JP2007142091A - レーザ装置、レーザ露光装置及び写真処理装置 - Google Patents

レーザ装置、レーザ露光装置及び写真処理装置 Download PDF

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【課題】本発明は、所望波長のレーザ光をレーザ光源から射出させることができ、歩留まりを向上することができるレーザ装置を提供し、そして、該レーザ装置を用いたレーザ露光装置及び写真処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る、レーザ光を発光するレーザ光源装置20と、コアの屈折率が周期的に変化するグレーティング部を備える光ファイバから成り、該レーザ光源装置20から射出されたレーザ光の一部を該グレーティング部のブラッグ反射で該レーザ光源装置20に反射する光ファイバグレーティング31と、該光ファイバグレーティング31から射出されるレーザ光が入射され、該入射されたレーザ光を第2高調波に変換して射出する波長変換部40を備えるレーザ装置102において、光ファイバグレーティング31の長尺方向に沿った圧縮又は伸張する力を光ファイバグレーティング31に支持部材32によって作用させる。
【選択図】図3

Description

本発明は、所望波長のレーザ光をレーザ光源から射出させることができ、歩留まりを向上することができるレーザ装置に関する。そして、本発明は、該レーザ装置を用いたレーザ露光装置及び写真処理装置に関する。
近年、レーザ露光装置を露光エンジンとして採用する写真処理装置が知られている。この写真処理装置では、カラー画像を生成するために、光の色の三原色である赤色(R)、緑色(G)及び青色(B)の各レーザ光をそれぞれ生成して射出する3個のレーザ装置が必要である。赤色や近赤外のレーザ光を発光する半導体レーザは、比較的安価であり、入手容易である等の理由から、赤色のレーザ光を射出するレーザ装置には、赤色のレーザ光を発光する半導体レーザがそのまま光源として採用され、緑色や青色のレーザ光を射出するレーザ装置には、近赤外のレーザ光を発光する半導体レーザ、及び、近赤外のレーザ光から第2高調波の緑色や青色のレーザ光を生成するSHG(second harmonic generation)素子が採用されている。例えば、波長530nmの緑色のレーザ光は、半導体レーザで波長1060nmのレーザ光を発光させ、SHG素子でこのレーザ光から波長530nmの第2高調波のレーザ光を生成することで得ている。
この半導体レーザは、通常、複数のモードを含むレーザ光を発光するため、主縦モードの波長が所望の波長となるように設計されたとしても、所望の波長以外の波長でも発光し得る。このため、半導体レーザの射出側には、通常、光ファイバグレーティング(fiber bragg grating、以下、「FBG」と略記する。)が配置され、レーザ光の波長を安定化している(例えば、特許文献1参照)。このFBGは、コアの屈折率が周期的に変化するグレーティング部を備える光ファイバであり、グレーティング長(グレーティング部の長さ、周期的に屈折率が変化しているコアの長さ)、周期、屈折率の変化量を変化させることにより、ブラッグ波長の光を所定の反射率で反射する光学部品である。このFBGのブラッグ波長を所望の主縦モードの波長に合わせることにより、半導体レーザには、その射出したレーザ光における主縦モードのレーザ光がFBGで反射されて戻ってくるため、半導体レーザでは、主縦モードのレーザ光が増幅される結果、主縦モードが他の縦モードの光強度に較べて著しく大きくなる。このため、半導体レーザは、他の縦モードに較べて著しく大きな光強度の主縦モードを射出するようになり、半導体レーザから射出されるレーザ光の波長が安定化する。このようにFBGは、半導体レーザの外部共振器として機能する。
そして、近年では、SHG素子は、バルク型に較べて変換効率が高いことから、擬似位相整合(quasi-phase matching、以下、「QPM」と略記する。)の技術を生かしたQPM−SHG素子が採用されている。このQPM−SHG素子としては、例えば、周期分極反転ニオブ酸リチウム(periodically poled LiNbO3、以下、「PPLN」と略記する。)素子がある。このPPLN素子は、ニオブ酸リチウム(LiNbO)から成る基板の主面に一方向へ形成される光導波路を備えると共に、この光導波路に、基板の厚み方向への複数の分極領域が光導波路方向に周期的にかつ交互に逆極性で形成されることで構成される。
特開2005−050843号公報
ところで、このFBGは、例えば、コア中にゲルマニウム元素(Ge)を添加した光ファイバの側面に紫外光干渉パターンを投影してその干渉パターンの照度分布に対応した光化学変化をコア中に誘起させることによってグレーティングを形成することにより、量産されるものである。この量産された個々のFBGには、ばらつき(個体差)が生じる可能性がある。このため、レーザ光源にFBGを組み付けてレーザ装置を製造すると、所望波長のレーザ光が得られないレーザ装置が製造される可能性があり、レーザ装置の歩留まりが悪くなるという不都合があった。
また、緑色及び青色の各レーザ装置は、SHG素子、特にQPM−SHG素子が用いられるが、このQPM−SHG素子は、周期構造を基本としているため、波長依存性が高く、基本光(第2高調波に変換される元の光)の波長変動に対する出力変動が大きい。例えば、基本光における波長変動の許容範囲は、約0.1nm〜0.2nmである。このため、レーザ装置から所望光強度のレーザ光を射出させるためには、FBGを介してレーザ光源から射出されるレーザ光の波長は、精度よく所望の波長に調整される必要がある。
本発明は、上述の事情に鑑みて為された発明であり、所望波長のレーザ光をレーザ光源から射出させることができ、歩留まりを向上することができるレーザ装置を提供することを目的とする。そして、本発明は、このレーザ装置を用いたレーザ露光装置及び写真処理装置を提供することを目的とする。
本発明者は、種々検討した結果、上記目的は、以下の本発明により達成されることを見出した。即ち、本発明の一態様では、レーザ光を発光するレーザ光源と、コアの屈折率が周期的に変化するグレーティング部を備える光ファイバから成り、該レーザ光源から射出されたレーザ光の一部を該グレーティング部のブラッグ反射で該レーザ光源に反射する光ファイバグレーティングと、該光ファイバグレーティングから射出されるレーザ光が入射され、該入射されたレーザ光を第2高調波に変換して射出する波長変換素子を備えるレーザ装置において、前記光ファイバグレーティングの長尺方向に沿った圧縮又は伸張する力を前記光ファイバグレーティングに作用させる力作用部を備えることを特徴とする。
光ファイバグレーティングの反射波長λは、neffをコアの実効屈折率とし、Λをグレーティング周期(グレーティングの間隔(ピッチ))とすると、式1により表される。
λ=2×neff×Λ ・・・ 式1
このため、この構成によれば、光ファイバグレーティングの長尺方向に沿った圧縮する力を光ファイバグレーティングに力作用部によって作用させるとグレーティング周期Λが短くなる結果、反射波長λが短波長側にシフトする一方、光ファイバグレーティングの長尺方向に沿った伸張する力を光ファイバグレーティングに力作用部によって作用させるとグレーティング周期Λが長くなる結果、反射波長λが長波長側にシフトする。このように、光ファイバグレーティングの反射波長λを力作用部によって調整することができるので、レーザ光源は、所望波長のレーザ光を射出することができる。このため、波長変換素子は、所望波長のレーザ光が入射されるので、所望の変換効率で基本光のレーザ光を第2高調波のレーザ光に変換することができ、所望の光強度のレーザ光を射出することができる。この結果、レーザ装置の歩留まりが向上する。
また、上述のレーザ装置おいて、前記力作用部は、前記光ファイバグレーティングにおける前記グレーティング部に対する入射側の光ファイバ及び射出側の光ファイバのそれぞれを固定する互いに所定の間隔を空けて対向する1対の固定部を備えて前記光ファイバグレーティングを支持すると共に、前記1対の固定部の少なくとも一方が前記光ファイバグレーティングの長尺方向に変形可能である支持部材であることを特徴とする。
この構成によれば、光ファイバグレーティングの長尺方向に沿った圧縮又は伸張する力を光ファイバグレーティングに作用させるにあたり、光ファイバグレーティングを支持する1対の固定部の少なくとも一方を光ファイバグレーティングの長尺方向に変形可能とするという簡単な構成で達成することができる。
そして、本発明の他の一態様では、赤色、緑色及び青色の各レーザ光をそれぞれ生成して射出する3つのレーザ装置と、前記3つのレーザ装置のそれぞれから射出される赤色、緑色及び青色の各レーザ光における光強度を露光すべき画像データに応じて変調する変調部と、第1方向に搬送される被露光媒体に対して前記第1方向に直交する第2方向に前記変調部で変調された赤色、緑色及び青色の各レーザ光を走査させて前記被露光媒体を露光する露光部とを備えるレーザ露光装置において、前記3個のレーザ装置のうちの少なくとも1つは、これら上述の何れかのレーザ装置であることを特徴とする。
また、本発明の他の一態様では、第1方向に被露光媒体を搬送する搬送部と、前記第1方向に直交する第2方向に赤色、緑色及び青色の各レーザ光を走査させて前記被露光媒体を露光するレーザ露光装置とを備える写真処理装置において、前記レーザ露光装置は、上述のレーザ露光装置であることを特徴とする。
この構成によれば、レーザ露光装置及び写真処理装置は、レーザ光によって例えば印画紙等の被露光媒体を露光するにあたって、レーザ装置から所望の光強度のレーザ光が射出されるので、より高画質な写真を得ることができる。
本発明に係るレーザ装置は、所望波長のレーザ光をレーザ光源から射出させることができ、歩留まりを向上することができる。そして、このため、本発明に係るレーザ露光装置及び写真処理装置は、より高画質な写真を得ることができる。
以下、本発明に係る実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、その説明を省略する。
図1は、実施形態に係る写真処理装置の構成を示す外観斜視図である。図1において、この写真処理装置Aは、被露光媒体の一例である印画紙に画像データで露光するための露光ユニット1、露光された印画紙に対して現像、定着、漂白及び安定化処理を施す現像ユニット2、現像された印画紙を乾燥する乾燥ユニット3、及び、これら各ユニット1、2、3間に亘る図略の印画紙搬送機構等を備えて構成される。画像データは、フィルム(ネガ、ポジ)をイメージスキャナで読み取ることによって生成されたり、ディジタルスチルカメラで被写体を撮影することによって生成されたり、あるいは、パーソナルコンピュータによって生成される。
露光ユニット1は、暗箱であり、その内部には、第1方向に搬送される印画紙に対して、第1方向に直交する第2方向に、画像データによって光強度が変調された赤色、緑色及び青色の各レーザ光を走査させて印画紙を露光するレーザ露光装置11、ロール状に巻回された印画紙をレーザ露光装置11に向けて送り出し可能に収納する収納部12、印画紙を所定サイズに切断する図略のカッタ、及び、収納部12からカッタまで印画紙を搬送すると共にカッタで切断された印画紙をレーザ露光装置11に搬送する図略の搬送機構等を備えて構成される。
図2は、実施形態に係るレーザ露光装置の構造を説明する斜視図である。なお、図2では、内部構造の説明の便宜上、筐体101の上部を省略して図示しているが、筐体101は、暗室構造にされると共に、塵の入り込みを防止すべく密閉構造とされている。
筐体101内の所定位置には、光の色の三原色である赤色、緑色及び青色にそれぞれ対応する3つの光源、即ち、ビーム状の赤色、緑色及び青色の各レーザ光をそれぞれ生成して射出するレーザ装置102R、102G、102Bが配設されている。なお、本明細書において、総称する場合には、アルファベットや−付きの数字から成る添え字を省略した参照符号で示し、個別の構成を指す場合には、このような添え字を付した参照符号で示す。
レーザ装置102Rは、赤色の波長範囲、例えば波長685nmの赤色のレーザ光を発光する半導体レーザを備えて構成される。レーザ装置102Gは、緑色の波長範囲、例えば波長530nmの緑色の光を発光し、本実施形態では、例えば波長1060nmの近赤外光のレーザ光を発光する半導体レーザと、その半導体レーザから射出されたレーザ光を波長530nmの緑色のレーザ光(SHG光)に変換する波長変換素子とを備えて構成されたSHGレーザ装置である。レーザ装置102Bは、青色の波長範囲、例えば波長473nmの青色の光を発光し、本実施形態では、例えば波長946nmの近赤外光のレーザ光を発光する半導体レーザと、その半導体レーザから射出されたレーザ光を波長473nmの青色のレーザ光に変換する波長変換素子とを備えて構成されたSHGレーザ装置である。レーザ装置102G及びレーザ装置102Bの詳細については、後述する。
レーザ装置102Rの射出側には、コリメータレンズ103Rが配設されている。そして、レーザ装置102G、102Bの射出側には、それぞれコリメータレンズ103G、103Bを介して音響光学変調素子(acousto-optic modulator;以下、「AOM」と略記する。)104G、104Bが配設されている。
即ち、赤色のレーザ光には、レーザ装置102Rにおける半導体レーザの駆動電流(注入電流)を画像データに応じて変調することにより半導体レーザの発振強度を直接変調する直接変調方式が採用されており、緑色及び青色の各レーザ光には、レーザ装置102G、102Bから射出された緑色及び青色の各レーザ光をAOM104G、104Bによって変調する外部変調方式が採用されている。ここで、直接変調方式が採用されている場合には、直接変調を行うために画像データに応じた駆動電流を生成する図略の駆動回路が請求項の変調部の一例に相当し、外部変調方式が採用されている場合には、AOM104G、104Bが請求項の変調部の一例に相当している。
AOM104G、104Bは、音響光学変調素子を備えて構成され、超音波による音響光学効果の作用により、レーザ装置102G、102Bから射出された緑色及び青色の各レーザ光を画像データの画素の階調に応じた光強度にそれぞれ変調する。
コリメータレンズ103Rの射出側、及び、AOM104G、104Bの射出側には、レーザ整形開口105及びミラー106が各色のレーザ光の進行方向に沿って順にそれぞれ配置されている。そして、ミラー106の反射側には、球面レンズ107、シリンドリカルレンズ108及びポリゴンミラー109が各色のレーザ光の進行方向に沿って順にそれぞれ配置されている。
ポリゴンミラー109は、各色のレーザ光を所定方向に反射するために、例えば矢印Zで示す方向に所定の一定速度で回転されている。ポリゴンミラー109の反射側には、fθレンズ110、シリンドリカルレンズ111、1組のミラー112及び113が各色のレーザ光の進行方向に沿って順にそれぞれ配置されている。各色のレーザ光は、ポリゴンミラー109、fθレンズ110及びシリンドリカルレンズ111により矢印Xで示す主走査方向(上記第2方向)に偏向され、ミラー112、113により矢印Yで示す副走査方向(上記第1方向)に搬送される印画紙4に向けて反射される。矢印Xで示す主走査方向と矢印Yで示す副走査方向は、互いに直交している。そして、ミラー112の手前側には、画像1ライン分の露光を開始するタイミングを決定するための同期センサ114が配設されている。
このような構成の写真処理装置A及びレーザ露光装置11では、レーザ装置102Rは、露光すべき画像データに応じた光強度の赤色のレーザ光を射出する。この射出された赤色のレーザ光は、コリメータレンズ103R及びレーザ整形開口105を介してミラー106に入射する。レーザ装置102G、102Bから射出された緑色及び青色の各レーザ光は、コリメータレンズ103G、103Bを介してAOM104G、104Bにそれぞれ入射され、AOM104G、104Bで画像データの画素の階調に応じた光強度にそれぞれ変調される。この変調された緑色及び青色の各レーザ光は、レーザ整形開口105を介してミラー106に入射する。
このミラー106に入射した赤色、緑色及び青色の各レーザ光は、ミラー106で反射され、球面レンズ107及びシリンドリカルレンズ108を介してポリゴンミラー109にそれぞれ入射する。この入射した赤色、緑色及び青色の各レーザ光は、矢印Xの主走査方向に走査されるように、ポリゴンミラー109で反射され、fθレンズ110、シリンドリカルレンズ111及び1組のミラー112、113を介して印画紙4に照射され、印画紙4を露光する。印画紙4が図略の搬送機構により矢印Yの副走査方向に搬送されることによって、印画紙4上に2次元のカラー画像の潜像が形成される。
次に、本実施形態におけるレーザ装置102G、102Bについて説明する。
図3は、実施形態に係るレーザ装置の構成を示す斜視図である。図4は、実施形態に係る波長安定化部の構成を示す斜視図である。図5は、実施形態に係る波長安定化部の構成を示す3面図である。図5(A)は、平面図であり、図5(B)は、正面図であり、図5(C)は、側面図である。
レーザ装置102G、102Bは、基本光の波長及び第2高調波の出力光の波長が異なるために、これに合わせて後述の半導体レーザ21のレーザ光の波長、FBG31のグレーティング周期Λ及び波長変換素子41における各分極領域413の間隔(ピッチ)が異なるだけで、それらの構造は、同様であるので、レーザ装置102G、102Bを特に区別することなく説明し、その相違部分のみを適宜説明する。
図3において、レーザ装置102(102G、102B)は、レーザ光を射出するレーザ光源装置20と、レーザ光源装置20の半導体レーザ21における発振波長を安定化するための波長安定化部30、波長安定化部30を介してレーザ光源装置20から入射されたレーザ光を第2高調波のレーザ光に変換する波長変換部40と、波長変換部40から射出された第2高調波のレーザ光をレーザ装置102の出力光として射出するための出力光学系50とを備えて構成される。これらレーザ光源装置20、波長安定化部30、波長変換部40及び出力光学系50は、図略の略直方体形状の筐体内に収納されている。
レーザ光源装置20は、底面が前記筐体に取り付けられた略直方体形状のベース23と、ベース23の上面に取り付けられた支持部材22と、支持部材22に支持された半導体レーザ21と、半導体レーザ21から射出されるレーザ光を波長安定化部30における後述のFBG31に入射させるためのレンズ24とを備えて構成される。
ベース23は、半導体レーザ21の温度を制御する部材、例えば電熱変換素子であるペルチェ素子を備えて構成され、半導体レーザ21の温度を検出する図略の温度センサからの検出温度に基づいて半導体レーザ21の温度が目標値となるように半導体レーザ21の温度を制御する図略の温度制御回路からの制御信号に応じて吸熱又は発熱する。半導体レーザ21は、温度依存性を有するが、これによって半導体レーザ21は、温度が管理され、略一定の温度で動作することができるので、レーザ光の光強度と波長とが安定化される。
半導体レーザ21は、例えば分布帰還型(DFB、distributed feedback)や分布ブラッグ反射型(DBR、distributed bragg reflector)の半導体レーザであり、例えば二重へテロ構造を有する、AlGaAsやInGaAsP等で構成される。レーザ装置102Gの半導体レーザ21Gは、波長変換部40で変換される第2高調波の波長が緑色の波長範囲になる波長、例えば1060nmの縦モードを主縦モードとする1又は複数の縦モードを含むレーザ光を発光する。レーザ装置102Bの半導体レーザ21Bは、波長変換部40で変換される第2高調波の波長が青色の波長範囲になる波長、例えば946nmの縦モードを主縦モードとする1又は複数の縦モードを含むレーザ光を発光する。なお、縦モードが1つの場合には、その1つの縦モードが主縦モードである。分布帰還型半導体レーザ及び分布ブラッグ反射型半導体レーザは、安定的に単一モードで発振することができ、特に、直接変調される場合でも安定的に単一モードで発振することができる。そのため、上記レーザ装置102Rの半導体レーザにも好適である。
レンズ24は、半導体レーザ21から射出されるレーザ光と波長安定化部30のFBG31に入射されるレーザ光との結合効率を調節するための部材であり、前記筐体に取り付けられた図略の支持部材によって支持され、半導体レーザ21の出力側(レーザ光が射出される側)に配設される。このレンズ24を支持する支持部材は、レーザ光の進行方向に対して前後にその位置が調節可能に取り付けられている。これによって半導体レーザ21に対するレンズ24の位置が調節され、上記結合効率が調節される。なお、レーザ光源装置20は、レンズ24を備えることなく、レーザ光源装置20から射出されたレーザ光を波長安定化部30のFBG31に直接入射させるように構成されてもよい。
波長安定化部30は、レーザ光源装置20の出力側(光が射出される側)に配設され、底面が前記筐体に取り付けられた略直方体形状のベース33と、ベース33の上面に取り付けられた支持部材32と、支持部材32に支持されたFBG31と、FBG31から射出されるレーザ光を波長変換部40における後述の波長変換素子41に入射させるためのレンズ34とを備えて構成される。なお、レンズ34を備えることなく、直接FBG31によって、レーザ光源装置20から射出されたレーザ光を波長変換部40の波長変換素子41に入射させるように構成されてもよい。
ベース33は、ベース23と同様に、FBG31の温度を制御する部材、例えばペルチェ素子を備えて構成され、FBG31の温度を検出する図略の温度センサからの検出温度に基づいてFBG31の温度が目標値となるようにFBG31の温度を制御する図略の温度制御回路からの制御信号に応じて吸熱又は発熱する。FBG31の反射波長λは、光ファイバの熱膨張等に起因する温度依存性を有するが、これによってFBG31は、温度が管理され、略一定の温度で動作するので、反射波長λが安定化される。
FBG31は、レーザ光源装置20から射出されたレーザ光を波長変換部40における後述の波長変換素子41にレンズ34を介して入射させ、レーザ光源装置20と波長変換部40の波長変換素子41とを光学的に結合すると共に、レーザ光源装置20から射出されたレーザ光の一部をブラッグ反射でレーザ光源装置20の半導体レーザ21に反射するための光学部品である。図3に併せて図4及び図5も参照して、FBG31は、光ファイバ311にそのコアの屈折率が周期的に変化するグレーティング部311bが形成されている。グレーティング部311bが形成されることにより、光ファイバ311は、グレーティング部311bに対する入射側の光ファイバ311a−1と、グレーティング部311bと、グレーティング部311bに対する射出側の光ファイバ311a−2とに分けられる。FBG31は、グレーティング長(グレーティング部311bの長さ、周期的に屈折率が変化しているコアの長さ)、周期、屈折率の変化量を変化させることにより、ブラッグ波長の光をグレーティング部311bにより所定の反射率で反射する。レーザ装置102GのFBG31Gは、上述の例では半導体レーザ21Gが発光する主縦モード1060nmの光をブラッグ反射で反射するように形成される。レーザ装置102BのFBG31Bは、半導体レーザ21Bが発光する主縦モード946nmの光をブラッグ反射で反射するように形成される。
このFBG31により、レーザ光源装置20の半導体レーザ21には、射出したレーザ光の主縦モードがグレーティング部311bで反射されて戻ってくるため、半導体レーザ21では、主縦モードのレーザ光が増幅される結果、主縦モードが他の縦モードの光強度に較べて著しく大きくなる。このため、半導体レーザ21は、他の縦モードに較べて著しく大きな光強度の主縦モードを射出するようになり、半導体レーザ21から射出されるレーザ光の波長が安定化する。
なお、詳細は、例えば特開2005−050843号公報に開示されているので省略するが、FBG31は、波長が安定し光強度が大きな主縦モードのレーザ光を得る観点から、半値幅が縦モード間隔の0.75〜1.0倍、反射率が3%以上50%以下の特性を有するものが好ましい。さらに、同様の観点から、半導体レーザ21とFBG31との結合効率は、50%〜90%が好ましく、FBG31と波長変換素子41との結合効率は、70%以上が好ましく、FBG31と波長変換素子41との光学的な結合は、接着剤等の結合媒体を用いることが好ましい。
支持部材32は、FBG31の長尺方向に沿った圧縮又は伸張する力をFBG31に作用させ得るようにFBG31を支持する部材である。図3乃至図5に示すように、支持部材32は、例えば、略L字形状の1対の固定部321−1、321−2と、1対の固定部321−1、321−2の各基部(L字の横棒部)321a−1、321a−2で1対の固定部321−1、321−2に挟まれた載置部322と、ロッド323とを備える部材である。従って、支持部材32の平面は、図5(A)に示すように略長方形であり、その正面は、図5(B)に示すように略コ字形状であり、その側面は、図5(C)に示すように略L字形状である。1対の固定部321−1、321−2は、載置部322を間に挟むことによって載置部322の長尺方向x(矢印xで示す)において互いに所定の間隔を空けて対向している。
ロッド323は、一方端部に右ねじ山が形成された右ねじ山領域323aと、他方端部に左ねじ山が形成された左ねじ山領域323bと、略中央部にロッド323を右方向又は左方向へ回転させるためにロッド323に力を加えるためのつまみ領域323cとを備える棒状部材である。
1対の固定部321−1、321−2の各段部面(基部321a−1、321a−2の上面)321b−1、321b−2及び載置部322の上面322aには、FBG31の載置位置を容易に決めることができるように、一筋の載置溝324が上記長尺方向xに沿って厚み方向z(矢印zで示す)にFBG31の一部又は全部を埋め込み可能な深さで形成されている。FBG31は、FBG31のグレーティング部311bが載置部322における長尺方向xの略中央に位置し、かつ、グレーティング部311bに対する入射側の光ファイバ311a−1及びグレーティング部311bに対する射出側の光ファイバ311a−2が1対の固定部321−1、321−2の各段部面321b−1、321b−2にそれぞれ位置するように、この載置溝324にその一部又は全部が埋め込まれことによって、1対の固定部321−1、321−2の各段部面321b−1、321b−2及び載置部322の上面322aに載置される。なお、1対の固定部321−1、321−2及び載置部322は、載置溝324が形成されることなく、FBG31は、FBG31のグレーティング部311b、グレーティング部311bに対する入射側の光ファイバ311a−1及びグレーティング部311bに対する射出側の光ファイバ311a−2がそれぞれ上述のように位置するように、各面321b−1、321b−2、322aに載置されてもよい。そして、FBG31は、グレーティング部311bに対する入射側の光ファイバ311a−1及びグレーティング部311bに対する射出側の光ファイバ311a−2がそれぞれ固定部321−1の段部面321b−1及び固定部321−2の段部面321b−2で例えば本実施形態では接着剤によって接着されることで固着されて固定される。
また、本実施形態では、載置部322の長尺方向xにおける両側面には、段部322b−1、322b−2がそれぞれ形成され、載置部322がこれら両側面で1対の固定部321−1、321−2に挟まれることによって、これら各段部322b−1、322b−2と1対の固定部321−1、321−2の各側面とがその短尺方向yに沿って厚み方向に所定の深さのスリット状の溝SP1、SP2を形成している。1対の固定部321−1、321−2の内側にそれぞれ溝SP1、SP2を有することによって、1対の固定部321−1、321−2における各段部面321b−1、321b−2を含む部分の変形が長尺方向xにより容易に可能となっている。
固定部321−1の凸部(L字の縦棒部)321c−1には、ロッド323の右ねじ山に螺合する右ねじ溝を備える凸部321c−1を長尺方向xで貫通する右ねじ貫通孔321d−1が形成されている。固定部321−2の凸部(L字の縦棒部)321c−2には、ロッド323の左ねじ山に螺合する左ねじ溝を備える凸部321c−2を長尺方向xで貫通する左ねじ貫通孔321d−2が形成されている。そして、ロッド323は、その右ねじ山領域323aが固定部321−1の右ねじ貫通孔321d−1に螺合され、その左ねじ山領域323bが固定部321−2の左ねじ貫通孔321d−2に螺合されている。なお、もちろん、固定部321−1の凸部321c−1に左ねじ貫通孔を形成し、固定部321−2の凸部321c−2に右ねじ貫通孔を形成し、これに合わせてロッド323を螺合させてもよい。
ここで、1対の固定部321−1、321−2及び載置部322は、上記に説明した構成となるように一体に形成されて支持部材32を構成してもよく、あるいは、個別に形成されて上記に説明した構成となるように1対の固定部321−1、321−2が載置部322に固定されて組み立てられて支持部材32を構成してもよい。
図3を参照して、波長変換部40は、波長安定化部30の出力側(光が射出される側)に配設され、底面が前記筐体に取り付けられた略直方体形状のベース43と、ベース43の上面に取り付けられた支持部材42と、支持部材42に支持された波長変換素子41とを備えて構成される。
ベース43は、ベース23と同様に、波長変換素子41の温度を制御する部材、例えばペルチェ素子を備えて構成され、波長変換素子41の温度を検出する図略の温度センサからの検出温度に基づいて波長変換素子41の温度が目標値となるように波長変換素子41の温度を制御する図略の温度制御回路からの制御信号に応じて吸熱又は発熱する。波長変換素子41は、温度依存性を有するが、これによって波長変換素子41は、温度が管理され、略一定の温度で動作するので、第2高調波の光の光強度が安定化される。
波長変換素子41は、レーザ光源装置20から射出されたレーザ光が波長安定化部30を介して基本光として入射され、この入射されたレーザ光に対する第2高調波のレーザ光を生成して射出する光学部品である。波長変換素子41は、主面に一方向へ形成された光導波路412と、光導波路412の長尺方向に周期的にかつ交互に逆極性に厚み方向へ形成された複数の分極領域413とを備える基板411から成る。
基板411は、LiNbO、MgOドープLiNbO、LiTaO、KTiOPoO、RbTiOAsO、RbTiOPO等の非線形光学結晶から成る。特にLiNbO(ニオブ酸リチウム)は、非線形光学結晶の中でも高い非線形性を有し、高い変換効率で波長変換が可能であるため、本発明の波長変換素子31に好適であり、本実施形態では、このLiNbOが基板411に用いられる。このため、本実施形態では、波長変換素子41は、いわゆるPPLN素子を構成している。
また、周期分極反転光導波路型の波長変換素子41における位相整合波長(光導波路412の位相整合波長)は、基本的に、分極領域413の周期及び光導波路412の実効屈折率に基づく。このため、分極領域413の周期及び/又は光導波路412の実効屈折率を調整することにより、緑色のレーザ装置102Gに用いられる波長変換素子41は、その位相整合波長が基本光の波長1060nmに対応するように構成され、青色のレーザ装置102Bに用いられる波長変換素子41は、その位相整合波長が基本光の波長946nmに対応するように構成される。なお、分極領域413は、図3に示す例では、光導波路412に対し8つの分極領域413−1〜413−8を持つように記載しているが、分極領域413の個数は、波長変換素子41の仕様に基づいて適宜設計される。このような波長変換素子41は、公知の半導体製造プロセスを用いて製作可能であり、光導波路412は、例えば、プロトン交換法を用いて形成することができ、また、分極領域413は、例えば、電界印加法を用いて形成することができる。
出力光学系50は、波長変換部40の出力側(光が射出される側)に配設され、1組のコリメータレンズ51及び集光レンズ52を備えて構成される。出力光学系50は、これら1組のコリメータレンズ51及び集光レンズ52によって波長変換部40の波長変換素子41から射出されたレーザ光のビーム径を所定の径に調整し、レーザ装置102の出力光として射出する。コリメータレンズ51及び集光レンズ52は、図略の支持部材によって支持され前記筐体の底面に配設される。
このような構成のレーザ装置102(102G、102B)では、半導体レーザ21から射出されたレーザ光は、レンズ24を介してFBG31に入射される。FBG31で反射したレーザ光は、半導体レーザ21に戻りその発振波長を安定化させる。一方、FBG31を進行したレーザ光は、レンズ34を介して波長変換素子41に入射される。
波長変換素子41に入射されたレーザ光は、光導波路412を進行する間に第2高調波のレーザ光に変換される。この第2高調波のレーザ光は、波長変換素子41の出力として射出される。そして、波長変換素子41から射出された第2高調波のレーザ光は、コリメータレンズ51で平行光とされ、集光レンズ52で所定の径とされ、レーザ装置102の出力として射出される。
ここで、FBG31の反射波長λが所望波長よりも長波長側にシフトしている場合には、1対の固定部321−1、321−2における長尺方向xの間隔が狭くなる方向にロッド323を回転する。ロッド323を回転することにより、回転方向、回転数(例えば1/4回転や1/2回転等の1回転以下も含む)及びねじ山のピッチによって決まる長さだけ1対の固定部321−1、321−2間の距離が狭くなる。この結果、1対の固定部321−1、321−2における長尺方向xの間隔が狭くなる方向に変形し、1対の固定部321−1、321−2に固定されているFBG31にFBG31の長尺方向xに沿った圧縮する力が作用する。このため、FBG31は、そのグレーティング周期Λが短くなって反射波長λが短波長側に調整される結果、その反射波長λが所望波長に調整される。
このようにFBG31の長尺方向xに沿った圧縮する力をFBG31に作用させるにあたり、FBG31を支持する1対の固定部321−1、321−2をFBG31の長尺方向xに変形可能とする簡単な構成で達成することができる。そして、反射波長λは、ロッド323の回転方向及び回転数を調整することによりFBG31の長尺方向xに沿った圧縮する力を回転数及びねじ山のピッチの精度で調整されるから、FBG31の反射波長λを回転数及びねじ山のピッチの精度で調整することができる。
また、同様に、FBG31の反射波長λが所望波長よりも短波長側にシフトしている場合には、1対の固定部321−1、321−2における長尺方向xの間隔が広がる方向にロッド323を回転する。この結果、1対の固定部321−1、321−2における長尺方向xの間隔が広がる方向に変形し、1対の固定部321−1、321−2に固定されているFBG31にFBG31の長尺方向xに沿った伸張する力が作用する。このため、FBG31は、そのグレーティング周期Λが長くなって反射波長λが長波長側に調整される結果、その反射波長λが所望波長に調整される。
例えば、緑色の基本光を発光する波長1060nmの半導体レーザ21Gの場合では、FBG31の反射波長λを1060nmに設定する必要があるが、FBG31の実効屈折率neffが約1.46であるから、グレーティング周期Λは、約363nmであるので、グレーティング周期Λを0.01%長くするだけで反射波長λが約1060.1nmとなって0.1nmも変化し、グレーティング周期Λを0.05%長くするだけで反射波長λが約1060.5nmとなって0.5nmも変化する。
また例えば、青色の基本光を発光する波長946nmの半導体レーザ21Bの場合では、FBG31の反射波長λを946nmに設定する必要があるが、グレーティング周期Λは、約324nmであるので、グレーティング周期Λを0.01%長くするだけで反射波長λが約946.09nmとなって0.09nmも変化し、グレーティング周期Λを0.05%長くするだけで反射波長λが約946.5nmとなって0.5nmも変化する。
このようにFBG31を支持する支持部材32によってFBG31にその長尺方向xに沿った圧縮又は伸張する力をFBG31に作用させ、FBG31の反射波長λを調整することができるから、半導体レーザ21に所望波長でレーザ光を発振させることができる。このため、波長変換素子41は、所望波長のレーザ光が入射されるから、所望の光強度で第2高調波のレーザ光に変換することができる。従って、本実施形態に係るレーザ装置102は、所望光強度で所望波長のレーザ光を射出することができ、レーザ装置102の歩留まりが向上する。
そして、本実施形態に係る支持部材32は、上記例のようにFBG31の反射波長λを微調整することができるので、波長依存性が高く、基本光における波長変動の許容範囲が小さいQPM−SHG素子に対して好適である。
また、FBG31の反射波長λを所望波長に一旦調整した後は、ベース33の温度制御によりFBG31の温度が管理されるから、FBG31の反射波長λを所望波長に保持し、固定することができる。
そして、このようなレーザ装置102を用いるので、レーザ露光装置11及び写真処理装置Aは、所望光強度で所望波長のレーザ光によって印画紙を露光することができるので、より高画質な写真を得ることができる。
なお、上述の実施形態では、FBG31を支持する支持部材32と、波長変換素子41を支持する支持部材42とは、別体で構成したが、一体に構成してもよい。
図6は、波長変換素子を備えた波長安定化部の構成を示す斜視図である。図6において、このような波長変換素子41をさらに支持する波長安定化部30の支持部材32’は、図3乃至図5に示す上述の支持部材32において、1対の固定部321−1、321−2のうちのFBG31における射出側の光ファイバ311a−2を固定する固定部321−2の外側(固定部321−1と対向する面とは反対側の面)に、さらに、上面325aに波長変換素子41を載置するための段部325bを備える略直方体形状の波長変換素子載置部325が設けられる。波長変換素子載置部325は、このような構成となるように、固定部321−2と、あるいは、1対の固定部321−1、321−2及び載置部322と一体に形成されて支持部材32’を構成してもよく、または、個別に形成されてこのような構成となるように1対の固定部321−1、321−2が載置部322に固定されて組み立てられて支持部材32’を構成してもよい。段部325bの厚み方向zの深さは、段部325bに波長変換素子41を載置した場合に、FBG31から射出されたレーザ光が波長変換素子41の光導波路412に入射するように設定される。
このように構成することにより、FBG31と波長変換素子41とが1つの支持部材32’によって支持されるので、予めFBG31と波長変換素子41との組み付け位置を設定することができる。このため、FBG31の光軸と波長変換素子41の光軸との光軸合わせが容易となり、レーザ装置の歩留まりが向上する。また、このように構成することにより、支持部材32’が1つのベース33上に取り付けられるので、FBG31の温度を制御する例えばペルチェ素子、温度センサ及び温度制御回路等を備えて構成される温度制御部を波長変換素子41の温度制御に兼用することができる。
そして、上述の実施形態では、1対の固定部321−1、321−2がロッド323の回転により長尺方向xに変形するように構成したが、1対の固定部321−1、321−2のうちの何れか一方をロッド323の回転により長尺方向xに変形するように構成してもよい。例えば、固定部321−1がロッド323の回転により長尺方向xに変形するように構成する場合では、固定部321−1の凸部321c−1に右ねじ貫通孔321d−1(又は左ねじ貫通孔)を形成し、固定部321−2の凸部321c−2に左ねじ貫通孔321d−2に代えて孔を形成する。これに合わせてロッド323は、一方端部に右ねじ山領域323aを形成する。そして、ロッド323の右ねじ山を右ねじ貫通孔321d−1に螺合させると共に、他方端部を凸部321―2cに形成した前記孔に嵌め込み例えば接着剤等によって固着して固定する。このように構成することによってロッド323を回転すると、固定部321−1が長尺方向xに変形し、FBG31に長尺方向xに沿った圧縮又は伸張する力を作用させることができる。固定部321−2がロッド323の回転により長尺方向xに変形するように構成する場合も同様に構成することができる。
また、上述の実施形態では、1対の固定部321−1、321−2は、略L字形状としたが、これに限定されるものではない。例えば、図3乃至図5に示す上述の固定部321−1、321−2における段部面321b−1、321b−2に形成された載置溝324に対応する箇所に、図7に示すように、貫通孔321e−1、321e−2をそれぞれ形成した略直方体形状の1対の固定部321’−1、321’−2でもよい。FBG31におけるグレーティング部311bに対する入射側の光ファイバ311a−1及び射出側の光ファイバ311a−2は、この貫通孔321e−1、321e−2の部分で例えば接着剤等によってそれぞれ固着され固定される。このような構成によっても上述と同様な作用効果を奏する。要は、支持部材32(32’)は、FBG31におけるグレーティング部311bに対する入射側の光ファイバ311a−1及び射出側の光ファイバ311a−2のそれぞれを固定する互いに所定の間隔を空けて対向する1対の固定部321−1(321’−1)、321−2(321’−2)を備えてFBG31を支持すると共に、1対の固定部321−1(321’−1)、321−2(321’−2)の少なくとも一方がFBG31の長尺方向xに変形可能であればよい。
さらに、上述の実施形態では、FBG31の反射波長λにおける所望波長からのずれを、支持部材32によってFBG31の長尺方向xに沿った圧縮又は伸張する力をFBG31に作用させることによって、調整したが、FBG31の反射波長λにおける所望波長からのずれを、ベース33の温度制御によって大略調整し、その後、支持部材32によってFBG31の長尺方向xに沿った圧縮又は伸張する力をFBG31に作用させることによって微調整してもよい。このように温度制御による調整を組み合わせることによって、FBG31の反射波長λにおける所望波長からのずれの調整範囲をより広くすることができるから、レーザ装置102等の歩留まりをより向上することができる。
実施形態に係る写真処理装置の構成を示す外観斜視図である。 実施形態に係るレーザ露光装置の構造を説明する斜視図である。 実施形態に係るレーザ装置の構成を示す斜視図である。 実施形態に係る波長安定化部の構成を示す斜視図である。 実施形態に係る波長安定化部の構成を示す3面図である。 波長変換素子を備えた波長安定化部の構成を示す斜視図である。 波長安定化部における支持部材の他の構成を示す斜視図である。
符号の説明
A 写真処理装置
11 レーザ露光装置
20 レーザ光源装置
21 半導体レーザ
23 ベース
30 波長安定化部
31 光ファイバグレーティング
32 支持部材
33 ベース
41 波長変換素子
43 ベース
311、311a 光ファイバ
311b グレーティング部
321 固定部
321a 基部
321b 段部面
321c 凸部
321d−1 右ねじ貫通孔
321d−2 左ねじ貫通孔
321e 貫通孔
322 載置部
322b 段部
323 ロッド
323a 右ねじ山領域
323b 左ねじ山領域
323c つまみ領域
324 載置溝
412 光導波路部
413 分極領域
SP 溝

Claims (4)

  1. レーザ光を発光するレーザ光源と、コアの屈折率が周期的に変化するグレーティング部を備える光ファイバから成り、該レーザ光源から射出されたレーザ光の一部を該グレーティング部のブラッグ反射で該レーザ光源に反射する光ファイバグレーティングと、該光ファイバグレーティングから射出されるレーザ光が入射され、該入射されたレーザ光を第2高調波に変換して射出する波長変換素子を備えるレーザ装置において、
    前記光ファイバグレーティングの長尺方向に沿った圧縮又は伸張する力を前記光ファイバグレーティングに作用させる力作用部を備えること
    を特徴とするレーザ装置。
  2. 前記力作用部は、前記光ファイバグレーティングにおける前記グレーティング部に対する入射側の光ファイバ及び射出側の光ファイバのそれぞれを固定する互いに所定の間隔を空けて対向する1対の固定部を備えて前記光ファイバグレーティングを支持すると共に、前記1対の固定部の少なくとも一方が前記光ファイバグレーティングの長尺方向に変形可能である支持部材であること
    を特徴とする請求項1に記載のレーザ装置。
  3. 赤色、緑色及び青色の各レーザ光をそれぞれ生成して射出する3つのレーザ装置と、前記3つのレーザ装置のそれぞれから射出される赤色、緑色及び青色の各レーザ光における光強度を露光すべき画像データに応じて変調する変調部と、第1方向に搬送される被露光媒体に対して前記第1方向に直交する第2方向に前記変調部で変調された赤色、緑色及び青色の各レーザ光を走査させて前記被露光媒体を露光する露光部とを備えるレーザ露光装置において、
    前記3個のレーザ装置のうちの少なくとも1つは、請求項1又は請求項2に記載のレーザ装置であること
    を特徴とするレーザ露光装置。
  4. 第1方向に被露光媒体を搬送する搬送部と、前記第1方向に直交する第2方向に赤色、緑色及び青色の各レーザ光を走査させて前記被露光媒体を露光するレーザ露光装置とを備える写真処理装置において、
    前記レーザ露光装置は、請求項3に記載のレーザ露光装置であること
    を特徴とする写真処理装置。
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