2時間+120℃*2時間+150℃*2時間+175℃*2時間加熱して、0.1mmの透明シートを得た。
(実施例2)
100μmのNEガラス系ガラスクロス(日東紡製、屈折率1.510)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン(アクリルシラン)で処理した。このクロスにノルボルナンジメチロールジアクリレート(東亞合成製、架橋後の屈折率1.520)90重量部、ネオペンチルグリコール変性トリメチロール
プロパンジアクリレート(日本化薬製R−604、架橋後の屈折率1.496)10重量
部、光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケミカル製、イルガキュア184))0.5重量部とからなる樹脂(架橋後の屈折率1
.516)を含浸し、脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、両面から約500mJ/cm2のUV光を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約100℃にて3時間加熱後、さらに約250℃にて3時間加熱し、0.1mmの透明シートを得た。
(実施例3)
100μmのSガラス系ガラスクロス(ユニチカクロス製、屈折率1.530)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このクロスにトリグリシジルイソシアヌレート(日産化学工業製T
EPIC)90重量部、ビスフェノールS型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製エピクロンEXA1514)10重量部、メチル水添無水ナジック酸(新日本理化製リカシッドHNA−100)153重量部、及びテトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP−PB)1.4重量部を110℃で溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロス2枚を積層して離型処理したガラス板に挟み込み、オーブン中で100℃*2時間+120℃*2時間+150℃*2時間+175℃*2時間加熱して、0.1mmの透明シートを得た。
(実施例4)
100μmのSガラス系ガラスクロス(ユニチカクロス製、屈折率1.530)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン(アクリルシラン)で処理した。このクロスにジシクロペンタジエニルジアクリレート(東亞合
成製M−203、架橋後の屈折率1.527)90重量部、ビス[4−(アクリロイロキシエトキシ)フェニル]スルフィド(東亞合成製、架橋後の屈折率1.606)10重量部、及
び光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケミカル製、イルガキュア184))0.5重量部とからなる樹脂(架橋後の屈折率
1.516)を含浸し、脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、両面から約500mJ/cm2のUV光を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約100℃にて3時間加熱後、さらに約250℃にて3時間加熱し、0.1mmの透明シートを得た。
(比較例1)
100μmのEガラス系ガラスクロス(ユニチカクロス製、屈折率1.560)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このクロスにトリグリシジルイソシアヌレート(日産化学工業製TEPIC)100重量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製リカシッドMH−700)147重量部、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP−PB)2重量部を110℃で溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロス2枚を積層して離型処理したガラス板に挟み込み、オーブン中で100℃*2時間+120℃*2時間+150℃*2時間+175℃*2時間加熱して、0.1mmの透明シートを得た。
(比較例2)
100μmのEガラス系ガラスクロス(ユニチカクロス製、屈折率1.560)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン(アクリルシラン)で処理した。このクロスにノルボルナンジメチロールジアクリレート(東亞合成製、架橋後の屈折率1.520)90重量部、ネオペンチルグリコール変性トリメチ
ロールプロパンジアクリレート(日本化薬製R−604、架橋後の屈折率1.496)1
0重量部、光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケミカル製、イルガキュア184))0.5重量部とからなる樹脂(架橋後の屈
折率1.516)を含浸し、脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、両面から約500mJ/cm2のUV光を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約100℃にて3時間加熱後、さらに約250℃にて3時間加熱し、0.1mmの透明シートを得た。
(比較例3)
100μmのEガラス系ガラスクロス(ユニチカクロス製、屈折率1.560)を焼きだしして有機物を除去した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このクロスにトリグリシジルイソシアヌレート(日産化学工業製TEPIC)20重量部、ビスフェノールS型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製エピクロンEXA1541)80重量部、メチル水添無水ナジック酸(新日本理化製リカシッドHMA−100)75重量部、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP−PB)1重量部を110℃で溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロス2枚を積層して離型処理したガラス板に挟み込み、オーブン中で100℃*2時間+120℃*2時間+150℃*2時間+175℃*2時間加熱して、0.1mmの透明シートを得た。
(比較例4)
100μmのEガラス系ガラスクロス(ユニチカクロス製、屈折率1.560)を焼きだしして有機物を除去した後、アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン(アクリルシラン)で処理した、このクロスにジシクロペンタジエニルジアクリレート(東亞合成製M−203、架橋後の屈折率1.527)50重量部、ビス[4−(アクリロイロキシエトキシ)フェニル]スルフィド(東亞合成製、架橋後の屈折率1.606)50重量部、光重合
開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケミカル製のイルガキュア184)を0.5重量部とからなる樹脂(架橋後の屈折率1.565)を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロスを離型処理したガラス板に挟み
込んで、両面から約500mJ/cm2のUV光を照射して硬化させた、さらに真空オー
ブン中で、約100℃で3時間加熱後、さらに約250℃で3時間加熱し、0.1mmの透明シートを得た。
以上のようにして作製した表示素子用プラスチック基板について、下記に示す評価方法により、各種特性を測定した、
a)平均線膨張係数
セイコー電子(株)製TMA/SS120C型熱応力歪測定装置を用いて、窒素の存在下、1分間に5℃の割合で温度を30℃から400℃まで上昇させて20分間保持した後、1分間に5℃の割合で温度を0℃まで冷却して5分間保持した。その後、再度、1分間に5℃の割合で温度を上昇させて、30℃〜150℃の時の値を測定して求めた。荷重を5gにし、引張モードで測定した。
b)耐熱性(Tg)
セイコー電子(株)製DMS―210型粘弾性測定装置で測定し、1Hzでのtanδの最大値をガラス転移温度(Tg)とした。
c)HAZE
直読ヘイズメーター(東洋精機製)でJIS規格(K 7136)に従いHAZEを測定した。
d)平行光線透過率
分光光度計U3200(日立製作所製)で400nm及び550nmの平行光線透過率を測定した。
e)屈折率、アッベ数
アタゴ社製アッベ屈折率計DR−M2を用いて、25℃で波長589nmの屈折率を測定した。また、波長656nmおよび486nmの屈折率を測定してアッベ数を求めた。
評価結果を表1〜2に示す、

Claims (12)

  1. 透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなり、曇度計でのHAZEが5以下であることを特徴とする透明複合体組成物。
  2. 前記透明樹脂(a)の屈折率と前記ガラスフィラー(b)の屈折率との差が0.01以下である請求項1記載の透明複合体組成物。
  3. 前記透明樹脂(a)のアッベ数が45以上である請求項1または2項記載の透明複合体組成物。
  4. 前記透明樹脂(a)が硬化したエポキシ樹脂である請求項1〜3いずれかの透明複合体組成物。
  5. 前記透明樹脂(a)が架橋したアクリル樹脂である請求項1〜3いずれかの透明複合体組成物。
  6. 前記ガラスフィラー(b)の屈折率が1.45〜1.55である請求項1〜5いずれかの透明複合体組成物。
  7. 前記ガラスフィラー(b)がガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布から選ばれた1種以上を含む請求項1〜6いずれかの透明複合体組成物。
  8. 30〜150℃における平均線膨張係数が40ppm以下である請求項1〜7いずれかの透明複合体組成物。
  9. 厚みが50〜2000μmである請求項1〜8いずれかの透明複合体組成物。
  10. 波長550nmでの平行光線透過率が80%以上であることを特徴とする請求項1〜9いずれかの透明複合体組成物。
  11. 波長400nmでの平行光線透過率が75%以上であることを特徴とする請求項1〜10いずれかの透明複合体組成物。
  12. 透明複合体組成物が、表示素子用プラスチック基板、又はアクティブマトリックス表示素子用基板である請求項1〜11いずれかの透明複合体組成物。
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