JP2005257538A - 光電子測定装置 - Google Patents
光電子測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005257538A JP2005257538A JP2004070841A JP2004070841A JP2005257538A JP 2005257538 A JP2005257538 A JP 2005257538A JP 2004070841 A JP2004070841 A JP 2004070841A JP 2004070841 A JP2004070841 A JP 2004070841A JP 2005257538 A JP2005257538 A JP 2005257538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- wavelength
- ultraviolet rays
- photoelectron
- photoelectron measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】紫外線発生装置1から波長を変化させながら紫外線を試料Sに照射し、試料Sから光電子が放出され始めた波長を検出する光電子測定装置において、出射口2までを不酸素環境とするとともに、出射口2と試料Sの表面との距離を7mm以下とするよう試料台4を配置した。
【選択図】図1
Description
しかしながら、エネルギが6.2eVを越える紫外線、つまり波長が短い紫外線は、空気中の酸素分子に吸収されるため、このような高エネルギの紫外線で光電子を放出する材料を試料とする場合には、試料を大気中で取り扱うことができず、例えば窒素ガス充填環境室など特別な設備や装置を必要とするという問題があった。
すなわち、図4(イ)乃至(ニ)において上段の○で示すグラフは、実測された電子の状態密度を示すもので、新たな材料の開発や、また新材料の特性の確認に大きく寄与することができる。
このように凹面鏡11を使用することにより、波長の変化に起因する蹴られを無くして試料Sへの光量の変化、及び試料への照射面積の変動を大幅に小さくでき、測定対象なる波長の範囲を拡大するとともに、出射口2と試料Sの照射面との距離を15mm程度に拡大することも可能となった。
Claims (5)
- 紫外線発生源からの紫外線を大気中に配置された試料に照射し、前記試料から放出される光電子を検出する光電子測定装置。
- 前記紫外線の波長と光電子が放出され始めた時点を検出する請求項1に記載の光電子測定装置。
- 前記紫外線発生源から前記紫外線出射口までを不酸素環境とするとともに、前記出射口と前記試料の表面との距離を15mm以下とするよう試料台が配置されている光電子測定装置。
- 前記出射口の直近に凹面鏡からなる集光光学素子が配置されている請求項1に記載の光電子測定装置。
- 前記紫外線発生源からの紫外線の波長を選択する手段を有する請求項1に記載の光電子測定装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004070841A JP2005257538A (ja) | 2004-03-12 | 2004-03-12 | 光電子測定装置 |
| TW094107615A TW200530570A (en) | 2004-03-12 | 2005-03-11 | Photoelectron measuring device |
| US10/592,529 US20070205363A1 (en) | 2004-03-12 | 2005-03-11 | Photoelectron Measuring Device |
| PCT/JP2005/004308 WO2005088284A1 (ja) | 2004-03-12 | 2005-03-11 | 光電子測定装置 |
| CNA200580007752XA CN1930468A (zh) | 2004-03-12 | 2005-03-11 | 光电子测定装置 |
| EP05720579A EP1724571A4 (en) | 2004-03-12 | 2005-03-11 | PHOTOELECTRONIC MEASURING DEVICE |
| KR1020067017346A KR20060122938A (ko) | 2004-03-12 | 2005-03-11 | 광 전자 측정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004070841A JP2005257538A (ja) | 2004-03-12 | 2004-03-12 | 光電子測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005257538A true JP2005257538A (ja) | 2005-09-22 |
Family
ID=34975702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004070841A Pending JP2005257538A (ja) | 2004-03-12 | 2004-03-12 | 光電子測定装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070205363A1 (ja) |
| EP (1) | EP1724571A4 (ja) |
| JP (1) | JP2005257538A (ja) |
| KR (1) | KR20060122938A (ja) |
| CN (1) | CN1930468A (ja) |
| TW (1) | TW200530570A (ja) |
| WO (1) | WO2005088284A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105987889A (zh) * | 2015-02-11 | 2016-10-05 | 中国科学院空间科学与应用研究中心 | 用于卫星金属材料光电子发射的测量装置及其使用方法 |
| CN106033049A (zh) * | 2015-03-13 | 2016-10-19 | 中国科学院空间科学与应用研究中心 | 一种卫星材料表面光电子发射率的测量装置及其使用方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0069750B1 (en) * | 1981-01-16 | 1987-04-22 | Kevex Corporation | Emission-electron microscope |
| US4590376A (en) * | 1984-05-30 | 1986-05-20 | Photo Acoustic Technology, Inc. | Apparatus and technique for monitoring photoelectron emission from surfaces |
| JPS6396545A (ja) * | 1986-10-13 | 1988-04-27 | Nippon Steel Corp | 大気中における金属表面皮膜のオンライン測定方法および測定装置 |
| FR2688887B1 (fr) * | 1992-03-20 | 1996-12-20 | Stephanois Rech Mec | Appareil de controle d'etat de surface d'une piece metallique par courant photo-electrique en milieu ambiant. |
| US5393980A (en) * | 1993-05-11 | 1995-02-28 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Quality monitor and monitoring technique employing optically stimulated electron emmission |
| JP4051427B2 (ja) * | 1998-03-26 | 2008-02-27 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光電子分光装置及び表面分析法 |
| JP2003281712A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Fujitsu Ltd | 記録媒体の保護膜上潤滑剤被膜の被覆性評価方法及び評価装置 |
-
2004
- 2004-03-12 JP JP2004070841A patent/JP2005257538A/ja active Pending
-
2005
- 2005-03-11 CN CNA200580007752XA patent/CN1930468A/zh active Pending
- 2005-03-11 TW TW094107615A patent/TW200530570A/zh unknown
- 2005-03-11 KR KR1020067017346A patent/KR20060122938A/ko not_active Withdrawn
- 2005-03-11 US US10/592,529 patent/US20070205363A1/en not_active Abandoned
- 2005-03-11 EP EP05720579A patent/EP1724571A4/en not_active Withdrawn
- 2005-03-11 WO PCT/JP2005/004308 patent/WO2005088284A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1724571A4 (en) | 2007-03-28 |
| TW200530570A (en) | 2005-09-16 |
| EP1724571A1 (en) | 2006-11-22 |
| CN1930468A (zh) | 2007-03-14 |
| US20070205363A1 (en) | 2007-09-06 |
| WO2005088284A1 (ja) | 2005-09-22 |
| KR20060122938A (ko) | 2006-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5583634A (en) | Process for elementary analysis by optical emission spectrometry on plasma produced by a laser in the presence of argon | |
| US5778039A (en) | Method and apparatus for the detection of light elements on the surface of a semiconductor substrate using x-ray fluorescence (XRF) | |
| US20080056442A1 (en) | X-ray analysis apparatus | |
| JPH06186157A (ja) | 微粒子分析装置および微粒子分析方法 | |
| JP2005257538A (ja) | 光電子測定装置 | |
| JP2009094208A (ja) | 表面処理用の膜厚測定設備 | |
| JP2004531734A (ja) | 透明マスク基板の検査システムおよび方法 | |
| JP5292323B2 (ja) | 微小部x線計測装置 | |
| JP2004138470A (ja) | 光透過性基板検査装置 | |
| JP2638914B2 (ja) | 露光用x線の強度測定方法 | |
| JP2013211177A (ja) | イオンビーム計測装置、イオンビーム計測方法、及びイオン注入装置 | |
| KR20010053095A (ko) | 막 두께 측정방법 | |
| JPH1062240A (ja) | 散乱測定装置とその測定方法 | |
| JPH1082737A (ja) | 半田材の表面酸化度の評価方法 | |
| US7078709B2 (en) | Apparatus and method for proof of outgassing products | |
| JP5678408B2 (ja) | エキシマランプ用照度測定装置 | |
| JP4937729B2 (ja) | 電子線・x線源装置およびエアロゾル分析装置 | |
| JP2010197229A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
| JP3866225B2 (ja) | 表面微小領域原子発光分析装置 | |
| JPS6396545A (ja) | 大気中における金属表面皮膜のオンライン測定方法および測定装置 | |
| JPH05249033A (ja) | 紫外線測定用光学系及びその安定性改善方法 | |
| CN1645120A (zh) | 光激活纳米氧化物半导体气敏传感器 | |
| CN110034038A (zh) | 晶片型粒子传感器 | |
| JP5209930B2 (ja) | X線光電子分光分析方法 | |
| JP3898823B2 (ja) | 微粒子測定装置の光学系 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070306 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090514 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090713 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090714 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091005 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100302 |