JP2005248043A - 反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法 - Google Patents
反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005248043A JP2005248043A JP2004061566A JP2004061566A JP2005248043A JP 2005248043 A JP2005248043 A JP 2005248043A JP 2004061566 A JP2004061566 A JP 2004061566A JP 2004061566 A JP2004061566 A JP 2004061566A JP 2005248043 A JP2005248043 A JP 2005248043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- composition
- substrate
- solvent
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 138
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 115
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 131
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 128
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 102
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 101
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 94
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 70
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 9
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 34
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- -1 hexane ester Chemical class 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N methyl pentane Natural products CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(O)CO UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- PIKWUDNJLAFPEI-UHFFFAOYSA-N CCOC(N)=O.N=C=O.N=C=O.N=C=O Chemical compound CCOC(N)=O.N=C=O.N=C=O.N=C=O PIKWUDNJLAFPEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【課題】 塗工速度を抑えることなく塗工ギャップを広げることもできる反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法を提供する。
【解決手段】 塗工ノズルと基板との間に間隙を有しつつ該塗工ノズル先端から出る塗工液を基板に接液させた状態にて相対的に基板を移動させることによって基板上に薄膜を形成する塗工方法おいて、塗工速度を１m/min以上５m/min以下とするとともに塗工時における間隙を４００μｍ以上６００μm以下として基板に塗工を行う場合に、塗工時に用いる塗工液に含有する溶媒の蒸気圧を０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ溶媒の粘度を０．５mPa・ｓ以上２．５mPa・ｓ以下とする。
【選択図】 図２
【解決手段】 塗工ノズルと基板との間に間隙を有しつつ該塗工ノズル先端から出る塗工液を基板に接液させた状態にて相対的に基板を移動させることによって基板上に薄膜を形成する塗工方法おいて、塗工速度を１m/min以上５m/min以下とするとともに塗工時における間隙を４００μｍ以上６００μm以下として基板に塗工を行う場合に、塗工時に用いる塗工液に含有する溶媒の蒸気圧を０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ溶媒の粘度を０．５mPa・ｓ以上２．５mPa・ｓ以下とする。
【選択図】 図２
Description
本発明は、ダイコート法を用いて基板上に反射防止膜を形成する際に使用する反射防止膜用組成物及び該反射防止用組成物を用いた塗工方法に関する。
近年、細隙を有したノズルを用いて、毛細管現象を利用したダイコート法による成膜方法が検討されている。この成膜方法では、塗工時にノズルをシート状または板状の基板近傍に位置させ、ノズルに設けられた細隙から塗工液を基板に接液させるとともに、ノズルと基板との間に間隙（以下、塗工ギャップと記す）を形成しながら基板表面に塗工液を塗工するものである（特許文献１参照）。
特開２００１−６２３７０号公報
近年、反射防止膜を形成させる基板は、ガラス基板に代わり、プラスチック等の樹脂基板が多くなっている。このような樹脂基板は軽量化や取り扱いの容易さ等、ガラス基板に対して有利な点が多いが、樹脂の特性上、ガラス基板に比べ基板の厚さムラが発生しやすい。このためノズルと基板との間の塗工ギャップが狭いとノズルが基板に接触しやすくなり、塗工に影響を及ぼしてしまう。また、ノズルと基板との接触を避けるために塗工ギャップを広くすることも可能であるが、塗工ギャップが広いと塗工液の接液状態が切れやすくなる。このため、塗工ギャップを広くしつつ塗工速度を上げることは困難であった。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、塗工速度を抑えることなく塗工ギャップを広げることもできる反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法を提供することを技術課題とする。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、塗工速度を抑えることなく塗工ギャップを広げることもできる反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法を提供することを技術課題とする。
（１） ダイコート法を用いて塗工ギャップを４００μｍ以上且つ塗工速度３m/min以上の塗工速度にて薄膜を形成するのに適した反射防止膜用組成物において、該反射防止膜用組成物は少なくともUV硬化樹脂と、金属酸化物と、硬化剤と、１種類以上の溶媒とを含有するとともに、該含有している１種類以上からなる溶媒の２０℃における蒸気圧が０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ前記含有している溶媒の２０℃における粘度が０．３mPa・ｓ以上２．６mPa・ｓ以下であることを特徴とする。
（２） （１）の反射防止膜用組成物において、前記溶媒は極性溶媒であることを特徴とする。
（３） （２）の反射防止用組成物において、前記溶媒はアルコール類またはケトン類、またはエステル類であることを特徴とする。
（４） （３）の反射防止膜用組成物において、前記ＵＶ硬化樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いることを特徴とする。
（５） 塗工ノズルと基板との間に間隙を有しつつ該塗工ノズル先端から出る塗工液を基板に接液させた状態にて相対的に基板を移動させることによって基板上に薄膜を形成する塗工方法おいて、塗工速度を１m/min以上５m/min以下とするとともに塗工時における前記間隙を４００μｍ以上６００μm以下として前記基板に塗工を行う場合に、該塗工時に用いる前記塗工液に含有する溶媒の蒸気圧を０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ溶媒の粘度を０．５mPa・ｓ以上２．５mPa・ｓ以下とすることを特徴とする。
（２） （１）の反射防止膜用組成物において、前記溶媒は極性溶媒であることを特徴とする。
（３） （２）の反射防止用組成物において、前記溶媒はアルコール類またはケトン類、またはエステル類であることを特徴とする。
（４） （３）の反射防止膜用組成物において、前記ＵＶ硬化樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いることを特徴とする。
（５） 塗工ノズルと基板との間に間隙を有しつつ該塗工ノズル先端から出る塗工液を基板に接液させた状態にて相対的に基板を移動させることによって基板上に薄膜を形成する塗工方法おいて、塗工速度を１m/min以上５m/min以下とするとともに塗工時における前記間隙を４００μｍ以上６００μm以下として前記基板に塗工を行う場合に、該塗工時に用いる前記塗工液に含有する溶媒の蒸気圧を０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ溶媒の粘度を０．５mPa・ｓ以上２．５mPa・ｓ以下とすることを特徴とする。
本発明によれば、塗工装置と基板との接触を抑制するとともに塗工速度を抑えることなく反射防止膜を基板に形成することができる。
本発明の実施の形態について図面を基に説明する。図１は本実施の形態で示すダイコート法を用いた塗工装置により製造される光学薄膜付透明基板の概略構成を示す図である。図１に示す光学薄膜付透明基板は、２層の薄膜層から構成され反射防止効果を有するものである。
１は透明の基板（基材）である。使用する基板の屈折率は1.48〜1.70程度のものを使用する。具体的に、基板材料としてはガラス、プラスチック（例えば、ポリカーボネイト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等）が用いられ、光学的に透明であれば特に限定されない。なお、ここで言う基板とは、板状の基板以外にもシート状の基材も含むものとしている。
２は基板１上に積層され、基板１の屈折率よりも高い屈折率をもつ第１薄膜層である。第１薄膜層２に使用される材料は、使用する基板１に応じて適宜選択されるが、屈折率1.50〜2.50程度の範囲のものが使用される。具体的に第１薄膜層２の主成分には、ZrO2（屈折率1.9）や、TiO2（屈折率2.2）等の金属酸化物が挙げられる。また、第１薄膜層２の膜厚は、所望する反射防止効果が得られるために必要な膜厚であればよい。例えばλ＝500nm〜600nm程度の波長において反射率が最小になるように膜厚を設定する場合には、光学膜厚（nd）は好ましくは100nm〜200nm程度、さらに好ましくは、125nm〜200nm程度であれば良い。
３は第１薄膜層２上に積層され、第１薄膜層２の屈折率よりも低い屈折率をもつ第２薄膜層である。第２薄膜層３に使用される材料は、屈折率1.35〜1.60程度の範囲のものが使用される。具体的に第２薄膜層３の主成分にはSiO2（屈折率1.46）等の金属酸化物が挙げられる。また、第２薄膜層３の膜厚は、所望する反射防止効果が得られるために必要な膜厚であればよい。例えば500nm〜600nm程度の波長において反射率が最小になるように膜厚を設定する場合には、光学膜厚（nd）は好ましくは100nm〜200nm程度、さらに好ましくは、100nm〜150nm程度であれば良い。
また、本実施形態では、基板上に２層の薄膜を形成して反射防止効果を得るものとしているが、これに限るものではなく、所望する光学特性が得られるように適宜積層する薄膜層の数を決定すればよい。また、基板上に形成する膜厚は上記に示した膜厚に限るものではなく、所望する光学特性に応じて適宜決定すればよい。
また、本実施形態では、基板上に２層の薄膜を形成して反射防止効果を得るものとしているが、これに限るものではなく、所望する光学特性が得られるように適宜積層する薄膜層の数を決定すればよい。また、基板上に形成する膜厚は上記に示した膜厚に限るものではなく、所望する光学特性に応じて適宜決定すればよい。
図２は本実施の形態で用いる反射防止膜用組成物を塗工液として用いた塗工装置を側方から見たときの概略図を示す。
１０は下面に複数の吸引孔を有した移動台であり、この吸引孔からの吸引によって基板１を移動台１０の下面に保持するようになっている。移動台１０はモータ等からなる駆動手段２０によって、塗工装置の前後方向（紙面右から左）に駆動可能となっている。１１は塗工ノズルであり、基板１の横幅と同じか、それよりも長く塗工装置の左右方向に延びている。塗工ノズル１１の先端には、ノズル１１内部に向かって形成されている細隙１２が設けられており、後述する反射防止膜用組成物（以下、塗工液と記す）が、この細隙１２を経て基板１に塗工されるようになっている。１３は細隙１２に繋がる液溜部である。
１０は下面に複数の吸引孔を有した移動台であり、この吸引孔からの吸引によって基板１を移動台１０の下面に保持するようになっている。移動台１０はモータ等からなる駆動手段２０によって、塗工装置の前後方向（紙面右から左）に駆動可能となっている。１１は塗工ノズルであり、基板１の横幅と同じか、それよりも長く塗工装置の左右方向に延びている。塗工ノズル１１の先端には、ノズル１１内部に向かって形成されている細隙１２が設けられており、後述する反射防止膜用組成物（以下、塗工液と記す）が、この細隙１２を経て基板１に塗工されるようになっている。１３は細隙１２に繋がる液溜部である。
図２に示す１５は、液溜部１３に供給管１６を介して塗工液を供給する液供給部である。液供給部１５は、駆動手段２１によって上下動する載置台１７上に固定保持されている。また、塗工ノズル１１及び液供給部１５を載置する載置台１７は、駆動手段２２によって上下動する台１８上に固定保持されている。
図２に示す１９は塗工液を貯蔵する液貯蔵部である。液貯蔵部１９には液供給部１５に塗工液を送るための供給管２３が接続されており、ポンプ２４の駆動により液貯蔵部１９内に貯蔵された塗工液が液供給部１５に送られるようになっている。なお、液供給部１５内の塗工液の量は、液供給部１５に溜まっている塗工液の液面高さを検出する図示なきセンサによって検出され、この検出結果に基に液貯蔵部１９から塗工液の供給が行われるため、常に基準量以上の液量が確保される。
３０は塗工装置の駆動制御を行う制御部であり、駆動手段２０〜２２、ポンプ２４等が接続されている。
３０は塗工装置の駆動制御を行う制御部であり、駆動手段２０〜２２、ポンプ２４等が接続されている。
次に、本実施形態で用いる反射防止膜用組成物について説明する。
本実施形態における反射防止膜用組成物は、UV（紫外線）硬化樹脂、金属酸化物、硬化剤（重合開始剤）、溶媒からなる。UV硬化樹脂としては、その化学構造に架橋点を複数有する樹脂が用いられ、例えば多官能アクリレート、多官能メタクリレートや多官能ウレタンアクリレート等が好適に用いられる。具体的に多官能アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートやペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。また、多官能メタクリレートとしては、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、等が挙げられる。また、多官能ウレタンアクリレートとしては、ヘ゜ンタエリストリールトリアクリレートトリレンシ゛イソシアネートウレタンホ゜リマーや、ヘ゜ンタエリストリールトリアクリレートイソホロンシ゛イソシアネートウレタンホ゜リマー等が挙げられる。また、この他にもグリシジルメタクリレート等の単官能モノマーを適宜加えても良い。単官能モノマーは反応性希釈剤として用いられる。このようなUV硬化樹脂は反射防止膜用組成物全体において、好ましくは０．１重量%以上１０．０重量%以下、さらに好ましくは０．５重量%以上５．０重量%以下程度、配合することができる。
本実施形態における反射防止膜用組成物は、UV（紫外線）硬化樹脂、金属酸化物、硬化剤（重合開始剤）、溶媒からなる。UV硬化樹脂としては、その化学構造に架橋点を複数有する樹脂が用いられ、例えば多官能アクリレート、多官能メタクリレートや多官能ウレタンアクリレート等が好適に用いられる。具体的に多官能アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートやペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。また、多官能メタクリレートとしては、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、等が挙げられる。また、多官能ウレタンアクリレートとしては、ヘ゜ンタエリストリールトリアクリレートトリレンシ゛イソシアネートウレタンホ゜リマーや、ヘ゜ンタエリストリールトリアクリレートイソホロンシ゛イソシアネートウレタンホ゜リマー等が挙げられる。また、この他にもグリシジルメタクリレート等の単官能モノマーを適宜加えても良い。単官能モノマーは反応性希釈剤として用いられる。このようなUV硬化樹脂は反射防止膜用組成物全体において、好ましくは０．１重量%以上１０．０重量%以下、さらに好ましくは０．５重量%以上５．０重量%以下程度、配合することができる。
また、屈折率調整剤として用いる金属酸化物は、高屈折率用材料としてはTiO2ゾルやZrO2スラリー（その他として、ITO、ATO、ZnO、SnO2、CeOの各スラリー）を用いることができる。また、低屈折率用材料としては、SiO2ゾルを用いることができる。このような金属酸化物は、反射防止膜用組成物全体において、好ましくは０．５重量%以上１０.０重量%以下、さらに好ましくは１．０重量%以上５．０重量%以下程度配合することができる。金属酸化物の含有量をこのような範囲内にすることにより、膜設計時に設定した各薄膜層の屈折率にすることができる。
硬化剤（重合開始剤）としては、アミノケトン系の光重合開始剤を好適に用いることができる。具体的には2-メチル-1［4-（メチルチオ）フェニル］-2-モルフォリノフ゜ロハ゜ン-1-オン等を挙げることができる。なお硬化剤は、UV硬化樹脂を完全に重合、硬化させることができるだけの量が配合されていればよい。
硬化剤（重合開始剤）としては、アミノケトン系の光重合開始剤を好適に用いることができる。具体的には2-メチル-1［4-（メチルチオ）フェニル］-2-モルフォリノフ゜ロハ゜ン-1-オン等を挙げることができる。なお硬化剤は、UV硬化樹脂を完全に重合、硬化させることができるだけの量が配合されていればよい。
本実施形態の反射防止膜用組成物に用いる溶媒は、基板上に塗膜後、蒸発させて除去することになる。このため、生産効率の観点からはできるだけ早く除去するためには、溶媒の蒸気圧が高い（言い換えると沸点は低い）方が好ましい。しかしながら本発明者らは、溶媒の蒸気圧が高すぎると、塗工が不安定になり、また、溶媒の蒸気圧が低い場合には、塗工は安定して行うことができるが、乾燥ムラが顕著になることを見出した。本発明者らは鋭意研究の結果、本実施形態の反射防止膜用組成物（塗工液）に用いる溶媒の蒸気圧は、好ましくは０．３kPa以上３．５kPa以下、さらに好ましくは０．５kPa以上３．０kPa以下であることが判明した。溶媒の蒸気圧が０．３kPa未満の場合、溶媒の除去に時間がかかるとともに、乾燥ムラが生じる。また、溶媒の蒸気圧が３．５kPaを超えると、塗工時に流れ方向に沿ってスジが発生し易くなる。
また、溶媒の粘度は、２０℃において好ましくは０．３mPa・s以上２．６mPa・s以下であり、さらに好ましくは０．５mPa・s以上２．５mPa・s以下である。溶媒の粘度が２．６mPa・ｓを超えると、塗工ノズルの細隙１２を塗工液が毛細管現象によって昇り難くなり、塗工ギャップを４００μｍ以上６００μｍ以下程度、塗工速度を３m/min以上５m/min以下として塗工を行った場合に、塗工液が基板の移動に追従できず、途中で切れてしまう可能性がある。
具体的には、例えば極性溶媒としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ等のアルコール類、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等のケトン類、フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸ブチル等のエステル類、非極性溶媒としてはトルエン、キシレン等を好適に用いることができる。
具体的には、例えば極性溶媒としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ等のアルコール類、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等のケトン類、フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸ブチル等のエステル類、非極性溶媒としてはトルエン、キシレン等を好適に用いることができる。
このような溶媒を用いて上述した蒸気圧及び粘度の範囲内となるように、溶媒を単体または混合して用いればよい。なお、上述した溶媒以外の溶媒であっても、単体または２種類以上を混合することにより、混合溶媒の蒸気圧及び粘度が上述した範囲であれば好適に用いることができる。このような溶媒は、反射防止膜用組成物全体に対して、好ましくは８０重量％以上９９．９重量％以下、さらに好ましくは９０重量％以上９９重量％以下である。
上述した材料を用いて反射防止膜用組成物を得る場合には、所定量の溶媒中にＵＶ硬化樹脂を適量入れて所定時間攪拌し、得られた混合液中にさらに硬化剤を適量入れた後、所定時間攪拌する。この混合液にさらに金属酸化物（ゾルまたはスラリー）を適量を入れ攪拌した後、ろ過（例えば、0.5μｍのガラスフィルタ）をして粒径の大きなものを除外することにより、反射防止膜用組成物の完成となる。
次に、前述した塗工装置及び反射防止膜用組成物（塗工液）を用いて基板に薄膜を形成する方法を以下に説明する。
基板１は予め超音波等を用いてドライクリーニングが行われ、表面の塵等が取り除かれた後、移動台１０の吸引により、塗工予定面が下側に向いた状態にて移動台１０に固定保持される。制御部３０は、塗工ノズル１１の先端と液供給部１５の液面とが所定の位置関係となるように駆動手段２１、２２を駆動させて載置台１４及び１７を上下動させる。塗工時における塗工ノズル１１の先端の高さ位置に対して、液供給部１５の液面高さが若干低くなるように、載置台１４及び載置台１７の高さ位置を調整することにより、塗工ノズル１１の液溜部１３内の塗工液は、毛細管現象によって細隙１１を通り、塗工ノズル１１の先端まで上昇する。
基板１は予め超音波等を用いてドライクリーニングが行われ、表面の塵等が取り除かれた後、移動台１０の吸引により、塗工予定面が下側に向いた状態にて移動台１０に固定保持される。制御部３０は、塗工ノズル１１の先端と液供給部１５の液面とが所定の位置関係となるように駆動手段２１、２２を駆動させて載置台１４及び１７を上下動させる。塗工時における塗工ノズル１１の先端の高さ位置に対して、液供給部１５の液面高さが若干低くなるように、載置台１４及び載置台１７の高さ位置を調整することにより、塗工ノズル１１の液溜部１３内の塗工液は、毛細管現象によって細隙１１を通り、塗工ノズル１１の先端まで上昇する。
次に、制御部３０は駆動手段２２を駆動させて台１８を上昇させ、塗工ノズル１１と液供給部１５とを一体的に上昇させる。制御部３０は移動台１０に吸着されている基板１の下面（塗工開始位置）に塗工ノズル１１の先端に表れている塗工液を接液させた後、所望する膜厚が得られるように基板１の塗工面と塗工ノズル１１先端との間隔（塗工ギャップ）を調整する。本実施形態では塗工ギャップを４００μｍ以上６００μｍ以下程度にする。この程度の塗工ギャップを有していれば、基板１の肉厚精度のバラツキによる基板１と塗工ノズル１１との接触を避けることができる。
基板１下面への塗工液の接液後、制御部３０は駆動手段２０を用いて移動台１０を塗工開始位置から塗工終了位置へ移動させる。このときの塗工速度は、例えば３．０ｍ/min以上５．０ｍ/minの範囲で、所望する薄膜の膜厚が得られる塗工速度に設定する。塗工速度が３．０ｍ/min未満（例えば１ｍ/min）であっても良いが、生産効率は低下する。また、５．０ｍ/minより速い速度の場合、本実施形態で設定する塗工ギャップの範囲では、塗工液が液切れすることなく追従するのが困難となる。
図４に示すように、移動台１０が所定速度（例えば３ｍ/min）で移動することにより、塗工ノズル１１の先端の塗工液は、基板１の下面に所定の厚さをもって塗工されることとなる。なお、基板１に塗工される塗工液は、細隙１２の形状によって生じる毛細管現象によって液溜部１３から塗工ノズル１１先端に常に一定量が供給され、液溜部１３は液供給部１５から塗工液が供給管１６を介して常に供給されている。
塗工開始位置から塗工終了位置まで移動台１０が移動したら、制御部３０は駆動手段２２を用いて台１８を下降させて基材１の下面から塗工液を離液させる。塗工液の離液後、基板１を図示なき減圧機内に入れ、所定時間減圧することにより、塗工液に用いた溶媒を完全に蒸発（除去）させる。溶媒除去後、基材１表面に紫外線を所定時間照射し、塗膜を硬化処理して、第１薄膜層の形成完了となる。基板１上に第１薄膜層を形成後、塗工液を第２薄膜層（低屈折率層）用の塗工液に変えて同様の操作を行い、第２薄膜層を形成し、反射防止膜を基板１上に形成する。
次に、具体的な実施例等について以下に説明する。
実施例１〜１０、比較例１〜６では、高屈折率用の反射防止膜用組成物（塗工液）について示す。
実施例１〜１０、比較例１〜６では、高屈折率用の反射防止膜用組成物（塗工液）について示す。
＜実施例１＞
実施例１に用いる塗工液は、溶媒としてｎ−ブタノールを全体の76.5重量％、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を全体の20重量％とし、UV硬化樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を全体の0.78重量％、及びグリシジルメタクリレートを全体の0.09重量％、硬化剤であるイルガキュア907（チハ゛ スヘ゜シャルティ ケミカルス゛（株）製 含有量5重量%-イソフ゜ロヒ゜ルアルコール溶液）を0.04重量％、ZrO2スラリ−を2.59重量％として、十分に攪拌し、高屈折率用の塗工液とした。
得られた塗工液を図２に示した塗工装置の液貯蔵部１９に入れた後、ポンプ２４、供給管２３を用いて液貯蔵部１９から液供給部１５に所定量入れる。なお、液供給部１５に入れられた塗工液は、供給管１６を介して塗工ノズル１１の液溜部１３に供給される。
図２に示した塗工装置において、塗工速度３．５m/min、塗工ギャップは500μｍとなるように調節し、前述した塗工方法にてプラスチック基板に塗工を行った。塗工の際に塗工ノズル１１と基板１との接触や、塗工液が塗工中に液切れすることはなかった。塗工済の基板を減圧機に入れ、２０秒かけて１０Ｐａまで減圧して溶媒を除去した。溶媒除去後、基材を減圧機から取り出し、紫外線照射を行って硬化処理した。
得られた薄膜付基板を（株）島津製作所製 分光光度計 UV-2400PCにて測定し、得られたピーク波長より光学膜厚を求めたところ、ｎｄ＝190nmとなり、所望する膜厚が得られていた。また、厚さムラや乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。表１では、基板1上に形成された薄膜を目視にて観察し、乾燥ムラ等による外観不良がなければ○、外観不良が生じていれば×とした。また、塗工開始から塗工終了まで液が途中で切れずに追従できていれば○、液切れが生じていれば×とした。なお、表１中の組成物における各材料の数値はすべて重量％、また、表１中の蒸気圧及び粘度は、溶媒の添加比率を基に２０℃における混合溶媒の粘度の値（ただし、少数点以下第３位を四捨五入）を表している。
実施例１に用いる塗工液は、溶媒としてｎ−ブタノールを全体の76.5重量％、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を全体の20重量％とし、UV硬化樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を全体の0.78重量％、及びグリシジルメタクリレートを全体の0.09重量％、硬化剤であるイルガキュア907（チハ゛ スヘ゜シャルティ ケミカルス゛（株）製 含有量5重量%-イソフ゜ロヒ゜ルアルコール溶液）を0.04重量％、ZrO2スラリ−を2.59重量％として、十分に攪拌し、高屈折率用の塗工液とした。
得られた塗工液を図２に示した塗工装置の液貯蔵部１９に入れた後、ポンプ２４、供給管２３を用いて液貯蔵部１９から液供給部１５に所定量入れる。なお、液供給部１５に入れられた塗工液は、供給管１６を介して塗工ノズル１１の液溜部１３に供給される。
図２に示した塗工装置において、塗工速度３．５m/min、塗工ギャップは500μｍとなるように調節し、前述した塗工方法にてプラスチック基板に塗工を行った。塗工の際に塗工ノズル１１と基板１との接触や、塗工液が塗工中に液切れすることはなかった。塗工済の基板を減圧機に入れ、２０秒かけて１０Ｐａまで減圧して溶媒を除去した。溶媒除去後、基材を減圧機から取り出し、紫外線照射を行って硬化処理した。
得られた薄膜付基板を（株）島津製作所製 分光光度計 UV-2400PCにて測定し、得られたピーク波長より光学膜厚を求めたところ、ｎｄ＝190nmとなり、所望する膜厚が得られていた。また、厚さムラや乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。表１では、基板1上に形成された薄膜を目視にて観察し、乾燥ムラ等による外観不良がなければ○、外観不良が生じていれば×とした。また、塗工開始から塗工終了まで液が途中で切れずに追従できていれば○、液切れが生じていれば×とした。なお、表１中の組成物における各材料の数値はすべて重量％、また、表１中の蒸気圧及び粘度は、溶媒の添加比率を基に２０℃における混合溶媒の粘度の値（ただし、少数点以下第３位を四捨五入）を表している。
＜実施例２＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール66.5重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を30重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール66.5重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を30重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例３＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例４＞
実施例１の組成に対し、溶媒をメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）96.5重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）96.5重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例５＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール76.5重量％、酢酸ブチル20重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール76.5重量％、酢酸ブチル20重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例６＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、酢酸ブチル50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、酢酸ブチル50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例７＞
実施例１の組成に対し、溶媒を酢酸ブチル96.5重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒を酢酸ブチル96.5重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例８＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテル50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテル50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例９＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、トルエン50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、トルエン50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜実施例１０＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、キシレン50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、キシレン50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表１に示す。
＜比較例1＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール96.5重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール96.5重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
＜比較例２＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール86.5重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を10重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール86.5重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を10重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
＜比較例３＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール86.5重量％、酢酸ブチル10重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール86.5重量％、酢酸ブチル10重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
＜比較例４＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、ジアセトンアルコール50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。しかしながら、乾燥ムラおよび液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、ジアセトンアルコール50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。しかしながら、乾燥ムラおよび液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
＜比較例５＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表１に示す。
＜比較例６＞
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、メタノール50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れは発生しなかったものの乾燥ムラ等による外観不良が発生した。以上の結果を表１に示す。
実施例１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール46.5重量％、メタノール50重量％とした以外は、全て実施例１と同条件とし、高屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１同様の条件にて基板１上に高屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ190nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れは発生しなかったものの乾燥ムラ等による外観不良が発生した。以上の結果を表１に示す。
次に、低屈折率用の反射防止膜用組成物の実施例等として、実施例１１〜実施例２０、及び比較例７〜比較例１２を以下に挙げる。
＜実施例１１＞
実施例７に用いる塗工液は、溶媒としてｎ−ブタノールを全体の77重量％、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を全体の20重量％とし、UV硬化樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を全体の1.32重量％、及びグリシジルメタクリレートを全体の0.15重量％、硬化剤であるイルガキュア907（チハ゛ スヘ゜シャルティ ケミカルス゛（株）製 含有量5重量%-イソフ゜ロヒ゜ルアルコール溶液）を全体の0.07重量％、SiO2ゾルを1.46重量％として、十分に攪拌し、低屈折率用の塗工液とした。
実施例１の塗工液を用いて第１薄膜層を形成したプラスチック基板上に、前述した塗工装置を使用して本実施例（実施例７）の塗工液を塗工した。塗工条件は、塗工速度３．０m/min、塗工ギャップは５００μｍとした。塗工済の基板を減圧機に入れ、２０秒かけて１０Ｐａまで減圧して溶媒を除去した。溶媒除去後、基材を減圧機から取り出し、紫外線照射を行って硬化処理した。このような工程を経ることにより、図１に示すような高屈折率層となる第１薄膜層と低屈折率層となる第２薄膜層からなる反射防止膜を基板上に形成した。低屈折率層となる第２薄膜層の光学膜厚は120nmとなり、所望する膜厚が得られていた。
また、波長550nmにおける反射率は０．５％であり、厚さムラや乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。表２では、基板1上に形成された薄膜を目視にて観察し、乾燥ムラ等による外観不良がなければ○、外観不良が生じていれば×とした。また、塗工開始から塗工終了まで液が途中で切れずに追従できていれば○、液切れが生じていれば×とした。なお、表２中の組成物における各材料の数値はすべて重量％、また、表２中の蒸気圧及び粘度は、溶媒の添加比率を基に２０℃における混合溶媒の値（ただし、少数点以下第３位を四捨五入）を表している。
実施例７に用いる塗工液は、溶媒としてｎ−ブタノールを全体の77重量％、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を全体の20重量％とし、UV硬化樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を全体の1.32重量％、及びグリシジルメタクリレートを全体の0.15重量％、硬化剤であるイルガキュア907（チハ゛ スヘ゜シャルティ ケミカルス゛（株）製 含有量5重量%-イソフ゜ロヒ゜ルアルコール溶液）を全体の0.07重量％、SiO2ゾルを1.46重量％として、十分に攪拌し、低屈折率用の塗工液とした。
実施例１の塗工液を用いて第１薄膜層を形成したプラスチック基板上に、前述した塗工装置を使用して本実施例（実施例７）の塗工液を塗工した。塗工条件は、塗工速度３．０m/min、塗工ギャップは５００μｍとした。塗工済の基板を減圧機に入れ、２０秒かけて１０Ｐａまで減圧して溶媒を除去した。溶媒除去後、基材を減圧機から取り出し、紫外線照射を行って硬化処理した。このような工程を経ることにより、図１に示すような高屈折率層となる第１薄膜層と低屈折率層となる第２薄膜層からなる反射防止膜を基板上に形成した。低屈折率層となる第２薄膜層の光学膜厚は120nmとなり、所望する膜厚が得られていた。
また、波長550nmにおける反射率は０．５％であり、厚さムラや乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。表２では、基板1上に形成された薄膜を目視にて観察し、乾燥ムラ等による外観不良がなければ○、外観不良が生じていれば×とした。また、塗工開始から塗工終了まで液が途中で切れずに追従できていれば○、液切れが生じていれば×とした。なお、表２中の組成物における各材料の数値はすべて重量％、また、表２中の蒸気圧及び粘度は、溶媒の添加比率を基に２０℃における混合溶媒の値（ただし、少数点以下第３位を四捨五入）を表している。
＜実施例１２＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール67重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）30重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール67重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）30重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１３＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を97重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を97重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１４＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール67重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）30重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール67重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）30重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１５＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール77重量％、酢酸ブチル20重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール77重量％、酢酸ブチル20重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１６＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、酢酸ブチル50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、酢酸ブチル50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１７＞
実施例１１の組成に対し、溶媒を酢酸ブチル97重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒を酢酸ブチル97重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１８＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテル50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテル50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例９＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、トルエン50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、トルエン50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜実施例１０＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、キシレン50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、キシレン50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れ、外観不良は見当たらなかった。以上の結果を表２に示す。
＜比較例７＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール９７重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール９７重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
＜比較例８＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール87重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）10重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール87重量％、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）10重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
＜比較例９＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール87重量％、酢酸ブチル10重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール87重量％、酢酸ブチル10重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
＜比較例１０＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、ジアセトンアルコール50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。しかしながら、乾燥ムラおよび液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、ジアセトンアルコール50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。しかしながら、乾燥ムラおよび液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
＜比較例１１＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、イソプロピルアルコール50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、イソプロピルアルコール50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、乾燥ムラ等による外観不良は見当たらなかったものの、液切れが発生した。以上の結果を表２に示す。
＜比較例１２＞
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、メタノール50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れは発生しなかったものの乾燥ムラ等による外観不良が発生した。以上の結果を表２に示す。
実施例１１の組成に対し、溶媒をｎ−ブタノール47重量％、メタノール50重量％とした以外は、全て実施例１１と同条件とし、低屈折率用の反射防止膜用組成物を得た。得られた反射防止膜用組成物を用いて、実施例１１同様の条件にて基板１上に低屈折率を有する薄膜を形成した。得られた薄膜の光学膜厚ndを実施例１同様に求めたところ120nmであり、所望する膜厚が得られていた。また、液切れは発生しなかったものの乾燥ムラ等による外観不良が発生した。以上の結果を表２に示す。
１ 透明基板
１０ 移動台
１１ 塗工ノズル
１２ 細隙
１５ 液供給部
１７ 載置台
１８ 台
２０ 駆動手段
２１ 駆動手段
２２ 駆動手段
３０ 制御部
１０ 移動台
１１ 塗工ノズル
１２ 細隙
１５ 液供給部
１７ 載置台
１８ 台
２０ 駆動手段
２１ 駆動手段
２２ 駆動手段
３０ 制御部
Claims (5)
- ダイコート法を用いて塗工ギャップを４００μｍ以上且つ塗工速度３m/min以上の塗工速度にて薄膜を形成するのに適した反射防止膜用組成物において、該反射防止膜用組成物は少なくともUV硬化樹脂と、金属酸化物と、硬化剤と、１種類以上の溶媒とを含有するとともに、該含有している１種類以上からなる溶媒の２０℃における蒸気圧が０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ前記含有している溶媒の２０℃における粘度が０．３mPa・ｓ以上２．６mPa・ｓ以下であることを特徴とする反射防止膜用組成物。
- 請求項１の反射防止膜用組成物において、前記溶媒は極性溶媒であることを特徴とする反射防止膜用組成物。
- 請求項２の反射防止用組成物において、前記溶媒はアルコール類またはケトン類、またはエステル類であることを特徴とする反射防止膜用組成物。
- 請求項３の反射防止膜用組成物において、前記ＵＶ硬化樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いることを特徴とする反射防止膜用組成物。
- 塗工ノズルと基板との間に間隙を有しつつ該塗工ノズル先端から出る塗工液を基板に接液させた状態にて相対的に基板を移動させることによって基板上に薄膜を形成する塗工方法おいて、塗工速度を１m/min以上５m/min以下とするとともに塗工時における前記間隙を４００μｍ以上６００μm以下として前記基板に塗工を行う場合に、該塗工時に用いる前記塗工液に含有する溶媒の蒸気圧を０．３kPa以上３．５kPa以下、且つ溶媒の粘度を０．５mPa・ｓ以上２．５mPa・ｓ以下とすることを特徴とする塗工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004061566A JP2005248043A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004061566A JP2005248043A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005248043A true JP2005248043A (ja) | 2005-09-15 |
Family
ID=35028832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004061566A Withdrawn JP2005248043A (ja) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005248043A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110135930A (ko) * | 2009-03-06 | 2011-12-20 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 슬롯 다이 코팅 방법 |
-
2004
- 2004-03-05 JP JP2004061566A patent/JP2005248043A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110135930A (ko) * | 2009-03-06 | 2011-12-20 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 슬롯 다이 코팅 방법 |
| KR101657731B1 (ko) | 2009-03-06 | 2016-09-19 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 슬롯 다이 코팅 방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102078998B1 (ko) | 코팅 도료용 수지 조성물 | |
| JP4604719B2 (ja) | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 | |
| JP5933353B2 (ja) | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置 | |
| KR101917169B1 (ko) | 유지보수액 | |
| JP2008524403A5 (ja) | ||
| US20080250955A1 (en) | Fluoropolymer Film Made by Printing | |
| JP2008239724A (ja) | ハードコートフィルム | |
| JP6623232B2 (ja) | 光学部材、及び、光学部材の製造方法 | |
| JP5754105B2 (ja) | 反射防止フィルム用組成物 | |
| JP2010107542A (ja) | ハードコートフィルムおよびそれを用いた反射防止フィルム | |
| JP4764659B2 (ja) | ポリビニルアルコール系フィルムの製造方法 | |
| WO2005123274A1 (en) | Process for producing coating film, antireflection film and process for producing the same, sheet polarizer using the film, and image display device using these | |
| JP2006122889A (ja) | 塗布膜の製造方法、反射防止フィルム及びその製造方法、該フィルムを用いた偏光板、及びこれらを用いた画像表示装置 | |
| JP2005248043A (ja) | 反射防止膜用組成物及び該組成物を用いた塗工方法 | |
| JP2005246274A (ja) | 塗工方法及び塗工装置 | |
| JP2008268906A (ja) | 清掃部材と塗布器の清掃方法および清掃装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 | |
| KR102193536B1 (ko) | 투명 도전막 적층용 필름 및 투명 도전성 필름 | |
| JP5010820B2 (ja) | 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板およびそれらを用いたディスプレイ装置 | |
| JP2014059524A (ja) | 透明性凹凸フィルム及びその製造方法、並びに透明性凹凸フィルムを備えたディスプレイ | |
| KR102480809B1 (ko) | 적층체의 제조 방법 | |
| JP2012181293A (ja) | 反射防止膜の製造方法 | |
| KR102700553B1 (ko) | 고굴절 특성을 갖는 광경화성 조성물 및 이를 이용하여 제조된 유기발광소자 표시장치 | |
| JP6364867B2 (ja) | 反射防止物品、及び画像表示装置 | |
| JP4304099B2 (ja) | 反射防止膜付基板を製造する方法、及び反射防止膜用組成物 | |
| JP7006378B2 (ja) | 立体造形物の製造方法、立体造形物の製造装置、及び立体造形物のデータの作成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090203 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090305 |