JP2007015366A - セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置。 - Google Patents

Abstract

【課題】光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であるセルロースアシレートフィルムを、高生産性で安価に製造する。
【解決手段】アシル基置換度が２．８５から３．００のセルロースアシレートを有機溶剤に溶解した溶液を無端金属支持体上に流延し、０℃〜−５０℃に冷却してゲル化させた後該金属支持体から剥離し乾燥、製膜してセルロースアシレートフィルムを製造する。
【選択図】なし

Description

本発明は液晶表示装置に有用なセルロースアシレートフィルムおよびその製造方法に関するものである。また、さらにそれを用いた光学補償フィルム、偏光板などの光学材料および液晶表示装置に関するものである。

従来、セルロースアシレートフィルムはその強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向からの見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。
液晶表示装置用の部材のひとつである偏光板には偏光子の少なくとも片側に偏光子の保護フィルムが貼合によって形成されている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができる、セルロースアシレートフィルム、なかでもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。偏光子の保護フィルムは、光学的等方性に優れることが重要であり、偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。

最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学的に透明なフィルムは、より光学的に等方性であることが求められている。光学的に等方性であるとは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことが重要である。とりわけ、斜め方向からの表示良化のためには、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を小さくする必要がある。具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価した際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。

そこでセルロースアシレートフィルムの代わりにポリカーボネート系フィルムや熱可塑性シクロオレフィンフィルムを用いて、Ｒｅの角度変化の小さい光学透明フィルムの提案がされた（ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）や、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）など）。しかし、これらの光学透明フィルムは、偏光子の保護フィルムとして使用する場合、フィルムが疎水的なためにＰＶＡとの貼合性に問題がある。またフィルム面内全体の光学特性が不均一であることも問題である。それに対して特許文献１ではＰＶＡへの貼合適正に優れるセルロースアシレートフィルムを、より光学的異方性を低下させて改良し、正面のＲｅをほぼゼロとし且つレターデーションの角度変化も小さい、すなわちＲｔｈもほぼゼロとした光学的に等方性である光学的に透明なフィルムが提案されている。該特許文献には、セルロースアシレートのアシル基置換度を大きくすることによって光学的異方性を低下できることが開示されている。

一方、セルロースアシレートフィルムを高速製膜する方法としては冷却ゲル化製膜法が知られている（特許文献２）。この方法はセルロースアシレートの高濃度溶液を流延し、ほとんど乾燥せずに直ちに冷却することによってゲル化させ、支持体から剥離して乾燥する方法である。この製膜法では、乾燥の初期から両面乾燥を行うため乾燥がはやくなり、従って高速製膜ができる。
特開２００５−１２０３５２号公報 特開昭６２−１１５０３５号公報

上記特許文献１においては、光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムを得ることに成功しているが、開示されている製造方法は必ずしも十分な生産性を有するものではなく、さらなる生産性の向上が求められていた。更に、セルロースアシレートのアシル基置換度を大きくすると溶剤に対する溶解性が低下する傾向が見られ、溶液のろ過が困難になったり、高置換度のセルロースアシレートを用いて製膜されたフィルムでは異物が著しく増加しうるという問題があることがわかった。

すなわち、本発明の第一の課題は、アシル基置換度の大きなセルロースアシレートを用いて、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であるセルロースアシレートフィルムを、高生産性で安価に製造する方法を提供することである。本発明の第二の課題は、高置換度セルロースアシレートの溶解性不良を克服し、輝点異物の少ない上記特性のセルロースアシレートフィルムを提供することである。

本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、置換度２．８５〜３．００の高置換度セルロースアシレートを原料に用いて、冷却ゲル化製膜法によりフィルムを製造することで、光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムを生産性よく製造することに成功した。さらに、冷却ゲル化製膜法によれば、弾性率がより大きく、また透湿率がより小さいセルロースアシレートフィルムを得ることができるという予期せぬ優れた効果を奏することを見出した。

また、高置換度のセルロースアシレートを高濃度で溶解させようとすると溶解不良を起こし、得られるフィルムに輝点異物が発生してしまうという問題に対して、特定のセルロースアシレート、具体的には６％粘度値（ｍＰａ・ｓ）を２５℃で溶解した１７％溶液の貯蔵弾性率（Ｐａ）で割ったパラメータが２．５５から１４．０であるセルロースアシレートを使用すること、セルロースアシレートを７０℃以上の高温で溶媒に溶解させること等によって、高置換度セルロースアシレートの溶解を著しく促進することが出来、輝点異物の問題を解決できることを見出した。

すなわち、本発明では光学的異方性が小さく、透湿性が少なく、弾性率が大きいセルロースアシレートフィルムを、高速且つ高効率的に製造できることを見出した。本発明では、更に、輝点異物の少ない上記セルロースアシレートフィルムを、高速且つ高効率的に製造できること見出した。具体的には以下の解決手段による。

（１）アシル基置換度が２．８５から３．００のセルロースアシレートを有機溶剤に溶解した溶液を無端金属支持体上に流延し、０℃〜−５０℃に冷却してゲル化させた後該金属支持体から剥離し乾燥することにより製膜することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（２）セルロースアシレートを１８〜２４質量％含有するセルロースアシレート溶液を使用して製膜することを特徴とする上記（１）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（３）７０℃以上の温度でセルロースアシレートを有機溶剤に溶解することを特徴とする上記（１）または（２）に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。

（４）インラインで加熱溶解することを特徴とする、（３）のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（５）マイクロ波を用いて加熱することを特徴とする、（３）あるいは（４）のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（６）６％粘度値を２５℃で溶解したときの１７質量％溶液の貯蔵弾性率Ｅ’（２５）値で割ったパラメータが２．５〜１４．０であるセルロースアシレートを使用することを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（７）アシル基がアセチル基であるセルロースアシレートを使用することを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。

（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載の製造方法により製造されたセルロースアシレートフィルム。
（９）膜厚方向のレターデーションＲｔｈの絶対値が２５ｎｍ以下であることを特徴とする上記（８）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（１０）弾性率が４．２ＧＰａ〜６．０ＧＰａであることを特徴とする上記（８）または（９）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（１１）厚さを８０μｍに換算したときの透湿率が３５０〜４５０ｇ／ｍ²／ｄａｙであることを特徴とする上記（８）〜（１０）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

（１２）上記（８）〜（１１）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを含有することを特徴とする光学補償フィルム。
（１３）上記（８）〜（１１）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護膜として用いたことを特徴とする偏光板。
（１４）上記（８）〜（１１）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム、上記（１２）に記載の光学補償フィルム、または上記（１３）に記載の偏光板を少なくとも１枚用いたことを特徴とする液晶表示装置。

本発明によれば、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であるセルロースアシレートフィルムを高速製膜することができ、製造コストを低減することができる。
また、本発明によれば、従来よりも弾性率が大きく、透湿率が小さいセルロースアシレートフィルムを得ることができる。
更に本発明の更なる好適態様によれば、上記特性に加え、さらに輝点異物の少ないセルロースアシレートフィルムを提供することができる。

以下、本発明の具体的態様について詳細に説明する。以下の本発明の記述において、セルロースアシレート中の含有成分量、例えば残留硫酸量、微量金属成分量などは当業界の慣例に従ってセルロースアシレートに対する質量基準の「ｐｐｍ」によって記述するが、これはセルロースアシレートに対する「ｍｇ／ｋｇ」と同じである。

[レターデーション、Ｒｅ、Ｒｔｈ]
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはKOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する。
セルロースアセテート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA21ADHはｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚを算出する。

本発明のセルロースアシレートフィルムの光学的異方性、特に波長５９０ｎｍで測定した面内のレターデーションＲｅ(590)および厚さ方向のレターデーションＲｔｈ(590)は、下記式（I）または（II）をみたす範囲であることが好ましい。

（Ｉ）０≦Ｒｅ(590)≦１０
（II）｜Ｒｔｈ(590)｜≦２５

上記式（I）、（II）は
（Ｉ）０≦Ｒｅ(590)≦５
（II）｜Ｒｔｈ(590)｜≦１０
であることがより好ましく、
（Ｉ）０≦Ｒｅ(590)≦３
（II）｜Ｒｔｈ(590)｜≦５
であることがより好ましく、
（Ｉ）０≦Ｒｅ(590)≦２
（II）｜Ｒｔｈ(590)｜≦２
であることが特に好ましい。

（レターデーションの波長分散｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜、及び｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜）

本発明においてレターデーションの波長分散とは、上記方法により算出した波長４００ｎｍ、及び７００ｎｍにおけるＲｅ、及びＲｔｈのそれぞれの差の絶対値により求めた。レターデーション波長分散が小さいフィルムほど、斜め方向から見たときのディスプレイの色味変化が小さく、視認性に優れた表示装置を作製することができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの光学的異方性、特に波長４００ｎｍ、及び７００ｎｍにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを、が下記式（I）または（II）をみたす範囲であることが好ましい。
（Ｉ）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０
（II）｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５

上記式（I）、（II）は
（Ｉ）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦７
（II）｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦２５
であることがより好ましく、
（Ｉ）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦５
（II）｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦１５
であることが特に好ましい。

[セルロースアシレート原料綿]
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に見られる。

[セルロースアシレート置換度、平均酢化度]
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明のセルロースアシレートについて記載する。本発明のセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたものである。アシル基としては炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度あるいは平均酢化度を得ることができる。その測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。

セルロースアシレートの平均置換度の理論的な上限値は３．００であるが、平均置換度の値は３．００にできるだけ近く高い値をとることが望ましい。置換度の高い綿を用いることで、光学的異方性ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるようにすることができ、フィルム面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物の添加量を従来よりも低減できるようになる。セルロースアシレートがセルロースアセテートの場合は、セルロースの水酸基へのアセチル置換度が２．８５〜３．００であることが望ましい。置換度が小さいと好ましいＲｅレターデーション及びＲｔｈレターデーションを得ることが難しくなる。アセチル置換度は２．９０〜３．００であることが更に望ましく、２．９４〜３．００であることが特に望ましい。置換度が３．００に近づけば近づくほど、セルロースアセテートの溶剤に対する溶解性は悪くなる傾向がある。そのため従来広く使用されているセルロースアセテートの置換度は２．７から２．８５であった。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でもアリルアシル基でもよく特に限定されず、セルロースユニットへの置換形態では、単一アシル基でも２種類以上のアシル基の混合エステルでもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルの各基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどの各基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。

上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.７０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．７６〜３．００であり、さらに望ましくは２．８３〜３．００である。

[セルロースアシレートの重合度]
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、２００〜５５０がより好ましく、２５０〜４００が更に好ましく、２８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号に詳細に記載されている。

（セルロースアシレートの粘度特性）
セルロースアシレートの固有粘度特性は「６％粘度値」で表される。６％粘度は、メチレンクロライドとメタノールの質量比率９１対９の混合溶媒にセルロースアシレートを６質量％溶解し、オストワルド粘度計を用いて２５℃における流下時間を測定し、次式により６％粘度を算出する。

６％粘度（ｍＰａ・ｓ）＝流下時間（秒）×粘度計係数

「粘度計係数」は粘度計較正用標準液を用いて、上記溶液と同様の操作で流下秒数を測定して求める。
ここに、「粘度計係数＝標準液の絶対粘度（ｃｐｓ）×溶液の密度（１．２３５ｇ／ｃｍ^３）／標準液の密度（ｇ／ｃｍ^３）／標準液の流下時間（秒）」である。

本発明で好ましい６％粘度値は２６０から７００である。６％粘度値が２６０以上において、製膜時加圧ダイの内圧を十分に高く設定でき、幅方向に均一に押し出すことができ、好ましい。６％粘度値が７００以下において、セルロースアシレート溶液をろ過する際に適切な過圧力によってろ過することができ、好ましい。６％粘度値は３００から５００が更に好ましく、３５０から４７０が特に好ましい。

（セルロースアシレートの溶解性と溶液の粘弾性特性）
本発明では更に、高置換度のセルロースアシレートは溶剤に対する溶解性が劣るという課題がある。かかる課題は溶解方法の工夫によって、例えば高圧高温で溶解することによりある程度カバーできる。更に、冷却ゲル化製膜を行うためには高濃度溶液の調製が有利であり、高濃度溶解可能なセルロースアシレートの検討を行った。

本発明者らは種々検討の結果、更に以下のことを見出した。一般的な合成ポリマーにおいては、溶解性の劣る溶剤中に溶解した溶液の粘度は小さくなることが知られている。しかしながら高置換度セルロースアシレートにおいては逆に、同じ分子量のものでも、同じ濃度と同じ温度で溶解したとき、溶解性の劣るセルロースアシレート程粘度が高くなることを見出した。またこのセルロースアシレートの溶解温度を高くしてよりよく溶解すればするほど、溶液粘度が小さくなる。この粘度の中味を分析すると、セルロースアシレートの種類や溶解温度によって、貯蔵弾性率項の値が大きく変動していることを見出した。同じような分子量の高置換度セルロースアシレートは溶解性の劣るものほど、低温溶解液の貯蔵弾性率（Ｐａ）は溶解性のよいものに比べてその差が大きくなるが、高温溶解したときの貯蔵弾性率は溶解性のよいセルロースアシレートとあまり違わなくなる。つまり質量比でメチレンクロライド８７対メタノール１３の混合溶媒に１７質量％のセルロースアシレートを溶解した溶液を作成したとき、７０℃で溶解したときの溶液の貯蔵弾性率Ｅ’（７０）と２５℃で溶解したときの貯蔵弾性率Ｅ’（２５）の比Ｅ’（７０）／Ｅ’（２５）が０．４５から１．０であるセルロースアシレートを選定することにより、高置換度でも溶解性にすぐれ、輝点異物の少ないフィルムを作成できることを見出した。この比が小さいものほど溶解性が劣り、この比が１．０に近いものほど溶解性がよい。従来広く使用されている置換度が２．８５以下のセルロースアシレートの多くはこの貯蔵弾性率の比がほぼ１．０であるが、高置換度のセルロースアシレートは溶解性が劣るため、貯蔵弾性率の比Ｅ’（７０）／Ｅ’（２５）が１．０のものは未だ見つかっていない。そこで実用的に好ましい貯蔵弾性率の比は０．５５から０．８８である。

同様にセルロースアシレートの６％粘度値（ｍＰａ・ｓ）を２５℃溶解液の貯蔵弾性率Ｅ’（２５）の値で割ったパラメータが、２．５から１４．０であるものが好ましく、４．５から１０．０であるものが更に好ましい。実用的な観点からは本パラメータ値が５．０から７．５であるものが特に好ましい。この範囲であればセルロースアシレートの溶解性が良い。

（平均分子量）
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価される。数平均分子量Ｍｎの好ましい範囲は５万から１５万であり、より好ましくは７万から１２万である。質量平均分子量Ｍｗの好ましい範囲は１３万から３６万であり、より好ましくは２０万から３１万である。その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、２．０〜４．０であることが好ましく、２．３〜３．４であることがさらに好ましい。Ｍｗ／Ｍｎが小さすぎるとセルロースアシレート溶液の粘度が小さくなり、大きすぎると低分子成分が溶出しやすくなったり溶液粘度が大きくなったりして、いずれも好ましくない。Ｚ平均分子量Ｍｚの好ましい範囲は１９万から８０万であり、より好ましくは４０万から６５万である。

低分子成分を除去すると、平均分子量（重合度）が高くなる。しかし同じ平均分子量同士のセルロースアシレート同士で比較すると、低分子成分を除去したものの方が、溶液にしたときの粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。

（含水率）
本発明のセルロースアシレートの製造においては、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

（形状）
本発明に用いるセルロースアシレートの粉黛特性は、通常のものであれば特に問題ない。好ましい安息角は２０度以上５０度以下であり、２５度以上４５度以下が更に好ましい。好ましい嵩密度は０．３ｇ／ｃｍ^３以上０．７５ｇ／ｃｍ^３以下であり、０．４ｇ／ｃｍ^３以上０．６５ｇ／ｃｍ^３以下が更に好ましい。粒子サイズは０．０１から１０ｍｍが好ましく、０．１から４ｍｍが更に好ましい。このような範囲の粉黛であれば、セルロースアシレートのハンドリングに問題を生ぜず、風送、自動計量など自動仕込みができる。

（含有元素）
通常、セルロースアシレート合成過程で使用する硫酸、酢酸、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどがそのままあるいはセルロースアシレートと反応した形で残留している。また不純物として鉄イオンの混入も知られている。本発明においてセルロースアシレートに残留している上記諸物質の含有量の好ましい範囲は、硫酸量は３０から１５０ｐｐｍであり、カルシウムは１０から１２０ｐｐｍであり、マグネシウムは０．１から２０ｐｐｍであり、鉄は３ｐｐｍ以下である。また遊離酢酸は０．０１から０．２％である。

本発明に用いるセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

[セルロースアシレートへの添加剤]
本発明では、セルロースアシレート溶液に、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができる。これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

［Ｒｔｈを低下させる化合物］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物（以下、Ｒｔｈ低下剤ともいう）の少なくとも１種を、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーに対して０．０１〜３０質量％含むことが望ましい。

より望ましくは、Ｒｔｈ低下剤を下記数式（３）及び（４）を満たす範囲で含有することが望ましい。
数式（３）：（Ｒｔｈ_Ａ−Ｒｔｈ_０）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０

上記数式（３）、（４）において、さらに望ましくは、
数式（３−１）：（Ｒｔｈ_Ａ−Ｒｔｈ_０）／Ａ≦−２．０
数式（４−１）：０．０５≦Ａ≦２５
であり、特に望ましくは、
数式（３−２）：（Ｒｔｈ_Ａ−Ｒｔｈ_０）／Ａ≦−３．０
数式（４−２）：０．１≦Ａ≦２０
である。

ここで、Ｒｔｈ_ＡはＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ_０はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。

（Ｒｔｈ低下剤の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈ低下剤について説明する。
光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈがともにゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

（ＬｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上記のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制してＲｔｈ低下剤のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。

オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が前記範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。

（Ｒｔｈ低下剤の物性）
Ｒｔｈ低下剤は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。またＲｔｈ低下剤は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

Ｒｔｈ低下剤は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

Ｒｔｈ低下剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
Ｒｔｈ低下剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。Ｒｔｈ低下剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

このようなＲｔｈ低下剤としては、下記の一般式（１）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（１）において、Ｒ^１１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３の炭素原子数の総和は１０以上であることが特に好ましく、またこれらのアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。

アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルなど）が特に好ましい。

アリール基としては、炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルなど）が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

Ｒｔｈ低下剤としては、また下記の一般式（２）で表される化合物を例示することができる。

上記一般式（２）において、Ｒ^２１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。さらに、Ｒ^２１及びＲ^２２の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましく、それぞれ、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

上記のアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。

以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

［波長分散調整剤］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、そのフィルムの｜Ｒｅ_４００−Ｒｅ_７００｜及び｜Ｒｔｈ_４００−Ｒｔｈ_７００｜を低下させる化合物、すなわちレターデーションの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。以下、波長分散調整剤について説明する。

本発明のセルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（６）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（７）及び（８）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。

数式（６）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ_４００−Ｒｔｈ_７００｜
数式（７）：（ΔＲｔｈ_Ｂ−ΔＲｔｈ_０）／Ｂ≦−２．０
数式（８）：０．０１≦Ｂ≦３０

上記数式（７）及び（８）において、より望ましくは、
数式（７−２）：（ΔＲｔｈ_Ｂ−ΔＲｔｈ_０）／Ｂ≦−３．０
数式（８−２）：０．０５≦Ｂ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（７−３）：（ΔＲｔｈ_Ｂ−ΔＲｔｈ_０）／Ｂ≦−４．０
数式（８−３）：０．１≦Ｂ≦２０
である。

ここでΔＲｔｈ_Ｂは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ_０は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。

（波長分散調整剤の添加方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（３）で示されるものが本発明における波長分散調整剤として好ましく用いられる。

一般式（３）：Ｑ^３１−Ｑ^３２−ＯＨ
（式中、Ｑ^３１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ^３２は芳香族環を表す。）

Ｑ^３１は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。

Ｑ^３１で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。

Ｑ^３２で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^３２で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ^３２は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。

置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（３）として、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物である。

上記一般式（３−１）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７及びＲ^３８は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ^３１及びＲ^３３として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又は炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ^３２、及びＲ^３４として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又は炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子又はメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^３５及びＲ^３８として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又は炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子又はメチル基であり、
最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^３６及びＲ^３７として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又はハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子又は塩素原子である。

一般式（３）として、より好ましくは下記一般式（３−２）で表される化合物である。

式中、Ｒ^３１、Ｒ^３３、Ｒ^３６及びＲ^３７は、各々上記一般式（３−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

以下に一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認された。

また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。

式中、Ｑ^４１及びＱ^４２は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ^４１はＮＲ^４１（Ｒ^４１は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。

Ｑ^４１及びＱ^４２は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸、スルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

Ｘ^４１は、ＮＲ^４２（Ｒ^４２は水素原子又は置換基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ^４１として好ましくは、ＮＲ^４２（Ｒ^４２として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。

一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物である。

式中、Ｒ^４１１、Ｒ^４１２、Ｒ^４１３、Ｒ^４１４、Ｒ^４１５、Ｒ^４１６、Ｒ^４１７、Ｒ^４１８及びＲ^４１９は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ^４１１、Ｒ^４１３、Ｒ^４１４、Ｒ^４１５、Ｒ^４１６、Ｒ^４１８及びＲ^４１９として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^４１２として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基
、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２
０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒド
ロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは
炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ^４１７として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物である。

式中、Ｒ^４２０は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ^４２０として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（４）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。

以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。

式中、Ｑ^５１及びＱ^５２は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ^５１及びＸ^５２は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ^５１及びＱ^５２で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^５１及びＱ^５２であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ^５１及びＱ^５２は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。

Ｘ^５１及びＸ^５２は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ^５１及びＸ^５２で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ^５１及びＸ^５２はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ^５１及びＸ^５２は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ^５１及びＸ^５２として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^５１（Ｒ^５１は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物である。

式中、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３、Ｒ^５１４、Ｒ^５１５、Ｒ^５１６、Ｒ^５１７、Ｒ^５１８、Ｒ^５１９及びＲ^５２０は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ^５１１及びＸ^５１２は、それぞれ前記一般式（５）におけるＸ^５１及びＸ^５２と同義である。

Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１４、Ｒ^５１５、Ｒ^５１６、Ｒ^５１７、Ｒ^５１９及びＲ^５２０として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^５１３及びＲ^５１８として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物である。

式中、Ｒ^５１３及びＲ^５１８は一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ^５１３は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。

Ｘ^５１３として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^５２（Ｒ^５２は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（５）として、更に好ましくは一般式（５−３）で表される化合物である。

式中、Ｒ^５１３及びＲ^５１８は、一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ^５２は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ^５２として、好ましくは、Ｒ^５１３及びＲ^５１８が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ^５２として、Ｒ^５１３及びＲ^５１８が水素以外の場合には、好ましくは一般式（５−３）で表される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

本発明において、一般式（５）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。

以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

[マット剤微粒子]
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートフィルムの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

[可塑剤、劣化防止剤、剥離剤]
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明のセルロースアシレートフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

[化合物添加の比率]
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５％であることが望ましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらに望ましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が望ましく、２０００以下がより望ましく、１０００以下がさらに望ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する(フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。

[セルロースアシレート溶液の有機溶媒]
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

その他、本発明のセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号などに記載されている。これらの特許によると本発明のセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても適用可能である。

本発明の製膜方法において冷却ゲル化を効果的に行うためには、溶液組成の選定が重要である。溶媒の選定においては主溶媒以外に使用する、いわゆる非溶媒あるいは貧溶媒とも称される、単独ではセルロースアシレートを溶解しない補助溶剤の選定が重要である。冷却ゲル化流延に効果の高い補助溶剤はアルコール類である。特に炭素数が１から５のアルコール類が好ましい。補助溶剤の全溶剤中の割合は１２から２５質量％が好ましく、１５から２０質量％が更に好ましい。炭素数１あるいは２のアルコール１００質量部に対して、炭素数が３から５のアルコール３から３０質量部の割合で２種以上のアルコール類を混合した補助溶媒の使用が更に好ましい。炭素数３から５のアルコールのなかではブタノールが好ましく、１−ブタノールが特に好ましい。

[セルロースアシレートフィルムの製造工程]
［加熱溶解工程］
本発明では、溶剤にセルロースアシレートを接触させて分散または溶解させたのち、温度を７０℃以上で処理する。溶解温度は１３０から２５０℃が好ましく、１６０から２２０℃が更に好ましい。２５０℃を超えるとセルロースアシレートの分解が生じ、生成されるフィルムの品質を損なう。

溶液の加熱は、オートクレープ方式、多管式熱交換器、スクリュー押し出し機、ジャケット付きスタチックミキサーなどの方法を用いることができる。この溶液の加熱時において、伝熱効率を高めフィルムの品質を良好に保つために加熱中に蒸気圧による発泡を防止することが好ましい。通常は、溶液内の最高温度における飽和蒸気圧より高い圧力に保つことで発泡を抑制できる。
また、前記セルロースアシレート分散物またはその溶液を７０℃以上に保つ時間は、２０秒以上且つ４時間以下であることが好ましく、２分以上且つ６０分以下が更に好ましい。前記加熱処理の前又は後に−１００℃から−１０℃の温度範囲で冷却処理することも好ましく、この場合には溶解性を高めることができる。

本発明のセルロースアシレートの分散物または溶液を用いて溶液製膜する溶液製膜方法において、前記セルロースアシレートの分散物またはその溶液を冷却する際に、前記セルロースアシレート分散物またはその溶液の伝熱距離を８ｍｍ以下とすることが好ましい。この場合に、前記セルロースアシレート分散物またはその溶液を壁面よりかきとる機構を具備した熱交換装置により冷却する方法も好ましい。さらに、前記セルロースアシレート分散物またはその溶液と壁面を隔てた冷媒との温度差が１００℃以上であることも好ましい。さらには、前記セルロースアシレート分散物またはその溶液をフラッシュさせることにより冷却する方法も好ましい。これらの冷却方法は、単独または組み合せて使用しても良く、さらには、前述した溶液製膜の加熱処理において、その前段または後段に前記冷却方法を実施しても良い。

［膨潤工程］
始めに、前記セルロースアシレート粒子と溶媒とを混合し、セルロースアシレート粒子を溶媒により膨潤させる膨潤工程をおこなう。膨潤工程の温度は、−１０〜＋５５℃であることが好ましい。通常は室温で実施する。セルロースアシレートと溶媒との比率は、最終的に得られる溶液の濃度に応じて決定する。一般に、混合物中のセルロースアシレートの量は、５〜３０質量％であることが好ましく、８〜２０質量％であることがさらに好ましく、１０〜１５質量％であることが最も好ましい。溶媒とセルロースアシレートとの混合物は、セルロースアシレートが充分に膨潤するまで攪拌することが好ましい。だまを発生させないために膨潤工程中に超音波振動を付与すると効果的である。超音波振動の詳しい使用については、特開平１１−７１４６３号公報に記載されている。また、膨潤工程において、溶媒とセルロースアシレート以外の成分、例えば、可塑剤、レターデーション低下剤、波長分散調整剤、劣化防止剤、染料や紫外線吸収剤を添加してもよい。

［加熱工程］
次に、上記ドープを７０℃以上に加熱する加熱工程を行う。
加熱は、図１に示したドープ調製ラインにより行なわれる。タンク１０には、セルロースアシレートが溶媒中で膨潤したドープが注入されている。このドープをスクリュー押出機１２により加熱用熱交換器１３に送液する。スクリュー押出機１２には、ジャケット１１が設けられており、このジャケット１１中には冷媒が送られ、ドープが冷却される。次に、静止型混合器２４を有する加熱用熱交換器１３にドープが送られる。加熱用熱交換器１３は、ジャケット１３ａを備えており、このジャケット１３ａ中には熱媒が循環され、ドープは高温高圧状態にされる。この熱交換器１３での加熱温度は、７０℃以上、望ましくは１３０℃以上、最も望ましくは１６０℃以上である。しかしながら、２５０℃を超えると、ドープ中のセルロースアシレートの分解が生じるため、フィルムの品質が損なわれ、好ましくはない。この場合において、加熱速度は、１℃／分以上であることが好ましく、２℃／分以上であることがより好ましく、４℃／分以上であることがさらに好ましく、８℃／分以上であることが最も好ましい。加熱速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加熱速度とは、加熱を開始する時の温度と最終的な加熱温度との差を、加熱開始時から最終的な加熱温度に達するまでの時間で割った値である。加熱は、図示した熱交換器１３以外のオートクレーブ方式あるいは多管式熱交換器を用いたいずれの方法であっても良い。特開２００３−１８１２５３号公報に記載されているような、スクリュー押し出し機とスタチックミキサーを組合わせた加熱方法も好ましい。

また、加熱時間は、２０秒以上４時間以下が好ましい。加熱時間が２０秒に満たない場合、加熱溶解したドープに不溶解物が残存して高品質なフィルムを作製することができない。また、この不溶解物を濾過により取り除く場合でも、濾過寿命が極端に短くなることにより不利である。加熱時間の始期は、目的温度に達したときから測定するものとし、終期は、目的温度から冷却を開始したときとする。なお、装置の冷却は、自然冷却であっても良いし、強制的な冷却であっても良い。

ドープ加熱手段として、周波数が９００から３０００ＭＨｚの範囲であるマイクロ波を照射する方法も好ましい。更に、マイクロ波を直接または導波管を通じて２０秒以上４時間以下の時間マイクロ波を照射することも好ましい。

［加圧工程］
上記加熱工程において、溶液が沸騰しないように調整された圧力下で、溶媒の大気圧における沸点以上の温度までドープを加熱することが好ましい。例えば、図１に示した熱交換器１３に具備されている静止型混合器（図示しない）によって、ドープを高温高圧状態にする。加圧することによって、ドープの発泡を防止して、均一なドープを得ることができる。この時、加圧する圧力は、加熱温度と溶媒の沸点との関係で決定する。

［冷却工程］
上記ドープを、加熱工程の前に、−１００〜−１０℃に冷却する冷却工程を行うことも、光学的性質が良好なフィルムを得るために有効である。常温で容易に溶解し得ない系と、不溶解物の多くなる系では、冷却または加熱あるいは両者を組み合わせて用いると、良好なドープを調製できる。冷却することにより、セルロースアシレート中に溶媒を急速かつ有効に浸透せしめることができ溶解が促進される。有効な温度条件は−１００〜−１０℃である。冷却工程においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却時に減圧すると、冷却時間を短縮することができる。減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。また、この冷却工程は、上記加熱工程の後に実施することも本発明において有効である。なお、溶解が不充分である場合は、冷却工程から加熱工程までを繰り返して実施してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察して判断できる。

前記冷却工程において具体的な冷却手段としては、様々な方法または装置が採用できる。図１に示したドープ調製ラインでは、熱交換器１３から送り出されたドープをスクリュー押出機１４により冷却しつつ、熱交換器１５に送液する。スクリュー押出機１４は、ジャケット１６とフライト１７とスクリュー１８とを有しており、ジャケット１６内にはドープを冷却するために冷媒を流通させている。熱交換器１５ではドープがさらに冷却されて、このドープ１９はストックタンク２０に溜まる。

なお、図１に示したドープ調製ラインでは、冷却工程の前に加熱工程が行なわれていたが、本発明はその実施形態に限定されない。図２には、他の実施形態のドープ調製ラインを示した、なお、図１と同じ部材には同一の符号を付してある。図２に示したドープ調製ラインでは、スクリュー押し出し器１４により冷却したドープ１９を静止型混合器２４を設置した加熱用熱交換器２１に導いて高圧化で高温加熱を行なう。加熱されたドープ１９は、フラッシュバルブ２２を通して大気圧に近い圧力のフラッシュタンク２３内にフラッシュされることで、ドープ１９の蒸発潜熱によりドープ１９自身の温度が下がり、フラッシュタンク２３内にドープ１９を溜めることができる。また、ドープを冷却する際にフライト１７とスクリュー１８との距離は、８ｍｍ以下であることが好ましい。また、冷却用熱交換器１５内には固体状態になったドープをかきとるためのかきとり機２５を設けることが好ましい。かきとり機２５は、１軸スクリュー、２軸混練機などを用いることができる。また、スクリュー押出機１２，１４の効率を上げるために、スクリュー軸内にも冷媒を流通させても良い。また、スクリュー押出機１４や熱交換器１５では、冷媒によりドープを冷却するが、ドープと冷媒との温度差が１００℃以下であることが好ましく、１００℃を超える温度差がある場合には、ドープが急激に冷却されて流動性がなくなり、液面からの伝熱速度が著しく低下する。

［溶液製造後の処理］
前記加熱工程によって調製されたドープは、必要に応じて濃度の調整（濃縮または希釈）、濾過、温度調整、成分添加などの処理を実施することができる。添加する成分は、製造されるセルロースアシレートフィルムの用途に応じて決定する。代表的な添加剤は、可塑剤、Ｒｔｈ低下剤、波長分散調整剤、剥離促進剤、劣化防止剤（例、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤）、染料および紫外線吸収剤である。

仕込にはセルロースアシレートフレークスだけでなく、本発明のフィルム屑を裁断して加えてもよい。フィルム屑とは、本発明のフィルムを製造する際に発生する例えば耳屑や面状不良のために製品にならなかったフィルムなどのことである。また本発明以外のセルロースアシレートフィルム屑を加えることも可能である。後者の場合は加えるフィルムの種類によって制限が生じる。たとえばセルロースアシレートのアシル基は同じ種類のものでなければならない。セルロースアシレートのアシル置換度は異なっていてもよいが、フィルムの添加割合は制限されることがある。またフィルムに含まれる可塑剤、紫外線吸収剤やＲｔｈ低下剤の種類が異なる場合は、添加割合は制限される。本発明のフィルム屑の添加割合はセルロースアシレートフレークス使用量に対して制限はない。一方本発明以外のフィルム屑の添加割合はフィルムの種類にもよるが、概ね２５質量％以下に制限される。

本発明では完全に溶解した溶液を濃縮してもよい。濃縮後の溶液中のセルロースアシレート濃度は１８〜２４質量％にすることが好ましい。特に好ましくはセルロースアシレート濃度を１９．０〜２２．５質量％にする。この濃度範囲においては冷却ゲル化特性と流延適性共に最も優れるため、冷却ゲル化流延により高速製膜ができる。本発明において濃縮の方法は特に限定されない。具体的な濃縮方法の一例はフラッシュ濃縮法である。米国特許公報４，５０４，３５５に記されているように、加熱したセルロースアシレート溶液を減圧容器の中に細いノズルから噴出すことにより、瞬間的に溶剤を蒸発させて濃縮液を得る方法である。

［気泡防止］
ドープは高粘度の液体であり、送液系の各種タンクの中にはドープが空気と接触するものもある。その場合、タンクへのドープの吐出時に空気がドープ中に含有され気泡となる。実公平２−１９８０８号公報では、タンク内の液面に直接流入液を落とさずに、一旦液面状に設置した板状のものの上にドープを当ててから液面に落ちる方法を提案している。特開平７−８４３８１号公報では、螺旋状に配置した樋状の流露をタンクに通して緩やかにドープを供給することにより、液面への衝撃を和らげ、気泡発生を防止している。特開２００３−２９２６３５号公報では、タンク内に滞留する液の温度を、タンクに流入する液の温度よりも低くすることにより気泡の巻き込みを防止できるとしている。本発明においてもこれらの気泡防止工程が有効に使用できる。

［ドープろ過工程］
流延に先立って金網やネルなどの適当なろ材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などを除去しておく。セルロースアシレート溶液のろ過は絶対ろ過精度が１から１００μｍのフィルターが用いられる。ろ過はろ過精度の大きなフィルターから複数段に渡って順次細かなフィルターでろ過してもよい。好ましい最終段階のろ材のろ過精度は１から５０μｍである。３から２０μｍろ材が更に好ましい。ろ過圧力は１．６ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは１．２ＭＰａ以下であり、１ＭＰａ以下が特に好ましい。ろ過圧が低いのは問題ないが、高すぎるとろ材の破損の恐れが高くなったり、不純物や不溶解物が漏れる可能性が大きくなり、好ましくない。

ろ過効率を改善するために、目の粗いろ材から順次目の細かいろ材へと多段ろ過をすることが好ましい。例えば最初に３０μｍ前後の孔径のろ材でろ過し、次に１５μｍ前後のろ材でろ過し、最後に５から１０μｍのろ材でろ過する。別の例としては、最初に２０μｍ前後のろ材でろ過し、そのドープをフラッシュ濃縮した後再度同じ２０μｍフィルターでろ過し、続いて１０μｍ前後のろ材でろ過する。このような多段ろ過を行うと、終段ろ材の目詰まりが防止される。多段ろ過は２段から４段が効率的であり、好ましい。ろ過工程の後流延ダイまでの配管が長い場合は、その間に配管中の異物を拾う恐れがあるので、孔径が５０μｍ以上のろ材あるいはストレーナーを通すことも好ましく行われる。

セルロースアシレート溶液はろ過により目詰まりしにくいものが好ましい。ろ過による目詰まりは液の特性だけでなく、ろ材の特性、特に平均孔径によるところが大きい。適切な溶液の調製方法の選定と適切なろ材の選定により、ろ過閉塞係数を９００／ｍ³以下にすることが好ましい。５００／ｍ³以下にすることが更に好ましい。ろ材の選定は特に一段目のろ材の選定が重要である。一段目のろ材で捕捉すべき異物の大半を除去できるようにろ材の孔径を選定し、必要ならば後段のろ材よりもろ材の面積を増やすことにより、目詰まりを防止する。また一段目のろ材はろ過精度よりも異物捕捉容量の大きなデプスフィルターと呼ばれるろ材が好ましい。一般的にデプスフィルターは孔径分布が広くて捕捉すべき粒子のカットオフ性能は劣るが、ろ材が厚くできているため表面の孔をすり抜けた異物もろ材内部の孔で確率的に捕捉される。表面に細くされた異物が堆積しにくいため、たくさんの異物を捕捉でき目詰まりが遅いという特徴を有している。終段のろ材には孔径分布が比較的狭くろ過精度に優れるサーフェスフィルターが好ましい。

（ドープ溶液の透明度）
本発明のセルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出した。

（添加剤の混合）
セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して送り、流延ダイの手前であらかじめ調製しておいたマット剤溶液、ＵＶ吸収剤溶液、レターデーション調整剤溶液、剥離剤溶液あるいは可塑剤溶液などをインラインで混合する。これら添加液の混合は逐次に混合してもよいし、あるいはそれらの一部あるいは全部をあらかじめ混合しておいた上でセルロースアシレート溶液と混合してもよい。
添加剤が混合されたセルロースアシレート溶液（ドープ）は加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延される。

（流延）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたり、あるいは研磨によって表面粗さが０．０５μｍ以下に仕上げされたステンレス板やドラムが用いられる。金属支持体の表面温度は一般的には１０〜３５℃が使用される。本発明の冷却ゲル化流延法では−５０〜０℃であり、−３５〜−３℃が好ましく、−２５〜−５℃であることが更に好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に１基或いは２基以上の設置でもよい。好ましくは１基又は２基である。

２基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶液の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。使用する溶剤の沸点よりも５ないし１５℃低い温度が好ましい。工程のすべての場所でセルロースアシレート溶液の温度が同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で前記範囲の温度であればよい。

エンドレス金属支持体の幅は０．８から２．５ｍ、長さは５から１２０ｍ、厚さは０．８から３．５ｍｍのものが好ましく使用できる。流延幅は４０ｃｍから２．３ｍ、金属支持体の移動速度（すなわち流延速度）はドープの固形分濃度や出来上がりのフィルム厚さ、エンドレス金属支持体の長さ、支持体温度などにもよるが、０．５から３００ｍ／分が使用できる。

さらに特開２００１−１２９８３８号、特開２０００−３１７９６０号、特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平１１−２２１８３３号、特開平０７−０３２３９１号、特開平０５−１８５４４５号、特開平０５−０８６２１２号、特開平０３−１９３３１６号、特開平０２−２７６６０７号、特開平０２−１１１５１１号、特開平０２−２０８６５０号特開昭６２−０３７１１３号、特開昭６２−１１５０３５号、特開昭５５−０１４２０１号および特開昭５２−１０３６２号の各公報に記載の技術を本発明では応用できる。

（重層流延）
セルロースアシレート溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高，低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよく、特にこの方法は高粘度溶液を用いる冷却ゲル化流延法においては好ましい流延方法である。更に又、特開昭６１−９４７２４号および特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。このような方法により乾燥負荷を低減したり金属支持体からフィルムを剥離するときの剥離抵抗を小さくすることができ、フィルムの生産スピードを高めることができる。

共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述のレターデーション低減剤、可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、剥離剤等の添加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。つまり層ごとに機能を分離することも可能である。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、又はスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。又、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層にブリードアウトしにくい添加剤を含ませ、コア層にブリードアウトしやすいがレターデーション低減性の優れた添加剤、或いはブリードアウトしやすいが紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ゲル化流延法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていても良く、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。

（冷却ゲル化）
特開昭６２−１１５０３５号公報に記されている如き冷却ゲル化流延法の使用は、乾燥が速く生産性に優れるため好ましい。該方法では金属支持体は１５℃以下に冷却され、支持体表面温度が上昇しない程度の温度と風量の乾燥風を、２秒以上あてて乾燥することが好ましい。この方法ではフィルムは主に冷却による粘度上昇あるいは冷却ゲル化により自己保持性が付与されるため、高残留揮発分でも剥離可能になる。剥離時の好ましい残留揮発分は１５０から３３０％であり、更に好ましくは１９０から３１０％である。ここで残留揮発分とは、固形分（乾燥終了後にフィルムとして残る成分）を１００％とした時、フィルム中の揮発性成分の割合をいう。剥離時の好ましいフィルム温度は５から−５０℃であり、更に好ましくは０から−３５℃であり、特に好ましくは−５から−２５℃である。本方法では非常に在留溶剤が多い状態でフィルムを支持体から剥離するため、その後の乾燥は両面から行われ、従って急速乾燥になる。このように急速に乾燥することにより厚さ方向のレターデーションＲｔｈをマイナス方向にすると推定される。また片面乾燥の時間を短くできるので、トータルの乾燥時間を大幅に短縮でき、コスト及び環境負荷の削減効果も大きい。

冷却ゲル化流延では金属支持体としてドラムを使用することが有利である。ドラム中に冷却液を封入することにより、流延液膜を効果的に冷却ゲル化できる。ドラムの好ましい外周長さは２から２０ｍである。好ましい流延速度は毎分０．５から３００ｍである。ドラム外周長１ｍあたりの更に好ましい流延速度は毎分２から２０ｍであり、特に好ましくは５から１５ｍである。

（テンター乾燥）
高揮発分でフィルムを金属支持体から剥離すると、その後の乾燥過程でフィルムは収縮しやすく、収縮の過程で面状を悪くする。面状悪化防止のため、本発明では以下に述べるような方法で延伸したり収縮を抑えながら乾燥する。
本発明ではフィルムを支持体から剥離する時、フィルムは支持体速度の１．０１倍から１．４倍の速度で引っ張り、面状悪化を防止する。また引張速度比が大きくなるほど、フィルムの流延方向弾性率を大きく出来る。剥離されたフィルムは例えば特開昭６２−１１５０３５号公報や特開昭６２−４６６２５号公報に記されている如き、幅規制装置（例えばテンター装置）によりフィルム両端を保持されて、フィルムの収縮を規制しながらあるいは幅方向に延伸しながら乾燥される。幅規制装置の入り口と出口におけるフィルム幅の比は、０．７５から１．４が好ましい。幅方向に延伸するとフィルムの幅方向弾性率を大きく出来るので好ましい。乾燥は５０〜１５０℃の熱風を吹き込むことによって行われる。幅規制装置の中を２から５段階に区切り、順次乾燥風の温度を低い方から高いほうに変化させることが好ましい。最初は５０〜１００℃の風を用いることが好ましく、７０〜９０℃が更に好ましい。温度が高すぎるとフィルムが発泡しやすくなる。最終段においては１３０〜１５０℃の風を用いることが好ましく、１３５〜１４５℃が更に好ましい。１５０℃を越えるとフィルムの弾性が著しく小さくなり、高速搬送が難しくなる。

幅規制装置における乾燥速度はフィルムが発泡しない範囲で速ければ速いほどＲｔｈ低下が見込まれるので好ましい。フィルム中の残留揮発分が２００％の状態から５％の状態になるまでの時間は１．５分〜５分が好ましく、１．５〜４分が更に好ましい。最も好ましくは１．５〜３分である。フィルムの発泡を防ぐため、熱風はフィルムの中央部のみに吹きつけ、製品にならないクリップに保持されている部分は逆に冷却することが好ましい。

（巻取り）
フィルム中の残留溶剤分が２０％以下になった後、フィルムを幅規制装置からはずし、更に１００から１５０℃の温度で乾燥する。幅規制装置によって変形している両耳部を切り落とし、両端部にナーリングを付与して巻き取る。ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍであり、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。巻き取る長さは１ロールあたり１００〜１００００ｍが好ましく、より好ましくは５００〜６０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜４０００ｍである。

（フィルム厚さ）
本発明の出来上がり（乾燥後）のセルロースアシレートフィルムの厚さは、３０から１８０μｍの範囲が好ましい。更に３８〜１００μｍの範囲が好ましく、特に３８〜８２μｍの範囲が最も好ましい。
フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。

（フィルムの輝点異物数）
遅相軸が互いに直交するように重ねた二枚の偏光板の間にセルロースアシレートフィルムを挟んで観察したとき、白い点状に光が漏れてくることがある。原料のセルロースアシレートの中に溶剤に溶解しがたい成分が多く含まれている場合や、溶解条件が適切でない場合に、このような光漏れを生じる異物（輝点異物）が多くなる。本発明においては、溶解性のよいセルロースアシレートの選定、適切な溶媒組成の選定、適切な溶解条件、特に溶解温度の設定によって輝点異物の量を減少できる。さらに前述のように流延に先立ってセルロースアシレート溶液をろ過処理することも輝点異物の量を低減するのに効果的である。フィルムを観察して２．１６ｍｍ×１．７２ｍｍの範囲を５０倍に拡大し、１ｍｍ以上の大きさの輝点を数える。そのような測定を１試料に対して６０視野測定し、全ての輝点数を合計したとき、好ましい輝点数は８０以下である。４０以下であると更に好ましく、２０以下が最も好ましい。

（フィルムの透湿率）
透湿率はＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に則り面積１ｍ²あたり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を測定し、各試料の透湿率を算出する。
冷却ゲル化流延法を使用せずに製膜したセルロースアシレートフィルムの場合は、４０℃９０％ＲＨ２４時間における透湿度はフィルム厚さが８０μｍのとき４８０から５５０ｇ／ｍ²である。しかし冷却ゲル化流延法を採用した本発明の場合は驚くべきことに、同じ８０μｍのとき３５０から４５０ｇ／ｍ²と低透湿率になった。セルロースアシレートフィルムの透湿率は小さい方が好ましく、本発明の８０μｍフィルムの更に好ましい透湿率は３５０から４２０ｇ／ｍ²である。

（フィルムの弾性率）
冷却ゲル化流延による本発明のセルロースアシレートフィルムの好ましい弾性率は４．２ＧＰａから６ＧＰａである。剥離後幅方向に収縮させないようにすれば流延方向も幅方向もともに４ＧＰａ以上の弾性率を得られることを見出した。特に幅方向に５％以上延伸することにより、流延方向も幅方向もともに４．２ＧＰａ以上の弾性率を得られることを見出した。一方冷却ゲル化流延によらないセルロースアシレートフィルムの弾性率は流延方向も幅方向もともに４ＧＰａ前後である。液晶表示装置に使用するためには、弾性率は大きい事が好ましい。セルロースアシレートフィルムの弾性率を大きくすることにより、液晶表示装置に使用される偏光板のポリビニルアルコールフィルムの収縮を抑える効果が大きくなり、その結果液晶表示装置の周辺部における光漏れを減少することが出来る。本発明のセルロースアシレートフィルムの更に好ましい弾性率は４．３Ｇから５．５ＧＰａであり、特に好ましい弾性率は、４．４Ｇから５．２ＧＰａである。

（フィルムの寸法変化率）
セルロースアシレートの寸法変化率は小さいことが好ましい。６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化および９０℃、３％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化が、いずれも±２％以内であることが望ましい。寸法変化率が大きいと液晶表示装置に装填したときにフィルムに応力を生じ、その結果応力によるレターデーションが発生し、液晶表示装置の光漏れの原因となる。また寸法変化が大きいと、液晶表示装置に反りを生じる可能性が高くなり、好ましくない。

（偏光板）
偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなっている。この透明保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光子の両側に使用してもよいし、片側だけに使用してもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の光軸との貼りあわせ角度には特に制限はない。セルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の透過軸とを平行にしてもよいし、直交させてもよいし、あるいはその中間の適当な角度にしてもよい。

本発明の偏光板は、２５℃６０％ＲＨにおける単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴ、偏光度Ｐが下記式（ａ）〜（ｄ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ａ）４０．０≦ＴＴ≦４５．０
（ｂ）３０．０≦ＰＴ≦４０．０
（ｃ）ＣＴ≦２．０
（ｄ）９５．０≦Ｐ

単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴはこの順でそれぞれ、より好ましくは、４０．５≦ＴＴ≦４５、３２≦ＰＴ≦３９．５、ＣＴ≦１．５であり、さらに好ましくは４１．０≦ＴＴ≦４４．５、３４≦ＰＴ≦３９．０、ＣＴ≦１．３である。偏光度Ｐは９５．０％以上であることが好ましく、より好ましくは９６．０％以上、さらに好ましくは９７．０％以上である。
本発明の偏光板は、波長λにおける直交透過率をＣＴ_（λ）としたときに、ＣＴ_{（３８０）}、ＣＴ_(４１０)、ＣＴ_{（７００）}が下記式（ｅ）〜（ｇ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｅ）ＣＴ_{（３８０）}≦２．０
（ｆ）ＣＴ_{（４１０）}≦１．０
（ｇ）ＣＴ_{（７００）}≦０．５

より好ましくはＣＴ_{（３８０）}≦１．９５、ＣＴ_{（４１０）}≦０．９、ＣＴ_{（７００）}≦０．４９であり、さらに好ましくはＣＴ_{（３８０）}≦１．９０、ＣＴ_{（４１０）}≦０．８、ＣＴ_{（７００）}≦０．４８である。

本発明の偏光板は、６０℃９５％ＲＨの条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。

（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
（ただし、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値を示す）
より好ましくは−５．８≦ΔＣＴ≦５．８、−９．５≦ΔＰ≦０．０、更に好ましくは、−５．６≦ΔＣＴ≦５．６、−９．０≦ΔＰ≦０．０である。
本発明の偏光板は、６０℃９０％ＲＨの条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｈ）、（ｉ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｈ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
（ｉ）−５．０≦ΔＰ≦０．０

本発明の偏光板は、８０℃の条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｌ）、（ｍ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｌ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
（ｍ）−２．０≦ΔＰ≦０．０

偏光板の単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴは、ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、ＴＴ、ＰＴ、ＣＴともに、１０回測定の平均値（４００ｎｍ〜７００ｎｍでの平均値）を用いる。偏光度Ｐは、偏光度（％）＝１００×{（平行透過率−直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）}^1/2で求めることができる。偏光板耐久性試験は（１）偏光板のみと（２）偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、２種類の形態で次のように行う。偏光板のみの測定は、２つの偏光子の間に本発明のセルロースアシレートフィルムが挟まれるように組み合わせて直交、同じものを２つ用意し測定する。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を本発明のセルロースアシレートフィルムがガラス側にくるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とする。

［用途（光学補償フィルム）］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムは光学的異方性が小さく、また波長分散が小さいため、余計な異方性を生じず、複屈折を持つ光学異方性層を併用すると光学異方性層の光学性能のみを発現することができる。

したがって本発明のセルロースアシレートフィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合、併用する光学異方性層のＲｅおよびＲｔｈはＲｅ＝０〜２００ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜＝０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学異方性層でも良い。本発明のセルロースアシレートフィルムが使用される液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成しても良い。

前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。

（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐ．１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐ．１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐ．２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。

光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。

（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。

光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。

（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層はポリマーフィルムから形成してもよい。ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル（例、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。

ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸または二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。

（液晶表示装置の構成例）
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

（液晶表示装置の種類）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ．、Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ．、Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとして用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとして特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０乃至１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。

（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護フィルムとしても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、前記偏光板の保護膜と保護膜と液晶セルの間に配置された光学異方性層のレターデーションの値は、液晶層のΔｎ・ｄ（屈折率差×厚み）の値の２倍以下に設定するのが好ましい。またＲｔｈ値の絶対値｜Ｒｔｈ｜は、２５ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以下に設定するのが好ましいため、本発明のセルロースアシレートフィルムが有利に用いられる。

（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとしても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。

（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。

（その他の液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとしても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ９８ Ｄｉｇｅｓｔ，１０８９（１９９８））に記載がある。

（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムも好ましく用いることができる。

まず、本発明の実施例で用いている測定方法について記す。

＜セルロースアシレートの平均分子量Ｍｎ、Ｍｗの測定方法＞
液体クロマト法により、以下の条件で測定した。
溶媒： メチレンクロライド
カラム： 東ソーＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ（東ソー（株）製を２本接続して使用した。）
カラム温度：２９℃
試料濃度： ０．２質量／容量％
流量： ０．８ｍｌ／ｌｍｉｎ
（校正は、標準試料 Ｍｗ＝７７２０００〜６９００迄の６サンプルによる校正曲線を使用した。）

＜セルロースアシレートの６％粘度の測定方法＞
メチレンクロライドとメタノールの質量比率９１対９の混合溶媒にセルロースアシレートを６質量％溶解し、オストワルド粘度計を用いて２５℃における流下時間を測定し、次式により６％粘度を算出する。

６％粘度（ｍＰａ・ｓ）＝流下時間（秒）×粘度計係数

粘度計係数は粘度計較正用標準液を用いて、上記溶液と同様の操作で流下秒数を測定して求める。
ここに、粘度計係数＝標準液の絶対粘度（ｃｐｓ）×溶液の密度（１．２３５ｇ／ｃｍ^３）／標準液の密度（ｇ／ｃｍ^３）／標準液の流下時間（秒）である。

＜セルロースアシレート溶液の貯蔵弾性率の測定方法＞
下記組成の試料溶液を２５℃室温下で作成する。その際１５０ｒｐｍの回転羽を使用して、２時間撹拌する。試料溶液約１ミリリットルをＢｏｈｌｉｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ストレスレオメーター(ＣＶＯ １２０)を用いて粘弾性を測定した。ドープ温度２５℃、周波数１ヘルツで１％の変位を負荷する条件で貯蔵弾性率Ｅ’（２５）（単位：Ｐａ）を測定した。その後試料溶液１２０ｍｌを容量１５０ｍｌの耐圧密閉ステンレス容器に入れ、７０℃の空気恒温槽に３時間入れる。空気恒温槽から取り出した後一晩冷却後、再度試料溶液の貯蔵弾性率Ｅ’（７０）を前記方法で測定する。

＜ろ過閉塞係数測定方法＞
有効面積１２．５ｃｍ²の円板内に直径３．８ｍｍの孔を６１個設けた多孔板に支えられたろ紙（孔径４７μｍ、厚さ１．３２ｍｍ、密度０．３２ｇ／ｍ^３）に、３６℃に保温したセルロースアシレート溶液を７ｍｌ／分の流量でろ過を行い、ろ過圧力が一時的に安定した時から３．５時間ないし４時間圧力上昇を観測した。横軸にろ過時間を取り、縦軸にＰ０／Ｐ^0.64をプロットしたグラフを作成し、そのプロットの直線近似式をもとめた。Ｐ及びＰ０はろ過圧及び初期ろ過圧を表す。
求めた直線の傾きを、ろ過閉塞係数式［−Ｋｓ＝３．５×傾き］に代入してろ過閉塞係数Ｋｓを算出する。なおここで、使用するろ紙の孔径はろ紙のバブルポイント値から計算した値である。また送液にはギアポンプ（川崎重工製ＫＡ１）を使用した。

＜セルロースアシレートフィルムの輝点数測定方法＞
偏光顕微鏡の二枚の偏光板の間に試料フィルムを設置し、二枚の偏光板の遅相軸が互いに直交になるようにする。試料フィルムの２．１６ｍｍ×１．７２ｍｍの範囲を拡大倍率５０倍で観測した画面を記録密度１２８０×１０２４ドットでJPG圧縮記録する。このようにして１フィルム試料当たり６０点の電子写真を撮影する。この写真をパソコン画面で実寸の５０倍画像になるように写真倍率を調整し、画面の白く輝く長軸長が１ｍｍから１０ｍｍの輝点の数を計数する。各フィルム試料６０点づつの輝点数を合計して、各フィルム試料の輝点数とする。

以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。用いたセルロースアシレート（ＣＡ１）〜（ＣＡ８）の置換基と置換度、６％粘度、数平均分子量Ｍｎ、質量平均分子量Ｍｗ及び出発原料は、表１に示した通りである。なお、用いたセルロースアシレートの硫酸残存量は５３ｐｐｍであり、アルカリ土類金属の含有量は８２ｐｐｍであった。更に、加熱溶解したセルロースアシレート溶液の貯蔵弾性率とろ過閉塞係数、及び得られたフィルムの輝点異物数も、併せて表１に示した。

[実施例１]
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。この溶液をギアポンプで熱交換器（ジャケット付きスタチックミキサー）に送り、９０ないし９５℃の温度に１０分間保った後、冷却熱交換器（ジャケット付きスタチックミキサー）にて３０℃に冷却した。この溶液を平均孔径４７μｍのろ紙でろ過した。この時の閉塞係数は２２２／ｍ^３と小さく、目詰まり進行は遅かった。更に孔径１０μｍの金属メッシュフィルターでろ過して、セルロースアセテート溶液（ＬＡ１）を調製した。この液（ＬＡ１）を再びギアポンプで熱交換器（ジャケット付きスタチックミキサー）に送り出し、溶液の温度を８４℃にした後フラッシュ濃縮装置に導入して濃縮した。できたセルロースアシレート溶液（ＬＢ１）の固形分濃度は２３．４質量％であった。従ってセルロースアシレートの濃度は２０．９質量％と算出できる。

＜セルロースアセテート溶液（ＬＡ１）組成＞
セルロースアシレート（ＣＡ１） １００質量部
メチレンクロライド ４３３質量部
エタノール ７５質量部
１−ブタノール ５質量部
光学的異方性を低下する化合物（１１９） １２質量部

（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）２０質量部及びメタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、平均孔径２０μｍの不織布フィルターでろ過し、マット剤溶液（ＬＣ１）を調製した。

＜マット剤溶液（ＬＣ１）組成＞
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １２．０質量部
メチレンクロライド ６８．５質量部
エタノール １１．８質量部
１−ブタノール ０．７質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ１） １１．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記組成の液を作成し、平均孔径４７μｍのろ紙でろ過し、添加剤溶液（ＬＤ１）を調製した。

＜添加剤溶液（ＬＤ１）組成＞
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２） ７．３質量部
メチレンクロライド ５５．３質量部
エタノール ９．５質量部
１−ブタノール ０．６質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ１） １２．８質量部

（本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ１）の作製）
上記セルロースアシレート溶液（ＬＢ１）７６．２質量部、マット剤溶液（ＬＣ１）１．８質量部及び添加剤溶液（ＬＤ１）２．６質量部をそれぞれスタチックミキサーで混合し、−１５℃に冷却したステンレスドラム上に均一に流延した。液温が約−１０℃になるまで冷却後ドラムから剥離し、フィルムをテンター装置に固定した。この際、ドラム速度に比べてテンターの搬送速度を１．０６倍にした。テンター装置における乾燥温度は７０℃から段階的に１３０℃まで変化させた。テンター装置入り口のフィルム幅に対して、出口のフィルム幅を１．０５倍にした。テンター装置を出た後更に１３０℃から１４０℃で乾燥し、巻き取った。このようにして膜厚８２μｍの本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ１）を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．４％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は、流延方向が４．６ＧＰａ、幅方向は４．４ＧＰａであった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

[実施例２]
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物を用いて、実施例１と同様の方法でセルロースアシレート溶液を調製したところ、問題なく溶解、ろ過及び濃縮した。得られたセルロースアシレート溶液（ＬＢ２）の固形分濃度は２２．４質量％であった。従ってセルロースアシレートの濃度は２０．０質量％と算出できる。

＜セルロースアセテート溶液（ＬＡ２）組成＞
セルロースアシレート（ＣＡ２） １００質量部
メチレンクロライド ４３８質量部
メタノール ７０質量部
１−ブタノール ４質量部
光学的異方性を低下する化合物（１１９） １２質量部

（マット剤溶液の調製）
分散液組成を下記に変更したほかは実施例１と同様にして、マット剤溶液（ＬＣ２）を調製した。

＜マット剤溶液（ＬＣ２）組成＞
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １２．０質量部
メチレンクロライド ７６．６質量部
メタノール ３．７質量部
１−ブタノール ０．８質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ２） １１．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記組成の液を作成し、平均孔径４７μｍのろ紙でろ過し、添加剤溶液（ＬＤ２）を調製した。

＜添加剤溶液（ＬＤ２）組成＞
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２） ７．３質量部
メチレンクロライド ５５．２質量部
メタノール ９．６質量部
１−ブタノール ０．６質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ２） １２．８質量部

（本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ２）の作製）
実施例１と同様にして、セルロースアシレート溶液（ＬＢ２）、マット剤溶液（ＬＣ２）及び添加剤溶液（ＬＤ２）から本発明のセルロースエステルフィルムＦ２を得た。膜厚は３９μｍ、巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．９ＧＰａ、幅方向は４．５ＧＰａであった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

[実施例３]
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物を用いて、実施例１と同様の方法でセルロースアシレート溶液を調製したところ、問題なく溶解、ろ過及び濃縮した。得られたセルロースアシレート溶液（ＬＢ３）の固形分濃度は固形分濃度は２３．２質量％であった。従ってセルロースアシレートの濃度は２０．７質量％と算出できる。

＜セルロースアセテート溶液（ＬＡ３）組成＞
セルロースアシレート（ＣＡ３） １００質量部
メチレンクロライド ３９１質量部
メタノール ７０質量部
１−ブタノール １５質量部
光学的異方性を低下する化合物（１１９） １２質量部

（マット剤溶液の調製）
分散液組成を下記に変更したほかは実施例１と同様にして、マット剤溶液（ＬＣ３）を調製した。

＜マット剤溶液（ＬＣ３）組成＞
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １２．０質量部
メチレンクロライド ６７．３質量部
メタノール １２．０質量部
１−ブタノール ２．４質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ３） １１．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記組成の液を作成し、平均孔径４７μｍのろ紙でろ過し、添加剤溶液（ＬＤ３）を調製した。

＜添加剤溶液（ＬＤ３）組成＞
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２） ７．３質量部
メチレンクロライド ５３．８質量部
メタノール ９．７質量部
１−ブタノール ２．０質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ３） １２．８質量部

（本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ３）の作製）
実施例１と同様にして、セルロースアシレート溶液（ＬＢ３）、マット剤溶液（ＬＣ３）及び添加剤溶液（ＬＤ３）から本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ３）を得た。膜厚は８０μｍ、巻き取り時の残留溶媒量は０．４％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．６ＧＰａ、幅方向は４．３ＧＰａであった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

[実施例４]
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物を用いて、実施例１と同様の方法でセルロースアシレート溶液を調製し、加熱溶解及びろ紙ろ過を行った。ろ過閉塞係数は３５３／ｍ³と小さく、目詰まり進行は遅かった。その後実施例１と同様にして濃縮し、再度平均孔径１５μｍ及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターを用いて続けてろ過した。得られたセルロースアシレート溶液（ＬＢ４）の固形分濃度は２４．１質量％であった。従ってセルロースアシレートの濃度は２１．５質量％と算出できる。

＜セルロースアセテート溶液（ＬＡ４）組成＞
セルロースアシレート（ＣＡ４） １００質量部
メチレンクロライド ３９１質量部
メタノール ７０質量部
１−ブタノール １５質量部
光学的異方性を低下する化合物（１１９） １２質量部

（マット剤溶液の調製）
分散液組成を下記に変更したほかは実施例１と同様にして、マット剤溶液（ＬＣ４）を調製した。
＜マット剤溶液（ＬＣ４）組成＞
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １２．０質量部
メチレンクロライド ６７．３質量部
メタノール １２．０質量部
１−ブタノール ２．４質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ４） １１．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記組成の液を作成し、平均孔径４７μｍのろ紙でろ過し、添加剤溶液（ＬＤ４）を調製した。

＜添加剤溶液（ＬＤ４）組成＞
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２） ７．３質量部
メチレンクロライド ５３．８質量部
メタノール ９．７質量部
１−ブタノール ２．０質量部
セルロースアシレート溶液（ＬＡ４） １２．８質量部

（希釈用混合溶剤液の調製）
下記組成の液を作成し、平均孔径１４μｍのろ紙でろ過し、希釈用混合溶剤液（ＬＥ４）を調製した。

＜希釈用混合溶剤液（ＬＥ４）組成＞
メチレンクロライド ８２質量部
メタノール １５質量部
１−ブタノール ３質量部

（本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ４）の作製）
セルロースアシレート溶液（ＬＢ４）８０質量部及び添加剤溶液（ＬＤ４）２．６質量部の割合で送液し、スタチックミキサーで混合した。この混合液を乾燥後のフィルム厚さが７４μｍになるように、３層重層流延用加圧ダイの中央部のスリットに送液した。一方同時に、セルロースアシレート溶液（ＬＢ４）８０質量部、マット剤溶液（ＬＣ４）２．４質量部、添加剤溶液（ＬＤ４）２．６質量部及び稀釈用混合溶剤液（ＬＥ４）５質量部の割合で送液し、スタチックミキサーで混合した。この混合液を乾燥後のフィルム厚さが３μｍになるように、３層重層流延用加圧ダイの両端部のスリットにそれぞれ送液した。このようにして３層重層させて、−１５℃に冷却したステンレスドラム上に均一に流延した。液温が約−１０℃になるまで冷却後ドラムから剥離し、フィルムをテンター装置に固定した。この際、ドラム速度に比べてテンターの搬送速度を１．１倍にした。テンター装置における乾燥温度は７０℃から段階的に１３０℃まで変化させた。テンター装置入り口のフィルム幅に対して、出口のフィルム幅を１．０５倍にした。テンター装置を出た後更に１３０℃から１４０℃で乾燥し、巻き取った。本発明のセルロースエステルフィルムＦ４を得た。膜厚は８０．２μｍ、巻き取り時の残留溶媒量は０．４％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．８ＧＰａ、幅方向は４．３ＧＰａであった。輝点異物の数は５２以下と少なかった。

［実施例５］
実施例３のセルロースアシレート（ＣＡ３）の代わりにセルロースアシレート（ＣＡ５）を用いるほかは、実施例３と同じようにして本発明のフィルム（Ｆ５）を作成した。フィルム（Ｆ５）は、Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．６ＧＰａ、幅方向は４．４ＧＰａであった。透湿率も４００以下で優れているが、流延方向に筋状のむらが生じていた。

［実施例６］
実施例３のセルロースアシレート（ＣＡ３）の代わりにセルロースアシレート（ＣＡ６）を用いるほかは、実施例３と同じようにして本発明のフィルム（Ｆ６）を作成した。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．６ＧＰａ、幅方向は４．４ＧＰａであった。透湿率も４００以下で優れているが、ここで調製したセルロースアシレート溶液（ＬＡ６）を平均孔径４７μｍのろ紙でろ過したが、その時の閉塞係数は１２３０と大きく、目詰まりが早かった。また、フィルム（Ｆ６）は輝点異物の数が２００以上であった。

［実施例７］
実施例３のセルロースアシレート（ＣＡ３）の代わりにセルロースアシレート（ＣＡ７）を用いるほかは、実施例３と同じようにして本発明のフィルム（Ｆ７）を作成した。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．６ＧＰａ、幅方向は４．４ＧＰａであった。透湿率も４００以下で優れているが、ここで調製したセルロースアシレート溶液（ＬＡ７）を平均孔径１４μｍのろ紙でろ過したが、その時の閉塞係数は１３７０と大きく、目詰まりが早かった。また、フィルム（Ｆ７）は輝点異物の数が２００以上であった。

［実施例８］
（セルロースアシレート溶液の調製）
実施例２と同様の処方（セルロースアセテート溶液ＬＡ２組成）にて組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。この溶液をギアポンプで熱交換器（ジャケット付きスタチックミキサー）に送り、１３０ないし１６０℃の温度に１０分間保った後、冷却熱交換器（ジャケット付きスタチックミキサー）にて３０℃に冷却した。この溶液を平均孔径３４μｍのろ紙でろ過した。この時の閉塞係数は１９５／ｍ³と小さく、目詰まり進行は遅かった。得られたセルロースアシレート溶液を再びギアポンプで熱交換器（ジャケット付きスタチックミキサー）に送り出し、溶液の温度を８６℃にした後フラッシュ濃縮装置に導入して濃縮し、再度孔径１０μｍの金属メッシュフィルターでろ過した。得られたセルロースアシレート溶液（ＬＢ２−２）の固形分濃度は２２．４質量％であった。従ってセルロースアシレートの濃度は２０．０質量％と算出できる。

（本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ８）の作製）
実施例１と同様にして、セルロースアシレート溶液（ＬＢ２−２）、マット剤溶液（ＬＣ２）及び添加剤溶液（ＬＤ２）から本発明のセルロースエステルフィルムＦ８を得た。膜厚は４０μｍ、巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．６ＧＰａ、幅方向は４．３ＧＰａであった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

［実施例９］
（セルロースアシレート溶液の調製）
実施例３と同様の処方（セルロースアセテート溶液ＬＡ３組成）にて組成物をガラス製耐圧容器に入れ、撹拌しながら２４５０ＭＨｚのマイクロ波発生装置により、２０分間照射し１４０℃まで加熱した。この温度に２分間保った後、冷水を用いて３０℃に冷却し、平均孔径３４μｍのろ紙でろ過してセルロースアシレート溶液を得た。その後実施例１と同様にして濃縮し、セルロースアシレート溶液（ＬＢ３−２）を得た。ＬＢ３−２の固形分濃度は２３．２質量％であった。従ってセルロースアシレートの濃度は２０．７質量％と算出できる。

（本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ９）の作製）
上記セルロースアシレート溶液（ＬＢ３−２）７６．２質量部、マット剤溶液（ＬＣ３）１．８質量部及び添加剤溶液（ＬＤ３）２．６質量部をミキサータンクに投入して混合した他は実施例１と同様にして、本発明のセルロースエステルフィルム（Ｆ９）を得た。膜厚は８０μｍ、巻き取り時の残留溶媒量は０．４％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．９ＧＰａ、幅方向は４．５ＧＰａであった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

［比較例１］
実施例３のセルロースアシレート（ＣＡ３）の代わりにセルロースアシレート（ＣＡ８）を用いるほかは、実施例３と同じようにして比較例のセルロースアシレート溶液（ＬＡ８）を調製した。

＜セルロースアセテート溶液（ＬＡ８）組成＞
セルロースアシレート（ＣＡ８） １００質量部
メチレンクロライド ３９１質量部
メタノール ７０質量部
１−ブタノール １５質量部
光学的異方性を低下する化合物（１１９） １２質量部

この溶液（ＬＡ８）を平均孔径４７μｍのろ紙でろ過したところ、ろ圧が高くろ過できなかった。

［比較例２］
実施例１で調製したセルロースアシレート溶液（ＬＡ１）７６．２質量部、マット剤溶液（ＬＣ１）１．６質量部及び添加剤溶液（ＬＤ１）２．３質量部をそれぞれスタチックミキサーで混合し、表面温度２０℃のステンレスバンド上に均一に流延した。残留溶剤分が６０から８０％になるまで乾燥後ステンレスバンドから剥離し、フィルムをテンター装置に固定した。この際、バンド速度に比べてテンターの搬送速度を１．０２倍にした。テンター装置における乾燥温度は７０℃から段階的に１３０℃まで変化させた。テンター装置入り口のフィルム幅に対して、出口のフィルム幅を１．０１倍にした。テンター装置を出た後更に１３０℃から１４０℃で乾燥し、巻き取った。このようにして膜厚８１μｍの比較例のセルロースエステルフィルム（Ｆ１０）を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．４％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．０ＧＰａ、幅方向は３．９ＧＰａと、実施例の冷却ゲル化流延フィルムに比べて小さい値であった。また、透湿率も５００を超え、大きかった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

［比較例３］
実施例２で調製したセルロースアシレート溶液（ＬＡ２）、マット剤溶液（ＬＣ２）及び添加剤溶液（ＬＤ２）を用いるほかは比較例２と同様にして、膜厚８０μｍの比較例のセルロースエステルフィルム（Ｆ１１）を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．４％であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。Ｒｅレターデーションは１．５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈレターデーションは±５ｎｍの間であった。弾性率は流延方向が４．１ＧＰａ、幅方向は３．９ＧＰａと、実施例の冷却ゲル化流延フィルムに比べて小さい値であった。また、透湿率も５００を超え、大きかった。輝点異物の数は４０以下と少なかった。

[実施例９]
（偏光板の作製）
実施例１で得た本発明のセルロースアシレートフィルム（Ｆ１）を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、表面をケン化したセルロースアシレートフィルム（Ｆ１０１）を得た。市販のセルロースアセテートフィルムＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製）にも同様の表面ケン化処理を行い、フィルム（Ｆ１００）を作成した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光膜の片面にフィルム（Ｆ１０１）を、反対面にフィルム（Ｆ１００）を貼り合わせ、偏光板（Ｐ１）を得た。この際フィルム（Ｆ１００）及び（Ｆ１０１）の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付けた。

同様にして本発明の実施例２〜４で作成したセルロースアシレートフィルム（Ｆ２）〜（Ｆ４）、（Ｆ８）、及び（Ｆ９）についても、それぞれ偏光板（Ｐ２）〜（Ｐ４）、（Ｐ８）、及び（Ｐ９）を作製した。本発明のセルロースアシレートフィルムはいずれも延伸したポリビニルアルコールとの貼合性は十分であり、優れた偏光板加工適性を有していた。

［実施例１０］
（液晶表示装置への組込み）
＜対向偏光板の作製＞
偏光膜の両面に貼りあわせるフィルムを両方共に（Ｆ１００）（市販のセルロースアセテートフィルムをケン化したもの）にしたほかは、実施例５と同じようにして偏光板（Ｐ０）を作製した。

＜ＩＰＳモード液晶セル１の作製＞
一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。

作製したＩＰＳモード液晶セルのバックライト側に、実施例９で作成した本発明の偏光板（Ｐ１）〜（Ｐ９）を、その吸収軸が液晶セルのラビング方向と平行になるよう、且つ本発明のセルロースアシレートフィルムが液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、ＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に偏光板Ｐ０をクロスニコルの配置で貼り付けた。
このように作製した液晶表示装置の黒の色味を極角６０度における全方位角方向で観察したが、色味変化が殆ど感じられなかった。また視認できる輝点異物もみつからなかった。

Claims (14)

1. アシル基置換度が２．８５から３．００のセルロースアシレートを有機溶剤に溶解した溶液を無端金属支持体上に流延し、０℃〜−５０℃に冷却してゲル化させた後該金属支持体から剥離し乾燥することにより製膜することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
2. セルロースアシレートを１８〜２４質量％含有するセルロースアシレート溶液を使用して製膜することを特徴とする請求項１記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
3. ７０℃以上の温度でセルロースアシレートを有機溶剤に溶解することを特徴とする請求項1または２に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
4. インラインで加熱溶解することを特徴とする、請求項３のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
5. マイクロ波を用いて加熱溶解することを特徴とする、請求項３あるいは４のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
6. ６％粘度値を２５℃で溶解したときの１７質量％溶液の貯蔵弾性率Ｅ’（２５）値で割ったパラメータが２．５〜１４．０であるセルロースアシレートを使用することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
7. アシル基がアセチル基であるセルロースアシレートを使用することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法により製造されたセルロースアシレートフィルム。
9. 膜厚方向のレターデーションＲｔｈの絶対値が２５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載のセルロースアシレートフィルム。
10. 弾性率が４．２ＧＰａ〜６．０ＧＰａであることを特徴とする請求項８または９に記載のセルロースアシレートフィルム。
11. 厚さを８０μｍに換算したときの透湿率が３５０〜４５０ｇ／ｍ²／ｄａｙであることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
12. 請求項８〜１１のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを含有することを特徴とする光学補償フィルム。
13. 請求項８〜１１のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護膜として用いたことを特徴とする偏光板。
14. 請求項８〜１１のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム、請求項１２記載の光学補償フィルム、または請求項１３に記載の偏光板を少なくとも１枚用いたことを特徴とする液晶表示装置。