JP2005298428A - 2以上の保護された官能基を有するシラン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
A−R−Si(CH3)nX3-n (1)
〔式中、Aは
【化1】
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は
【化2】
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で表される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物。
【効果】 本発明によれば、2以上の保護された官能基を有するシラン化合物が、変性時、処理時に官能基自身と反応するのを防ぐことができ、保護された官能基を導入した後脱保護することにより、定量的、効率的に2以上の官能基を導入することができ、変性、添加効果をより多く発現させることができる。
【選択図】 なし
Description
例えば、特許第3414134号公報(特許文献1)記載のN,N−(ビストリメチルシリル)アミノプロピルシラン化合物は、アミノ基がトリメチルシリル基により保護されたシラン化合物であり、アミノ変性シリコーンオイルの変性剤として有用であることが開示されている。
(I)下記一般式(1)
A−R−Si(CH3)nX3-n (1)
〔式中、Aは
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で表される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物。
(II)下記一般式(2)又は(3)
A−R’−CH=CH2 (2)
A−CH=CH2 (3)
(式中、Aは上記と同様であり、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(4)
HSi(CH3)nX3-n (4)
(式中、X、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させることを特徴とする(I)記載のシラン化合物の製造方法。
A−R−Si(CH3)nX3-n (1)
〔式中、Aは
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で示される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物である。
N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメチルクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルトリクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルメチルジクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン。
A−R’−CH=CH2 (2)
A−CH=CH2 (3)
(式中、Aは上記と同様であり、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(4)
HSi(CH3)nX3-n (4)
(式中、X、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させる方法が例示される。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−アリルエチレンジアミン31.7g(0.1モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.07gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン16.4g(0.1モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点129−136℃/25Paの留分を36.5g得た。
質量スペクトル
m/z 465, 306, 188, 174, 163
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−アリルエチレンジアミン63.3g(0.2モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.13gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン26.9g(0.2モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点117−124℃/20Paの留分を63.4g得た。
質量スペクトル
m/z 435, 276, 188, 174, 133
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、グリセリンビス(トリメチルシリル)モノアリルエーテル83.0g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン49.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点113−117℃/27Paの留分を83.9g得た。
質量スペクトル
m/z 425, 291, 205, 163, 73
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、グリセリンビス(トリメチルシリル)モノアリルエーテル83.0g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン40.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点101−103℃/15Paの留分を85.1g得た。
質量スペクトル
m/z 395, 261, 205, 133, 73
Claims (2)
- 下記一般式(1)
A−R−Si(CH3)nX3-n (1)
〔式中、Aは
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で表される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物。 - 下記一般式(2)又は(3)
A−R’−CH=CH2 (2)
A−CH=CH2 (3)
(式中、Aは上記と同様であり、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(4)
HSi(CH3)nX3-n (4)
(式中、X、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させることを特徴とする請求項1記載のシラン化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004119293A JP4453822B2 (ja) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | 2以上の保護された官能基を有するシラン化合物及びその製造方法 |
| US11/104,588 US7053233B2 (en) | 2004-04-14 | 2005-04-13 | Silane compound having at least two protected functional groups and method for preparing the same |
| EP05252339A EP1600450B1 (en) | 2004-04-14 | 2005-04-14 | Silane compound having at least two protected functional groups and method for preparing the same |
| DE602005017218T DE602005017218D1 (de) | 2004-04-14 | 2005-04-14 | Silanverbindung mit mindestens zwei geschützten funktionellen Gruppen und Herstellungsverfahren dafür |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004119293A JP4453822B2 (ja) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | 2以上の保護された官能基を有するシラン化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005298428A true JP2005298428A (ja) | 2005-10-27 |
| JP4453822B2 JP4453822B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=34940833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004119293A Expired - Fee Related JP4453822B2 (ja) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | 2以上の保護された官能基を有するシラン化合物及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7053233B2 (ja) |
| EP (1) | EP1600450B1 (ja) |
| JP (1) | JP4453822B2 (ja) |
| DE (1) | DE602005017218D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2010215716A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Bridgestone Corp | 変性共役ジエン重合体又は共重合体の製造方法、その方法により得られた変性共役ジエン重合体又は共重合体、ゴム組成物及びタイヤ |
| JP2011051926A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
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| JP2014205844A (ja) * | 2014-06-11 | 2014-10-30 | 株式会社ブリヂストン | タイヤ |
| US20180305470A1 (en) * | 2015-12-24 | 2018-10-25 | Lg Chem, Ltd. | Modified and conjugated diene-based polymer, method for preparing the same, and modifier |
| JP2022184336A (ja) * | 2021-06-01 | 2022-12-13 | 有限会社ケミカル電子 | 新規分岐型グリセロール誘導体およびコーティング剤 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2636999T3 (es) * | 2007-06-18 | 2017-10-10 | Bridgestone Corporation | Polímeros funcionalizados con halosilanos que contienen un grupo amino |
| US8809435B2 (en) | 2012-05-16 | 2014-08-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Process enhancement via stimuli responsive particle surfaces |
| JP5929837B2 (ja) * | 2013-05-30 | 2016-06-08 | 信越化学工業株式会社 | シリル基で保護された含窒素環状化合物及びその製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2538152B2 (ja) | 1991-10-15 | 1996-09-25 | 信越化学工業株式会社 | 有機けい素化合物 |
| JP3414134B2 (ja) | 1996-07-01 | 2003-06-09 | 信越化学工業株式会社 | N,n−ビス(トリメチルシリル)アミノプロピルシラン化合物及びその製造方法 |
| JP4126533B2 (ja) | 2002-06-20 | 2008-07-30 | Jsr株式会社 | 共役ジオレフィン(共)重合ゴム、該(共)重合ゴムの製造方法、ゴム組成物およびタイヤ |
| ATE427969T1 (de) | 2001-09-27 | 2009-04-15 | Jsr Corp | (co)polymerkautschuk auf basis von konjugiertem diolefin, verfahren zur herstellung von (co)polymerkautschuk, kautschukzusammensetzung, verbundwerkstoff und reifen |
-
2004
- 2004-04-14 JP JP2004119293A patent/JP4453822B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-04-13 US US11/104,588 patent/US7053233B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-04-14 DE DE602005017218T patent/DE602005017218D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2005-04-14 EP EP05252339A patent/EP1600450B1/en not_active Ceased
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010215716A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Bridgestone Corp | 変性共役ジエン重合体又は共重合体の製造方法、その方法により得られた変性共役ジエン重合体又は共重合体、ゴム組成物及びタイヤ |
| JP2011051926A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
| JP2011162496A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリル基で保護されたアミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
| JP2014205844A (ja) * | 2014-06-11 | 2014-10-30 | 株式会社ブリヂストン | タイヤ |
| US20180305470A1 (en) * | 2015-12-24 | 2018-10-25 | Lg Chem, Ltd. | Modified and conjugated diene-based polymer, method for preparing the same, and modifier |
| US10508157B2 (en) * | 2015-12-24 | 2019-12-17 | Lg Chem, Ltd. | Modified and conjugated diene-based polymer, method for preparing the same, and modifier |
| JP2022184336A (ja) * | 2021-06-01 | 2022-12-13 | 有限会社ケミカル電子 | 新規分岐型グリセロール誘導体およびコーティング剤 |
| JP7762899B2 (ja) | 2021-06-01 | 2025-10-31 | 有限会社ケミカル電子 | 新規分岐型グリセロール誘導体およびコーティング剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1600450B1 (en) | 2009-10-21 |
| EP1600450A1 (en) | 2005-11-30 |
| DE602005017218D1 (de) | 2009-12-03 |
| US20050234254A1 (en) | 2005-10-20 |
| JP4453822B2 (ja) | 2010-04-21 |
| US7053233B2 (en) | 2006-05-30 |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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