JP2004332611A - 排気管の詰まり防止機構 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来の排気管詰まり防止機構、例えば加熱冷却型トラップ、常時加熱型排気管、清掃球付き排気管などは構造が複雑で、可動部分・電力制御などによりコストが高い。
【解決手段】本発明の詰まり防止機構10を通過したあとは排気が渦巻いて進むので管壁の近くでも流速が大きい。そのため排気中の粉体は管壁にほとんど堆積しない。本発明の排気管の詰まり防止機構10は従来の方法に比べて構造が単純で可動部分がなく、しかも排気自身の流れを利用するので電力などの用力が不要であり、コストが安い。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明の詰まり防止機構10を通過したあとは排気が渦巻いて進むので管壁の近くでも流速が大きい。そのため排気中の粉体は管壁にほとんど堆積しない。本発明の排気管の詰まり防止機構10は従来の方法に比べて構造が単純で可動部分がなく、しかも排気自身の流れを利用するので電力などの用力が不要であり、コストが安い。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はCVD装置・エッチング装置などの排気管の詰まり防止機構に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウェハプロセスにおいて、半導体ウェハ上に薄膜を形成するのにCVD装置が広く使われている。CVD装置で形成される代表的な薄膜はSi3N4(チッカシリコン)膜である。このSi3N4膜はSiH2Cl2(ジクロルシラン)とNH3(アンモニア)を高温の反応容器内で反応させ、生成したSi3N4をウェハ表面に付着させて形成する。このとき副生成物としてNH4Cl(塩化アンモニウム)が生成する。NH4Clは高温の反応容器内では気体であるが、温度が下がる排気管内では固体になり、管内壁に付着し排気管を詰まらせる。
【0003】
排気管の詰まりはCVD装置・エッチング装置を中心として昔から問題になっているので、色々な解決方法が提案されてきた。例えば排気出口にトラップを直結し、成膜時にはトラップを冷却してNH4Cl等を捕集して排気管にNH4Cl等が行かないようにし、メンテナンス時にはトラップを加熱して捕集されていたNH4Cl等を昇華させ一気に排出する方法が提案されている(特許文献1)。
【0004】
また排気管にヒーターと断熱材を巻き、排気管内を加熱して、排気管内をNH4Cl等が気体のまま流れていくようにする方法が提案されている(特許文献2)。
【0005】
また排気管内に清掃球を通すことにより、真空を破らないで排気管内に堆積したNH4Cl等を清掃する方法が提案されている(特許文献3)。
【0006】
【特許文献1】
特開平8−172083号公報
【特許文献2】
特開2000−182971号公報
【特許文献3】
特開平6−254524号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来のいずれの方法も作用効果は明確であるが、構造が複雑で、可動部分があったり電力制御が必要であったりしてコストが高いきらいがある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の排気管の詰まり防止機構は、排気管の途中に排気を層流から乱流(渦巻き流)に変換する機構を取り付けることで実現される。従来のように排気管を流れている排気が層流であると、管中心部の流れは速いが、管内壁近傍の流れが遅い。そのため排気に含まれているNH4Cl等の粉末が管内壁に堆積しやすい。しかし本発明のように排気が乱流(渦巻き流)であれば管内壁近傍の流れも速いためNH4Cl等の粉末は管内壁に堆積しにくくなる。
【0009】
本発明の説明では分かり易くするため堆積物を具体的にNH4Cl等として説明している。CVD装置やエッチング装置の排気に含まれる堆積物は他にも多種類あるが、本発明は作用原理から考えてそれらのほとんど全てに有効である。
【0010】
本発明の排気管の詰まり防止機構は従来の方法に比べて構造が単純で可動部分がなく、しかも排気自身の流れを利用するので電力などの用力が不要であり、コストが安いという長所がある。
【0011】
本発明の排気管の詰まり防止機構の構造は、管の中に十字形の隔壁を設け、この隔壁が管の中を進むに従いねじれ、管の出口で丁度一回転しているというものである。この中を進む排気は隔壁のねじれに沿って回転し、出口からは渦巻いて出て来る。これにより管の入り口までは層流であった排気が管を通過することにより渦巻き流となる。
【0012】
請求項1記載の発明は、ほぼ円筒状の管に進行方向にねじれを有する隔壁を設け、前記の隔壁により管を通過する排気を層流から渦巻き流に変換することを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0013】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の排気管の詰まり防止機構において、前記の隔壁が十字形であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0014】
請求項3記載の発明は、請求項1記載の排気管の詰まり防止機構において、管の入り口から出口までの前記の隔壁のねじれ角が90°以上であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0015】
請求項4記載の発明は、請求項3記載の排気管の詰まり防止機構において、管の入り口から出口までの前記の隔壁のねじれ角が270°〜450°であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10の模式図である。(a)は正面図、(b)は左側面図、(c)は右側面図、(d)、(e)、(f)はそれぞれの箇所の断面図である。
【0017】
本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10は図示のように円筒形の管の中に十字形の隔壁11、12を設け、この隔壁11、12が左から右に進むに従いねじれている。そのねじれの様子を表わすため図では隔壁11、12の端にA、B、C、Dの記号を付けている。
【0018】
詰まり防止機構10の左端(b)図と、全長の1/4進んだ(d)図のA、B、C、Dの位置を比較すると、(b)図から(d)図までに隔壁11、12が90°ねじれていることが分かる。同様に(b)図と(e)図を比較すると隔壁11、12が180°ねじれていることが、(b)図と(f)図を比較すると隔壁11、12が270°ねじれていることが分かる。そして右端(c)図に至り隔壁11、12は360°ねじれて、A、B、C、Dは元の位置に戻っている。
【0019】
図2は本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10を排気が通過するときの模式図である。詰まり防止機構10は図のように通常の排気管13、14の間にセットされている。図中の矢印は排気の方向と速度を示す。排気は左の排気管13から来て本発明の詰まり防止機構10を通り右の排気管14に行く。
【0020】
図中の矢印で示すように、詰まり防止機構10を通過する前の排気は層流であり、排気管13の中心付近では流速が大きいが、管壁の近くでは流速が小さい。そのため排気中にNH4Clのような粉体が混ざっていると、管壁に容易に堆積する。しかし詰まり防止機構10を通過したあと、すなわち排気管14の中では排気が渦巻いて進むので管壁の近くでも流速が大きい。そのため排気中の粉体は管壁にほとんど堆積しない。
【0021】
図2では説明を分かり易くするため排気管13、14の途中に詰まり防止機構10を入れた構造にしているが、これでは排気管13が詰まりやすい。そこで実際はCVD装置などの直後に詰まり防止機構10を入れ、さらに配管途中の、特に曲がったところの近傍に入れると効果的である。
【0022】
図1の本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10では、隔壁11、12をA−C、B−Dの2枚としたが、隔壁の枚数は2枚に限らず1枚でも3枚以上でもよい。しかし1枚では排気を渦巻きにする効果がやや少なく、また3枚以上にすると排気抵抗が増えるので2枚が最適である。また図1の隔壁11、12は直線状だが滑らかな曲線でもよい。
【0023】
また図1の本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10では、隔壁11,12の入り口から出口までのねじれを360°としたが、本発明の作用原理から考えてこのねじれ角は厳密に360°である必要はなく、90°程度以上あれば効果が得られる。また360°を超えても差し支えないが、あまり大きいと排気抵抗が高くなるので450°程度以内が適当である。
【0024】
【発明の効果】
本発明の詰まり防止機構を通過したあとは排気が渦巻いて進むので管壁の近くでも流速が大きい。そのため排気中の粉体は管壁にほとんど堆積しない。本発明の排気管の詰まり防止機構は従来の方法に比べて構造が単純で可動部分がなく、しかも排気自身の流れを利用するので電力などの用力が不要であり、コストが安い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10の模式図
【図2】本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10を排気が通過するときの模式図
【符号の説明】
10 本発明の詰まり防止機構
11、12 隔壁
13、14 排気管
【発明の属する技術分野】
本発明はCVD装置・エッチング装置などの排気管の詰まり防止機構に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウェハプロセスにおいて、半導体ウェハ上に薄膜を形成するのにCVD装置が広く使われている。CVD装置で形成される代表的な薄膜はSi3N4(チッカシリコン)膜である。このSi3N4膜はSiH2Cl2(ジクロルシラン)とNH3(アンモニア)を高温の反応容器内で反応させ、生成したSi3N4をウェハ表面に付着させて形成する。このとき副生成物としてNH4Cl(塩化アンモニウム)が生成する。NH4Clは高温の反応容器内では気体であるが、温度が下がる排気管内では固体になり、管内壁に付着し排気管を詰まらせる。
【0003】
排気管の詰まりはCVD装置・エッチング装置を中心として昔から問題になっているので、色々な解決方法が提案されてきた。例えば排気出口にトラップを直結し、成膜時にはトラップを冷却してNH4Cl等を捕集して排気管にNH4Cl等が行かないようにし、メンテナンス時にはトラップを加熱して捕集されていたNH4Cl等を昇華させ一気に排出する方法が提案されている(特許文献1)。
【0004】
また排気管にヒーターと断熱材を巻き、排気管内を加熱して、排気管内をNH4Cl等が気体のまま流れていくようにする方法が提案されている(特許文献2)。
【0005】
また排気管内に清掃球を通すことにより、真空を破らないで排気管内に堆積したNH4Cl等を清掃する方法が提案されている(特許文献3)。
【0006】
【特許文献1】
特開平8−172083号公報
【特許文献2】
特開2000−182971号公報
【特許文献3】
特開平6−254524号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来のいずれの方法も作用効果は明確であるが、構造が複雑で、可動部分があったり電力制御が必要であったりしてコストが高いきらいがある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の排気管の詰まり防止機構は、排気管の途中に排気を層流から乱流(渦巻き流)に変換する機構を取り付けることで実現される。従来のように排気管を流れている排気が層流であると、管中心部の流れは速いが、管内壁近傍の流れが遅い。そのため排気に含まれているNH4Cl等の粉末が管内壁に堆積しやすい。しかし本発明のように排気が乱流(渦巻き流)であれば管内壁近傍の流れも速いためNH4Cl等の粉末は管内壁に堆積しにくくなる。
【0009】
本発明の説明では分かり易くするため堆積物を具体的にNH4Cl等として説明している。CVD装置やエッチング装置の排気に含まれる堆積物は他にも多種類あるが、本発明は作用原理から考えてそれらのほとんど全てに有効である。
【0010】
本発明の排気管の詰まり防止機構は従来の方法に比べて構造が単純で可動部分がなく、しかも排気自身の流れを利用するので電力などの用力が不要であり、コストが安いという長所がある。
【0011】
本発明の排気管の詰まり防止機構の構造は、管の中に十字形の隔壁を設け、この隔壁が管の中を進むに従いねじれ、管の出口で丁度一回転しているというものである。この中を進む排気は隔壁のねじれに沿って回転し、出口からは渦巻いて出て来る。これにより管の入り口までは層流であった排気が管を通過することにより渦巻き流となる。
【0012】
請求項1記載の発明は、ほぼ円筒状の管に進行方向にねじれを有する隔壁を設け、前記の隔壁により管を通過する排気を層流から渦巻き流に変換することを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0013】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の排気管の詰まり防止機構において、前記の隔壁が十字形であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0014】
請求項3記載の発明は、請求項1記載の排気管の詰まり防止機構において、管の入り口から出口までの前記の隔壁のねじれ角が90°以上であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0015】
請求項4記載の発明は、請求項3記載の排気管の詰まり防止機構において、管の入り口から出口までの前記の隔壁のねじれ角が270°〜450°であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構である。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10の模式図である。(a)は正面図、(b)は左側面図、(c)は右側面図、(d)、(e)、(f)はそれぞれの箇所の断面図である。
【0017】
本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10は図示のように円筒形の管の中に十字形の隔壁11、12を設け、この隔壁11、12が左から右に進むに従いねじれている。そのねじれの様子を表わすため図では隔壁11、12の端にA、B、C、Dの記号を付けている。
【0018】
詰まり防止機構10の左端(b)図と、全長の1/4進んだ(d)図のA、B、C、Dの位置を比較すると、(b)図から(d)図までに隔壁11、12が90°ねじれていることが分かる。同様に(b)図と(e)図を比較すると隔壁11、12が180°ねじれていることが、(b)図と(f)図を比較すると隔壁11、12が270°ねじれていることが分かる。そして右端(c)図に至り隔壁11、12は360°ねじれて、A、B、C、Dは元の位置に戻っている。
【0019】
図2は本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10を排気が通過するときの模式図である。詰まり防止機構10は図のように通常の排気管13、14の間にセットされている。図中の矢印は排気の方向と速度を示す。排気は左の排気管13から来て本発明の詰まり防止機構10を通り右の排気管14に行く。
【0020】
図中の矢印で示すように、詰まり防止機構10を通過する前の排気は層流であり、排気管13の中心付近では流速が大きいが、管壁の近くでは流速が小さい。そのため排気中にNH4Clのような粉体が混ざっていると、管壁に容易に堆積する。しかし詰まり防止機構10を通過したあと、すなわち排気管14の中では排気が渦巻いて進むので管壁の近くでも流速が大きい。そのため排気中の粉体は管壁にほとんど堆積しない。
【0021】
図2では説明を分かり易くするため排気管13、14の途中に詰まり防止機構10を入れた構造にしているが、これでは排気管13が詰まりやすい。そこで実際はCVD装置などの直後に詰まり防止機構10を入れ、さらに配管途中の、特に曲がったところの近傍に入れると効果的である。
【0022】
図1の本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10では、隔壁11、12をA−C、B−Dの2枚としたが、隔壁の枚数は2枚に限らず1枚でも3枚以上でもよい。しかし1枚では排気を渦巻きにする効果がやや少なく、また3枚以上にすると排気抵抗が増えるので2枚が最適である。また図1の隔壁11、12は直線状だが滑らかな曲線でもよい。
【0023】
また図1の本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10では、隔壁11,12の入り口から出口までのねじれを360°としたが、本発明の作用原理から考えてこのねじれ角は厳密に360°である必要はなく、90°程度以上あれば効果が得られる。また360°を超えても差し支えないが、あまり大きいと排気抵抗が高くなるので450°程度以内が適当である。
【0024】
【発明の効果】
本発明の詰まり防止機構を通過したあとは排気が渦巻いて進むので管壁の近くでも流速が大きい。そのため排気中の粉体は管壁にほとんど堆積しない。本発明の排気管の詰まり防止機構は従来の方法に比べて構造が単純で可動部分がなく、しかも排気自身の流れを利用するので電力などの用力が不要であり、コストが安い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10の模式図
【図2】本発明の排気管の詰まり防止機構の一実施例10を排気が通過するときの模式図
【符号の説明】
10 本発明の詰まり防止機構
11、12 隔壁
13、14 排気管
Claims (4)
- ほぼ円筒状の管に進行方向にねじれを有する隔壁を設け、前記の隔壁により管を通過する排気を層流から渦巻き流に変換することを特徴とする排気管の詰まり防止機構。
- 請求項1記載の排気管の詰まり防止機構において、前記の隔壁が十字形であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構。
- 請求項1記載の排気管の詰まり防止機構において、管の入り口から出口までの前記の隔壁のねじれ角が90°以上であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構。
- 請求項3記載の排気管の詰まり防止機構において、管の入り口から出口までの前記の隔壁のねじれ角が270°〜450°であることを特徴とする排気管の詰まり防止機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003129081A JP2004332611A (ja) | 2003-05-07 | 2003-05-07 | 排気管の詰まり防止機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003129081A JP2004332611A (ja) | 2003-05-07 | 2003-05-07 | 排気管の詰まり防止機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004332611A true JP2004332611A (ja) | 2004-11-25 |
Family
ID=33505037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003129081A Pending JP2004332611A (ja) | 2003-05-07 | 2003-05-07 | 排気管の詰まり防止機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004332611A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120189521A1 (en) * | 2009-08-05 | 2012-07-26 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Air pollution control device and method for reducing amount of mercury in flue gas |
-
2003
- 2003-05-07 JP JP2003129081A patent/JP2004332611A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120189521A1 (en) * | 2009-08-05 | 2012-07-26 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Air pollution control device and method for reducing amount of mercury in flue gas |
| US9084965B2 (en) * | 2009-08-05 | 2015-07-21 | Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. | Air pollution control device and method for reducing amount of mercury in flue gas |
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