JP2007019018A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

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Abstract

【課題】新しい隔壁材料を用いることで、優れた特性の隔壁を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
また、新しい隔壁材料を用いることで、環境への負担が少ない隔壁を備えるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１及び第２基板１００，３００の間の放電セルを分離する隔壁２００を含み、前記隔壁２００の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末及び前記マトリックスガラス粉末に対して約５〜４５ｗｔ％のＮｏｎ−Ｐｂ系充填剤を含むプラズマディスプレイパネルを構成する。
【選択図】図２

Description

本発明は、平板ディスプレイ装置に関するもので、詳しくは、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関するものである。
一般に、プラズマディスプレイパネルは、ガス放電によって発生する紫外線が蛍光体を励起させることで、蛍光体から可視光線が発生する現象を用いた表示装置である。
プラズマディスプレイパネルは、マトリックス状に配列された放電セルからなり、この放電セルは、図１に示すように、画像の表示面である上部基板１と、隔壁２によって上部基板１と平行に配置される下部基板３と、から構成される。
上部基板１上には、透明電極４ａ及びバス電極４ｂからなるサステイン電極４、上部誘電体層６及び保護膜８が順次形成され、下部基板３上には、サステイン電極４と放電を起こすためのアドレス電極５及び下部誘電体層７が順次形成される。
また、下部誘電体層７上には、固有色の可視光線を発生するための蛍光体９が隔壁２にわたって塗布される。
この蛍光体９は、ガス放電時に発生する短波長の真空紫外線によって励起されると、赤色、緑色及び青色の可視光を発生することになる。
主に、隔壁２には、ＰｂＯ系のマトリックスガラスに酸化物充填剤を混合したものが用いられる。
このとき、フォトレジストを使用しない感光性隔壁の場合、短波長の紫外線が厚さ約２００μｍの隔壁層を完全に透過しなければならない。
しかしながら、上記のプラズマディスプレイパネルにおいては、感光性隔壁内にＰｂＯなどの重金属が含まれる場合、高い屈折率及び光散乱によって紫外線透過度が減少することで、現像性及び付着性が低下するという問題点があった。
また、既存の隔壁には、隔壁の衝撃強度及び反射率を向上するための酸化物充填剤が含まれるが、この充填剤も、紫外線に対して大きな散乱特性を有するので、感光性隔壁材料として好ましくないという問題点があった。
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、新しい隔壁材料を用いることで、優れた特性の隔壁を備えるプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、新しい隔壁材料を用いることで、環境への負担が少ない隔壁を備えるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、第１及び第２基板の間の放電セルを分離する隔壁を含み、隔壁の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末及び前記マトリックスガラス粉末に対して約５〜４５ｗｔ％のＮｏｎ−Ｐｂ系充填剤を含む。
ここで、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末及び充填剤のうち少なくともいずれか一つは、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ）、ランタン（Ｌａ）、カリウム（Ｋ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、アンチモン（Ｓｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）からなる群から選択された少なくともいずれか一つの物質の酸化物を含むか、または、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系、ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系、Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系及びＢ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系のうちいずれか一つである。
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルにおいて、隔壁の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末に紫外線波長帯以下の粒径を有する成分の充填剤を含むこともある。
本発明の他の目的、特徴及び利点は、図面に基づいた実施形態の詳細な説明によって明らかになるだろう。
本発明に係るプラズマディスプレイパネルには、次のような効果がある。
本発明の隔壁に用いられた材料が良好な紫外線透過率を有するので、隔壁の露光及び現像工程後に製作された隔壁の強度が優秀であり、かつ、基板に対する付着力が良好であることから、プラズマディスプレイパネルの特性を向上できるという効果がある。
また、本発明の隔壁に用いられた材料がＮｏｎ―ＰｂＯなどの環境への負担が少ない材料であるので、環境汚染を予防できるという効果がある。
以下、本発明の好適な実施形態について、添付の図面に基づいて詳細に説明する
図２は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルを示した図で、図２に示すように、本発明は、上部基板１００と下部基板３００とが対向して配置される。
上部基板１００の表面のうち下部基板３００と対向する表面上には、透明電極４００ａ及びバス電極４００ｂから構成された維持電極対４００、上部誘電体層６００及び保護膜８００が順次形成される。
また、下部基板３００上には、維持電極対４００と放電を起こすためのアドレス電極５００、下部誘電体層７００及び隔壁２００が順次形成される。
ここで、隔壁２００は、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ）、ランタン（Ｌａ）、カリウム（Ｋ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、アンチモン（Ｓｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）からなる群から選択された少なくともいずれか一つの物質の酸化物を含む。
すなわち、隔壁２００は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏなどを含むＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系からなるか、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなどを含むＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系からなる。
また、隔壁２００は、Ｐ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどを含むＰ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系からなるか、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどを含むＢ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系からなる。
ここで、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系の組成は、２０％≦ＳｉＯ２≦４５％、２０％≦Ａｌ２Ｏ３≦４５％、５％≦ＭｇＯ≦１５％、５％≦ＢａＯ≦１５％、２％≦ＣａＯ≦５％、０％＜ＺｎＯ≦１０％、０％＜ＳｒＯ≦５％、０％＜ＺｒＯ２≦５％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦５％であることが好ましく、ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系の組成は、５０％≦ＳｉＯ２≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦１０％、０％＜ＭｇＯ≦２％、２％≦Ｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜ＣａＯ≦３％、０％＜Ｆｅ２Ｏ３≦５％、２％≦ＺｎＯ≦５％、５％≦Ｎａ２Ｏ≦１５％、０％＜Ｋ２Ｏ≦５％であることが好ましい。
また、Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系の組成は、５０％≦Ｐ２Ｏ５≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦２０％、０％＜ＺｎＯ≦２％、２％≦Ｓｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜Ｂｉ２Ｏ３≦３％、０％＜ＳｒＯ≦３％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦３％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることが好ましく、Ｂ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系の組成は、２０％≦Ｂ２Ｏ３≦４０％、１０％≦ＺｎＯ≦３５％、１０％≦Ｌａ２Ｏ３≦３０％、０％＜ＭｇＯ≦７％、０％＜ＣａＯ≦９％、０％＜ＳｒＯ≦４％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦２％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることが好ましい。
本発明で用いられる隔壁２００においては、紫外線の屈折及び散乱を最小化するために、重金属成分を除去または最小化すべきである。
また、本発明の隔壁２００においてＳｉＯ２の含量を増加させると、紫外線透過度は増加するが、熱膨張係数の過度な減少及び焼成温度の上昇などが発生するので、要求特性によって含量を適切に制御すべきである。
本発明の隔壁２００としてＰ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系を用いる場合、組成の微細な変化によって結晶化が発生し、高い熱膨張係数によって亀裂現象が発生するので、組成設計時に注意を要する。
また、本発明の隔壁２００としてＢ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系を用いる場合、水分に対して非常に脆弱な特性を示すので、粉末加工時に使用可能な乾式法を適用することが好ましい。
一方、本発明の隔壁２００は、マトリックスガラス粉末に充填剤粉末を混合した物質からなる。
ここで、マトリックスガラス粉末に対する充填剤粉末の含量は、約５％〜４５％の範囲にすることが好ましい。
すなわち、隔壁２００の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス及びマトリックスガラスに対して約５〜４５ｗｔ％のＮｏｎ−Ｐｂ系充填剤を含んでいる。
充填剤粉末は、隔壁の強度を高めるとともに、紫外線の散乱を最小化する役割をする。
ここで、充填剤粉末の大きさは、隔壁の紫外線透過度を向上するために、紫外線波長帯より大きくないナノサイズ（ナノオーダの大きさ）であることが好ましい。
すなわち、充填剤粉末がナノサイズを有するので、マイクロ大きさのガラス粉末の間に充填剤粉末が存在することで、緻密な結晶化ガラスを形成する。
したがって、隔壁２００は、微細な充填剤によって外部の衝撃に強くなり、紫外線散乱の最小化によって紫外線透過度が向上する。
このように、隔壁２００の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラスに紫外線波長帯以下の粒径を有する成分の充填剤を含むこともある。
本発明の隔壁２００は、マトリックスガラス粉末と充填剤粉末との混合物を含み、前記マトリックスガラス粉末及び充填剤粉末のうち少なくともいずれか一つは、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ）、ランタン（Ｌａ）、カリウム（Ｋ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、アンチモン（Ｓｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）からなる群から選択された少なくともいずれか一つの物質の酸化物を含む。
ここで、マトリックスガラス粉末及び充填剤粉末のうち少なくともいずれか一つは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏなどを含むＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系からなる。
ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系の組成は、２０％≦ＳｉＯ２≦４５％、２０％≦Ａｌ２Ｏ３≦４５％、５％≦ＭｇＯ≦１５％、５％≦ＢａＯ≦１５％、２％≦ＣａＯ≦５％、０％＜ＺｎＯ≦１０％、０％＜ＳｒＯ≦５、０％＜ＺｒＯ２≦５％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦５％であることが好ましい。
また、マトリックスガラス粉末及び充填剤粉末のうち少なくともいずれか一つは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなどを含むＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系からなる。
ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系の組成は、５０％≦ＳｉＯ２≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦１０％、０％＜ＭｇＯ≦２％、２％≦Ｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜ＣａＯ≦３％、０％＜Ｆｅ２Ｏ３≦５％、２％≦ＺｎＯ≦５％、５％≦Ｎａ２Ｏ≦１５％、０％＜Ｋ２Ｏ≦５％であることが好ましい。
また、マトリックスガラス粉末及び充填剤粉末のうち少なくともいずれか一つは、Ｐ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどを含むＰ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系からなる。
Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系の組成は、５０％≦Ｐ２Ｏ５≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦２０％、０％＜ＺｎＯ≦２％、２％≦Ｓｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜Ｂｉ２Ｏ３≦３％、０％＜ＳｒＯ≦３％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦３％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることが好ましい。
また、マトリックスガラス粉末及び充填剤粉末のうち少なくともいずれか一つは、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどを含むＢ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系からなる。
Ｂ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系の組成は、２０％≦Ｂ２Ｏ３≦４０％、１０％≦ＺｎＯ≦３５％、１０％≦Ｌａ２Ｏ３≦３０％、０％＜ＭｇＯ≦７％、０％＜ＣａＯ≦９％、０％＜ＳｒＯ≦４％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦２％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることが好ましい。
そして、蛍光体９００は、下部誘電体層７００の上面及び隔壁２００の側面に形成される。
以下、上記のように構成された本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する。
図３Ａ乃至図３Ｆは、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した図である。
まず、図３Ａに示すように、下部基板３００の発光領域にアドレス電極５００を形成する。
ここで、アドレス電極５００は、銀（Ａｇ）、または、金属がコーティングされた銀などからなるか、伝導性金属のうちいずれか一つの物質または二つ以上の物質の化合物からなる。
次いで、図３Ｂに示すように、アドレス電極５００を含む下部基板３００の非発光領域及び発光領域上に、下部誘電体層７００を形成する。
ここで、下部誘電体層７００は、約２０μｍ程度の厚さで形成する。
次いで、図３Ｃに示すように、下部誘電体層７００上に隔壁ペースト層２００ａを形成する。
ここで、隔壁ペースト層２００ａは、マトリックスガラス粉末に充填剤などを混合した後、この混合された粉末を再び有機溶媒に混合して製作する。
マトリックスガラス粉末及び充填剤のうち少なくともいずれか一つは、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ）、ランタン（Ｌａ）、カリウム（Ｋ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、アンチモン（Ｓｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）からなる群から選択された少なくともいずれか一つの物質の酸化物である。
ここで、マトリックスガラス粉末及び充填剤粉末のうち少なくともいずれか一つは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏなどを含むＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなどを含むＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系、Ｐ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどを含むＰ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどを含むＢ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系などである。
このとき、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系の組成は、２０％≦ＳｉＯ２≦４５％、２０％≦Ａｌ２Ｏ３≦４５％、５％≦ＭｇＯ≦１５％、５％≦ＢａＯ≦１５％、２％≦ＣａＯ≦５％、０％＜ＺｎＯ≦１０％、０％＜ＳｒＯ≦５、０％＜ＺｒＯ２≦５％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦５％であることが好ましく、ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系の組成は、５０％≦ＳｉＯ２≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦１０％、０％＜ＭｇＯ≦２％、２％≦Ｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜ＣａＯ≦３％、０％＜Ｆｅ２Ｏ３≦５％、２％≦ＺｎＯ≦５％、５％≦Ｎａ２Ｏ≦１５％、０％＜Ｋ２Ｏ≦５％であることが好ましく、Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系の組成は、５０％≦Ｐ２Ｏ５≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦２０％、０％＜ＺｎＯ≦２％、２％≦Ｓｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜Ｂｉ２Ｏ３≦３％、０％＜ＳｒＯ≦３％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦３％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることが好ましく、Ｂ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系の組成は、２０％≦Ｂ２Ｏ３≦４０％、１０％≦ＺｎＯ≦３５％、１０％≦Ｌａ２Ｏ３≦３０％、０％＜ＭｇＯ≦７％、０％＜ＣａＯ≦９％、０％＜ＳｒＯ≦４％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦２％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることが好ましい。
そして、隔壁ペースト層２００ａの厚さは、約９０〜１２０μｍ程度であることが好ましい。
次いで、図３Ｄに示すように、マスクを用いて所定領域の隔壁ペースト層２００ａを紫外線に露出させる。
次いで、図３Ｅに示すように、紫外線に露出されない隔壁ペースト層２００ａを現像して除去した後、残っている隔壁ペースト層２００ａを焼成することで隔壁２００を形成する。
ここで、本発明の隔壁２００に用いられた物質は、紫外線透過率が良好であるので、隔壁２００は、露光及び現像工程後にも、硬くかつ付着力に優れており、プラズマディスプレイパネルの特性が向上する。
ここで、隔壁ペースト層２００ａの焼成温度は、約５５０〜６００℃にすることが好ましい。
次いで、図３Ｆに示すように、下部誘電体層７００の上面及び隔壁２００の側面に蛍光体９００を形成した後、サステイン電極４００、上部誘電体層６００及び保護膜８００が形成された上部基板１００を隔壁２００上に合着することで、プラズマディスプレイパネルを製作する。
以上説明した内容を通して、当業者であれば、本発明の技術思想から逸脱しない範囲で多様な変更及び修正が可能である。
したがって、本発明の技術的範囲は、上記の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって定められるべきである。
一般的なプラズマディスプレイパネルを示した図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルを示した図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した工程断面図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した工程断面図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した工程断面図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した工程断面図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した工程断面図である。 本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程を示した工程断面図である。
符号の説明
１００ 上部基板
２００ 隔壁
３００ 下部基板
４００ 維持電極対
５００ アドレス電極
６００ 上部誘電体層
７００ 下部誘電体層
８００ 保護膜
９００ 蛍光体

Claims (11)

  1. 第１及び第２基板の間の放電セルを分離する隔壁を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、
    隔壁の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末及び前記マトリックスガラス粉末に対して約５〜４５ｗｔ％のＮｏｎ−Ｐｂ系充填剤を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
  2. 前記Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末及び充填剤のうち少なくともいずれか一つは、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ）、ランタン（Ｌａ）、カリウム（Ｋ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、アンチモン（Ｓｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）からなる群から選択された少なくともいずれか一つの物質の酸化物を含むか、または、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系、ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系、Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系及びＢ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系のうちいずれか一つであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
  3. 前記ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏを含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
  4. 前記ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ系の組成は、２０％≦ＳｉＯ２≦４５％、２０％≦Ａｌ２Ｏ３≦４５％、５％≦ＭｇＯ≦１５％、５％≦ＢａＯ≦１５％、２％≦ＣａＯ≦５％、０％＜ＺｎＯ≦１０％、０％＜ＳｒＯ≦５％、０％＜ＺｒＯ２≦５％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦５％であることを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
  5. 前記ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏを含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
  6. 前記ＳｉＯ２―Ｂ２Ｏ３―Ｎａ２Ｏ系の組成は、５０％≦ＳｉＯ２≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦１０％、０％＜ＭｇＯ≦２％、２％≦Ｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜ＣａＯ≦３％、０％＜Ｆｅ２Ｏ３≦５％、２％≦ＺｎＯ≦５％、５％≦Ｎａ２Ｏ≦１５％、０％＜Ｋ２Ｏ≦５％であることを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
  7. 前記Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系は、Ｐ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏを含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
  8. 前記Ｐ２Ｏ５―ＺｎＯ―Ｂｉ２Ｏ３系の組成は、５０％≦Ｐ２Ｏ５≦７５％、０％＜Ａｌ２Ｏ３≦２０％、０％＜ＺｎＯ≦２％、２％≦Ｓｂ２Ｏ３≦１５％、０％＜Ｂｉ２Ｏ３≦３％、０％＜ＳｒＯ≦３％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦３％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
  9. 前記Ｂ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系は、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＺｒＯ２、Ｅｕ２Ｏ、Ｎａ２Ｏを含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
  10. 前記Ｂ２Ｏ３―ＺｎＯ―Ｌａ２Ｏ３系の組成は、２０％≦Ｂ２Ｏ３≦４０％、１０％≦ＺｎＯ≦３５％、１０％≦Ｌａ２Ｏ３≦３０％、０％＜ＭｇＯ≦７％、０％＜ＣａＯ≦９％、０％＜ＳｒＯ≦４％、０％＜ＺｒＯ２≦２％、０％＜Ｅｕ２Ｏ≦２％、０％＜Ｎａ２Ｏ≦２％であることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
  11. 第１及び第２基板の間の放電セルを分離する隔壁を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記隔壁の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末に紫外線波長帯以下の粒径を有する成分の充填剤を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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