JP2006335933A - 高分子化合物およびそれを用いた高分子発光素子 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の目的は、発光材料や電荷輸送材料として有用で、耐熱性に優れる高分子化合物を提供することにある。
式(1)における
を平面構造式で表したときに、
A環における芳香族炭化水素環と、B環におけるそれとが、構造式の中央の5員環の頂点と、頂点に対向する辺の中点とを結んだ対称軸(点線)に対して非対称であることをいう。
〔式中、Rp1、Rq1、Rp2、Rq2、Rp3、Rq3、Rp4およびRq4はそれぞれ独立に置換基を表す。aは0〜3の整数を表し、bは0〜5の整数を表す。Rp1、Rq1、Rp2、Rq2、Rp3、Rq3、Rp4およびRq4がそれぞれ複数個存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
C1〜C12アルキルフェニル基として具体的にはメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、プロピルフェニル基、メシチル基、メチルエチルフェニル基、i−プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、i−ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソアミルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基などが例示される。
C1〜C12アルコキシとして具体的には、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、i−プロピルオキシ、ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、3,7−ジメチルオクチルオキシ、ラウリルオキシなどが例示される。
C1〜C12アルキルフェノキシ基として具体的にはメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、プロピルフェノキシ基、1,3,5−トリメチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、i−プロピルフェノキシ基、ブチルフェノキシ基、i−ブチルフェノキシ基、t−ブチルフェノキシ基、ペンチルフェノキシ基、イソアミルフェノキシ基、ヘキシルフェノキシ基、ヘプチルフェノキシ基、オクチルフェノキシ基、ノニルフェノキシ基、デシルフェノキシ基、ドデシルフェノキシ基などが例示される。
具体的には、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、i−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、i−ブチルアミノ基、t−ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7−ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル)アミノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基フェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基などが例示される。
具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ−i−プロピルシリル基、ジメチル−i−プロピリシリル基、ジエチル−i−プロピルシリル基、t−ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、2−エチルヘキシル−ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、3,7−ジメチルオクチル−ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル−C1〜C12アルキルシリル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルシリル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルシリル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルシリル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルシリル基、フェニル−C1〜C12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−p−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが例示される。
〔式中、C環は前記と同様の意味である。〕
(1−A)
中でも、高分子化合物の製造時における反応性の制御しやすさの観点からは、(a)(b)として、芳香環上に置換基を有しないかまたは、芳香環上の置換基は同一であるものであって、C環の種類が異なるものを有する共重合体が好ましい。
−Ar1− (5)
−(−Ar2−X1−)ff−Ar3− (6)
−Ar4−X2− (7)
−X3− (8)
式中、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4はそれぞれ独立にアリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を示す。X1、X2およびX3はそれぞれ独立に−CR9=CR10−、−C≡C−、−N(R11)−、または−(SiR12R13)m−を示す。R9およびR10は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を示す。R11、R12およびR13は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、アリールアルキル基または置換アミノ基を含む基を示す。ffは1または2を示す。mは1〜12の整数を示す。R9、R10、R11、R12およびR13がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基が挙げられる。
アリーレン基における置換基を除いた部分の炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは6〜20である。また、アリーレン基の置換基を含めた全炭素数は、通常6〜100程度である。
アリーレン基としては、フェニレン基(例えば、下図の式1〜3)、ナフタレンジイル基(下図の式4〜13)、アントラセン−ジイル基(下図の式14〜19)、ビフェニル−ジイル基(下図の式20〜25)、フルオレン−ジイル基(下図の式36〜38)、ターフェニル−ジイル基(下図の式26〜28)、縮合環化合物基(下図の式29〜35)、スチルベン−ジイル(下図の式A〜D), ジスチルベン−ジイル (下図の式E,F)などが例示される。中でもフェニレン基、ビフェニレン基、フルオレン−ジイル基、スチルベン−ジイル基が好ましい。
ここに複素環化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素、ヒ素などのヘテロ原子を環内に含むものをいう。2価の複素環基の中では、芳香族複素環基が好ましい。
置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基が挙げられる。
2価の複素環基における置換基を除いた部分の炭素数は通常3〜60程度である。また、2価の複素環基の置換基を含めた全炭素数は、通常3〜100程度である。
ヘテロ原子として、窒素を含む2価の複素環基;ピリジンージイル基(下図の式39〜44)、ジアザフェニレン基(下図の式45〜48)、キノリンジイル基(下図の式49〜63)、キノキサリンジイル基(下図の式64〜68)、アクリジンジイル基(下図の式69〜72)、ビピリジルジイル基(下図の式73〜75)、フェナントロリンジイル基(下図の式76〜78)、など。
ヘテロ原子として酸素、けい素、窒素、セレンなどを含みフルオレン構造を有する基(下図の式79〜93)。
ヘテロ原子として酸素、けい素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環複素環基:(下図の式94〜98)が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、けい素、窒素、セレンなどを含む5員環縮合複素基:(下図の式99〜110)が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、けい素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環複素環基でそのヘテロ原子のα位で結合し2量体やオリゴマーになっている基:(下図の式111〜112)が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、けい素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環複素環基でそのヘテロ原子のα位でフェニル基に結合している基:(下図の式113〜119)が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、窒素、硫黄、などを含む5員環縮合複素環基にフェニル基やフリル基、チエニル基が置換した基:(下図の式120〜125)が挙げられる。
該有機配位子の炭素数は、通常4〜60程度であり、その例としては、8−キノリノールおよびその誘導体、ベンゾキノリノールおよびその誘導体、2−フェニル−ピリジンおよびその誘導体、2−フェニル−ベンゾチアゾールおよびその誘導体、2−フェニル−ベンゾキサゾールおよびその誘導体、ポルフィリンおよびその誘導体などが挙げられる。
また、該錯体の中心金属としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、ベリリウム、イリジウム、白金、金、ユーロピウム、テルビウムなどが挙げられる。
有機配位子を有する金属錯体としては、低分子の蛍光材料、燐光材料として公知の金属錯体、三重項発光錯体などが挙げられる。
ここに、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、置換カルボキシル基の定義、具体例、好ましい例は、前記芳香族炭化水素環が置換基を有する場合におけるそれらと同様である。
(9)
〔式中、A環およびB環は前述と同様であり、2つの結合手はそれぞれA環またはB環上に存在し、Rw1およびRx1はそれぞれ独立に置換基を表す。〕
Rw1およびRx1としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、ニトロ基またはシアノ基が好ましく、前述のA環およびB環が有する置換基と同様の基が例示される。なお、Rw1とRx1がそれぞれ互いに結合して環を形成することはない。
(10)
〔式中、A環およびB環は前述と同様であり、2つの結合手はそれぞれA環またはB環上に存在し、Zは−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)(=O)−、−N(Rw2)−、−Si(Rw2)(Rx2)−、−P(=O)(Rw2)−、−P(Rw2)−、−B(Rw2)−、−C(Rw2)(Rx2)−O−、−C(Rw2)=N−、−Se−を表す。Rw2およびRx2はそれぞれ独立に置換基を表す。〕
Rw2およびRx2としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、ニトロ基またはシアノ基が好ましく、A環およびB環が有する置換基と同様の基が例示される。
〔式中、R14は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。nは0〜4の整数を表す。R14が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R15およびR16は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。oおよびpはそれぞれ独立に0〜3の整数を表す。R17およびR16がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R17およびR20は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。qおよびrはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。R18およびR19は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。R17およびR20がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R21は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。sは0〜2の整数を表す。Ar13およびAr14はそれぞれ独立にアリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を表す。ssおよびttはそれぞれ独立に0または1を表す。X4は、O、S、SO、SO2、SeまたはTeを表す。R21が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R22およびR23は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。tおよびuはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。X5は、O、S、SO2、Se,Te、N−R24、またはSiR25R26を表す。X6およびX7は、それぞれ独立にNまたはC−R27を表す。R24、R25、R26およびR27はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基を表す。R22、R23およびR27がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R28およびR33は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。vおよびwはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。R29、R30、R31およびR32は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。Ar5はアリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を表す。R28およびR33がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R34は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。uuは0〜4の整数を表す。R34が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、Ar6、Ar7、Ar8およびAr9はそれぞれ独立にアリーレン基または2価の複素環基を示す。Ar10、Ar11およびAr12はそれぞれ独立にアリール基、または1価の複素環基を示す。Ar6、Ar7、Ar8、Ar9、Ar10、Ar11およびAr12は置換基を有していてもよい。xおよびyはそれぞれ独立に0または正の整数を示す。〕
蛍光強度、素子特性等の観点からは、前記式(18)で示される繰り返し単位が前記式(2)で示される繰り返し単位と前記式(18)で示される繰り返し単位の合計に対して30モル%以下であることがより好ましい。本発明の高分子化合物を1種類のみ用いてEL用素子を作製する場合、素子特性等の観点から、前記式(2)で示される繰り返し単位と前記式(18)で示される繰り返し単位の比率は、好ましくは95:5〜70:30である。
本発明において前記式(2)で示される繰り返し単位と前記式(5)〜(8)もしくは前記式(11)〜(17)(ただし、前記式(5)が前記式(9)、(10)である場合および前記式(6)が前記式(18)である場合は除く)で示される繰り返し単位を含む場合、そのモル比は99:1〜60:40であることが好ましく、99:1〜70:30であることがより好ましい。
有機溶媒への溶解性を高めるためには、水素原子以外を1つ以上有していることが好ましく、また置換基を含めた繰り返し単位の形状の対称性が少ないことが好ましい。
〔式中、Re、RfおよびRgは、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表す。Re、RfおよびRgに含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。〕
[ここで、(18−2)、(18−3)で示される構造に含まれるベンゼン環は、それぞれ独立に1個以上4個以下の置換基を有していてもよい。それら置換基は、互いに同一であっても、異なっていても良い。また、複数の置換基が連結して環を形成していても良い。さらに、該ベンゼン環に隣接して他の芳香族炭化水素環または複素環が結合していても良い。]
式(18)の好ましい具体例としては、発光波長を調節する観点から、下記式(22)、(23)、(24)で示される繰り返し単位が好ましい。さらに好ましくは蛍光強度の観点から、下記式(22)で示される繰り返し単位である。この場合、耐熱性がより高くなりうる。
〔式中、A環およびB環はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表すが、A環における芳香族炭化水素環とB環における芳香族炭化水素環とは互いに異なる環構造の芳香族炭化水素環であり、結合手はそれぞれA環およびB環上に存在する。C環は前述と同様である。〕
〔式中、Rp1、Rq1、Rp2、Rq2、a、b、C環は前記と同様の意味を表す。〕
式中のRは前述のRが例示されるが、水素、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、炭素数6〜18のアリール基、アリールオキシ基、炭素数4〜14の複素環基が好ましい。
式(2)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物は、例えば、式(20)で示される化合物を原料の一つとして用いて重合させることにより製造することができる。
〔式中、Rtは置換基を表し、A環および/またはB環に結合している。atは0以上の整数を表す。A環、B環およびC環は前述と同様である。〕
(21)
〔式中、YtおよびYuはそれぞれ独立に重合に関与する置換基を表し、それぞれA環および/またはB環に結合している。A環、B環およびC環は前述と同様である。〕
〔式中、Rr1、Rs1、Rr2、Rs2、Rr3、Rs3、Rr4およびRs4は置換基を表し、aは0〜3の整数を表し、bは0〜5の整数を表し、Rr1、Rs1、Rr2、Rs2、Rr3、Rs3、Rr4およびRs4がそれぞれ複数個存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。C環は前述と同様である。Yt1、Yu1、Yt2、Yu2、Yt3、Yu3、Yt4およびYu4はそれぞれ独立に重合に関与しうる置換基を表す。〕で示される化合物を原料の一つとして用いて重合させることにより製造することができる。
〔式中、C環、Yt、Yuはそれぞれ前記と同様の意味を表す。cは0又は正の整数を表し、dは0又は正の整数を表し、かつ3≦c+d≦6を満たす整数を表し、好ましくは3≦c+d≦4を満たす整数を表す。Yt、Yuが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕で示される化合物を原料の一つとして用いて重合させることにより製造することができる。
〔式中、Rr1、Rs1、Rr2、Rs2、Rr3、Rs3、Rr4、Rs4、Yt1、Yu1、Yt3、Yu3、Yt4およびYu4は前記と同じ意味を表し、a’は0〜4の整数を表し、b’は0〜5の整数を表し、cは0〜3の整数を表し、dは0〜5の整数を表し、a’+c≦4、b’+d≦6、3≦c+d≦6である。Rr1、Rs1、Rr2、Rs2、Rr3、Rs3、Rr4、Rs4、Ry1、Rz1、Yt1、Yu1、Yt3、Yu3、Yt4およびYu4がそれぞれ複数個存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
前記式(20)で示される化合物に加えて、下記式(27)〜(30)のいずれかで示される化合物を重合させることにより
式(27)
Y5−Ar1−Y6
式(28)
式(29)
Y9−Ar4−X2−Y10
式(30)
Y11−X3−Y12
〔式中、Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、ff、X1、X2およびX3は前記と同じである。Y5、Y6、Y7、Y8、Y9、Y10、Y11、およびY12はそれぞれ独立に重合可能な置換基を示す。〕
上記式(2)で示される単位に加えて、順に(5)、(6)、(7)または(8)の単位を1つ以上有する高分子化合物を製造することができる。
E1−Y15 (31)
E2−Y16 (32)
(E1、E2は1価の複素環、置換基を有するアリール基、1価の芳香族アミン基、複素環配位金属錯体から誘導される1価の基を表し、Y15、Y16はそれぞれ独立に重合に関与しうる置換基を表す。)
〔式中、Ar6、Ar7、Ar8、Ar9、Ar10、Ar11、Ar12、xおよびyの定義および好ましい例については前記と同じ。Y13およびY14はそれぞれ独立に重合に関与しうる置換基を示す。〕
−CH2S+Me2X-、−CH2S+Ph2X-
(Xはハロゲン原子を示し、Phはフェニル基を示す。)
−CH2P+Ph3X- (Xはハロゲン原子を示す。)
−CH2PO(OR’)2 (Xはハロゲン原子を示し、R’はアルキル基、アリール基、アリールアルキル基を示す。)
本発明の高分子化合物が縮合重合において、二重結合を生成する場合は、例えば特開平5−202355号公報に記載の方法が挙げられる。すなわち、ホルミル基を有する化合物とホスホニウムメチル基を有する化合物との、もしくはホルミル基とホスホニウムメチル基とを有する化合物のWittig反応による重合、ビニル基を有する化合物とハロゲン原子を有する化合物とのHeck反応による重合、モノハロゲン化メチル基を2つあるいは2つ以上有する化合物の脱ハロゲン化水素法による重縮合、スルホニウムメチル基を2つあるいは2つ以上有する化合物のスルホニウム塩分解法による重縮合、ホルミル基を有する化合物とシアノ基を有する化合物とのKnoevenagel反応による重合などの方法、ホルミル基を2つあるいは2つ以上有する化合物のMcMurry反応による重合などの方法が例示される。
本発明の高分子化合物が縮合重合によって主鎖に三重結合を生成する場合には、例えば、Heck反応、Sonogashira反応が利用できる。
原料化合物としては、ジハロゲン化化合物、ビス(アルキルスルホネート)化合物、ビス(アリールスルホネート)化合物、ビス(アリールアルキルスルホネート)化合物あるいはハロゲン−アルキルスルホネート化合物、ハロゲン−アリールスルホネート化合物、ハロゲン−アリールアルキルスルホネート化合物、アルキルスルホネート−アリールスルホネート化合物、アルキルスルホネート−アリールアルキルスルホネート化合物、アリールスルホネート−アリールアルキルスルホネート化合物が挙げられる。
具体的な原料化合物の組み合わせとしては、ジハロゲン化化合物、ビス(アルキルスルホネート)化合物、ビス(アリールスルホネート)化合物またはビス(アリールアルキルスルホネート)化合物とジホウ酸化合物またはジホウ酸エステル化合物との組み合わせが挙げられる。
また、ハロゲン−ホウ酸化合物、ハロゲン−ホウ酸エステル化合物、アルキルスルホネート−ホウ酸化合物、アルキルスルホネート−ホウ酸エステル化合物、アリールスルホネート−ホウ酸化合物、アリールスルホネート−ホウ酸エステル化合物、アリールアルキルスルホネート−ホウ酸化合物、アリールアルキルスルホネート−ホウ酸化合物、アリールアルキルスルホネート−ホウ酸エステル化合物挙げられる。
本発明の高分子化合物は、通常は、固体状態で蛍光または燐光を発し、高分子発光体(高分子量の発光材料)として用いることができる。
また、該高分子化合物は優れた電荷輸送能を有しており、高分子LED用材料や電荷輸送材料として好適に用いることができる。該高分子発光体を用いた高分子LEDは低電圧、高効率で駆動できる高性能の高分子LEDである。従って、該高分子LEDは液晶ディスプレイのバックライト、または照明用としての曲面状や平面状の光源、セグメントタイプの表示素子、ドットマトリックスのフラットパネルディスプレイ等の装置に好ましく使用できる。
また、本発明の高分子化合物はレーザー用色素、有機太陽電池用材料、有機トランジスタ用の有機半導体、導電性薄膜、有機半導体薄膜などの伝導性薄膜用材料としても用いることができる。
さらに、蛍光や燐光を発する発光性薄膜材料としても用いることができる。
前記式(14)で示される化合物は、LED用材料や電荷輸送材料として用いることができる。
本発明の高分子LEDは、陽極および陰極からなる電極間に、有機層を有し、該有機層が本発明の高分子化合物を含むことを特徴とする。
有機層(有機物を含む層)は、発光層、正孔輸送層、電子輸送層等のいずれであってもよいが、有機層が発光層であることが好ましい。
本発明の高分子化合物と正孔輸送性材料と混合する場合には、その混合物全体
に対して、正孔輸送性材料の混合割合は1wt%〜80wt%であり、好ましくは5wt%〜60wt%である。本発明の高分子材料と電子輸送性材料を混合する場合には、その混合物全体に対して電子輸送性材料の混合割合は1wt%〜80wt%であり、好ましくは5wt%〜60wt%である。さらに、本発明の高分子化合物と発光性材料を混合する場合にはその混合物全体に対して発光性材料の混合割合は1wt%〜80wt%であり、好ましくは5wt%〜60wt%である。本発明の高分子化合物と発光性材料、正孔輸送性材料および/または電子輸送性材料を混合する場合にはその混合物全体に対して発光性材料の混合割合は1wt%〜50wt%であり、好ましくは5wt%〜40wt%であり、正孔輸送性材料と電子輸送性材料はそれらの合計で1wt%〜50wt%であり、好ましくは5wt%〜40wt%であり、本発明の高分子化合物の含有量は99wt%〜20wt%である。
低分子化合物の蛍光性材料としでは、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンもしくはその誘導体、ペリレンもしくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンもしくはその誘導体、またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体などを用いることができる。
具体的には、例えば特開昭57−51781号、同59−194393号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。
三重項発光錯体として具体的には、例えばNature,(1998),395,151、Appl.Phys.Lett.(1999),75(1),4、Proc.SPIE−Int.Soc.Opt.Eng.(2001),4105(Organic Light−Emitting Materials and Devices IV),119、J.Am.Chem.Soc.,(2001),123,4304、Appl.Phys.Lett.,(1997),71(18),2596、Syn.Met.,(1998),94(1),103、Syn.Met.,(1999),99(2),1361、Adv.Mater.,(1999),11(10),852、Jpn.J.Appl.Phys.,34,1883(1995)などに記載されている。
その正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料から選ばれる少なくとも1種類の材料と本発明の高分子化合物の含有比率は、用途に応じて決めればよいが、発光材料の用途の場合は、上記の発光層におけると同じ含有比率が好ましい。
具体的には、前記式(2)で示される繰り返し単位を含む高分子化合物を2種類以上含み、該高分子化合物の合計量が全体の50重量%以上である高分子組成物が、高分子LEDの発光材料として用いた場合に、発光効率、寿命特性などの点で優れており、好ましい。より好ましくは、該高分子化合物の合計量は全体の70重量%以上である。
本発明の高分子組成物は、高分子化合物を単独で高分子LEDに用いる場合よりも、寿命等の素子特性を高めることができる。
また、別の好ましい例としては、前記式(2)で示される繰り返し単位を50モル%以上含む共重合体を2種類以上含み、該共重合体は、互いに異なる繰り返し単位も含む、高分子組成物が好ましい。少なくとも1種類の該共重合体が、前記式(2)で示される繰り返し単位を70モル%以上含むことが、発光効率、寿命特性などの点でより好ましい。
さらに、別の好ましい例としては、前記式(2)で示される繰り返し単位を50モル%以上含む共重合体を2種類以上含み、該共重合体は、互いに共重合比は異なっているが、同一の繰り返し単位の組み合わせからなる、高分子組成物が好ましい。少なくとも1種類の該共重合体が、前記式(2)で示される繰り返し単位を70モル%以上含むことが、発光効率、寿命特性などの点で、より好ましい。
あるいは、別の好ましい例としては、前記式(2)で示される繰り返し単位からなる高分子化合物を2種類以上含む高分子組成物が好ましい。
より好ましい高分子組成物の例としては、上記例で示された高分子組成物に含まれる少なくとも1種類の高分子化合物が、前記式(2)で示される繰り返し単位を50モル%以上含む共重合体であり、前記式(18)で示される繰り返し単位も含み、かつ前記式(2)で示される繰り返し単位と、前記式(18)で示される繰り返し単位とのモル比が、99:1〜50:50となる高分子組成物である。該モル比が、98:2〜70:30であることが、発光効率、寿命特性などの点で、より好ましい。
また、別のより好ましい高分子組成物の例としては、前記式(2)で示される繰り返し単位からなる高分子化合物1種類以上と、前記式(2)で示される繰り返し単位を50モル%以上含む共重合体1種類以上とを含む高分子組成物であり、該共重合体は、前記式(2)で示される繰り返し単位と、前記式(18)で示される繰り返し単位とからなり、かつ前記式(2)で示される繰り返し単位と前記式(18)で示される繰り返し単位とのモル比が90:10〜50:50である、高分子組成物である。該モル比が、90:10〜60:40であることが、発光効率、寿命特性などの点でより好ましい。
該インク組成物中における本発明の高分子化合物の割合は、溶媒を除いた組成物の全重量に対して通常は20wt%〜100wt%であり、好ましくは40wt%〜100wt%である。
またインク組成物中に溶媒が含まれる場合の溶媒の割合は、組成物の全重量に対して1wt%〜99.9wt%であり、好ましくは60wt%〜99.5wt%であり、さらに好ましく80wt%〜99.0wt%である。
インク組成物の粘度は印刷法によって異なるが、インクジェットプリント法などインク組成物中が吐出装置を経由するもの場合には、吐出時の目づまりや飛行曲がりを防止するために粘度が25℃において2〜20mPa・sの範囲であることが好ましく、5〜20mPa・sの範囲であることがより好ましく、7〜20mPa・sの範囲であることがさらに好ましい。
貧溶媒を増粘剤として用いることもできる。すなわち、溶液中の固形分に対する貧溶媒を少量添加することで、粘度を高めることができる。この目的で貧溶媒を添加する場合、溶液中の固形分が析出しない範囲で、溶媒の種類と添加量を選択すれば良い。保存時の安定性も考慮すると、貧溶媒の量は、溶液全体に対して50wt%以下であることが好ましく、30wt%以下であることが更に好ましい。
SiO2などの絶縁膜とゲート電極とを形成したSi基板上に該有機半導体薄膜を形成し、Auなどでソース電極とドレイン電極を形成することにより、有機トランジスタとすることができる。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
c)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
本発明の高分子化合物が正孔輸送層に用いられる場合には、本発明の高分子化合物が正孔輸送性基を含む高分子化合物であることが好ましく、その具体例としては、芳香族アミンとの共重合体、スチルベンとの共重合体などが例示される。
また、本発明の高分子化合物が電子輸送層に用いられる場合には、本発明の高分子化合物が電子輸送性基を含む高分子化合物であることが好ましく、その具体例としては、オキサジアゾールとの共重合体、トリアゾールとの共重合体、キノリンとの共重合体、キノキサリンとの共重合体、ベンゾチアジアゾールとの共重合体などが例示される。
封止する方法としては、UV硬化樹脂、熱硬化樹脂や無機のSiONx膜などでカバーする方法、ガラス板やフィルムをUV硬化樹脂、熱硬化樹脂などで張り合わせる方法などがあげられる。大気との遮断を効果的に行うため高分子電界効果トランジスタを作成後封止するまでの工程を大気に曝すことなく(例えば、乾燥した窒素雰囲気中、真空中など)行うことが好ましい。
積層する層の順番や数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができる。
例えば、具体的には、以下のe)〜p)の構造が挙げられる。
e)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
f)陽極/発光層/電子注入層/陰極
g)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
h)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
i)陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
j)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
k)陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/陰極
l)陽極/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
m)陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
n)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
o)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
p)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
また、本発明の高分子LEDとしては、本発明の高分子化合物が正孔注入層および/または電子注入層に含まれているものも含む。本発明の高分子化合物が正孔注入層に用いられる場合には、電子受容性化合物と同時に用いられることが好ましい。また、本発明の高分子化合物が電子輸送層に用いられる場合には、電子供与性化合物と同時に用いられることが好ましい。ここで、同時に用いるためには、混合、共重合、側鎖としての導入などの方法がある。
通常は該導電性高分子の電気伝導度を10-5S/cm以上103以下とするために、該導電性高分子に適量のイオンをドープする。
電荷注入層の膜厚としては、例えば1nm〜100nmであり、2nm〜50nmが好ましい。
q)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/陰極
r)陽極/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
s)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
t)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/陰極
u)陽極/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
v)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
w)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/陰極
x)陽極/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
y)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
z)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
aa)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
ab)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
本発明の高分子LEDは、上記a)〜ab)に例示した素子構造において、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層のうちのいずれかに、本発明の高分子
化合物を含むものがあげられる。
該陽極の材料としては、導電性の金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が用いられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、およびそれらの複合体であるインジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等からなる導電性ガラスを用いて作成された膜(NESAなど)や、金、白金、銀、銅等が用いられ、ITO、インジウム・亜鉛・オキサイド、酸化スズが好ましい。作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。
また、陽極上に、電荷注入を容易にするために、フタロシアニン誘導体、導電性高分子、カーボンなどからなる層、あるいは金属酸化物や金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる平均膜厚2nm以下の層を設けてもよい。
陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。
本発明の高分子LEDを用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にOn/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子蛍光体を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動も可能であるし、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。
ここで、数平均分子量および重量平均分子量については、GPC(島津製作所製:LC−10Avp)によりポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量を求めた。測定する重合体は、約0.5wt%の濃度になるようテトラヒドロフランに溶解させ、GPCに50μL注入した。GPCの移動相はテトラヒドロフランを用い、0.6mL/minの流速で流した。カラムは、TSKgel SuperHM−H(東ソー製)2本とTSKgel SuperH2000(東ソー製)1本を直列に繋げた。検出器には示差屈折率検出器(島津製作所製:RID−10A)を用いた。
蛍光スペクトルの測定は以下の方法で行った。重合体の0.8wt%溶液を石英上にスピンコートして重合体の薄膜を作製した。この薄膜を350nmの波長で励起し、蛍光分光光度計(堀場製作所製Fluorolog)を用いて蛍光スペクトルを測定した。薄膜での相対的な蛍光強度を得るために、水のラマン線の強度を標準に、波数プロットした蛍光スペクトルをスペクトル測定範囲で積分して、分光光度計(Varian社製 Cary5E)を用いて測定した、励起波長での吸光度で割り付けた値を求めた。
ガラス転移温度はDSC(DSC2920、TA Instruments製)により求めた。
(1−ブロモ−4−t−ブチル−2,6−ジメチルベンゼンの合成)
不活性雰囲気下で、500mlの3つ口フラスコに酢酸225gを入れ、5−t−ブチル−m−キシレン24.3gを加えた。続いて臭素31.2gを加えた後、15〜20℃で3時間反応させた。
反応液を水500mlに加え析出した沈殿をろ過した。水250mlで2回洗浄し、白色の固体34.2gを得た。
不活性雰囲気下で、100mlの3つ口フラスコに脱気した脱水トルエン36mlを入れ、トリ(t−ブチル)ホスフィン0.63gを加えた。続いてトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム 0.41g、1−ブロモ−4−t−ブチル−2,6−ジメチルベンゼン9.6g、t−ブトキシナトリウム5.2g、N,N’−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン4.7gを加えた後、100℃で3時間反応させた。
反応液を飽和食塩水300mlに加え、約50℃に温めたクロロホルム300mlで抽出した。溶媒を留去した後、トルエン100mlを加えて、固体が溶解するまで加熱、放冷した後、沈殿をろ過し、白色の固体9.9gを得た。
不活性雰囲気下で、1000mlの3つ口フラスコに脱水N,N−ジメチルホルムアミド350mlを入れ、,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミン5.2gを溶解した後、氷浴下でN−ブロモスクシンイミド3.5g/N,N−ジメチルホルムアミド溶液を滴下し、一昼夜反応させた。
反応液に水150mlを加え、析出した沈殿をろ過し、メタノール50mlで2回洗浄し白色の固体4.4gを得た。
1H−NMR(300MHz/THF−d8):
δ(ppm) = 1.3〔s,18H〕、2.0〔s,12H〕、6.6〜6.7〔d,4H〕、6.8〜6.9〔br,4H〕、7.1〔s,4H〕、7.2〜7.3〔d,4H〕
MS(FD+)M+ 738
<N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジンの合成>
不活性雰囲気下で、300mlの3つ口フラスコに脱気した脱水トルエン1660mlを入れ、N,N’−ジフェニルベンジジン275.0g、4−t−ブチル−2,6−ジメチルブロモベンゼン449.0gを加えた。続いてトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム 7.48g、t−ブトキシナトリウム196.4g、を加えた後、トリ(t−ブチル)ホスフィン5.0gを加えた。その後、105℃で7時間反応させた。
反応液にトルエン2000mlを加え、セライト濾過し、濾液を水1000mlで3回洗浄した後、700mlまで濃縮した。これにトルエン/メタノール(1:1)溶液1600mlを加え、析出した結晶を濾過し、メタノールで洗浄した。白色の固体479.4gを得た。
<N,N’−ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジンの合成>
不活性雰囲気下で、クロロホルム4730gに、上記N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−t−ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジン472.8gを溶解した後、遮光および氷浴下でN−ブロモスクシンイミド281.8gを12分割で1時間かけて仕込み、3時間反応させた。
クロロホルム1439mlを反応液に加え、濾過し、濾液のクロロホルム溶液を5%チオ硫酸ナトリウム2159mlで洗浄し、トルエンを溶媒留去して白色結晶を得た。得られた白色結晶をトルエン/エタノールで再結晶し、白色結晶678.7gを得た。
MS(APCI(+)):(M+H)+ 815.2
(化合物Aの合成)
(化合物A)
三口の丸底フラスコ(500ml)に2−ブロモヨードベンゼン25.1g、ナフタレンボロン酸20.0g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)0.427gおよび炭酸カリウム25.5gを加えた後、トルエン92ml、水91mlを加え加熱還流した。24時間攪拌した後、室温まで冷却した。反応溶液をシリカゲルを通してろ過し、溶媒を留去し組成生物25gを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した後、ヘキサンを用いて再結晶を行い、化合物Aを白色固体として12.2g得た。
(化合物Bの合成)
(化合物B)
300mlの3口フラスコを窒素置換し、化合物A 5.00g(17.7mmol)を加え、100mlのTHFに溶解させた。−78℃に冷却後、12.6mlのn−ブチルリチウム(1.54Mヘキサン溶液、19.4mmol)を滴下した。30分保温後、4.75g(21.2mmol)のシクロペンタデカノンを25mlのTHFに溶解させた溶液を滴下した。5分間保温後、冷浴を外し、室温まで昇温させ、8時間保温した。水1ml、トルエン100mlを加え、シリカゲルを敷いたグラスフィルターを通し、ろ過した。溶媒を留去し、8.99gの粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=40:1)し、5.18gの化合物Bを得た。
(化合物Cの合成)
(化合物C)
窒素雰囲気下200mlの2口フラスコに三フッ化ホウ素エーテル錯体を仕込み、ジクロロメタン25mlを加えて攪拌した。水浴中で冷却しながら、化合物B 5gをジクロロメタン50mlに溶かした溶液を加えた。1時間攪拌した後、水100mlを加えて反応を停止し、クロロホルム50mlで二回抽出を行った。得られた有機層はプレコートしたシリカゲルを通してろ過し、化合物C 4.1gを得た。この混合物は、これ以上精製することなく次の反応に用いた。
1H−NMR(300MHz/CDCl3)
δ1.30−1.52(m,24H),1.85(q,4H),7.33(t,1H),7.43(d,1H),7.50(t,1H),7.58〜7.65(m,2H),7.68(d,1H),7.82(d,1H),7.94(d,1H),8.36(d,1H),8.76(d,1H)
(化合物D)
窒素雰囲気下、300ml3口フラスコに化合物C 4.6gを仕込み、ジクロロメタン50mlを加えて溶解し、酢酸を70ml加えて油浴中50℃に加熱した。加熱しながら塩化亜鉛3.35gを加えて攪拌し、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミド9.61gをジクロロメタン21mlに溶かした溶液を加熱還流しながら30分かけて加えた。さらに1時間50℃で攪拌し、室温まで冷却した後、水100mlを加えて反応を停止した。分液し、水層はクロロホルム50mlで抽出し、有機層を合一した。有機層は飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液100mlで洗浄後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液150ml、水100mlで洗浄した。得られた有機層はプレコートしたシリカゲルを通してろ過し、粗生成物6.8gを得た。この混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物Dを1.98g得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ1.26−1.6(m,24H),1.76(q,4H),7.55(dd,1H),7.5807.71(m,2H),7.68(S,1h),7.96(S,1h),8.17(d,1H),8.38(dd,1H),8.67(d,1H)
化合物D(0.568g)、2,2’−ビピリジル(0.422g)を脱水したテトラヒドロフラン72mLに溶解した後、窒素雰囲気下において、この溶液にビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(0.743g)を加え攪拌し、60℃まで昇温後3時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水4mL/メタノール72mL/イオン交換水72mL混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン60mlに溶解させた。溶解後、ラヂオライト4.6gを加えて2時間30分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に5.2%塩酸水110mLを加え3時間攪拌した後に水層を除去した。つづいて4%アンモニア水110mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約110mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層を30mlまで減圧濃縮し、メタノール90mlに注加して0.5時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物1と呼ぶ)の収量は0.12gであった。また、ポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=3.1x104、Mw=4.0x105であった。
化合物D(0.398g)、2,2’−ビピリジル(0.295g)を脱水したトルエン63mLに溶解した後、窒素雰囲気下において、この溶液にビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(0.520g)を加え攪拌し、60℃まで昇温後3時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、トルエン120mlで希釈後、4%アンモニア水50gを加え、0.5時間攪拌した後に水層を除去した。次に5.2%塩酸水50gを加え1時間攪拌した後に水層を除去した。つづいて4%アンモニア水104mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約104mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。そして有機層をアルミナカラムに通して精製を行った。その後、有機層を約60mlまで減圧濃縮し、メタノール180mlに注加して0.5時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物2と呼ぶ)の収量は0.21gであった。また、ポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=7.5x104、Mw=6.7x105であった。
化合物D(0.398g)、N,N’−ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−ベンジジン(0.244g)、2,2’−ビピリジル(0.422g)を脱水したテトラヒドロフラン72mLに溶解した後、窒素雰囲気下において、この溶液にビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(0.743g)を加え攪拌し、60℃まで昇温後3時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水4mL/メタノール72mL/イオン交換水72mL混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン40mlに溶解させた。溶解後、ラヂオライト2.0gを加えて30分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に5.2%塩酸水95mLを加え3時間攪拌した後に水層を除去した。つづいて4%アンモニア水95mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約95mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール285mlに注加して0.5時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物3と呼ぶ)の収量は0.34gであった。また、ポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=2.1x104、Mw=3.0x105であった。高分子化合物3のガラス転移温度を測定したところ345℃であった。
化合物D(0.409g)、N,N’− −ビス(4−ブロモフェニル)−N,N’−ビス(4−t‐ブチル−2,6−ジメチルフェニル)−1,4−フェニレンジアミン(0.059g)、2,2’−ビピリジル(0.337g)を脱水したテトラヒドロフラン72mLに溶解した後、窒素雰囲気下において、この溶液にビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(0.594g)を加え攪拌し、60℃まで昇温後3時間反応させた。この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水3mL/メタノール72mL/イオン交換水72mL混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン44mlに溶解させた。溶解後、ラヂオライト2.3gを加えて30分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に5.2%塩酸水104mLを加え3時間攪拌した後に水層を除去した。つづいて4%アンモニア水104mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約104mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール312mlに注加して0.5時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物4と呼ぶ)の収量は0.17gであった。また、ポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれMn=2.6x104、Mw=2.6x105であった。
(溶液1の作製)
高分子化合物2をトルエンに0.8wt%の濃度となるように溶解させ、溶液1を作製した。高分子化合物2は室温にてトルエンに溶解した。
(溶液2の作製)
高分子化合物4をトルエンに0.8wt%の濃度となるように溶解させ、溶液2を作製した。高分子化合物4は室温にてトルエンに溶解した。
(蛍光スペクトルの測定)
溶液2を石英上にスピンコートして重合体の薄膜を作製した。前記の方法で蛍光スペクトルを測定したところ、474nmにピークを有する蛍光スペクトルが得られた。
(溶液3の作製)
高分子化合物1と高分子化合物3を重量比75:25となるよう混合し、トルエンに1.4wt%の濃度となるように溶解させ、溶液3を作製した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た溶液3を用いて、スピンコートにより3400rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約75nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また該素子は3.0Vから発光開始が見られ、最大発光効率は4.67cd/m2であった。
(化合物の骨格平面に垂直方向の厚みの計算)
前記の分子軌道計算によって、化合物(1−A−1)〜(1−A−4)の骨格平面に垂直方向の厚みの平均値を計算した。結果は下表1となった。C環が高分子鎖同士の相互作用を抑制するためには、骨格平面に垂直方向の、C環の広がりが大きいことが好ましい。相互作用を抑制することにより、蛍光強度や溶解性を高めることができる。6員環(1−A−1)と7員環(1−A−2)との間には垂直方向の厚みに顕著な差があり、蛍光強度や溶解性が高くなることが期待される。
Claims (45)
- 上記式(2)で示される構造を繰り返し単位として含むことを特徴とする請求項1記載の高分子化合物。
- A環およびB環の少なくとも1つが、2個以上のベンゼン環が縮合した芳香族炭化水素環であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の高分子化合物。
- A環がベンゼン環でありB環がナフタレン環であることを特徴とする請求項6に記載の高分子化合物。
- C環が、炭素数8〜20の脂環式炭化水素であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の高分子化合物。
- 前記式(2−1)で示される繰り返し単位からなることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の高分子化合物。
- さらに、下記式(5)、式(6)、式(7)または式(8)で示される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の高分子化合物。
−Ar1− (5)
−(−Ar2−X1−)ff−Ar3− (6)
−Ar4−X2− (7)
−X3− (8)
〔式中、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4はそれぞれ独立にアリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を表す。X1、X2およびX3はそれぞれ独立に−CR9=CR10−、−C≡C−、−N(R11)−、または−(SiR12R13)m−を表す。R9およびR10は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。R11、R12およびR13は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、アリールアルキル基または置換アミノ基を示す。ffは1または2を表す。mは1〜12の整数を表す。R9、R10、R11、R12およびR13がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕 - 前記式(5)で示される繰り返し単位が、下記式(9)または(10)で示される繰り返し単位であることを特徴とする請求項11記載の高分子化合物。
(9)
〔式中、A環およびB環は前記と同じ意味を表し、2つの結合手はそれぞれA環および/またはB環上に存在し、Rw1およびRx1はそれぞれ独立に置換基を表す。〕
(10)
〔式中、A環およびB環は前記と同じ意味を表し、2つの結合手はそれぞれA環および/またはB環上に存在し、Zは−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)(=O)−、−N(Rw2)−、−Si(Rw2)(Rx2)−、−P(=O)(Rw2)−、−P(Rw2)−、−B(Rw2)−、−C(Rw2)(Rx2)−O−、−C(Rw2)=N−または−Se−を表す。Rw2およびRx2はそれぞれ独立に置換基を表す。〕 - 前記式(5)で示される繰り返し単位が、下記式(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)または(17)で示される繰り返し単位であることを特徴とする請求項11記載の高分子化合物。
〔式中、R14は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。nは0〜4の整数を表す。R14が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R15およびR16は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。oおよびpはそれぞれ独立に0〜3の整数を表す。R17およびR16がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R17およびR20は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。qおよびrはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。R18およびR19は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。R17およびR20がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R21は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。sは0〜2の整数を表す。Ar13およびAr14はそれぞれ独立にアリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を表す。ssおよびttはそれぞれ独立に0または1を表す。X4は、O、S、SO、SO2、SeまたはTeを表す。R21が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R22およびR23は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。tおよびuはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。X5は、O、S、SO2、Se,Te、N−R24、またはSiR25R26を表す。X6およびX7は、それぞれ独立にNまたはC−R27を表す。R24、R25、R26およびR27はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基を表す。R22、R23およびR27がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R28およびR33は、それぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。vおよびwはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。R29、R30、R31およびR32は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。Ar5はアリーレン基、2価の複素環基または金属錯体構造を有する2価の基を表す。R28およびR33がそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕
〔式中、R34は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を表す。uuは0〜4の整数を表す。R34が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。〕 - 前記式(2)で示される繰り返し単位を全繰り返し単位の50モル%以上含む共重合体であり、前記式(2)で示される繰り返し単位の隣りが式(2)で示される繰り返し単位である割合をQ11とした場合、Q11が25%以上である請求項15に記載の高分子化合物。
- 前記式(18)で示される繰り返し単位を全繰り返し単位の15〜50モル%含む共重合体であり、前記式(18)で示される繰り返し単位の隣りが式(18)で示される繰り返し単位である割合をQ22とした場合、Q22が15〜50%以上であることを特徴とする請求項14に記載の高分子化合物。
- 高分子化合物の分子鎖末端の1つ以上が、1価の複素環基、1価の芳香族アミン基、複素環配位金属錯体から誘導される1価の基および式量90以上のアリール基からなる群から選ばれる末端基を有することを特徴とする請求項1〜17のいずれかに記載の高分子化合物。
- ガラス転移温度が130℃以上であることを特徴とする請求項1〜18のいずれかに記載の高分子化合物。
- 蛍光量子収率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜19のいずれかに記載の高分子化合物。
- ポリスチレン換算の数平均分子量が103〜108であることを特徴とする請求項1〜20のいずれかに記載の高分子化合物。
- ポリスチレン換算の重量平均分子量が5×104以上であることを特徴とする請求項1〜21のいずれかに記載の高分子化合物。
- 請求項23〜25のいずれかに記載の化合物を原料の一つとして用いて重合させることを特徴とする請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
- 重合に関与する置換基がそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基およびアリールアルキルスルホネート基から選ばれ、ニッケルゼロ価錯体存在下で重合することを特徴とする請求項26に記載の製造方法。
- 重合に関与する置換基がそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、−B(OH)2、またはホウ酸エステル基から選ばれ、全原料化合物が有するハロゲン原子、アルキルスルホネート基アリールスルホネート基およびアリールアルキルスルホネート基のモル数の合計と、−B(OH)2およびホウ酸エステル基のモル数の合計の比が実質的に1であり、ニッケルまたはパラジウム触媒を用いて重合することを特徴とする請求項26に記載の製造方法。
- 正孔輸送材料、電子輸送材料および発光材料から選ばれる少なくとも1種類の材料と請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物とを含有することを特徴とする高分子組成物。
- 請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物を2種類以上含有することを特徴とする高分子組成物。
- 請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30に記載の高分子組成物を含有することを特徴とする溶液。
- 粘度が25℃において5〜20mPa・sであることを特徴とする請求項31に記載の記載の溶液。
- 請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30に記載の高分子組成物を含有する発光性薄膜。
- 請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30に記載の高分子組成物を含有する導電性薄膜。
- 請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30に記載の高分子組成物を含有する有機半導体薄膜。
- 請求項35記載の有機半導体薄膜を有することを特徴とする有機トランジスタ。
- 陽極および陰極からなる電極間に、有機層を有し、該有機層が請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30に記載の高分子組成物を含むことを特徴とする高分子発光素子。
- 有機層が発光層であることを特徴とする請求項37記載の高分子発光素子。
- 発光層がさらに正孔輸送材料、電子輸送材料または発光材料を含むことを特徴とする請求項38記載の高分子発光素子。
- 陽極および陰極からなる電極間に、発光層と電荷輸送層とを有し、該電荷輸送層が請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30記載の高分子組成物を含むことを特徴とする請求項37記載の高分子発光素子。
- 陽極および陰極からなる電極間に、発光層と電荷輸送層とを有し、該電荷輸送層と電極との間に電荷注入層を有し、該電荷注入層が請求項1〜22のいずれかに記載の高分子化合物または請求項29もしくは30に記載の高分子組成物を含むことを特徴とする請求項40記載の高分子発光素子。
- 請求項37〜41のいずれかに記載の高分子発光素子を用いたことを特徴とする面状光源。
- 請求項37〜41のいずれかに記載の高分子発光素子を用いたことを特徴とするセグメント表示装置。
- 請求項37〜41のいずれかに記載の高分子発光素子を用いたことを特徴とするドットマトリックス表示装置。
- 請求項37〜41のいずれかに記載の高分子発光素子をバックライトとすることを特徴とする液晶表示装置。
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