JP2006176455A - アミドフェノールの製造法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カルボン酸無水物とアミノフェノールとをアルコール中で反応させることを特徴とするアミドフェノールの製造法。
【選択図】なし
Description
で表されるアミノフェノールが挙げられる。前記置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子などが挙げられる。
500mL容のフラスコに冷却管を取り付けた後、このフラスコ内にp−アミノフェノール109.1g(1mol)、メタノール270gおよび無水メタクリル酸の重合防止剤としてメトキノン0.18gを添加した。
実施例1において、無水メタクリル酸161.7g(1.05mol)の代わりに、無水酢酸107.2g(1.05mol)を用い、メトキノンを添加しなかった他は、実施例1と同様にしてp−ヒドロキシアセチルアニリドを得た。その結果、無水酢酸の滴下終了時点で、反応率は100%となり、副生した酢酸メチルの量は0.1%以下であった。
実施例1において、メタノール270gの代わりにトルエン500gを用いた以外は、実施例1と同様にしてp−ヒドロキシメタクリロイロキシアニリドを調製した。そのとき、無水メタクリル酸の滴下終了から1時間経過後の反応率は、37.1%であった。
実施例1において、メタノール270gの代わりにアセトン500gを用いた以外は、実施例1と同様にしてp−ヒドロキシメタクリロイロキシアニリドを調製しようとしたところ、無水メタクリル酸の滴下を開始すると、系内で結晶が生成して固まり、攪拌することができなくなった。そこで、さらにアセトン500gを添加したところ、反応が進行するようになり、p−ヒドロキシメタクリロイロキシアニリドを得ることができた。その結果、反応率は、86.7%であった。
Claims (2)
- カルボン酸無水物とアミノフェノールとをアルコール溶媒中で反応させることを特徴とするアミドフェノールの製造法。
- カルボン酸無水物が無水酢酸または無水(メタ)アクリル酸である請求項1記載の製造法。
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|---|---|---|---|---|
| JP2015502375A (ja) * | 2011-12-21 | 2015-01-22 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングEvonik Roehm GmbH | N−アルキル(メタ)アクリルアミドの製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4962203A (ja) * | 1972-10-17 | 1974-06-17 | ||
| JPS54135525A (en) * | 1978-04-12 | 1979-10-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive material |
| JPS63214747A (ja) * | 1987-03-03 | 1988-09-07 | Konica Corp | 感光性組成物 |
| JPH0532672A (ja) * | 1990-03-15 | 1993-02-09 | Schering Ag | 置換6−(3,5,6,7−テトラヒドロピロロ[2.1−c[1.2.4−チアジアゾール−3−イリデンイミノ)−7−フルオロ−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3(4H)−オンの製造方法およびN−(4−フルオロ−2−ヒドロキシフエニル)−2−クロロアセトアミド |
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2004
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4962203A (ja) * | 1972-10-17 | 1974-06-17 | ||
| JPS54135525A (en) * | 1978-04-12 | 1979-10-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive material |
| JPS63214747A (ja) * | 1987-03-03 | 1988-09-07 | Konica Corp | 感光性組成物 |
| JPH0532672A (ja) * | 1990-03-15 | 1993-02-09 | Schering Ag | 置換6−(3,5,6,7−テトラヒドロピロロ[2.1−c[1.2.4−チアジアゾール−3−イリデンイミノ)−7−フルオロ−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3(4H)−オンの製造方法およびN−(4−フルオロ−2−ヒドロキシフエニル)−2−クロロアセトアミド |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015502375A (ja) * | 2011-12-21 | 2015-01-22 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングEvonik Roehm GmbH | N−アルキル(メタ)アクリルアミドの製造方法 |
| US10138202B2 (en) | 2011-12-21 | 2018-11-27 | Evonik Roehm Gmbh | Process for preparing N-alkyl(meth)acrylamides |
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| JP4500160B2 (ja) | 2010-07-14 |
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