JP2004336086A - 集積型薄膜太陽電池とその製造方法 - Google Patents

集積型薄膜太陽電池とその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 高エネルギーのレーザビームを用いずに裏面金属電極層のパターニングが可能でかつその裏面電極層の直接的保護層を備えた集積型薄膜太陽電池を提供する。
【解決手段】 透明絶縁基板1上に順次に積層された透明電極層2、半導体光電変換層3、および裏面電極層4が複数のセルを形成するように分離溝2a,4aによって分離されていて、それらの複数のセルは分離溝に平行な接続用溝3aを介して互いに電気的に直列接続された集積型薄膜太陽電池の製造方法において、裏面電極層をレジスト層7で覆い、そのレジスト層にレーザスクライブ溝7aを形成し、そのレーザスクライブ溝内で露出された裏面電極層にエッチングを施すことによって隣接するセル間における裏面電極分離溝を形成し、そのレジスト層が裏面電極層の絶縁保護層として残される。
【選択図】 図1

Description

本発明は非晶質シリコン層等を利用した集積型薄膜太陽電池に関し、特に、その裏面電極層の保護とそこから外部へ電流を取出すための外部電極の接続に関するものである。
一般に、薄膜太陽電池は2種類に大別することができる。その第1の種類の薄膜太陽電池では、通常はガラス等の透明絶縁基板上に、厚さ約400nm〜1.6μmの透明電極層、厚さ約100nm〜600nmの半導体光電変換層、および厚さ約100nm〜1μmの裏面金属電極層が順次に積層されている。透明電極層は、SnO2 、ITO、またはZnO等の酸化物導電物質を用いて形成され得る。光電変換層は、透明電極層側から順に積層された非晶質半導体のp層、i層、およびn層を含んでいる。
他方、第2の種類の薄膜太陽電池では、通常は基板を兼ねる裏面金属電極上に、半導体光電変換層と透明電極層が順次に積層されている。この光電変換層は、裏面金属電極層側から順に積層された非晶質半導体のn層、i層、およびp層を含んでいる。
これらの2種類の薄膜太陽電池のうちで、現在では、第1種類の薄膜太陽電池が主として用いられている。その1つの理由は、第1種類の太陽電池では透明絶縁基板が表面保護用のカバーガラスを兼ねることができるからである。また、SnO2 等の透明導電材が良好な耐プラズマ性を有することが見出され、該透明電極層上に半導体光電変換層をプラズマCVD法によって容易に積層することが可能になったことも理由の1つである。
ところで、透明電極層に用いられる酸化物導電物質は、一般に金属に比べて電気抵抗率が大きい。したがって、薄膜太陽電池では、透明電極層の抵抗による電流ロスを低減するためと所望の高い出力電圧を得るために、集積型薄膜太陽電池として用いられるのが一般的である。
図7は、そのような従来の集積型薄膜太陽電池の一例を模式的な断面図で示している。なお、本願の各図においては、図面の明瞭化と簡略化のために寸法関係などは適宜に変更されて示されており、実際の寸法関係などを反映してはいない。
図7の太陽電池においては、透明絶縁基板1上に透明電極層2が形成される。透明電極層2はレーザスクライブによるパターニングによって形成された複数の透明電極分離溝2aによって複数の細長い短冊状の透明電極に分離される。すなわち、透明電極分離溝2aは図7の紙面に直交する方向に直線状に延びている。
透明電極層2を覆うように形成された半導体光電変換層3は、透明電極層2の場合と同様に、レーザスクライブで形成された複数の半導体層分割溝3aによって複数の半導体光電変換領域に分割される。すなわち、半導体層分割溝3aの各々は、対応する透明電極分離溝2aに近接してそれに平行に延びている。同様に、半導体光電変換層3を覆うように形成された裏面電極層4も、レーザスクライブで形成された複数の裏面電極分離溝4aによって複数の裏面電極に分離される。
こうして、相互に重複して積層した細長い短冊状の透明電極2、半導体光電変換領域3、および裏面電極4がそれぞれの細長い短冊状の太陽電池セルを形成している。ここで、裏面電極層4は半導体層分割溝3aを埋めるように形成されるので、図7において任意の1つのセルの透明電極2は、そのセルの右側に隣接するセルの裏面電極4に接続されている。すなわち、半導体層分割溝3aはセル間の接続用溝として利用され、基板1上のすべてのセルが電気的に直列接続されている。なお、非晶質の半導体光電変換層3は大きな抵抗率を有しているので、その極めて薄い厚さ方向のみに電流が流れ、半導体層の膜面に平行な方向の電流は無視することができる。
このような集積型薄膜太陽電池において、直列接続された複数のセル配列の両端部に設けられた細長い電流取出し部の領域内で外部電極5が接続される。すなわち、図7の紙面に直交する方向に延びる細長い帯状の外部電極5は裏面電極層4にはんだ付けされ、外部電極5にはリード線6が接続される。
特開平6−97482号公報
図7に示されているような太陽電池においては、半導体光電変換層3内で吸収されることなく透過してきた光(特に長波長の光)を再度光電変換層3内に反射させるために、裏面電極層4は、一般に高い光反射性を有するAgやAlを用いて形成される。したがって、光反射性の高い裏面金属電極層4をレーザスクライブによってパターニングして裏面電極分離溝4aを形成するとき、高エネルギーのレーザ光を必要とする。
また、そのように高エネルギーのレーザ光を用いて裏面電極層4をパターニングする場合、それに隣接する光電変換層3に熱的なダメージを与えるおそれもある。
さらに、図7に示されているような太陽電池では、その裏面はEVA等を介して防湿性シートをラミネートすることによって保護されるが、その前に裏面電極層4が、その酸化や傷などの損傷を防止するために、より直接的に保護されることも望まれる。
かかる従来技術における課題に鑑み、本発明は、高エネルギーのレーザビームを用いることなく裏面金属電極層のパターニングが可能で、かつその裏面電極層の直接的保護層を備えながら確実に外部へ電流を取出し得る集積型薄膜太陽電池を提供することを目的としている。
本発明の一つの態様によれば、透明絶縁基板上に順次に積層された透明電極層、半導体光電変換層、および裏面電極層が複数のセルを形成するように実質的に直線状で互いに平行な分離溝によって分離されていて、それらの複数のセルは前記分離溝に平行な接続用溝を介して互いに電気的に直列接続された集積型薄膜太陽電池の製造方法において、裏面電極層をレジスト層で覆い、そのレジスト層にレーザスクライブ溝を形成して裏面電極層を部分的に露出させ、レジスト層のレーザスクライブ溝内で露出された裏面電極層にエッチングを施すことによって隣接するセル間における裏面電極分離溝を形成し、裏面電極層の絶縁保護層としてレジスト層を残すことを含むことを特徴としている。
なお、その集積型薄膜太陽電池の製造方法において、レジスト層を部分的に除去して外部電極接続領域を形成し、太陽電池から電流を取出すための外部電極を外部電極接続領域において裏面電極層に接続することをさらに含むことができる。
本発明のもう一つの態様によれば、透明絶縁基板上に順次に積層された透明電極層、半導体光電変換層、および裏面電極層が複数のセルを形成するように実質的に直線状で互いに平行な分離溝によって分離されていて、それらの複数のセルは前記分離溝に平行な接続用溝を介して互いに電気的に直列接続された集積型薄膜太陽電池において、裏面電極層の上面は絶縁保護層によって覆われており、その絶縁保護層はレジスト層からなっていることを特徴としている。
なお、その集積型薄膜太陽電池において、レジスト層は部分的に除去されて外部電極接続領域が形成されていて、太陽電池から電流を取出すための外部電極が外部電極接続領域において裏面電極層に接続されていることが好ましい。
上記のような本発明によれば、高エネルギーのレーザビームを用いることなく裏面金属電極層のパターニングが可能で、かつその裏面電極金属層の直接的保護層を備えながら確実に外部へ電流を取出し得る集積型薄膜太陽電池を提供することができる。
以下において、本発明の実施の形態をより具体化したいくつかの実施例について図面を参照しつつ説明する。
図1においては、本発明の一実施例による集積型薄膜太陽電池が模式的な断面図で示されている。この太陽電池においては、まず650mm×910mmの面積を有する厚さ4mmのガラス基板1上にSnO2 の透明電極層2が800nmの厚さに形成された。透明電極分離溝2aは、7mmのピッチで100μmの幅を有するように、レーザスクライブによってパターニングされた。
透明電極層2上には、公知の3室分離型プラズマCVD装置を用いて、半導体光電変換層3が形成された。この実施例においては、光電変換層3は非晶質シリコン層からなり、透明電極層2側から順次に積層された厚さ約10nmのp型層、厚さ300nmのi型層、および厚さ約30nmのn型層を含んでいた。このような半導体層3上において、各透明電極分離溝2aから100μm離れた位置においてそれに平行で100μmの幅を有する半導体層分離溝3aがレーザスクライブによって形成された。
半導体層3上には、裏面電極4として、厚さ約10nmのZnO層と厚さ500nmの銀層が、公知のDCスパッタリング装置を用いて形成された。このZnO層は必ずしも必要ではないが、銀層の光反射性を改善し、かつ銀原子が半導体光電変換層3内に拡散することを防止するために好ましいものである。
その後、裏面電極層4を覆う絶縁保護層7として、約1〜5μmの範囲内の厚さのレジスト層がエアスプレーによって吹きつけ塗布された。このレジスト層7は、後のエッチング工程で剥離しない程度まで硬化する温度より高くかつ溶剤キシレンを用いて拭き取ることが困難になるほど硬化する温度より低い範囲内の温度で乾燥させられる。この実施例では、エッチング工程で剥離しない程度の硬化温度より30℃以上高くかつキシレンで拭き取りが困難になる硬化温度より30℃以上低い範囲の温度で乾燥硬化させられた。
こうして形成されたレジスト層7に対して、半導体層分割溝3aから100μmだけ離れた位置でそれに平行に100μmの幅でレーザスクライブすることによって、細長いレジスト開口部7aにおいて裏面電極層4の銀表面を露出させた。このとき、レジスト層7は、高い光反射率と高い融点を有する銀層と異なって、小さなエネルギーのレーザビームを用いて容易に除去することができる。したがって、レジスト層7をレーザビームによってパターニングするときに、光電変換層3が熱的な損傷を受けることがない。
このようにパターニングされたレジスト層7をマスクとして用いながら、塩化鉄系エッチング液中に基板1を浸漬し、レジスト層7の細長い開口部7aにおいて裏面電極層4に含まれる銀層とZnO層がウェットエッチングによって除去され、これによって裏面電極分離溝4aが形成された。
その後、直列接続された複数のセル配列の両端部に設けられた電流取出し領域において、外部電極接続領域8を形成するために、レジスト層7が溶剤を含浸させたテープ状部材によって部分的に拭き取られた。その状態が、図2において模式的に示されている。
図2は、集積型薄膜太陽電池の裏面を模式的に示す平面図である。すなわち、ガラス基板1上で裏面電極分離溝4aによって互いに分離された複数の光電変換セル9が、レジスト層7によって覆われている。直列接続された複数のセル配列の両端部には、電流取出し領域10が設けられている。これらの両端の電流取出し領域10の各々において、4箇所の領域8においてレジスト層7が除去され、外部電極接続領域として用いられる。図2の例においては、幅5mmの綿布テープに溶剤キシレンを含浸させ、そのテープをレジスト層7に押圧して拭き取ることによって電極接続領域8が形成された。
図5はこのような電極接続領域8を形成するために好ましく用いられた絶縁保護層拭き取り装置を示す模式的な立面図であり、図6は図5に対応する平面図である。これらの図において、太陽電池のガラス基板1はレジスト層7を上にして拭き取り装置の基台101上に配置される。この拭き取り装置は、拭き取りユニット102を有している。拭き取りユニット102は、テープ状部材105を送り出すための送出しロール106と巻取るための巻取ロール107を含んでいる。送出しロール106と巻取ロール107との間において、テープ状部材105に含浸する溶剤を供給するための溶剤供給手段が設けられている。この溶剤供給手段は、溶剤保持タンク108とそこからテープ部材105まで溶剤を導く供給パイプ109を含んでいる。溶剤供給パイプ109と巻取ロール107との間において、テープ状部材105を絶縁保護層7に対して押圧するための押圧ロール110が設けられている。この押圧ロール110はシリンダ111に接続されており、所望の圧力でテープ状部材105を絶縁保護層7に対して押圧することができる。拭き取りユニット102はそれを第1の方向に移動可能にさせる第1の移動手段103によって支持されている。そして、その第1の移動手段は第1の方向と交差する第2の方向の移動を可能にさせる第2の移動手段104によって支持されており、第2の移動手段は基台101から支持されている。
図2に示された実施例においては、テープ状部材105として幅5mmの綿布テープが用いられ、有機溶剤としてはキシレンが用いられた。絶縁保護層7に対するテープ状部材105の押圧力は3kg/cm2 に設定された。そして、図2における電流取出し領域10の各々内における外部電極接続領域8の各々を幅5mmで長さ2cmに形成するために、押圧ローラ110が毎秒5cmの速度で3往復だけ摩擦移動させられた。これによって、外部電極接続領域8において裏面電極層4の銀表面を露出させることができた。なお、押圧ローラ110の押圧力は1〜10Kg/cm2 の範囲内にあることが好ましい。これは、1Kg/cm2 以下の押圧力では絶縁保護層7の拭き取りが不十分になりやすく、逆に10Kg/cm2 以上の押圧力では光電変換層に損傷を与えて短絡が生じやすくなるからである。
その後、電流取出し領域10の各々において幅5mmで長さ900mmの外部電極5を外部電極接続領域8を介して裏面電極層4へはんだ付けすることによって、太陽電池から電流を外部へ取出すことが可能にされた。
こうして作製された図1に示されているような集積型薄膜太陽電池においては、裏面電極層4のエッチングによるパターニングのために用いられたレジスト層7が外部電極5を接続するために全体的に除去されることなく、一部の限られた外部電極接続領域8のみにおいて除去されている。したがって、エッチングの後にそのまま残されたレジスト層7は裏面電極層4に対して直接的な絶縁保護層として働くことができる。
図2に示されているように1つの電流取出し領域10内に4箇所の外部電極接続領域8を介して裏面電極層4にはんだ付けされた外部電極5との密着強度が、引っ張り試験によって調べられた。その結果、外部電極5と裏面電極層4との間において、その外部電極5は10N以下の力では引き剥がすことができず、十分な接着強度を有していることが確認できた。また、外部電極5のはんだ付けまで終了した集積型薄膜太陽電池を85℃の温度と85%の湿度による高温高湿状態の下で1000時間放置したが、外部電極5の剥離や裏面電極層4の酸化による変質などは認められなかった。他方、図1と図2に示されているような本発明による集積型薄膜太陽電池の出力特性は、図7に示された従来技術によるものに比べてほとんど差異がなかった。
図1に示されているような集積型薄膜太陽電池は、従来から行なわれているように、さらにEVA等を介して防湿性シートを付与することによってより確実に裏面が保護されることになる。そのような防湿性シートとしては、一般にPET、Al、およびPETを積層したものが用いられる。
ところで、図2に示された例においては1つの電流取出し領域10内において4つの小さな個別の外部電極接続領域8が形成されたが、図3に示されているように、1つの電流取出し領域10内でその幅より狭い幅を有する一続きの外部電極接続領域8aが形成されてもよいことはいうまでもない。また、図4に示されているように、1つの電流取出し領域10全体において絶縁保護層7を除去して外部電極接続領域8bを形成してもよい。
なお、上述の裏面電極層4保護のための絶縁保護層7としては、種々の有機材料を用いることができる。また、その絶縁保護層7を拭き取り除去するための有機溶剤として、種々の溶剤を用いることもできる。さらに、上述の実施例では外部電極接続領域を形成するために有機溶剤を含浸したテープ部材105による拭き取りによって絶縁保護層7を部分的に除去する方法を説明したが、外部電極接続領域8,8a,8bの形成方法はこれに限られず、小さなエネルギーを有するレーザビームを用いることによって形成することもでき、または適切なブレードを用いて機械的に絶縁保護層7を部分的に除去して形成することも可能である。
以上のように、本発明によれば、高エネルギーのレーザビームを用いることなく裏面金属電極層のパターニングが可能で、かつその裏面電極金属層の直接的保護層を備えながら確実に外部へ電流を取出し得る集積型薄膜太陽電池を提供することができる。
本発明の一実施例による集積型薄膜太陽電池を示す模式的な断面図である。 図1の太陽電池に対応して外部電極接続領域が形成された状態を示す太陽電池の裏面図である。 図2に示された外部電極接続領域の変形例を示す太陽電池の裏面図である。 図2に示された外部電極接続領域のもう1つの変形例を示す太陽電池の裏面図である。 外部電極接続領域を形成するための絶縁保護層除去装置を示す模式的な立面図である。 図5の装置を示す上面図である。 従来技術による集積型薄膜太陽電池を示す模式的な断面図である。
符号の説明
1 ガラス基板、2 透明電極層、2a 透明電極分離溝、3 半導体光電変換層、3a 光電変換層分割溝、4 裏面電極層、4a 裏面電極分離溝、5 外部電極、6 リード線、7 絶縁保護層、7a 絶縁保護層の開口部、8,8a,8b 外部電極接続領域、9 細長い光電変換セル、10 電流取出し領域、101 基台、102 拭き取りユニット、103 第1方向の移動手段、104 第2方向の移動手段、105 テープ状部材、106 テープ送出しロール、107 テープ巻取ロール、108 溶剤タンク、109 溶剤供給パイプ、110 押圧ローラ、111 シリンダ。

Claims (4)

  1. 透明絶縁基板上に順次に積層された透明電極層、半導体光電変換層、および裏面電極層が複数のセルを形成するように実質的に直線状で互いに平行な分離溝によって分離されていて、それらの複数のセルは前記分離溝に平行な接続用溝を介して互いに電気的に直列接続された集積型薄膜太陽電池の製造方法であって、
    前記裏面電極層をレジスト層で覆い、
    前記レジスト層にレーザスクライブ溝を形成して前記裏面電極層を部分的に露出させ、
    前記レジスト層のレーザスクライブ溝内で露出された前記裏面電極層にエッチングを施して、隣接する前記セル間における裏面電極分離溝を形成し、
    前記裏面電極層の絶縁保護層として前記レジスト層を残すことを含むことを特徴とする集積型薄膜太陽電池の製造方法。
  2. 前記レジスト層を部分的に除去して外部電極接続領域を形成し、前記太陽電池から電流を取出すための外部電極を前記外部電極接続領域において前記裏面電極層に接続することをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の集積型薄膜太陽電池の製造方法。
  3. 透明絶縁基板上に順次に積層された透明電極層、半導体光電変換層、および裏面電極層が複数のセルを形成するように実質的に直線状で互いに平行な分離溝によって分離されていて、それらの複数のセルは前記分離溝に平行な接続用溝を介して互いに電気的に直列接続された集積型薄膜太陽電池であって、
    前記裏面電極層の上面は絶縁保護層によって覆われており、
    前記絶縁保護層はレジスト層からなっていることを特徴とする集積型薄膜太陽電池。
  4. 前記レジスト層は部分的に除去されて外部電極接続領域が形成されており、前記太陽電池から電流を取出すための外部電極が前記外部電極接続領域において前記裏面電極層に接続されていることを特徴とする請求項3に記載の集積型薄膜太陽電池。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9570640B2 (en) 2013-11-19 2017-02-14 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing solar cell module, and solar cell module

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